KR100269395B1 - Electron gun for color crt - Google Patents
Electron gun for color crt Download PDFInfo
- Publication number
- KR100269395B1 KR100269395B1 KR1019960052229A KR19960052229A KR100269395B1 KR 100269395 B1 KR100269395 B1 KR 100269395B1 KR 1019960052229 A KR1019960052229 A KR 1019960052229A KR 19960052229 A KR19960052229 A KR 19960052229A KR 100269395 B1 KR100269395 B1 KR 100269395B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- electron beam
- electrode
- electrodes
- hole
- electron
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/48—Electron guns
- H01J29/488—Schematic arrangements of the electrodes for beam forming; Place and form of the elecrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/48—Electron guns
- H01J2229/4844—Electron guns characterised by beam passing apertures or combinations
- H01J2229/4848—Aperture shape as viewed along beam axis
- H01J2229/4858—Aperture shape as viewed along beam axis parallelogram
- H01J2229/4865—Aperture shape as viewed along beam axis parallelogram rectangle
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/48—Electron guns
- H01J2229/4844—Electron guns characterised by beam passing apertures or combinations
- H01J2229/4848—Aperture shape as viewed along beam axis
- H01J2229/4872—Aperture shape as viewed along beam axis circular
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/48—Electron guns
- H01J2229/50—Plurality of guns or beams
- H01J2229/502—Three beam guns, e.g. for colour CRTs
Abstract
Description
본 발명은 칼라 음극선관에서 전자빔을 발사하는 전자총에 관한 것으로써, 좀더 구체적으로는 음극과 함께 삼극부를 구성하는 제1,2전극의 구조에 관한 것이다.The present invention relates to an electron gun that emits an electron beam from a color cathode ray tube, and more particularly, to a structure of first and second electrodes constituting a triode with a cathode.
도 1은 일반적인 칼라 음극선관의 횡단면도로써, 칼라 음극선관용 전자총의 각 전극들은 3개의 음극(1)에서 방사된 전자빔(2)이 일정한 세기의 형태로 제어되어 형광면(3)에 도달할 수 있도록 하기 위해 전자빔(2)이 통과되는 경로에 대해 수직이 되게 서로 일정한 간격을 두고 인라인(in-line)으로 배치되어 있다.1 is a cross-sectional view of a general color cathode ray tube, in which each electrode of the electron gun for a color cathode ray tube allows the electron beam 2 emitted from three cathodes 1 to be controlled in a constant intensity form to reach the fluorescent surface 3. In order to be perpendicular to the path through which the electron beam (2) is passed, they are arranged in-line at regular intervals from each other.
그 구성을 첨부된 도면 도 1을 참고로 보다 구체적으로 설명하면, 상호 독립된 3개의 음극(1)과, 상기 음극에서 일정간격이 유지되게 배치되어 음극에서 발생된 열전자를 제어하는 제1전극(4)과, 상기 제1전극에서 일정 가격이 유지되게 배치되어 음극의 전자 방사물질면(도시는 생략함)에 모여 있는 열전자를 당겨내어 가속시키는 역할을 하는 제2전극(5)과, 그리고 제3전극(6), 제4전극(7), 제5전극(8), 제6전극(9)이 차례로 배치되어 있고 상기 제6전극의 일측(전자빔의 진행방향측)에는 펀넬(10)의 내면에 도포된 흑연막(11)과의 접지역할을 함과 동시에 전자총에 네크부(10a)의 중심부에 지지되도록 하는 역할을 하는 복수개의 쉴드스프링(12)이 고정된 쉴드컵(13)이 배치되어 있다.The configuration thereof will be described in more detail with reference to FIG. 1. Three independent cathodes 1 and a first electrode 4 arranged to maintain a predetermined distance from the cathodes to control hot electrons generated from the cathodes And a second electrode 5 arranged to maintain a constant price at the first electrode and to accelerate and accelerate hot electrons collected on the surface of the electron emission material (not shown) of the cathode, and a third electrode. The electrode 6, the fourth electrode 7, the fifth electrode 8, and the sixth electrode 9 are arranged in this order, and an inner surface of the funnel 10 is disposed on one side (the traveling direction side of the electron beam) of the sixth electrode. A shield cup 13 having a plurality of shield springs 12 fixed to the center of the neck portion 10a and serving as a ground to the graphite film 11 applied to the ground is supported. have.
상기 음극(1)에는 각 전자총의 컷오프(cut-off)전압이 같도록 일정한 전류치를 얻기 위해 각각 다른 전압이 인가된다.Different voltages are applied to the cathode 1 in order to obtain a constant current value such that the cut-off voltage of each electron gun is the same.
따라서 전자총의 삼극부를 구성하는 음극(1)내의 히터(14)에 스템핀(15)으로 부터 전원이 인가되어 히터가 발열되면 음극의 선단부에 도포된 전자 방사물질에서 열전자가 방출된다.Therefore, when power is applied from the stem pin 15 to the heater 14 in the cathode 1 constituting the triode of the electron gun, when the heater generates heat, the hot electrons are emitted from the electron emission material applied to the tip of the cathode.
이와 같이 방출된 열전자는 제어전극인 제1전극(4)에 의해 제어됨과 동시에 가속전극인 제2전극(5)에 의해 가속되어 제3,4전극(6)(7)을 통과한 다음 계속해서 주렌즈 형성전극인 제5,6전극(8)(9)을 차례로 통과하게 된다.The hot electrons emitted as described above are controlled by the first electrode 4 as the control electrode and accelerated by the second electrode 5 as the acceleration electrode to pass through the third and fourth electrodes 6 and 7 and then continue. The fifth and sixth electrodes 8 and 9 which are the main lens forming electrodes are sequentially passed through.
상기 각 전극을 통과하면서 가속 및 집소된 전자빔은 형광면(3)과 일정 간격유지되게 설치되어 색선별 역할을 하는 섀도우 마스크(16)를 통과한 다음 형광면(3)에 충돌하여 형광체를 발광시키므로 화면이 재현된다.The electron beam accelerated and focused while passing through each electrode is installed to be maintained at a predetermined distance from the fluorescent surface 3 and passes through a shadow mask 16 that serves as color screening, and then collides with the fluorescent surface 3 to emit phosphors. Is reproduced.
상기한 바와 같은 동작시 펀넬(10)의 네크부(10a) 외주면에 설치된 편향요크(17)가 전자총에서 발사된 전자빔(2)을 형광면 전체로 편향시켜 준다.In the above operation, the deflection yoke 17 provided on the outer peripheral surface of the neck portion 10a of the funnel 10 deflects the electron beam 2 emitted from the electron gun to the entire fluorescent surface.
도 2는 미국 특허 제4,629,933호에 나타난 제1전극의 사시도로써, 제1전극(4)의 구성을 살펴 보면, 수평방향(X-X축)이 그에 수직한 방향(Y-Y축)보다 큰 R, G, B 3개의 횡장형 전자빔 통과공(18a)이 형성된 전극판(18)과, 수직한 방향이 수평방향보다 긴 R, G, B 3개의 종장 사각형 구멍(이하 "슬롯"이라 함)(19a)이 형성된 전극판(19)으로 구성되어 이들이 서로 용접되어 있다.FIG. 2 is a perspective view of a first electrode shown in US Patent No. 4,629,933. Looking at the configuration of the first electrode 4, R, G, and the horizontal direction (XX axis) are larger than the direction (YY axis) perpendicular thereto. B electrode plate 18 having three transverse electron beam through holes 18a formed therein, and three longitudinal rectangular holes (hereinafter referred to as " slots ") 19a having R, G and B vertical directions longer than the horizontal direction. It consists of the formed electrode plate 19, and they are welded to each other.
상기 전극판(19)에 형성된 슬롯(19a)이 제2전극(5)을 바라보도록 제1전극(4)을 위치시킨다.The first electrode 4 is positioned so that the slot 19a formed in the electrode plate 19 faces the second electrode 5.
이때 상기 슬롯(19a)과 횡장형 전자빔 통과공(18a)은 제1,2전극(4)(5) 사이의 전위차에 의해 형성되는 렌즈를 비대칭으로 형성시키는 역할을 하는데, 제1전극(4)과 제2전극(5)에 인가되는 전압은 각각 0V와 400∼1000V이다.In this case, the slot 19a and the horizontal electron beam passing hole 18a serve to asymmetrically form a lens formed by a potential difference between the first and second electrodes 4 and 5. The voltages applied to the and second electrodes 5 are 0V and 400 to 1000V, respectively.
따라서 제1,2전극(4)(5)에 전압이 인가되어 이들 사이에 전위차가 발생되면 제1전극(4)을 구성하는 전극판(18)(19)의 횡장형 전자빔 통과공(18a)과 슬롯(19a)에 의해 제1,2전극 사이에 비대칭의 삼극부렌즈가 형성된다.Accordingly, when a voltage is applied to the first and second electrodes 4 and 5 to generate a potential difference therebetween, the horizontal electron beam passing holes 18a of the electrode plates 18 and 19 constituting the first electrode 4 are provided. And a slot 19a form an asymmetric tripolar lens between the first and second electrodes.
이러한 상태에서 음극(1)으로부터 전자빔(2)이 방출되면 상기 전자빔이 비대칭 삼극부렌즈에 의해 수평방향의 렌즈강도가 약하므로 확산되고, 수직방향으로는 렌즈강도가 강하므로 집속되어 결국 전자빔이 수직방향보다 수평방향이 크게 횡장화된 다음 주렌즈측으로 입사된다.In this state, when the electron beam 2 is emitted from the cathode 1, the electron beam is diffused by the asymmetric tripolar lens because the lens strength in the horizontal direction is weak, and the lens intensity in the vertical direction is concentrated, so that the electron beam is vertical. The horizontal direction is laterally enlarged than the direction, and then incident to the main lens side.
상기한 내용을 좀더 구체적으로 설명하면, 제1전극(4)의 슬롯(19a)과 횡장형 전자빔 통과공(18a)에 의해 삼극부렌즈가 수평방향은 렌즈강도가 약화되어 전자빔을 작게 집속시키고, 수직방향은 렌즈강도가 강하게 되어 전자빔을 크게 집속시키게 된다.In detail, the three-pole lens has a weaker lens direction in the horizontal direction due to the slot 19a and the transverse electron beam through hole 18a of the first electrode 4, thereby converging the electron beam small. In the vertical direction, the lens strength becomes stronger, which causes the electron beam to focus significantly.
즉, 통과되는 전자빔을 횡장화시키게 된다.That is, the electron beam passing through is made horizontal.
이와 같이 전자빔을 횡장화시키는 이유는 제5전극(8)과 제6전극(9)사이에 형성되는 주렌즈의 구면수차를 수직방향에 대해 감소시킴과 동시에 샐프 컨버젼스 편향요크의 채용에 의한 비균일 자계로 전자빔이 편향될때 수평방향은 집속력이 떨어지고, 수직방향은 집속력이 강해져 전자빔이 열화되는 디프렉션 디포커싱현상을 보상하기 위함이다.The reason for the horizontal lengthening of the electron beam is to reduce the spherical aberration of the main lens formed between the fifth electrode 8 and the sixth electrode 9 with respect to the vertical direction, and at the same time, the non-uniformity due to the adoption of the salp convergence deflection yoke. When the electron beam is deflected by the magnetic field, the horizontal direction has a low focusing force, and the vertical direction has a strong focusing force to compensate for the deflection defocusing phenomenon in which the electron beam deteriorates.
즉, 삼극부에 의해 횡장화된 전자빔이 주렌즈를 통과하여 형광면에 집속될 때 수평방향의 물점거리가 수직방향에 비해 길게 형성되므로 인해 수평방향이 수직 방향보다 집속거리가 짧게 형성되고, 이에 따라 전자빔이 편향요크에 의해 편향될 때 비균일 자계에 의해 발생하는 디프렉션 디포커싱현상을 보상하게 된다.That is, when the electron beam transversed by the triode passes through the main lens and focuses on the fluorescent surface, the horizontal distance is formed longer than the vertical direction, and thus the horizontal direction is shorter than the vertical direction. When the electron beam is deflected by the deflection yoke, the deflection defocusing phenomenon caused by the non-uniform magnetic field is compensated.
그렇지만, 최근 들어 화면의 대형화 및 편향각도의 증대를 요구하는 시장 상황에 따라 편향력을 증대시키므로 인해 전자빔의 스폿 열화가 더욱 증대되므로 이를 보상하기 위해서는 삼극부의 렌즈를 더욱 비대칭으로 형성하여야만 된다.However, in recent years, since the deflection force is increased according to the market situation requiring the enlargement of the screen and the increase of the deflection angle, the spot deterioration of the electron beam is further increased. Therefore, the lens of the triode must be formed more asymmetrically to compensate for this.
그러나 종래의 제1전극(4)에 형성된 슬롯(19a)과 횡장형 전자빔 통과공(18a)의 구조만으로는 비대칭렌즈를 형성하는데 한계가 있게 되므로 요구하는 비대칭렌즈 강도를 만족시키지 못하게 되고, 이에 따라 대형화면과 편향각도의 증대가 요구되는 칼라 음극선관에서는 화면의 주변부에서 해상도의 열화를 초래하게 되는 문제점이 나타난다.However, since only the structure of the slot 19a and the horizontal electron beam through hole 18a formed in the conventional first electrode 4 has a limit in forming an asymmetric lens, it does not satisfy the required asymmetric lens strength, thereby In a color cathode ray tube requiring an increase in the angle of the screen and the deflection angle, a problem occurs that causes resolution deterioration at the periphery of the screen.
본 발명은 종래의 이와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로써, 제1,2전극 사이에서 종래의 비대칭렌즈 보다 더 강한 비대칭 삼극부렌즈가 형성되도록 삼극부를 구성하는 제1,2전극의 구조를 개선하여 대형화면과 편향각도의 증대를 요구함에 따라 화면 주변부에서의 전자빔 스폿의 열화가 심화되는 것을 보상하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve such a problem in the prior art, the structure of the first and second electrodes constituting the three-pole portion to form a stronger asymmetric tripolar lens than the conventional asymmetric lens between the first and second electrodes The purpose of the present invention is to compensate for the deterioration of the electron beam spot in the periphery of the screen as it is required to improve the large screen and the angle of deflection.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 형태에 따르면, 음극으로부터 방사되는 전자빔의 방사량을 조절한 다음 화면측으로 가속시키는 2개 이상의 전극으로 구성된 삼극부와 상기 전자빔을 화면에 집속시키기 위해 주렌즈를 형성하는 2개 이상의 전극으로 구성된 전자총에 있어서, 전자빔 통과공중 적어도 1개 이상의 전자빔 통과공 양측에 대응되게 수직 격벽이 형성된 제1전극과, 상기 제1전극의 전자빔 통과공 양측에 형성된 수직 격벽과 마주 보도록 전자빔 통과공에 횡장형 슬롯이 형성된 제2전극으로 구성된 칼라 음극선관용 전자총이 제공된다.According to an aspect of the present invention for achieving the above object, to form a main lens for focusing the electron beam on the screen and the tripolar portion consisting of two or more electrodes to adjust the radiation amount of the electron beam emitted from the cathode and then accelerate to the screen side In an electron gun composed of two or more electrodes, an electron beam facing the first electrode having a vertical partition formed on both sides of at least one electron beam passing hole among the electron beam passing holes, and a vertical partition formed on both sides of the electron beam passing hole of the first electrode. There is provided an electron gun for a color cathode ray tube composed of a second electrode having a transverse slot formed in a through hole.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 음극으로부터 방사되는 전자빔의 방사량을 조절한 다음 화면측으로 가속시키는 2개 이상의 전극으로 구성된 삼극부와, 상기 전자빔을 화면에 집속시키기 위해 주렌즈를 형성하는 2개 이상의 전극으로 구성된 전자총에 있어서, 전자빔 통과공중 적어도 1개 이상의 전자빔 통과공에 종장형 슬롯이 형성된 제1전극과, 상기 제1전극의 종장형 슬롯과 마주 보도록 전자빔 통과공상하에 수평 격벽이 형성된 제2전극으로 구성된 칼라 음극선관용 전자총이 제공된다.According to another embodiment of the invention, three or more electrodes consisting of two or more electrodes for adjusting the radiation amount of the electron beam emitted from the cathode and then accelerated to the screen side, and two or more forming a main lens to focus the electron beam on the screen An electron gun composed of electrodes, comprising: a first electrode having an elongated slot formed in at least one electron beam passing hole of an electron beam passing hole, and a second electrode having a horizontal partition wall formed under the electron beam passing hole so as to face the elongated slot of the first electrode There is provided an electron gun for a color cathode ray tube.
본 발명의 또 다른 형태에 따르면, 음극으로부터 방사되는 전자빔의 방사량을 조절한 다음 화면측으로 가속시키는 2개 이상의 전극으로 구성된 삼극부와, 상기 전자빔을 화면에 집속시키기 위해 주렌즈를 형성하는 2개 이상의 전극으로 구성된 전자총에 있어서, 전자빔 통과공중 적어도 1개 이상의 전자빔 통과공 양측에 대응되게 수직 격벽이 형성된 제1전극과, 상기 제1전극의 전자빔 통과용 양측에 형성된 수직 격벽의 사이에 위치되도록 전자빔 통과공의 상하에 수평 격벽이 형성된 제2전극으로 구성된 칼라 음극선관용 전자총이 제공된다.According to still another aspect of the present invention, there is provided a three-pole portion comprising two or more electrodes for adjusting the radiation amount of an electron beam radiated from a cathode and then accelerating to the screen side, and two or more for forming a main lens to focus the electron beam on the screen. In an electron gun composed of electrodes, an electron beam passes through the first electrode having a vertical partition formed on both sides of at least one electron beam passing hole among the electron beam passing holes, and a vertical partition formed on both sides of the electron beam passing through the first electrode. There is provided an electron gun for a color cathode ray tube composed of a second electrode having horizontal partitions formed above and below the ball.
도 1은 일반적인 칼라 음극선관의 횡단면도.1 is a cross-sectional view of a typical color cathode ray tube.
도 2는 종래의 제1전극을 나타낸 사시도.2 is a perspective view showing a conventional first electrode.
도 3은 본 발명의 제1실시예를 나타낸 제1,2전극의 사시도.Figure 3 is a perspective view of the first and second electrodes showing a first embodiment of the present invention.
도 4도는 본 발명의 제2실시예를 나타낸 제1,2전극의 사시도.Figure 4 is a perspective view of the first and second electrodes showing a second embodiment of the present invention.
도 5도는 본 발명의 제3실시예를 나타낸 제1,2전극의 사시도.Figure 5 is a perspective view of the first and second electrodes showing a third embodiment of the present invention.
도 6도는 본 발명의 제4실시예를 나타낸 제1,2전극의 사시도.Figure 6 is a perspective view of the first and second electrodes showing a fourth embodiment of the present invention.
도 7도는 본 발명의 제5실시예를 나타낸 제1,2전극의 사시도.7 is a perspective view of the first and second electrodes showing a fifth embodiment of the present invention.
도 8도는 본 발명의 제6실시예를 나타낸 제1,2전극의 사시도.8 is a perspective view of first and second electrodes showing a sixth embodiment of the present invention;
도 9도는 삼극부를 통과한 전자빔의 횡종비를 비교하여 나타낸 그래프.9 is a graph showing the aspect ratio of the electron beam passing through the three poles.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
4 : 제1전극 4a,5a : 전자빔 통과공4: first electrode 4a, 5a: electron beam through hole
5 : 제2전극 20 : 수직 격벽5: second electrode 20: vertical bulkhead
21 : 횡장 사각형 슬롯 22 : 종장 사각형 슬롯21: horizontal rectangular slot 22: longitudinal rectangular slot
23 : 수평 격벽23: horizontal bulkhead
이하, 본 발명을 첨부된 도면 도 3 내지 도 9를 참고로 하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 3 to 9.
도 3은 본 발명의 제1실시예를 나타낸 제1,2전극의 사시도이고 도 4는 본 발명의 제2실시예를 나타낸 제1,2전극의 사시도로써, 상기 본 발명의 제1,2실시예에서는 제1전극(4)에 형성된 전자빔 통과공(4a)의 양측에 수직 격벽(20)을 형성하고, 상기 제1전극에 형성된 수직 격벽(20)과 마주보는 제2전극(5)의 면에는 횡장사각형의 슬롯(21)을 형성한 것이다.3 is a perspective view of first and second electrodes showing a first embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a perspective view of first and second electrodes showing a second embodiment of the present invention. In an example, vertical barrier ribs 20 are formed on both sides of the electron beam through hole 4a formed in the first electrode 4, and the second electrode 5 faces the vertical barrier ribs 20 formed in the first electrode 4. In this case, a slot 21 having a horizontal rectangular shape is formed.
이를 도 3 및 도 4를 참고로 좀더 구체적으로 설명한다.This will be described in more detail with reference to FIGS. 3 and 4.
본 발명의 제1실시예에서는 도 3에 도시한 바와 같이 제1전극(4)에 형성되는 전자빔 통과공(4a)을 사각공으로 구성하고, 상기 제1전극에 형성된 전자빔 통과공(4a)중 제2전극(5)과 마주보는 적어도 1개 이상의 가공 수직 주변부에는 일직선의 수직 격벽(20)을 대응되게 형성한다.In the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 3, the electron beam through hole 4a formed in the first electrode 4 is formed as a square hole, and the electron beam through hole 4a formed in the first electrode is formed of the first hole. At least one or more processing vertical periphery facing the two electrodes 5 is formed with a straight vertical partition wall 20 correspondingly.
그리고 상기 제1전극(4)과 일정거리를 두고 위치하는 제2전극(5)에는 제1전극과 동일하게 사각공의 전자빔 통과공(5a)을 형성하고, 상기 제2전극에 형성된 전자빔 통과공(5a)중 제1전극(4)에 형성된 수직 격벽(20)과 마주보는 적어도 1개 이상의 사각공 수평 주변부에는 횡장 사각형의 슬롯(21)을 형성한다.In the second electrode 5 positioned at a predetermined distance from the first electrode 4, an electron beam through hole 5a having a square hole is formed in the same manner as the first electrode, and an electron beam through hole formed in the second electrode. In the at least one square hole horizontal periphery facing the vertical partition wall 20 formed in the first electrode 4 of 5a, a slot 21 having a horizontal quadrangle is formed.
즉, 제2전극(5)의 전자빔 통과공(5a)에 형성되는 횡장 사각형의 슬롯(21)은 제1전극(4)의 전자빔 통과공(4a)에 형성된 수직 격벽(20)과 마주보게 위치된다.That is, the horizontally rectangular slot 21 formed in the electron beam through hole 5a of the second electrode 5 faces the vertical partition wall 20 formed in the electron beam through hole 4a of the first electrode 4. do.
이러한 제1,2전극(4)(5)은 종래의 삼극부와 마찬가지로 일정간격이 유지되게 위치되어 각각 다른 전압이 인가되는데, 제1전극(4)에는 그라운드(Ground)전위인 0V가 인가되고, 제2전극(5)에는 400∼1,000V가 인가되어 이들의 전위차에 의해 이들 사이에 비대칭 렌즈를 형성한다.The first and second electrodes 4 and 5 are positioned to maintain a predetermined interval like the conventional tripolar parts, and different voltages are applied to each of the first and second electrodes 4 and 5, and 0 V, which is a ground potential, is applied to the first electrode 4. The second electrode 5 is applied with 400 to 1,000 V to form an asymmetric lens therebetween by the potential difference thereof.
본 발명의 제2실시예는 도 5에 도시한 바와 같이 제1전극(4)에 형성되는 전자빔 통과공(4a)을 원형공으로 구성하고, 상기 제1전극에 형성된 전자빔 통과공(4a)중 제2전극(5)과 마주 보는 적어도 1개 이상의 원형공 수직방향 둘레면에는 호(弧)형상의 수직 격벽(20)을 대응되게 형성된다.According to the second embodiment of the present invention, as shown in FIG. 5, the electron beam through hole 4a formed in the first electrode 4 is formed as a circular hole, and the second of the electron beam through holes 4a formed in the first electrode is formed. An arc-shaped vertical partition wall 20 is correspondingly formed on at least one circular hole vertical circumferential surface facing the two electrodes 5.
그리고 상기 제1전극(4)과 일정거리를 두고 위치하는 제2전극(5)에는 제1전극과 동일하게 원형공의 전자빔 통과공(5a)을 형성하고, 상기 제2전극에 형성된 전자빔 통과공(5a)중 제1전극(4)과 마주보는 적어도 1개 이상의 원형공 수평 주변부에는 횡장 사각형의 슬롯(21)을 형성한다.In the second electrode 5 positioned at a predetermined distance from the first electrode 4, an electron beam through hole 5a of a circular hole is formed in the same manner as the first electrode, and an electron beam through hole formed in the second electrode. At least one circular hole horizontal periphery facing the first electrode 4 in 5a is formed with a slot 21 having a horizontal rectangular shape.
즉, 제2전극(5)의 전자빔 통과공(5a)에 형성되는 횡장 사각형의 슬롯(21)은 제1전극(4)의 전자빔 통과공(4a)에 형성된 수직 격벽(20)과 마주보게 위치된다.That is, the horizontally rectangular slot 21 formed in the electron beam through hole 5a of the second electrode 5 faces the vertical partition wall 20 formed in the electron beam through hole 4a of the first electrode 4. do.
이러한 제1,2전극(4)(5)은 종래의 삼극부와 마찬가지로 일정간격이 유지되게 위치되어 각각 다른 전압이 인가되는데, 제1전극(4)에는 그라운드(Ground)전위인 0V가 인가되고, 제2전극(5)에는 400∼1,000V가 인가되어 이들의 전위차에 의해 이들 사이에 비대칭 렌즈를 형성한다.The first and second electrodes 4 and 5 are positioned to maintain a predetermined interval like the conventional tripolar parts, and different voltages are applied to each of the first and second electrodes 4 and 5, and 0 V, which is a ground potential, is applied to the first electrode 4. The second electrode 5 is applied with 400 to 1,000 V to form an asymmetric lens therebetween by the potential difference thereof.
도 5는 본 발명의 제3실시예를 나타낸 제1,2전극의 사시도이고 도 6은 본 발명의 제4실시예를 나타낸 제1,2전극의 사시도로써, 상기 본 발명의 제3,4실시예에서는 제1전극(4)에 형성된 전자빔 통과공(4a)에 종장 사각형의 슬롯(22)을 형성하고, 상기 제1전극에 형성된 슬롯(22)과 마주보는 제2전극(5)의 전자빔 통과공(5a)에는 수평 격벽(23)을 형성한다.FIG. 5 is a perspective view of first and second electrodes showing a third embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a perspective view of first and second electrodes showing a fourth embodiment of the present invention, and the third and fourth embodiments of the present invention. In the example, an elongated rectangular slot 22 is formed in the electron beam through hole 4a formed in the first electrode 4, and the electron beam passes through the second electrode 5 facing the slot 22 formed in the first electrode. A horizontal bulkhead 23 is formed in the ball 5a.
이를 도 5 및 도 6을 참고로 좀 더 구체적으로 설명한다.This will be described in more detail with reference to FIGS. 5 and 6.
본 발명의 제3실시예에서는 도 4에 도시한 바와 같이 제1전극(4)에 형성되는 전자빔 통과공(4a)을 사각공으로 구성하고, 상기 제1전극에 형성된 전자빔 통과공(4a)중 제2전극(5)과 마주 보는 적어도 1개 이상의 사각공에는 종장 사각형의 슬롯(22)을 형성한다.In the third embodiment of the present invention, as shown in FIG. 4, the electron beam through hole 4a formed in the first electrode 4 is formed as a square hole, and the electron beam through hole 4a formed in the first electrode is formed of the first hole. Longitudinal rectangular slots 22 are formed in at least one square hole facing the two electrodes 5.
그리고 상기 제1전극(4)과 일정거리를 두고 위치하는 제2전극(5)에는 제1전극과 동일하게 사각공의 전자빔 통과공(5a)을 형성하고, 상기 제2전극에 형성된 전자빔 통과공(5a)중 제1전극(4)과 마주보는 적어도 1개 이상의 사각공 수평 주변부에는 수평 격벽(23)을 대응되게 형성한다.In the second electrode 5 positioned at a predetermined distance from the first electrode 4, an electron beam through hole 5a having a square hole is formed in the same manner as the first electrode, and an electron beam through hole formed in the second electrode. A horizontal partition wall 23 is formed to correspond to at least one horizontal periphery of the at least one square hole facing the first electrode 4 in 5a.
즉, 제2전극(5)의 전자빔 통과공(5a)에 형성되는 수평 격벽(23)은 제1전극(4)에 형성된 종장 사각형의 슬롯(22)과 마주보게 위치된다.That is, the horizontal partition wall 23 formed in the electron beam through hole 5a of the second electrode 5 is positioned to face the slot 22 of the longitudinal rectangle formed in the first electrode 4.
이러한 제1,2전극(4),(5)은 종래의 삼극부와 마찬가지로 일정간격이 유지되게 위치되어 각각 다른 전압이 인가되는데, 제1전극(4)에는 그라운드(Ground)전위인 0V가 인가되고, 제2전극(5)에는 400∼1,000V가 인가되어 이들의 전위차에 의해 이들 사이에 비대칭 렌즈를 형성한다.The first and second electrodes 4 and 5 are positioned to maintain a constant interval like the conventional tripolar parts, and different voltages are applied to each of the first and second electrodes 4 and 5, and 0 V, which is a ground potential, is applied to the first electrode 4. Then, 400 to 1,000 V is applied to the second electrode 5 to form an asymmetric lens therebetween by these potential differences.
본 발명의 제4실시예는 도 6에 도시한 바와 같이 제1전극(4)에 형성되는 전자빔 통과공(4)을 원형공으로 구성하고, 상기 제1전극에 형성된 전자빔 통과공(4a)중 제2전극(5)과 마주보는 적어도 1개 이상의 원형공에는 종장 사각형의 슬롯(22)을 형성한다.In the fourth embodiment of the present invention, as shown in FIG. 6, the electron beam through hole 4 formed in the first electrode 4 is formed as a circular hole, and the electron beam through hole 4a formed in the first electrode is made of the fourth embodiment. Longitudinal rectangular slots 22 are formed in at least one circular hole facing the two electrodes 5.
그리고 상기 제1전극(4)과 일정거리를 두고 위치하는 제2전극(5)에는 제1전극과 동일하게 원형공의 전자빔 통과공(5a)을 형성하고, 상기 제2전극에 형성된 전자빔 통과공(5a)중 제1전극(4)과 마주보는 적어도 1개 이상의 원형공 수평방향 둘레면에는 호형상의 수평 격벽(23)을 형성한다.In the second electrode 5 positioned at a predetermined distance from the first electrode 4, an electron beam through hole 5a of a circular hole is formed in the same manner as the first electrode, and an electron beam through hole formed in the second electrode. An arc-shaped horizontal partition wall 23 is formed on at least one circular hole horizontal circumferential surface facing the first electrode 4 in 5a.
즉, 제1전극(4)의 전자빔 통과공(4a)에 형성되는 종장 사각형의 슬롯(22)은 제2전극(5)의 전자빔 통과공(5a)에 형성된 수평 격벽(23)과 마주보게 위치된다.That is, the vertical rectangular slot 22 formed in the electron beam through hole 4a of the first electrode 4 faces the horizontal partition wall 23 formed in the electron beam through hole 5a of the second electrode 5. do.
이러한 제1,2전극(4)(5)은 종래의 삼극부와 마찬가지로 일정간격이 유지되게 위치되어 각각 다른 전압이 인가되는데, 제1전극(4)에는 그라운드(Ground)전위인 0V가 인가되고, 제2전극(5)에는 400∼1,000V가 인가되어 이들의 전위차에 의해 이들 사이에 비대칭 렌즈를 형성한다.The first and second electrodes 4 and 5 are positioned to maintain a predetermined interval like the conventional tripolar parts, and different voltages are applied to each of the first and second electrodes 4 and 5, and 0 V, which is a ground potential, is applied to the first electrode 4. The second electrode 5 is applied with 400 to 1,000 V to form an asymmetric lens therebetween by the potential difference thereof.
도 7은 본 발명의 제5실시예를 나타낸 제1,2전극의 사시도이고 도 8은 본 발명의 6실시예를 나타낸 제1,2전극의 사시도로써, 상기 본 발명의 제5,6실시예에서는 제1전극(4)에 형성된 전자빔 통과공(4a)의 양측에 수직 격벽(20)을 형성하고, 상기 제1전극에 형성된 수직 격벽(20)과 마주보는 제2전극(5)의 면에는 제1전극에 형성된 수직 격벽 사이에 위치되도록 수평 격벽(23)을 형성한 것이다.7 is a perspective view of the first and second electrodes showing a fifth embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a perspective view of the first and second electrodes showing a sixth embodiment of the present invention. In the first electrode 4, vertical barrier ribs 20 are formed on both sides of the electron beam through hole 4a formed on the first electrode 4, and the second electrode 5 facing the vertical barrier ribs 20 formed on the first electrode 4 The horizontal barrier rib 23 is formed to be positioned between the vertical barrier ribs formed on the first electrode.
이를 도 7 및 도 8을 참고로 좀더 구체적으로 설명한다.This will be described in more detail with reference to FIGS. 7 and 8.
본 발명의 제5실시예에서는 도 7에 도시한 바와 같이 제1전극(4)에 형성되는 전자빔 통과공(4a)을 사각공으로 구성하고, 상기 제1전극에 형성된 전자빔 통과공(4a)중 제2전극(5)과 마주보는 적어도 1개 이상의 사각공 수직 주변부에는 일직선의 수직 격벽(20)을 대응되게 형성된다.In the fifth embodiment of the present invention, as shown in FIG. 7, the electron beam through hole 4a formed in the first electrode 4 is formed as a square hole, and the electron beam through hole 4a formed in the first electrode is made of the fourth hole. A straight vertical partition wall 20 is formed to correspond to at least one vertical periphery of the at least one square hole facing the two electrodes 5.
그리고 상기 제1전극(4)과 일정거리를 두고 위치하는 제2전극(5)에는 제1전극과 동일하게 사각공의 전자빔 통과공(5a)을 형성하고, 상기 제2전극에 형성된 전자빔 통과공(5a)중 제1전극(4)에 형성된 수직 격벽(20)과 마주 보는 적어도 1개 이상의 사각공에는 수평 격벽(23)을 대응되게 형성한다.In the second electrode 5 positioned at a predetermined distance from the first electrode 4, an electron beam through hole 5a having a square hole is formed in the same manner as the first electrode, and an electron beam through hole formed in the second electrode. In at least one square hole facing the vertical partition wall 20 formed in the first electrode 4 in 5a, the horizontal partition wall 23 is correspondingly formed.
즉, 제2전극(5)의 전자빔 통과공(5a)에 형성되는 수평 격벽(23)은 제1전극(4)의 전자빔 통과공(4a)에 형성된 수직 격벽(20)사이에 위치된다.That is, the horizontal barrier rib 23 formed in the electron beam passage hole 5a of the second electrode 5 is positioned between the vertical barrier ribs 20 formed in the electron beam passage hole 4a of the first electrode 4.
이러한 제1,2전극(4)(5)은 종래의 삼극부와 마찬가지로 일정간격이 유지되게 위치되어 각각 다른 전압이 인가되는데, 제1전극(4)에는 그라운드(Ground)전위인 0V가 인가되고, 제2전극(5)에는 400∼1,000V가 인가되어 이들의 전위차에 의해 이들 사이에 비대칭 렌즈를 형성한다.The first and second electrodes 4 and 5 are positioned to maintain a predetermined interval like the conventional tripolar parts, and different voltages are applied to each of the first and second electrodes 4 and 5, and 0 V, which is a ground potential, is applied to the first electrode 4. The second electrode 5 is applied with 400 to 1,000 V to form an asymmetric lens therebetween by the potential difference thereof.
본 발명의 제6실시예는 도 8에 도시한 바와 같이 제1전극(4)에 형성되는 전자빔 통과공(4a)을 원형공으로 구성하고, 상기 제1전극에 형성된 전자빔 통과공(4a)중 제2전극(5)과 마주 보는 적어도 1개 이상의 원형공 수직방향 둘레면에는 호(弧)형상의 수직 격벽(20)을 대응되게 형성한다.In the sixth embodiment of the present invention, as shown in FIG. 8, the electron beam through hole 4a formed in the first electrode 4 is formed as a circular hole, and the electron beam through hole 4a formed in the first electrode is made of the sixth embodiment. An arc-shaped vertical partition wall 20 is correspondingly formed on at least one vertical circumferential surface of the circular hole facing the two electrodes 5.
그리고 상기 제1전극(4)과 일정거리를 두고 위치하는 제2전극(5)에는 제1전극과 동일하게 원형공의 전자빔 통과공(5a)을 형성하고, 상기 제2전극에 형성된 전자빔 통과공(5a)중 제1전극(4)과 마주보는 적어도 1개 이상의 원형공에는 수평 격벽(23)을 대응되게 형성한다.In the second electrode 5 positioned at a predetermined distance from the first electrode 4, an electron beam through hole 5a of a circular hole is formed in the same manner as the first electrode, and an electron beam through hole formed in the second electrode. In at least one circular hole facing the first electrode 4 in 5a, the horizontal partition wall 23 is formed to correspond.
즉, 제2전극(5)의 전자빔 통과공(5a)에 형성되는 수평 격벽(23)은 제1전극(4)의 전자빔 통과공(4a)에 형성된 수직 격벽(20) 사이에 위치된다.That is, the horizontal barrier rib 23 formed in the electron beam passage hole 5a of the second electrode 5 is positioned between the vertical barrier ribs 20 formed in the electron beam passage hole 4a of the first electrode 4.
이러한 제1,2전극(4)(5)은 종래의 삼극부와 마찬가지로 일정간격이 유지되게 위치되어 각각 다른 전압이 인가되는데, 제1전극(4)에는 그라운드(Ground)전위인 0V가 인가되고, 제2전극(5)에는 400∼1,000V가 인가되어 이들의 전위차에 의해 이들 사이에 비대칭 렌즈를 형성한다.The first and second electrodes 4 and 5 are positioned to maintain a predetermined interval like the conventional tripolar parts, and different voltages are applied to each of the first and second electrodes 4 and 5, and 0 V, which is a ground potential, is applied to the first electrode 4. The second electrode 5 is applied with 400 to 1,000 V to form an asymmetric lens therebetween by the potential difference thereof.
상기 본 발명의 각 실시예에서 제1,2전극(4)(5)에 형성되는 전자빔 통과공이 원형공인 경우에는 전극의 프레스작업시 전자빔 통과공의 형상구현이 용이하다는 장점을 갖고, 사각공인 경우에는 화면상 전자빔 스폿의 크기를 축소할 수 있는 가장 용이한 설계방법인 제1전극의 공경 축소를 이루면서 이에 의해 발생되는 음극의 로드(load)증가를 해소하는 장점을 갖는다.In the embodiments of the present invention, in the case where the electron beam through holes formed in the first and second electrodes 4 and 5 are circular holes, the shape of the electron beam through holes may be easily formed when the electrode is pressed. This has the advantage of reducing the load increase of the cathode caused by reducing the pore size of the first electrode, which is the easiest design method that can reduce the size of the electron beam spot on the screen.
이와 같이 구성된 본 발명의 작용을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the present invention configured as described above is as follows.
본 발명의 제1,2실시예는 제1전극(4)에 형성된 전자빔 통과공(4a)의 수직방향으로 대응되게 수직 격벽(20)이 형성되어 있어 수평방향으로의 렌즈 침투를 약화시키므로 수평방향으로의 렌즈 강도를 약화시킨다.In the first and second embodiments of the present invention, the vertical partition wall 20 is formed to correspond to the vertical direction of the electron beam through hole 4a formed in the first electrode 4, thus weakening the lens penetration in the horizontal direction. Weakens the lens strength.
이와 함께 제2전극(5)의 전자빔 통과공(5a)에 형성된 횡장 사각형인 슬롯(21)에 의해서도 수평방향으로의 렌즈강도가 약화되므로 수평방향의 집속력이 수직방향의 집속력에 비해 약화되고, 이에 따라 횡장형의 전자빔 형성이 가능해지게 된다.In addition, the lens strength in the horizontal direction is also weakened by the slot 21, which is a horizontal quadrangle formed in the electron beam through hole 5a of the second electrode 5, so that the focusing force in the horizontal direction is weaker than the focusing force in the vertical direction. As a result, the formation of the transverse electron beam becomes possible.
이에 의해 제5전극(8)과 제6전극(9) 사이에서 형성되는 주렌즈의 구면수차를 수직방향에 대해 감소시키면 디프렉션 디포커싱현상을 보상할 수 있게 된다.Accordingly, if the spherical aberration of the main lens formed between the fifth electrode 8 and the sixth electrode 9 is reduced in the vertical direction, the deflection defocusing phenomenon can be compensated.
즉, 횡장형 전자빔은 주렌즈를 통과하여 스크린에 집속될 때 수평방향의 물점거리가 수직방향에 비해 길게 형성되어 수평방향의 집속거리가 수직방향보다 짧게 형성되므로 전자빔이 편향요크에 의해 편향될때 비균일 편향자계에 의해 발생하는 디프렉션 디포커싱현상을 보상하게 된다.That is, when the horizontal electron beam passes through the main lens and is focused on the screen, the horizontal focal length is formed longer than the vertical direction, and the horizontal focal length is shorter than the vertical direction, so that the electron beam is deflected by the deflection yoke. It compensates for deflection defocusing caused by the uniform deflection field.
본 발명의 제3,4실시예에서는 전술한 바와 유사한 작용을 하므로 인해 유사한 렌즈효과를 얻게 된다.In the third and fourth embodiments of the present invention, a similar lens effect is obtained because of the similar action as described above.
도 7 및 도 8에 도시한 제5,6실시예는 다른 실시예보다 더 큰 비대칭 렌즈 효과를 얻을 수 있는 구성으로써, 제1,2전극(4),(5)에 마주보도록 형성된 수직 격벽(20) 및 수평 격벽(23)에 의해 수평렌즈와 수직렌즈간의 렌즈강도의 차이를 매우 크게 이룰 수 있게 된다.7 and 8 have a configuration in which a larger asymmetric lens effect can be obtained than other embodiments, and includes a vertical partition wall formed to face the first and second electrodes 4 and 5. 20) and the horizontal bulkhead 23 can achieve a very large difference in lens strength between the horizontal lens and the vertical lens.
도 9는 종래와 본 발명의 각 실시예들에서 삼극부를 통과한 후의 전자빔의 횡종비를 나타낸 것으로, 여기에서 알 수 있듯이 본 발명이 종래에 비해 작은 구조의 변화에도 큰 비대칭 렌즈 효과를 얻게 됨을 알 수 있다.9 shows the aspect ratio of the electron beam after passing through the triode in the prior art and the embodiments of the present invention. As can be seen, it can be seen that the present invention obtains a large asymmetric lens effect even with a small structure change compared to the conventional art. Can be.
즉, 격벽에 의한 비대칭 렌즈의 형성효과가 매우 크고, 그 구성에서도 제1,2전극(4)(5)간의 간격을 크게 구성하면서도 종래의 비대칭 렌즈와 유사한 반대칭 렌즈효과를 얻게 되므로 제1,2전극의 전위차에 의해 발생되는 방전현상이 줄일 수 있게 되는 것이다.That is, since the formation effect of the asymmetric lens by the partition wall is very large, and even in the configuration, the gap between the first and second electrodes 4, 5 is large, but the antisymmetric lens effect similar to the conventional asymmetric lens is obtained. The discharge phenomenon caused by the potential difference between the two electrodes can be reduced.
본 발명은 음극선관의 대형화요구에 따라 화면 주변부로부터 편향력이 더 커져 전자빔 스폿의 열화가 심화되는 것을 보상할 수 있도록 종래의 비대칭렌즈보다 더 강한 비대칭 삼극부렌즈를 용이하게 형성하므로 종래의 비대칭구조로는 구현이 어려운 매우 큰 비대칭 렌즈 형성도 쉽게 가능하게 된다.The present invention provides an asymmetric tripolar lens that is stronger than a conventional asymmetric lens to easily compensate for the increase in deflection of the electron beam spot due to a larger deflection force from the periphery of the screen in accordance with the larger size of the cathode ray tube. It is also possible to form very large asymmetric lenses that are difficult to implement.
또한, 제1,2전극 사이의 간격을 크게 형성하면서도 종래의 비대칭렌즈와 유사한 비대칭렌즈의 효과를 얻을 수 있으므로 제1,2전극의 전위차에 의해 발생되는 방전현상도 줄이게 됨은 물론 전극의 제작에 있어서도 작은 격벽의 형성으로 큰 렌즈효과를 얻을 수 있게 되므로 2개의 전극판을 용접 고정하던 종래의 제1전극에 비해 용이하게 생산가능하다.In addition, since the effect of the asymmetric lens similar to the conventional asymmetric lens can be obtained while increasing the distance between the first and second electrodes, the discharge phenomenon caused by the potential difference between the first and second electrodes is also reduced. Since a large lens effect can be obtained by the formation of a small partition, it can be easily produced as compared with the conventional first electrode in which two electrode plates are welded and fixed.
Claims (8)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960052229A KR100269395B1 (en) | 1996-11-06 | 1996-11-06 | Electron gun for color crt |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960052229A KR100269395B1 (en) | 1996-11-06 | 1996-11-06 | Electron gun for color crt |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19980034241A KR19980034241A (en) | 1998-08-05 |
| KR100269395B1 true KR100269395B1 (en) | 2000-10-16 |
Family
ID=19480913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960052229A KR100269395B1 (en) | 1996-11-06 | 1996-11-06 | Electron gun for color crt |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100269395B1 (en) |
-
1996
- 1996-11-06 KR KR1019960052229A patent/KR100269395B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR19980034241A (en) | 1998-08-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100269395B1 (en) | Electron gun for color crt | |
| KR100334072B1 (en) | electron gun for the cathode ray tube | |
| KR100223842B1 (en) | Electron gun for cathode ray tube | |
| KR100281046B1 (en) | Electron gun for color cathode ray tube | |
| KR100277970B1 (en) | Electron gun for colored cathode ray tube | |
| KR100751304B1 (en) | Electron gun for the CRT | |
| KR19990086205A (en) | Electron gun for colored cathode ray tube | |
| KR19990038061A (en) | Electron gun for colored cathode ray tube | |
| KR100232156B1 (en) | Electron gun for color crt | |
| KR100759545B1 (en) | Electron gun for the cathode ray tube | |
| KR100459220B1 (en) | Elctric Gun for Color CRT | |
| KR100396706B1 (en) | Gun for Color Cathode Ray Tube | |
| KR100442299B1 (en) | Gun for Color Cathode Ray Tube | |
| KR100252934B1 (en) | Electron gun for color cathode ray tube | |
| KR100829742B1 (en) | Electron gun for color cathode ray tube | |
| KR200168785Y1 (en) | Electron gun for cathode ray tube | |
| KR0179254B1 (en) | Electron gun for color cathode ray tube | |
| KR100236105B1 (en) | Electron gun for color crt | |
| KR0166906B1 (en) | Electronic gun for color cathode tube | |
| KR100192343B1 (en) | An electron gun used in the color cathode ray tube | |
| KR20010018887A (en) | electon gun for color cathode ray tube | |
| KR100875106B1 (en) | Electron gun for colored cathode ray tube | |
| KR100266100B1 (en) | A structural body of electron-gun for color crt | |
| KR100617212B1 (en) | electron gun for color cathode ray tube | |
| KR19980014886A (en) | Electron gun for color cathode ray tube |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E601 | Decision to refuse application | ||
| J201 | Request for trial against refusal decision | ||
| J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 19990630 Effective date: 20000527 |
|
| S901 | Examination by remand of revocation | ||
| GRNO | Decision to grant (after opposition) | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |