KR100262683B1

KR100262683B1 - Optical test system including interferometer with micromirror

Info

Publication number: KR100262683B1
Application number: KR1019980038997A
Authority: KR
Inventors: 이반 프리크릴; 홀리스 오닐 세 홀
Original assignee: 데니스 피셸; 디스커비젼 어소우쉬에이츠
Priority date: 1995-04-07
Filing date: 1998-09-21
Publication date: 2000-08-01

Abstract

간섭계는 소스 빔을 검사 빔과 기준 빔으로 분할하는 빔 분할기, 간섭 패턴을 검출하는 영상 장치, 검사 빔의 경로에 배치되어 검사 빔을 상기 영상 장치를 향해 반사하는 미러, 기준 빔의 경로에 배치되어 기준 빔의 일부를 영상 장치를 향해 반사하는 마이크로미러, 및 빔 분할기와 마이크로미러 사이의 기준 빔의 경로에 배치되어 기준 빔을 마이크로미러상에 포커싱하는 포커싱 장치를 포함한다. 마이크로미러는 포커싱 장치에 의해 포커스된 기준 빔의 중앙 로우브의 근사 수평 치수를 초과하지 않는 수평 치수를 갖는다. 빔의 수차 영향을 감소시키는 공간 필터는 투명 기재상에 배치된 반사기를 구비하고, 이 반사기는 반사기 상에 포커스된 빔의 공간 강도 분포의 중앙 로우브의 근사 수평 치수를 초과하지 않는 수평 치수를 갖는다. 파선 측정 시스템에서의 빔 필터링 방법이 또한 제공된다. 이 방법은 빔을 포커싱하고, 포커스된 빔의 특정 제1 부분을 반사하고, 빔의 제2 부분을 투과하는 것을 포함한다.The interferometer is a beam splitter for dividing a source beam into an inspection beam and a reference beam, an imaging device for detecting an interference pattern, a mirror disposed in a path of the inspection beam and reflecting the inspection beam toward the imaging device, and a path in the reference beam. A micromirror that reflects a portion of the reference beam towards the imaging device, and a focusing device disposed in the path of the reference beam between the beam splitter and the micromirror to focus the reference beam on the micromirror. The micromirror has a horizontal dimension that does not exceed the approximate horizontal dimension of the center lobe of the reference beam focused by the focusing device. A spatial filter that reduces the aberration effect of the beam has a reflector disposed on the transparent substrate, the reflector having a horizontal dimension that does not exceed the approximate horizontal dimension of the central lobe of the spatial intensity distribution of the beam focused on the reflector. . Also provided is a beam filtering method in a dashed line measurement system. The method includes focusing the beam, reflecting a particular first portion of the focused beam, and passing through a second portion of the beam.

Description

마이크로미러를 갖는 간섭계를 포함한 광학 검사 시스템Optical Inspection System Including Interferometer with Micromirror

본 발명은 광학 빔 검사 시스템에 관한 것으로, 특히 광학 빔 파선(wavefront)의 질을 측정하는 마이크로미러를 갖는 간섭계에 관한 것이다.The present invention relates to an optical beam inspection system, and more particularly to an interferometer having a micromirror for measuring the quality of an optical beam wavefront.

검사 중인 소스 빔으로부터 기준 빔을 추출하는 시스템으로는 몇개의 시스템이 있다. 그러한 기준 빔은 간섭계측과 같은 응용에 유용한 것으로 밝혀지고 있다. 어떤 시스템은 핀홀(pinhole), 즉 미소 개구를 사용하여, 검사될 소스로부터 나오는 빔으로부터 기준 빔을 발생한다. 원래의 소스 빔으로부터 기준 빔을 발생하는 것은 원래의 소스 빔에 대해 동일 파장과 일정한 위상 관계를 갖는 기준 빔을 제공하는데 도움을 준다. 빈번하게, 핀홀은 소스 빔에 존재하는 수차(aberration)의 영향으로부터 비교적 자유로운 기준 빔을 제공하는데 사용된다. 충분히 작은 핀홀이 수차 빔(aberrated beam)의 경로에 놓일 때, 수차에 기인하여 제공되는 에너지의 대부분이 통과되지 않기 때문에, 비교적 클린 빔(clean beam)이 생성된다는 것은 잘 알려져 있다.There are several systems that extract a reference beam from the source beam under inspection. Such reference beams have been found to be useful for applications such as interferometry. Some systems use pinholes, or micro-openings, to generate a reference beam from the beam coming from the source to be inspected. Generating a reference beam from the original source beam helps to provide a reference beam with the same wavelength and constant phase relationship for the original source beam. Frequently, pinholes are used to provide a reference beam that is relatively free from the effects of aberrations present in the source beam. It is well known that when a sufficiently small pinhole is placed in the path of an aberrated beam, relatively clean beams are produced because most of the energy provided due to the aberration is not passed.

몇몇의 현존하는 간섭계 시스템에서, 기준으로서 사용된 빔으로부터 수차를 제거하기 위해 빔 확장기가 사용된다. 현존하는 간섭계 시스템들중 하나가 문헌「콤팩 디스크 레이저 픽업의 파선을 측정하기 위한 위상 측정 레이디얼 시어 간섭계」("A Phase Measuring Radial Shear Interferometer for Measuring the Wavefronts of Compact Disc Laser Pickups", B.E. Truax, Proceedings of SPIE--The International Society for Optical Engineering, Vol. 661(1986), 74("Truax"))에 기술되어 있다. 여기에 기재된 시스템에서, 간섭계는 레이저 빔 소스의 출력에 배치된다. 빔 분할기는 소스 빔을 검사 빔과 기준 빔으로 분할한다. 어퍼쳐(aperture)는 빔 확장기와 함께 기준용으로 사용되는 빔으로부터 수차를 제거하는데 이용된다.In some existing interferometer systems, beam expanders are used to remove aberrations from the beam used as a reference. One of the existing interferometer systems is A Phase Measuring Radial Shear Interferometer for Measuring the Wavefronts of Compact Disc Laser Pickups, BE Truax, Proceedings. of SPIE--The International Society for Optical Engineering, Vol. 661 (1986), 74 ("Truax"). In the system described herein, an interferometer is placed at the output of the laser beam source. The beam splitter splits the source beam into an inspection beam and a reference beam. An aperture is used to remove the aberration from the beam used for reference with the beam expander.

그러한 어퍼쳐/빔 확장기 시스템은 일반적으로 콜리메이트 빔 입력(collimated beam input)을 받아서 컬리메이트 출력을 생성한다. 그러한 시스템에서는, 이 빔은 빔의 중심으로부터 비례적으로 더 멀리 있는 수차 에너지가 필터되도록 어퍼쳐를 통과한다. 그러한 다음 최종 필터된 빔, 즉 협소해진 빔은 확장되어 소스 빔의 폭으로 복원된다.Such aperture / beam expander systems generally receive a collimated beam input and produce a collimated output. In such a system, the beam passes through the aperture so that the aberration energy is proportionally further away from the center of the beam. The final filtered beam, i.e. the narrowed beam, is then extended and restored to the width of the source beam.

설명한 바와 같이, 그러한 시스템에는 일반적으로 콜리메이트 빔이 입력된다. 빔이 콜리메이트되기 때문에, 빔 에너지가 포커스된 빔처럼 중심에 모이지 않는다. 10% 어퍼쳐--10×빔 확장기 시스템에서는, 어퍼쳐는 빔 직경의 1/10을 갖는다. 따라서, 어퍼쳐 영역은 원래의 빔 영역의 대략 1/100이 된다. 그러한 10% 어퍼쳐 시스템이 전형적으로 콜리메이트 빔과 함께 사용되는 경우, 거의 모든 빔 에너지는 어퍼쳐를 통과하지 않는다. 이러한 큰 에너지 손실은 그러한 시스템에서 검사될 수 있는 소스의 전력 레벨에 하한을 설정한다.As described, such systems are generally input with collimated beams. Because the beam is collimated, the beam energy does not converge in the center like the focused beam. In a 10% aperture--10 × beam expander system, the aperture has one tenth of the beam diameter. Thus, the aperture area is approximately 1/100 of the original beam area. When such a 10% aperture system is typically used with a collimated beam, almost all beam energy does not pass through the aperture. This large energy loss sets a lower limit on the power levels of the sources that can be inspected in such a system.

Truax에 기재된 시스템에서, 빔 확장기로부터 복귀하는 검사 빔과 기준 빔은 빔 분할기에서 재결합되고 한 세트의 렌즈와 미러에 의해 안내되어 비디오 카메라의 픽업상에 간섭 패턴을 형성한다. 이 간섭 패턴을 분석하여 이상적인 파선을 생성하는 빔으로 부터 소스 빔의 일탈(departure)을 나타내는 데이터를 발생한다.In the system described in Truax, the inspection beam and the reference beam returning from the beam expander are recombined in the beam splitter and guided by a set of lenses and mirrors to form an interference pattern on the pickup of the video camera. This interference pattern is analyzed to generate data indicative of the deviation of the source beam from the beam producing the ideal dashed line.

Truax에 기재된 시스템의 단점은 시스템 구성 요소 및 소스의 얼라인먼트 및 배치를 체크하고 정정하기 위해서는 검사용으로 사용된 것과는 다른 조직(setup)으로 간섭계가 재구성되어야 한다는 것이다. 예를 들어, Truax에 기재된 시스템에서, 미러는 검사에 사용된 법선 방향으로부터 광이 비디오 카메라에 도달하는 것을 차단하는 위치로 슬라이드(slide)된다. 소스로부터의 빔은 핀홀이 있는 표면의 중심으로 포커스된다. 포커스된 빔의 일부은 상기 표면으로부터 다시 반사되고 얼라인먼트 렌즈를 통해 슬라이딩 미러로 안내되어 여기서 비디오 카메라로 반사된다.The disadvantage of the system described in Truax is that the interferometer must be reconfigured with a different setup than that used for inspection to check and correct the alignment and placement of system components and sources. For example, in the system described in Truax, the mirror slides from a normal direction used for inspection to a position that blocks light from reaching the video camera. The beam from the source is focused into the center of the pinhole's surface. A portion of the focused beam is reflected back from the surface and guided through the alignment lens to the sliding mirror where it is reflected back to the video camera.

LED는 검사 중에 일어나는 것처럼 역방향으로부터 핀홀을 조명하기 위해 사용된다. 그러한 다음 이 시스템의 구성 요소들이 조정되고 얼라인먼트되며, 핀홀은 뒤로부터 조명되어 핀홀의 백릿 영상(backlit image)가 검사되는 소스에 의해 생성된 집속점의 영상을 중첩(overlay)한다. 얼라인먼트가 완료될 때, 슬라이딩 미러가 빔 경로 밖으로 슬라이드되고, 간섭계는 검사 조직으로 재구성된다.The LED is used to illuminate the pinhole from the reverse as it happens during inspection. The components of the system are then adjusted and aligned, and the pinhole is illuminated from behind to overlay the image of the focal point generated by the source whose backlit image of the pinhole is examined. When the alignment is complete, the sliding mirror slides out of the beam path and the interferometer is reconstructed into the inspection tissue.

얼라인먼트 작업 중에 검사 조직으로 전환하는 방식은 시스템을 더욱 복잡하게 만들며 시스템이 검사를 위해 구성되는 동안 얼라인먼트를 체크할 수 없다는 문제점을 갖는다.The method of switching to the inspection organization during the alignment operation makes the system more complicated and has the problem that the alignment cannot be checked while the system is configured for inspection.

그러므로, 본 발명의 목적은 수차에 비교적 자유로운 제1빔을 제공하고 동시에 얼라인먼트 관찰 목적으로 사용될 수 있는 제2빔을 제공하는 광학 필터를 제공하는 것이다.It is therefore an object of the present invention to provide an optical filter that provides a first beam that is relatively free of aberrations and at the same time a second beam that can be used for alignment observation purposes.

본 발명의 다른 목적은 소스 빔에 존재하는 수차에 비교적 자유로운 기준 빔을 생성하는 마이크로미러를 갖는 간섭계를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an interferometer having a micromirror that produces a reference beam that is relatively free of aberrations present in the source beam.

본 발명의 또 다른 목적은 얼라인먼트 작업 중에 조직을 변경할 필요가 없는 간섭계를 제공하는 것이다.It is yet another object of the present invention to provide an interferometer that does not require tissue changes during alignment.

본 발명의 이들 및 기타 목적은 소스 빔의 수차의 영향으로부터 비교적 자유로운 기준 빔을 발생하는 마이크로미러를 갖는 간섭계에 의해 구현된다. 간섭계는 간섭 패턴 분석기로의 출력용 간섭 패턴을 생성하고 검출하는데 사용된다. 본 발명에 따른 간섭계는 검사 중인 소스로부터 소스 빔 입력을 받는다. 본 간섭계는 소스 빔을 검사 빔과 기준 빔으로 분할하는 빔 분할기를 구비한다. 간섭계는 검사 빔의 경로에 배치되어 검사 빔을 빔 분할기를 향해 다시 반사하는 미러를 갖는다. 이러한 미러는 검사 빔에 관해 길이 방향으로 이동 가능하여 기준 빔의 위상에 관련하여 검사 빔의 위상을 변화시킬 수 있다.These and other objects of the present invention are implemented by an interferometer having a micromirror that generates a reference beam that is relatively free from the effects of aberrations of the source beam. Interferometers are used to generate and detect interference patterns for output to the interference pattern analyzer. An interferometer according to the invention receives a source beam input from a source under inspection. The interferometer has a beam splitter that splits the source beam into an inspection beam and a reference beam. The interferometer has a mirror disposed in the path of the inspection beam and reflecting the inspection beam back toward the beam splitter. Such a mirror is movable in the longitudinal direction with respect to the inspection beam to change the phase of the inspection beam in relation to the phase of the reference beam.

마이크로미러는 기준 빔의 경로에 배치되어 기준 빔의 일부을 빔 분할기로 다시 반사한다. 빔 분할기와 마이크로미러 사이의 기준 빔의 경로에는, 렌즈와 같은, 포커싱 수단이 이용되어 기준 빔을 마이크로미러로 포커스한다. 마이크로미러는 포커싱 수단에 의해 포커스된 기준 빔의 공간 강도 분포(spatial intensity distribution)의 중앙 로우브(central lobe)의 근사 수평 치수(approximate lateral dimension)를 초과하지 않는 수평 치수의 반사기를 갖는다. 마이크로미러의 수평 치수는 양호하게는 포커스된 기준 빔의 공간 강도 분포의 중앙 로우브의 수평 치수의 약 ⅓이다. 간섭계는 바람직하게는 마이크로미러 뒤에 위치한 얼라인먼트 검출기를 포함한다.The micromirror is placed in the path of the reference beam and reflects a portion of the reference beam back to the beam splitter. In the path of the reference beam between the beam splitter and the micromirror, focusing means, such as a lens, is used to focus the reference beam into the micromirror. The micromirror has a reflector of horizontal dimension which does not exceed the approximate lateral dimension of the central lobe of the spatial intensity distribution of the reference beam focused by the focusing means. The horizontal dimension of the micromirror is preferably about 의 of the horizontal dimension of the central lobe of the spatial intensity distribution of the focused reference beam. The interferometer preferably comprises an alignment detector located behind the micromirror.

포커스된 기준 빔의 중앙 로우브보다 더 작은 반사 영역을 갖는 본 발명의 마이크로미러는 빔의 수차 영향을 감소시키는 공간 필터로서 역할을 한다.The micromirrors of the present invention having a smaller reflecting area than the center lobe of the focused reference beam serve as a spatial filter to reduce the aberration effect of the beam.

이 필터는 반사기 상에 포커스된 빔의 중앙 로우브의 개략 수평 치수를 초과하지 않는 수평 치수를 갖는 반사기를 포함한다. 반사기의 수평 치수는 바람직하게는 포커스된 빔의 중앙 로우브의 수평 치수의 약 ⅓을 초과하지 않는다.This filter includes a reflector having a horizontal dimension that does not exceed the approximate horizontal dimension of the central lobe of the beam focused on the reflector. The horizontal dimension of the reflector preferably does not exceed about 의 of the horizontal dimension of the central lobe of the focused beam.

본 발명은 또한 빔을 필터하는 방법을 제공한다. 빔은 반사-투과 표면상에 포커스된다. 빔의 중앙 부분은 반사되지만 중앙 부분 외측에 있는 다른 부분은 투과된다. 중앙의 반사된 부분은 포커스된 빔의 공간 강도 분포의 중앙 로우브의 개략 수평 치수를 초과하지 않는다.The present invention also provides a method of filtering a beam. The beam is focused on the reflective-transmissive surface. The central portion of the beam is reflected but other portions outside the central portion are transmitted. The central reflected portion does not exceed the approximate horizontal dimension of the central lobe of the spatial intensity distribution of the focused beam.

반사된 부분의 치수는 바람직하게는 빔의 공간 강도 분포의 중앙 로우브의 수평 치수의 약 ⅓이다. 반사된 빔의 정확도와 강도가 반사되게 선택된 부분의 치수에 의해 영향받는다는 것은 당업자라면 이해될 수 있을 것이다. 반사를 위해 더 작은 부분을 선택하면 더 정확한, 즉 수차가 적은 기준 빔이 생성되지만, 반사를 위해 더 큰 부분을 선택하면 더 큰 강도의 기준 빔이 생성된다. 마이크로미러는 필터되지 않은 내향 검사 빔(unfiltered incoming test beam)의 일부와 간섭하는 기준빔으로 알려진 반사된 빔 부분과, 얼라인먼트 관찰 시스템에 의해 수용되는 투과 빔 부분을 동시에 제공하는 공간 필터로서 기능을 한다.The dimension of the reflected portion is preferably about 의 of the horizontal dimension of the central lobe of the spatial intensity distribution of the beam. It will be understood by those skilled in the art that the accuracy and intensity of the reflected beam are affected by the dimensions of the portion selected to be reflected. Selecting a smaller portion for reflection produces a more accurate reference beam with less aberration, while selecting a larger portion for reflection produces a higher intensity reference beam. The micromirror functions as a spatial filter that simultaneously provides a portion of the reflected beam known as a reference beam that interferes with a portion of the unfiltered incoming test beam and a portion of the transmitted beam received by the alignment observation system. .

본 발명에 따른 빔 필터링 방법은 필터된 빔의 일부가 얼라인먼트 관찰 시스템에 의해 수용되도록 해준다. 이 방법은 파선 측정 시스템, 예를 들어, 간섭계의 포인팅과 얼라인먼트가 파선 측정 시스템의 구성에 있어서의 변경없이 모니터될 수 있게 해준다.The beam filtering method according to the invention allows a portion of the filtered beam to be received by the alignment observation system. This method allows the pointing and alignment of a dashed measuring system, for example an interferometer, to be monitored without any change in the configuration of the dashed measuring system.

본 발명에 따른 간섭계의 일 바람직한 실시예는 소스 빔을 검사 빔과 기준 빔으로 분할하는 빔 분할기, 간섭 패턴을 검출하는 영상 장치, 검사 빔의 경로에 배치되어 검사 빔을 영상 장치를 향해 반사하는 미러, 기준 빔의 경로에 배치되어 기준 빔의 일부를 영상 장치를 향해 반사하는 마이크로미러, 빔 분할기와 마이크로미러 사이의 기준 빔의 경로에 배치되어 기준 빔을 마이크로미러상에 포커싱하는 포커싱 장치를 포함한다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 마이크로미러는 포커싱 장치에 의해 포커스된 기준 빔의 중앙 로우브의 개략 수평 치수를 초과하지 않는 수평 치수를 갖고, 그로 인하여 검사 빔은 미러에 의해 반사되고 기준 빔의 일부는 마이크로미러에 의해 반사되어, 반사된 검사 빔과 기준 빔의 반사된 부분은 둘 다 영상 장치상에 입사하여 거기에 측정가능한 간섭 패턴을 형성한다. 본 간섭계의 상기 실시예는 마이크로미러 뒤에 배치된 얼라인먼트 검출기를 또한 포함할 수도 있다.One preferred embodiment of the interferometer according to the present invention is a beam splitter for dividing a source beam into an inspection beam and a reference beam, an imaging device for detecting an interference pattern, and a mirror disposed in a path of the inspection beam to reflect the inspection beam toward the imaging device. And a micromirror disposed in the path of the reference beam to reflect a portion of the reference beam toward the imaging device, and a focusing device disposed in the path of the reference beam between the beam splitter and the micromirror to focus the reference beam onto the micromirror. . According to one embodiment of the invention, the micromirror has a horizontal dimension which does not exceed the coarse horizontal dimension of the central lobe of the reference beam focused by the focusing device, whereby the inspection beam is reflected by the mirror and the Some are reflected by the micromirror such that both the reflected inspection beam and the reflected portion of the reference beam are incident on the imaging device and form a measurable interference pattern there. The embodiment of the present interferometer may also include an alignment detector disposed behind the micromirror.

본 발명에 따른 다른 실시예에 따르면, 빔의 수차 영향을 감소시키는 공간 필터가 제공된다. 이 필터는 투명 기재(transparent base)상에 배치된 반사기를 포함하는데, 이 반사기는 반사기 상에 포커스된 빔의 공간 강도 분포의 중앙 로우브의 개략 수평 치수를 초과하지 않는 수평 치수를 갖는다.According to another embodiment according to the invention, a spatial filter is provided which reduces the effect of aberration of the beam. The filter includes a reflector disposed on a transparent base, the reflector having a horizontal dimension that does not exceed the approximate horizontal dimension of the central lobe of the spatial intensity distribution of the beam focused on the reflector.

본 발명에 따른 또 다른 실시예에 따르면, 파선 측정 시스템에서의 빔 필터링 방법이 개시된다. 이 방법은 구체적으로 빔을 포커싱하는 단계, 포커스되는 경우 빔의 공간 강도 분포의 중앙 로우브의 개략 수평 치수를 초과하지 않는 중앙 부분을 포함하는, 포커스된 빔의 제1 부분을 반사하는 단계, 제1 부분 외측에 있는 부분을 포함하는 포커스된 빔의 제2 부분을 전송하는 단계를 포함한다.According to another embodiment according to the present invention, a beam filtering method in a broken line measurement system is disclosed. The method specifically includes focusing the beam, reflecting a first portion of the focused beam comprising a central portion, when focused, that does not exceed a coarse horizontal dimension of the central lobe of the spatial intensity distribution of the beam; Transmitting a second portion of the focused beam including the portion outside the one portion.

도 1은 본 발명에 따른 간섭계의 개략 블럭도.1 is a schematic block diagram of an interferometer according to the present invention;

도 2는 비수차 및 수차 빔 양자에 대한 공간 강도 분포 플롯도.2 is a spatial intensity distribution plot of both aberration and aberration beams.

도 3은 도 2에 도시한 플롯 곡선의 대수적 표현.3 is an algebraic representation of the plot curve shown in FIG.

〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉<Explanation of symbols for main parts of drawing>

10 : 간섭계10: interferometer

12 : 검사중 물체12: object under inspection

16 : 파선 분석기16: dashed analyzer

20 : 얼라인먼트 카메라20: alignment camera

24 : 프린지 카메라24: Fringe Camera

32 : 빔 분할기32: beam splitter

34 : 기준 경로 렌즈34: reference path lens

36 : 영상 렌즈36: video lens

38 : 검사 경로 미러38: inspection path mirror

44 : 마이크로미러44: micromirror

본 발명의 기타 목적, 그에 기여하는 부가적인 특징, 그로부터 얻어지는 이점은 첨부한 도면에 도시된 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 다음 설명으로부터 분명해질 것이다.Other objects, additional features contributing thereto, and the advantages obtained therefrom will become apparent from the following description of the preferred embodiments of the invention shown in the accompanying drawings.

도 1을 참조하여 설명하면, 도 1에는 검사 중인 소스(SUT; a source under test (12)를 측정하는데 사용하는 간섭계(10)가 도시된다. 간섭계(10)의 입력에는 검사 중인 물체(12)로부터의 빔(14)이 연결된다. 얼라인먼트 카메라(20)로부터의 얼라인먼트 신호와 프린지(fringe) 카메라(24)로부터의 프린지 신호(22)가 포함하고 있는 간섭계(10)의 출력은 파선 분석기(16)로의 입력을 형성한다. 검사 중인 물체(12)내에는 방사점원(26), 콜리메이터(28) 및 검사 중인 물체(12)를 나오는 빔의 폭을 설정하기 위한 빔 어퍼쳐를 형성하는 사출 동공(pupil: 30)이 있다.Referring to Figure 1, Figure 1 shows an interferometer 10 that is used to measure a source under test 12 (SUT), the input of the interferometer 10 being the object under test 12 The beam 14 from is coupled to the output of the interferometer 10, which includes the alignment signal from the alignment camera 20 and the fringe signal 22 from the fringe camera 24. An injection pupil that forms a beam aperture for setting the width of the beam exiting the radiation point source 26, the collimator 28, and the object under inspection 12 within the object under inspection 12 pupil: 30).

간섭계(10)내에는 빔 분할기(32), 기준 경로 렌즈(34), 영상 렌즈(36), 검사 경로 미러(38), 마이크로미러(44), 비디오 카메라일 수 있고 본 실시예에서 얼라인먼트 카메라(20)로 구현되는 적당한 얼라인먼트 영상 신호 변환기, 및 또한 프린지 카메라(24)와 같은 비디오 카메라일 수 있는 프린지 영상 신호 변환기가 있다.The interferometer 10 may be a beam splitter 32, a reference path lens 34, an imaging lens 36, an inspection path mirror 38, a micromirror 44, a video camera and in this embodiment an alignment camera ( There is a suitable alignment video signal converter implemented in 20), and also a fringe video signal converter, which may be a video camera such as fringe camera 24.

도 1에 도시된 바와 같이, 빔 분할기(32)는 검사 중인 물체(12)로부터 나오는 빔(14)을 검사 경로빔(40)과 기준 경로빔(42)으로 분할한다. 검사 경로빔(40)은 빔 분할기(32)로부터 검사 경로 미러(38)로 이동하고 거기에서 빔 분할기(32)로 다시 반사되어 빔 분할기(32)에 의해 프린지 카메라(24)로 반사된다. 그 다음, 반사된 검사 경로빔은 영상 렌즈(36)에 의해 포커스되어 프린지 카메라(24)상에 사출 동공(30)의 영상을 형성한다. 기준 경로빔(42)은 빔 분할기(32)로부터 이동하여 기준 경로 렌즈(34)에 의해 마이크로미러(44)에 수렴된다. 빔 분할기(32)와 검사 경로 미러(38)간의 거리는 바람직하게는 빔 분할기(32)와 마이크로미러(44)간의 거리와 같도록 선택되어 검사 경로 미러(38)와 마이크로미러(44)로부터 복귀하여 프린지 카메라(24)상에 입사하는 빔은 서로에 대해 위상 불변이어서 파선 분석기(16)에 의한 분석용 간섭 프린지를 형성할 수 있다.As shown in FIG. 1, the beam splitter 32 splits the beam 14 emerging from the object 12 under inspection into an inspection path beam 40 and a reference path beam 42. The inspection path beam 40 moves from the beam splitter 32 to the inspection path mirror 38 where it is reflected back to the beam splitter 32 and reflected by the beam splitter 32 to the fringe camera 24. The reflected inspection path beam is then focused by the imaging lens 36 to form an image of the exit pupil 30 on the fringe camera 24. The reference path beam 42 moves from the beam splitter 32 and converges on the micromirror 44 by the reference path lens 34. The distance between the beam splitter 32 and the inspection path mirror 38 is preferably selected to be equal to the distance between the beam splitter 32 and the micromirror 44 to return from the inspection path mirror 38 and the micromirror 44. The beams incident on the fringe camera 24 may be phase invariant with respect to each other to form an interference fringe for analysis by the dashed line analyzer 16.

마이크로미러(44)는 오직 포커스된 빔의 중앙 부분만으로부터의 에너지를 반사하고, 나머지 에너지는 투명 기재(46)와 얼라인먼트 영상 렌즈(48)를 통하여 얼라인먼트 카메라로 전해진다. 마이크로 미러(44)에 의해 반사된 기준 빔(42)의 일부(50)은 기준 경로 렌즈(34)에 의해 콜리메이트되고, 빔 분할기(32)를 통하여 그리고 사출 동공(30)을 프린지 카메라(24)의 픽업에 비추는 영상 경로 렌즈(36)를 통하여 통과한다.The micromirror 44 reflects energy from only the central portion of the focused beam, and the remaining energy is transmitted to the alignment camera through the transparent substrate 46 and the alignment imaging lens 48. A portion 50 of the reference beam 42 reflected by the micromirror 44 is collimated by the reference path lens 34, through the beam splitter 32 and through the exit pupil 30 to the fringe camera 24. Pass through the image path lens 36, reflecting the pickup.

얼라인먼트 영상 렌즈(48)와 함께 얼라인먼트 카메라(20)는 마이크로미러(44)와 투명 기재(46)뒤에 위치된다. 투명 기재(46)를 통과하지만 마이크로미러(44)를 통과하지 못하는 기준 경로빔(42)으로부터의 광은 마이크로미러(44)에 의해 야기된 최종 새도우(shadow)와 함께 포커스된 스폿 영상을 얼라인먼트 카메라(20)로 전달된다.The alignment camera 20 together with the alignment imaging lens 48 is positioned behind the micromirror 44 and the transparent substrate 46. Light from the reference path beam 42 that passes through the transparent substrate 46 but fails to pass through the micromirror 44 causes the alignment camera to focus the spot image with the final shadow caused by the micromirror 44. Is passed to 20.

마이크로미러(44)의 적당한 얼라인먼트의 검증을 위한 얼라인먼트 신호(18)는 얼라인먼트 카메라(20)로부터 모니터(52)로출력된다. 모니터(52)는 포커스된 스폿의 영상과 마이크로미러(44)에 의해 야기된 최종 새도우를 디스플레이한다. 이 디스플레이를 관찰하는 조작자는 마이크로미러(44) 혹은 검사 중인 물체(12)를 포함하는 기타 구성 요소의 위치를 조정하여 올바른 포인팅, 수평 얼라인먼트, 및 마이크로미러(44) 상으로의 기준 경로빔(34)의 포커싱을 실행할 수 있다. 일반적으로, 간섭계(10)의 구성 요소는 몇몇 표준 상태로 조정된 다음, 검사 중인 물체(12)의 포인팅과 얼라인먼트가 조정된다. 검사 중인 물체(12)의 포인팅은 포인트 원(26)을 콜리메이터(28)에 관해 수평으로 이동시키므로써 조정될 수 있다. 앞서의 설명으로 부터 원 포인팅 및 얼라인먼트(source pointing and alignment)는 간섭계(10)의 구성에 있어서의 어떠한 변경도 없이 관찰하여 조정할 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 마이크로미러(44)는 유리와 같은 투명 기판상에 선택도금 및 포토리소그래피와 같은 여러 공지의 처리 중 어떤 것에 의해서도 구성될 수 있다. 부록 A는 상업적으로 구입 가능한 항목을 포함하고 있는, 본 발명의 공간 필터와 간섭계를 구성하는데 사용될 수 있는 구성 요소의 리스트이다.The alignment signal 18 for verifying proper alignment of the micromirror 44 is output from the alignment camera 20 to the monitor 52. The monitor 52 displays the image of the focused spot and the final shadow caused by the micromirror 44. The operator observing this display adjusts the position of the micromirror 44 or other component, including the object under test 12, for correct pointing, horizontal alignment, and reference path beam 34 onto the micromirror 44. ) Can be focused. In general, the components of the interferometer 10 are adjusted to some standard state, and then the pointing and alignment of the object 12 under inspection is adjusted. The pointing of the object under examination 12 can be adjusted by moving the point circle 26 horizontally with respect to the collimator 28. It will be appreciated from the foregoing description that the source pointing and alignment can be observed and adjusted without any change in the configuration of the interferometer 10. The micromirror 44 may be constructed by any of several known processes, such as selective plating and photolithography, on a transparent substrate such as glass. Appendix A is a list of components that can be used to construct the spatial filter and interferometer of the present invention, including commercially available items.

마이크로미러(44)의 기능은 소스 빔에 있어서의 수차의 영향으로부터 비교적 자유로운 기준 빔을 소스 빔으로부터 발생시키는 것이다. 마이크로미러의 크기 선택은 도 2를 참조하여 이하 설명한다.The function of the micromirror 44 is to generate a reference beam from the source beam that is relatively free from the effects of aberrations in the source beam. The size selection of the micromirror will be described below with reference to FIG. 2.

도 2에서, 곡선(202)은 강도 대 수평 좌표로 표현되는, 수차 영향이 없는 포커스된 빔의 공간 강도 분포를 나타낸다. 비수차된 빔(nonaberrated beam)은 피크 강도(204)가 중심선(206)에서 나타나도록 포인트되고 얼라인먼트된다. 강도의 최소치(208)는 0차 회절 최소 혹은 제1 제로로 또한 알려진 제1 최소점(201, 212)에서 나타난다. 비수차 빔(202)의 공간 강도 분포는 또한 제2 최소점(214, 216)을 디스플레이 한다. 이 최소점은 또한 1차 회절 최소 혹은 제2 제로로 또한 알려져 있다.2, curve 202 represents the spatial intensity distribution of the focused beam without the aberration effect, expressed in intensity versus horizontal coordinates. The nonaberrated beam is pointed and aligned such that peak intensity 204 appears at center line 206. The minimum value of intensity 208 appears at the first minimum point 201, 212, also known as the zeroth order diffraction minimum or first zero. The spatial intensity distribution of the aberration beam 202 also displays the second minimum points 214, 216. This minimum is also known as first order diffraction minimum or second zero.

제1 최소점(210, 212)간의 비교적 고강도 영역은 강도 분포의 중앙 로우브를 정의한다. 중앙 로우브의 수평 치수는 제1 최소점(210, 212)간의 거리에 의해 정의된다. 일반적으로, 공간 강도 분포의 중앙 로우브의 수평 치수는, 포커싱 렌즈의 개구수(numerical aperture) 및 사용된 파장과 같은 인자가 주어지면, 수학적으로 계산될 수 있다. 선택적으로, 중앙 로우브의 수평 치수(218)는 동일 소스에 대해 취해진 측정치 및 사용된 특정 광학계로부터 실험적으로 결정될 수 있다.The relatively high intensity region between the first minimum points 210, 212 defines a central lobe of the intensity distribution. The horizontal dimension of the central lobe is defined by the distance between the first minimum points 210, 212. In general, the horizontal dimension of the central lobe of the spatial intensity distribution can be calculated mathematically, given factors such as the numerical aperture of the focusing lens and the wavelength used. Optionally, the horizontal dimension 218 of the central lobe can be determined experimentally from the measurements taken for the same source and the particular optics used.

사이드 로우브(220, 222)는 각각 제1 최소점(210, 212)과 제2 최소점(214, 216) 사이의 영역에 의해서 정의된다. 포커스된 비수차 빔에서, 대부분의 에너지는 제1 최소점(210, 212) 사이의 곡선(202) 아래 영역에 의해 정의되는 바와 같이 중앙 로우브에 모여 있다. 비교적 적은 에너지가 사이드 로우브(220, 222)에 있게 된다.Side lobes 220 and 222 are defined by the area between first minimum points 210 and 212 and second minimum points 214 and 216, respectively. In the focused aberration beam, most of the energy is gathered in the central lobe as defined by the area under the curve 202 between the first minimum points 210, 212. There is relatively little energy in the side lobes 220, 222.

곡선(230)은 코마(coma)로서 알려진 수차의 특별한 형태를 디스플레이하는 포커스된 빔의 공간 강도 분포를 도시한다. 이러한 유형의 수차는 빔의 강도 분포가 한 측으로 약간 시프트되는 비대칭이 되게 한다. 대향측에서는, 사이드 로우브(236)의 강도는 비수차 빔의 사이드 로우브(220)의 강도보다 비교적 높게 유지된다. 그러므로, 비수차 빔의 사이드 로우브(220)보다 코마를 갖는 수차된 빔의 사이드 로우브(236)에 더 많은 에너지가 존재한다. 도 3은 비수차 빔(302)과 코머(304)를 갖는 빔 양자의 공간 강도 분포의 대수적 표현을 도시한다.Curve 230 shows the spatial intensity distribution of the focused beam displaying a special form of aberration known as coma. This type of aberration causes the beam's intensity distribution to be asymmetric with a slight shift to one side. On the opposite side, the strength of the side lobes 236 remain relatively higher than the strength of the side lobes 220 of the aberration beam. Therefore, there is more energy in the side lobe 236 of the aberrated beam with coma than the side lobe 220 of the aberration beam. 3 shows an algebraic representation of the spatial intensity distribution of both the aberration beam 302 and the beam with commer 304.

수차된 빔의 사이드 로우브에 포함된 에너지는 광학계의 해상력에 대한 상한을 설정한다. 사이드 로우브의 에너지가 너무 크면, 수차된 빔은 광학계가 적절하게 해상하기에 충분한 정도로 포커스 될 수 없다. 본 발명에서, 마이크로미러(44)는 공간 필터로서 사용되어 소스 빔에 존재하는 수차의 영향으로부터 비교적 자유로운 기준 빔을 생성한다. 마이크로미러(44)는 소스 빔의 강도 분포의 중앙 로우브에 포함된 에너지를 반사하는 한편 사이드 로우브 에너지가 마이크로미러에 의해 통과되게 해주는 크기로 구성되야만 한다. 그러므로, 마이크로미러(44)는 포커스된 빔의 공간 강도 분포의 중앙 로우브의 개략 수평 치수(218)를 초과하지 않는 반사기를 가져야만 한다.The energy contained in the side lobes of the aberration beam sets an upper limit on the resolution of the optical system. If the energy of the side lobes is too large, the aberration beam cannot be focused to a degree sufficient for the optics to resolve properly. In the present invention, the micromirror 44 is used as a spatial filter to produce a reference beam that is relatively free from the effects of aberrations present in the source beam. The micromirror 44 should be sized to reflect the energy contained in the central lobe of the intensity distribution of the source beam while allowing the side lobe energy to be passed by the micromirror. Therefore, the micromirror 44 must have a reflector that does not exceed the approximate horizontal dimension 218 of the central lobe of the spatial intensity distribution of the focused beam.

마이크로미러(44)로부터의 반사된 에너지는 비교적 수차가 없는 기준 빔을 형성한다. 그러므로, 이 기준 빔은 검사 중인 소스로부터의 빔에 있어서의 수차를 측정하기 위한 비교용 기초로서 사용될 수 있다.The reflected energy from the micromirror 44 forms a reference beam that is relatively aberration free. Therefore, this reference beam can be used as a comparison basis for measuring aberrations in the beam from the source under inspection.

반사용으로 선택된 빔의 부분이 반사 기준 빔의 정확도와 강도를 결정하는데 역할을 한다는 것은 당업자라면 이해될 수 있을 것이다. 본 발명의 간섭계에 마이크로미러(44)를 응용하는 경우, 마이크로미러의 수평 치수가 포커스된 빔의 공간 강도 분포의 중앙 로우브의 직경의 약 ⅓이도록 반사되는 빔의 부분이 선택되어야만 하는 것이 밝혀지게 되었다. 이 거리는 도 2에 도시한 바와 같이 거리(240)에 의해 나타내어진다. 거리(240)는 또한 공간 강도 분포곡선(202)과 코머를 갖는 수차 빔의 커브(230) 사이의 교점(242, 244)에 의해 표현된다. 이것은 마이크로미러가 더 작은 소망의 치수(240)일 경우 사이드 로우브(236)에 존재하는 에너지가 반사되지 않는다는 것을 나타낸다.It will be understood by those skilled in the art that the portion of the beam selected for reflection plays a role in determining the accuracy and intensity of the reflective reference beam. When applying the micromirror 44 to the interferometer of the present invention, it is found that the portion of the reflected beam must be selected so that the horizontal dimension of the micromirror is approximately the diameter of the center lobe of the spatial intensity distribution of the focused beam. It became. This distance is represented by distance 240 as shown in FIG. The distance 240 is also represented by the intersections 242 and 244 between the spatial intensity distribution curve 202 and the curve 230 of the aberration beam with commers. This indicates that the energy present in the side lobe 236 is not reflected when the micromirror is of the smaller desired dimension 240.

다시 도 1을 참조하여 설명하면, 검사 경로빔(40)과 기준 경로빔(42)이 프린지 카메라(24)의 픽업(별도로 표시되지 않음)상에 동시에 입사되어는 다수의 프린지를 나타내는 간섭 패턴을 형성한다. 프린지 카메라(24)는 프린지의 영상을 검출하여 그 영상을 전기적 프린지 신호(22)로 변환한 다음 모니터(56)와 파선 분석기(16)로 전송한다. 모니터(56)는 프린지의 영상을 디스플레이 한다. 이 영상은 검사 중인 물체(12)의 간섭계(10)로의 얼라인먼트와 포인팅을 모니터하기 위해 사용될 수 있다. 이러한 배치는 조작자가 간섭계(10)에 관해서 검사중인 물체(12)의 얼라인먼트 및 포인팅에 있어서의 잔류 미세 에러(residual fine error)를 보정할 수 있게 해준다. 파선 분석기(16)는 프린지 신호(22)로 동작하여 기준 빔에 의해 표현되는 이상적인 파선에 관하여 검사 중인 물체(12)의 파선질(wavefront quality)을 매핑(mapping)하여 측정한다.Referring again to FIG. 1, an interference pattern representing a plurality of fringes in which the inspection path beam 40 and the reference path beam 42 are simultaneously incident on the pickup (not separately displayed) of the fringe camera 24 is described. Form. The fringe camera 24 detects an image of the fringe, converts the image into an electrical fringe signal 22, and transmits the image to the monitor 56 and the dashed line analyzer 16. The monitor 56 displays an image of the fringe. This image can be used to monitor the alignment and pointing of the object 12 under inspection to the interferometer 10. This arrangement allows the operator to correct residual fine errors in alignment and pointing of the object 12 under inspection with respect to the interferometer 10. The dashed line analyzer 16 acts as a fringe signal 22 to map and measure the wavefront quality of the object under inspection 12 with respect to the ideal dashed line represented by the reference beam.

파선 분석기(16)는 PC와 같은 소정의 컴퓨터, 및 적절한 인터페이스 장치에 의해 구현될 수 있다. 프린지 카메라(24)로부터의 프린지 신호(22)는 PC로의 인터페이싱을 위한 비디오 신호 디지타이저(도시되지 않음)로의 입력을 형성한다. MU Tech로부터 구입 가능한 "M Vision 1000 Frame Grabber"와 같은 소정의 표준 비디오 신호 디지타이저는 PC로의 인터페이싱을 위한 프린지 신호(22)의 필수적인 디지털화를 수행한다. 그러한 다음, 파선 분석기(16)에서의 PC는 디지털화된 영상 신호에 따라 동작하여 실제의 빔 파선과 이상 기준 빔의 빔 파선 사이의 차이를 나타내는 데이터를 생성한다.The dashed analyzer 16 may be implemented by any computer, such as a PC, and an appropriate interface device. Fringe signal 22 from fringe camera 24 forms an input to a video signal digitizer (not shown) for interfacing to a PC. Certain standard video signal digitizers, such as the "M Vision 1000 Frame Grabber", available from MU Tech, perform the necessary digitization of the fringe signal 22 for interfacing to a PC. The PC at dash line analyzer 16 then operates in accordance with the digitized image signal to generate data representing the difference between the actual beam dashed line and the beam dashed line of the ideal reference beam.

파선 분석기(16)는 디지털 아날로그 변환기 카드(도시되지 않음)와 압전 변환기(PZT: 54)를 통해 검사 경로 미러(38)의 배치와 이동을 제어한다. PZT(54)는 검사 빔(40)의 전파 방향으로 검사경로 미러(38)를 1파장 미만의 증분으로 이동시켜, 검사 빔(40)의 위상을 반사 기준 빔 부분(50)에 대하여 변화시킨다. 이런 식으로, 검사 중인 물체(12)로부터의 파선은 몇개의 위상이 다른 빔에 대해 반사 기준 빔(50)의 파선과 간섭시켜 둘 사이의 변화에 대한 더 완성된 표현을 형성할 수 있다.The broken line analyzer 16 controls the placement and movement of the inspection path mirror 38 through a digital to analog converter card (not shown) and a piezoelectric transducer (PZT) 54. The PZT 54 moves the inspection path mirror 38 in increments of less than one wavelength in the propagation direction of the inspection beam 40 to change the phase of the inspection beam 40 with respect to the reflective reference beam portion 50. In this way, the dashed line from the object under inspection 12 can interfere with the dashed line of the reflective reference beam 50 for several different phased beams to form a more complete representation of the change between the two.

파선 분석기(16)의 PC는 빔에 대한 파선 측정 데이터를 제공하는 소프트웨어를 실행한다. 이상적인 평면, 구면 혹은 원통형으로 전파하는 파선에 대한 검사중인 물체(12)로 부터 전파된 파선의 변화를 나타내는 데이터를 발생하는 적당한 소프트웨어가 제공된다. 뿐만 아니라, Zernike 다항식으로 알려진 수학적 함수항으로 소스 빔 파선의 변화를 나타내는 데이터가 디지털화된 프린지 신호(22)에 따른 소프트웨어의 운영에 의해 또한 생성된다.The PC of the dash analyzer 16 runs software that provides dashed measurement data for the beam. Appropriate software is provided for generating data indicative of changes in the propagated dashed line from the object under inspection 12 for the dashed propagating in an ideal plane, sphere or cylinder. In addition, data representing the change of the source beam dashed line with a mathematical function term known as Zernike polynomial is also generated by the operation of the software according to the digitized fringe signal 22.

예를 들어, 평면 파선에 기준한 측정 데이터는 평면식 z=Ax+By+C로부터 관찰된 파선의 차이를 나타낸다. 이 데이터는 또한 x 및 y 축 기울기; 피크, 밸리(valley), 피크-밸리치; 및 잔류 적합 평균 제곱근(rms) 에러를 나타낸다. 평면 파선에 기준한 측정 데이터에 또한 감산되거나 인수 분해된 x 및 y 축 기울기에 기인한 관찰된 변화가 주어진다. 뿐만 아니라, 구면 파선을 기준한 측정 데이터는 또한 관찰된 파선의 구면 파워(spherical power)에 대한 인수(factor)를 포함한다. 원통형 파선을 기준한 측정 데이터는 관찰 파선의 비점수차에 대한 인수를 포함한다.For example, measurement data based on planar dashed line represents the difference in dashed line observed from planar z = Ax + By + C. This data also includes the x and y axis slopes; Peak, valley, peak-valley; And residual fit mean square error (rms) error. Measurement data based on planar dashed lines are also given the observed changes due to subtracted or factored x and y axis slopes. In addition, measurement data based on spherical dashed lines also includes a factor for the spherical power of the observed dashed lines. Measurement data based on the cylindrical dashed line includes a factor for the astigmatism of the observed dashed line.

본 발명을 소정의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 본 발명이 이 실시예에 제한되지 않음은 물론이다. 본 발명을 실시하기 위한 최량의 형태를 기재한 본 설명에 비추어, 본 발명의 범위와 사상을 벗어남이 없이 많은 변형과 변화가 당업자에게 가능하다. 그러므로, 본 발명의 범위는 전술한 설명보다는 오히려 다음의 특허 청구의 범위에 위해 정의된다. 특허 청구 범위의 의미 및 균등의 범위 내에 있는 변경, 변형, 변화는 그 범위 내에 있다.Although the present invention has been described with reference to certain preferred embodiments, of course, the present invention is not limited to this embodiment. Many modifications and variations are possible to those skilled in the art without departing from the scope and spirit of the invention in light of the present description of the best mode for carrying out the invention. Therefore, the scope of the present invention is defined for the following claims rather than the foregoing description. Changes, modifications and variations that fall within the meaning and range of equivalency of the claims are within their scope.

〈부록 A〉<Appendix A>

마이크로미러 간섭계 부품 리스트:Micromirror Interferometer Parts List:

컴퓨터: PC,PCI 버스 카드들:Computer: PC, PCI Bus Cards: 1One MU Tech, M-Vision 1000 Frame Grabber(프린지 카메라에 대해)MU Tech, M-Vision 1000 Frame Grabber (for fringe cameras) 1One Keithley, DAC-02 아날로그 출력보드(PZT 고전압 공급부에 대해 0.5V 입력)Keithley, DAC-02 analog output board (0.5V input to PZT high voltage supply) 카메라:camera: 22 Cohu, 1100 RS-170, ½" 포맷Cohu, 1100 RS-170, ½ "Format PZTPZT 1One Polytec PI,P-241.00,5 미크론 압전 변환기Polytec PI, P-241.00,5 Micron Piezoelectric Transducer PZT 고전압 공급부PZT high voltage supply 1One Polytec PI, P-261.20 OEM 증폭기 모듈Polytec PI, P-261.20 OEM Amplifier Module 광학:시험 경로 미러Optical: test path mirror 1One 1" 직경, ⅜" 두께, (PZT 상에 장착됨,이 미러의 이동은 위상 시프트를 위해사용된다)1 "diameter, ⅜" thickness, (mounted on PZT, this mirror movement is used for phase shift) 50/50 빔 분할기50/50 beam splitter 1One 1.5" 직경, ⅜" 두께,(½ 광을 검사경로로 및 ½ 광을 기준 경로로분할한다.)1.5 "diameter, ⅜" thickness, (½ light splits the inspection path and ½ light into the reference path.) 마이크로 미러Micro mirror 1One 12.7㎜ 직경 유리 디스크상에20 미크론 크롬도트, AR 코팅됨.20 micron chromium dots, AR coated on a 12.7 mm diameter glass disk. 기준 렌즈Reference lens 1One 200㎜ fl 렌즈(광을 마이크로 미러상에포커스하기 위해 사용됨.)200 mm fl lens (used to focus light on a micro mirror) 이미지 렌즈(프린지 카메라)Image lens (fringe camera) 1One 330㎜ fl 렌즈(레이저 소스 어퍼쳐의상을 프린지 카메라에 비춘다.)330mm fl lens (I place a laser source aperture costume on a fringe camera.) 이미지 렌즈(얼라인먼트 렌즈)Image lens (alignment lens) 1One 20× 마이크로스코프 대물(마이크로미러와 기준 경로의 포커스된 빔의상을 비춘다. 레이저 소스를 간섭계에정렬시키기 위해 사용됨)20 × microscope objective (to mirror the image of the focused beam of the micromirror and reference path, used to align the laser source to the interferometer) 얼라인먼트 모니터Alignment monitor 1One 표준 B＆W 카메라 모니터(얼라인먼트카메라 혹은 프린지 카메라의 실시간관찰을 위해 사용됨)Standard B & W camera monitor (used for real-time observation of alignment cameras or fringe cameras)

Claims

기준 빔과 검사 빔을 비교해서 소스 빔내의 수차를 결정하는 광학 시스템에 있어서,In an optical system for comparing the reference beam and the inspection beam to determine the aberration in the source beam,

수차 성분을 포함하는 공간 강도 분포를 갖고 있는 소스 빔을 생성하는 검사 소스;An inspection source for producing a source beam having a spatial intensity distribution comprising aberration components;

상기 수차 성분과 관련된 프린지 신호를 처리하는 파선 분석기; 및A dash line analyzer for processing a fringe signal associated with the aberration component; And

상기 검사 소스와 상기 파선 분석기 사이에 배치된 간섭계를 구비하며,An interferometer disposed between the test source and the dashed analyzer,

상기 간섭계는The interferometer is

검사 빔 경로를 따라 이동하는 검사 빔과 기준 빔 경로를 따라 이동하는 기준 빔으로 상기 소스 빔을 분할하는 빔 분할기;A beam splitter dividing the source beam into an inspection beam moving along an inspection beam path and a reference beam moving along a reference beam path;

상기 검사 빔과 상기 기준 빔을 검출하는 영상 장치;An imaging device for detecting the inspection beam and the reference beam;

상기 검사 빔의 경로에 배치되어 상기 검사 빔을 상기 영상 장치를 향해 반사하는 미러;A mirror disposed in a path of the inspection beam and reflecting the inspection beam toward the imaging device;

상기 기준 빔의 경로에 배치되어 상기 기준 빔의 일부를 상기 영상 장치를 향해 반사하는 마이크로미러;A micromirror disposed in a path of the reference beam to reflect a portion of the reference beam toward the imaging device;

상기 마이크로미러에 근접 배치되어 그의 영상을 최적화하기 위해 상기 수차 성분을 검출하는 얼라인먼트 검출기;An alignment detector disposed proximate to the micromirror and detecting the aberration component to optimize its image;

상기 미러가 상기 검사 빔의 경로에 대하여 이동할 수 있도록 상기 미러에 동작적으로 연결되며 상기 파선 분석기에 의해서 제어되는 압전 변환기; 및A piezoelectric transducer operatively connected to the mirror and controlled by the dashed line analyzer such that the mirror can move relative to the path of the inspection beam; And

상기 빔 분할기와 상기 마이크로미러 사이의 상기 기준 빔의 경로에 배치되어 상기 기준 빔을 상기 마이크로미러상에 포커싱하는 포커싱 수단 - 상기 마이크로미러는 상기 포커싱 수단에 의해 상기 마이크로미러에 포커스된 상기 기준 빔의 중앙 로우브의 근사 수평 치수(approximate lateral dimension)를 초과하지 않는 수평 치수를 가지고 있어서, 상기 검사 빔이 상기 미러에 의해 반사되고 상기 기준 빔의 상기 일부가 상기 마이크로미러에 의해 반사될 때, 상기 반사된 검사 빔과, 상기 기준 빔의 상기 반사된 부분은 둘다 상기 영상 장치상에 입사하여 거기에 간섭 패턴을 형성하며, 상기 간섭 패턴은 상기 영상 장치에 의해서 상기 프린지 신호로 변환되는 복수의 프린지를 포함함 - 를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.Focusing means arranged in the path of the reference beam between the beam splitter and the micromirror to focus the reference beam on the micromirror, the micromirror of the reference beam focused by the focusing means on the micromirror Having a horizontal dimension that does not exceed the approximate lateral dimension of the central lobe, such that when the inspection beam is reflected by the mirror and the portion of the reference beam is reflected by the micromirror Both the examined inspection beam and the reflected portion of the reference beam are incident on the imaging device and form an interference pattern therein, the interference pattern including a plurality of fringes that are converted into the fringe signal by the imaging device. And an optical system.

제1항에 있어서, 상기 검사 빔과 상기 반사된 빔을 상기 영상 장치에 포커싱하기 위한 영상 렌즈를 더 포함하는 것을 특징으로하는 광학 시스템.The optical system of claim 1, further comprising an imaging lens for focusing the inspection beam and the reflected beam on the imaging device.

제1항에 있어서, 상기 압전 변환기는 상기 기준 빔의 변환된 부분에 대하여 상기 검사 빔의 위상을 변화시키기 위해 1 파장 미만의 증분으로 상기 검사 빔에 대해서 상기 미러를 이동시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.2. The piezoelectric transducer of claim 1, wherein the piezoelectric transducer is capable of moving the mirror relative to the inspection beam in increments of less than one wavelength to change the phase of the inspection beam with respect to the converted portion of the reference beam. Optical system.

제3항에 있어서, 상기 검사 빔은 상기 검사 빔의 복수의 상이한 위상에 걸처 상기 기준 빔의 반사된 부분을 간섭하므로써, 상기 기준 빔의 반사된 부분과 상기 수차 성분을 포함하는 상기 소스 빔간의 변화에 대한 완전한 표시가 제공되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.4. The method of claim 3, wherein the inspection beam interferes with the reflected portion of the reference beam over a plurality of different phases of the inspection beam, thereby varying between the reflected portion of the reference beam and the source beam including the aberration component. An optical system, characterized in that a complete indication of is provided.

제1항에 있어서, 상기 검사 소스는 상기 소스 빔을 콜리메이트하는 콜리메이터를 포함하며, 상기 콜리메이트된 소스 빔은 상기 검사 소스에 제공된 사출 동공을 통하여 진행되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.The optical system of claim 1, wherein the inspection source comprises a collimator for collimating the source beam, wherein the collimated source beam runs through an exit pupil provided in the inspection source.

검사 빔과 기준 빔과의 비교에 의해서 소스 빔내의 수차를 결정하는 조정가능한 광학 시스템에 있어서,An adjustable optical system for determining aberration in a source beam by comparison of an inspection beam with a reference beam,

상기 검사 소스와 상기 파선 분석기 사이에 배치된 간섭계를 포함하며,An interferometer disposed between the test source and the dashed analyzer,

상기 간섭계는The interferometer is

상기 기준 빔의 경로에 배치되어 상기 기준 빔의 중앙 부분을 상기 영상 장치를 향해 반사하고 상기 기준 빔의 바깥 부분은 통과시키는 마이크로미러;A micromirror disposed in a path of the reference beam to reflect a central portion of the reference beam toward the imaging device and to pass an outer portion of the reference beam;

상기 마이크로미러가 상기 기준 빔의 상기 중앙 부분과 상기 바깥 부분에 대하여 조정될 수 있도록 상기 기준 빔의 상기 바깥 부분을 모아서 검출하는 얼라인먼트 영상 수단; 및Alignment imaging means for collecting and detecting the outer portion of the reference beam such that the micromirror can be adjusted with respect to the central portion and the outer portion of the reference beam; And

상기 빔 분할기와 상기 마이크로미러 사이의 상기 기준 빔의 경로에 배치되어 상기 기준 빔을 상기 마이크로미러상에 포커싱하는 포커싱 수단을 포함하며,A focusing means disposed in the path of the reference beam between the beam splitter and the micromirror to focus the reference beam on the micromirror,

상기 마이크로미러는 상기 포커싱 수단에 의해 상기 마이크로미러에 포커스된 상기 기준 빔의 중앙 로우브의 근사 수평 치수(approximate lateral dimension)를 초과하지 않는 수평 치수를 가지고 있어서, 상기 검사 빔이 상기 미러에 의해 반사되고 상기 기준 빔의 상기 중앙 부분이 상기 마이크로미러에 의해 반사될 때, 상기 반사된 검사 빔과, 상기 기준 빔의 상기 반사된 부분은 둘다 상기 영상 장치상에 입사하여 거기에 간섭 패턴을 형성하며, 상기 간섭 패턴은 상기 영상 장치에 의해서 상기 프린지 신호로 변환되는 복수의 프린지를 포함하는 것을 특징으로 하는 조정가능한 광학 시스템.The micromirror has a horizontal dimension that does not exceed an approximate lateral dimension of the central lobe of the reference beam focused by the focusing means such that the inspection beam is reflected by the mirror. And when the central portion of the reference beam is reflected by the micromirror, both the reflected inspection beam and the reflected portion of the reference beam are incident on the imaging device and form an interference pattern therein, And the interference pattern comprises a plurality of fringes that are converted by the imaging device into the fringe signal.

제6항에 있어서, 상기 프린지 신호를 수신하는 모니터를 더 포함하며, 이 모니터는 상기 복수의 프린지를 포함하는 상기 간섭 패턴의 영상을 디스플레이하며, 상기 영상은 조작자가 잔여 미세 에라를 교정할 수 있도록 상기 간섭계 내로의 상기 소스 빔의 얼라인먼트 및 포인팅을 모니터할 수 있게 해주는 것을 특징으로 하는 조정가능한 광학 시스템.7. The apparatus of claim 6, further comprising a monitor receiving the fringe signal, the monitor displaying an image of the interference pattern comprising the plurality of fringes, the image allowing the operator to correct residual fine error. And an alignment and pointing of the source beam into the interferometer.

제6항에 있어서, 상기 얼라인먼트 영상 수단은 상기 마이크로미러에 인접하게 배치된 투명 기재, 얼라인먼트 영상 렌즈, 및 얼라인먼트 영상 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 조정가능한 광학 시스템.7. The adjustable optical system of claim 6, wherein the alignment imaging means comprises a transparent substrate, an alignment imaging lens, and an alignment imaging device disposed adjacent the micromirror.

제8항에 있어서, 상기 기준 빔의 상기 바깥 부분은 상기 얼라인먼트 영상 장치에 스폿으로 포커스되며, 상기 마이크로미러는 그 위에 새도우를 주어 상기 스폿과 새도우가 검출될 수 있게 해주는 것을 특징으로 하는 조정가능한 광학 시스템.9. The adjustable optics of claim 8, wherein the outer portion of the reference beam is focused as a spot on the alignment imaging device, and the micromirror shadows thereon to allow the spot and shadow to be detected. system.

제9항에 있어서, 상기 얼라인먼트 영상 장치는 상기 스폿 및 새도우와 관련된 얼라인먼트 신호를 생성하는 것을 특징으로 하는 조정가능한 광학 시스템.10. The adjustable optical system of claim 9 wherein the alignment imaging device generates an alignment signal associated with the spot and shadow.

제10항에 있어서, 상기 얼라인먼트 신호를 수신하여 상기 스폿 및 새도우의 영상을 디스플레이하여 조작자가 이 영상을 보면서 상기 마이크로미러에 대한 상기 기준 빔의 포인팅, 수평 얼라인먼트 및 포커싱을 교정할 수 있게 상기 마이크로미러의 위치을 조정할 수 있게 해주는 모니터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조정가능한 광학 시스템.The micromirror of claim 10, wherein the micromirror is received to display an image of the spot and shadow so that an operator can correct the pointing, horizontal alignment and focusing of the reference beam relative to the micromirror while viewing the image. And an additional monitor to allow adjustment of the position of the optical system.

제10항에 있어서, 상기 얼라인먼트 신호를 수신하여 상기 스폿 및 새도우의 영상을 디스플레이하여 조작자가 이 영상을 보면서 상기 마이크로미러에 대한 상기 기준 빔의 포인팅, 수평 얼라인먼트 및 포커싱을 교정할 수 있게 상기 검사 소스의 위치를 조정할 수 있게 해주는 모니터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조정가능한 광학 시스템.The inspection source of claim 10, wherein the inspection signal is received to display an image of the spot and shadow so that an operator can correct the pointing, horizontal alignment and focusing of the reference beam relative to the micromirror while viewing the image. And an monitor for allowing adjustment of the position of the optical system.

제6항에 있어서, 상기 검사 빔과 상기 반사된 빔을 상기 영상 장치에 포커싱하는 영상 렌즈를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조정가능한 광학 시스템.7. The adjustable optical system of claim 6, further comprising an imaging lens focusing the inspection beam and the reflected beam on the imaging device.

제6항에 있어서, 상기 검사 소스는 상기 소스 빔을 콜리메이트하는 콜리메이터를 더 포함하며, 콜리메이트된 소스 빔은 상기 검사 소스 내의 사출 동공을 통해서 진행하는 것을 특징으로 하는 조정가능한 광학 시스템.7. The adjustable optical system of claim 6, wherein the inspection source further comprises a collimator for collating the source beam, wherein the collimated source beam travels through an exit pupil in the inspection source.