KR100262463B1 - 배스의 온도 조절장치 - Google Patents
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Abstract
개시된 온도 조절장치는 웨이퍼의 소정 부위를 식각할 경우에 사용되는 배스 내의 식각 액의 온도를 설정 온도로 식각 액의 흐름이나 웨이퍼의 회전을 이용하지 않고, 균일하게 조절하는 것이다.
본 발명은 배스 본체의 내측면 및 바닥면에 히터를 설치하는 것으로서 배스 본체의 내측면 및 바닥면에 홈을 형성하고, 이 홈에 히터를 설치하며, 배스 본체에 온도 센서를 설치하고, 온도 센서의 검출 온도에 따라 온도 조절기가 히터에 전원을 공급하여 배스 본체에 충진된 식각 액의 온도를 상부, 중간부 및 하부에 관계없이 설정 온도의 ±1℃의 범위 이내로 조절한다.
Description
본 발명은 웨이퍼의 소정 부위를 식각할 경우에 사용되는 배스(bath) 내의 식각 액의 온도를 설정 온도로 균일하게 조절하는 배스의 온도 조절장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체의 제조 공정에서 웨이퍼를 배스에 넣고, 소정 부위를 식각하는 식각 공정을 수행하는 경우가 많다.
이러한 식각 공정중에서 식각 액의 온도 편차를 ±1℃의 범위 이내로 조절해야 할 경우에 배스에 식각 액의 온도를 조절하기 위한 히터를 구비하고 있다.
도 1은 종래의 온도 조절장치에 따라 배스에 히터가 설치된 상태를 보인 도면이다.
여기서, 부호 10은 식각 액을 충진시켜 웨이퍼(도면에 도시되지 않았음)의 식각 공정을 수행할 경우에 사용되는 배스 본체이고, 부호 12는 발열되어 식각 액을 가열하는 히터이다.
상기 히터(12)는 상기 배스 본체(10)의 내측면을 따라 하부로 연장되어 배스 본체(10)의 바닥면에 설치된다.
부호 14는 상기 배스 본체(10)에 충진된 식각 액의 온도를 검출하는 온도 센서이고, 부호 16은 상기 온도 센서의 검출 온도에 따라 상기 히터(12)에 전원을 공급하여 발열시키면서 식각 액의 온도를 조절하는 온도 조절기이다.
이러한 구성을 가지는 종래의 온도 조절장치는 웨이퍼의 소정 부위를 식각할 경우에 배스 본체(10)에 웨이퍼를 넣고, 식각 액을 충진시켜 식각하게 된다.
이 때, 식각 액의 온도 조절이 필요할 경우에 온도 센서(14)가 온도를 검출하고, 온도 센서(14)의 검출 온도에 따라 온도 조절기(16)가 히터(12)의 발열을 제어하여 식각 액의 온도를 일정하게 조절한다.
그러나 상기한 종래의 기술은 배스 본체(10)의 바닥면에만 히터(12)가 설치되어 있으므로 식각 액의 상부, 중간부 및 하부에 따라 온도의 차이가 심하게 발생하고, 이로 인하여 식각률이 저하됨은 물론 불균일하게 식각되었다.
그리고 식각 액의 온도를 균일하게 조절하기 위하여 식각 액의 흐름이 발생하도록 할 수도 있으나, 식각 액의 흐름으로 인하여 식각률이 저하되고, 식각 불균일이 발생하는 식각 공정에서는 사용할 수 없었다.
또한 식각 액의 온도를 균일하게 조절하기 위하여 웨이퍼를 회전시킬 수도 있으나, 웨이퍼를 회전시킬 경우에 식각 액의 부력과 식각 액의 흐름으로 인하여 웨이퍼가 원활하게 회전하지 못하는 문제점이 발생하게 된다.
따라서 본 발명의 목적은 식각 액의 흐름이나 웨이퍼의 회전을 이용하지 않고, 배스 본체에 충진된 식각 액의 온도를 설정 온도로 균일하게 조절하는 배스의 온도 조절장치를 제공하는 데 있다.
도 1은 종래의 온도 조절장치에 따라 배스에 히터가 설치된 상태를 보인 도면,
도 2는 본 발명의 온도 조절장치에 따라 배스에 히터가 설치된 상태를 보인 도면,
도 3은 도 2의 "A"부분 확대 사시도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
20 : 배스 본체
22 : 히터
24: 홈
26 : 온도 센서
28 : 온도 조절기
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 배스의 온도 조절장치에 따르면, 배스 본체의 내측면 및 바닥면에 히터를 설치한다.
상기 히터의 설치는 배스 본체의 내측면 및 바닥면에 예를 들면, 홈을 형성하고, 이 홈에 히터를 설치한다.
그리고 배스 본체에 온도 센서를 설치하고, 온도 센서의 검출 온도에 따라 온도 조절기가 히터에 전원을 공급하여 배스 본체에 충진된 식각 액의 온도를 상부, 중간부 및 하부에 관계없이 설정 온도의 ±1℃의 범위 이내로 조절한다.
이하 본 발명의 배스의 온도 조절장치의 바람직한 실시 예를 예시한 도 2 및 도 3의 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 온도 조절장치에 따라 배스에 히터가 설치된 상태를 보인 도면이다.
여기서, 부호 20은 식각 액을 충진시켜 웨이퍼의 식각 공정을 수행할 경우에 사용되는 배스 본체이고, 부호 22는 발열되어 식각 액을 가열하는 히터이다.
상기 히터(22)는, 도 3에 도시된 바와 같이 상기 배스 본체(20)의 내측면 및 바닥면에 등간격으로 홈(24)을 형성하고, 상기 홈(24)에 히터(22)를 설치한다.
상기 홈(24)은 작업의 편리성 등으로 고려하여 'V'자형으로 형성하여 히터(22)를 설치한다.
부호 26은 상기 배스 본체(20)에 충진된 식각 액의 온도를 검출하는 온도 센서이고, 부호 28은 상기 온도 센서의 검출 온도에 따라 상기 히터(22)에 전원을 공급하여 발열시키면서 식각 액의 온도를 조절하는 온도 조절기이다.
이와 같이 구성된 본 발명의 온도 조절장치는 웨이퍼의 소정 부위를 식각할 경우에 배스 본체(20)에 웨이퍼를 넣고, 식각 액을 충진시켜 식각하게 된다.
이 때, 식각 액의 온도 조절이 필요할 경우에 온도 센서(26)가 온도를 검출하고, 온도 센서(26)의 검출 온도에 따라 온도 조절기(28)가 히터(22)의 발열을 제어하여 식각 액의 온도를 설정 온도로 조절하게 된다.
이러한 본 발명의 온도 조절장치는 배스 본체(10)의 내측면 및 바닥면 전체에 걸쳐 균일한 간격으로 히터(22)를 설치하여 식각 액의 온도를 조절한다.
그러므로 식각 액의 상부, 중간부 및 하부에 관계없이 식각 액의 온도를 설정 온도에서 약 ±0.5℃ 이내의 온도 편차로 균일하게 조절할 수 있고, 이로 인하여 웨이퍼의 소정 부위를 균일하게 식각할 수 있음은 물론 식각률이 향상된다.
한편, 상기에서는 배스 본체(20)에 히터(22)를 설치하고, 식각 액의 온도에 따라 히터(22)의 발열을 제어하여 식각 액의 온도를 조절하는 것을 예로 들어 설명하였다.
본 발명을 실시함에 있어서는 이에 한정되지 않고, 식각 액의 온도를 상온 이하로 조절할 경우에 상기 히터(22) 대신에 저온의 냉각수가 순환되는 냉각 파이프를 홈(24)에 설치하여 식각 액의 온도를 조절하게 할 수도 있다.
이상에서와 같이 본 발명에 따르면, 배스 본체의 내측면 및 바닥면에 등간격으로 히터를 설치하여 식각 액을 가열 및 온도를 조절하므로 식각 액의 상부, 중간부 및 하부에 관계없이 낮은 온도 편차로 설정 온도가 되게 정확히 조절할 수 있고, 이로 인하여 웨이퍼의 식각률이 향상되고, 균일하게 식각할 수 있다.
Claims (3)
- 식각 액을 충진시켜 웨이퍼의 소정 부위를 식각하는 데 사용되는 배스 본체;상기 배스 본체의 내측면 및 바닥면에 등간격으로 설치되는 히터;상기 배스 본체의 식각 액의 온도를 검출하는 온도 센서; 및상기 온도 센서의 검출 온도에 따라 상기 히터의 발열을 제어하여 식각 액의 온도를 조절하는 온도 조절기로 구성됨을 특징으로 하는 배스의 온도 조절장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 히터는;상기 배스 본체의 내측면 및 바닥면에 등간격으로 형성되는 홈에 삽입 설치되는 것을 특징으로 하는 배스의 온도 조절장치.
- 제 2 항에 있어서, 상기 홈은;'V'자형으로 형성하는 것을 특징으로 하는 배스의 온도 조절장치.
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