KR100226263B1 - Method of manufacturing screen mask of plasma display panel - Google Patents

Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 스크린 마스크 제작 방법을 개시한다. 개시된 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 스크린 마스크 제작 방법은 플라즈마 디스플레이 패널의 투명기판 상에 격벽, 유전체층 및 전극 등의 인쇄층을 형성하기 위한 스크린 인쇄 공정시에 사용되는 스크린 마스크 제작 방법으로서, 스크린 메쉬 상에 감광막을 도포하는 단계; 상기 도포된 감광막을 노광 및 현상하여 상기 스크린 매쉬의 소정 부분을 노출시키는 감광막 패턴을 형성하는 단계; 상기 감광막 패턴이 형성되지 않는 스크린 메쉬 상에 전기도금법으로 도금막을 형성하는 단계; 및 상기 감광막 패턴을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention discloses a method of manufacturing a screen mask of a plasma display panel. The screen mask fabrication method of the plasma display panel according to the present invention is a screen mask fabrication method used in a screen printing process for forming a printed layer such as a partition, a dielectric layer, and an electrode on a transparent substrate of a plasma display panel. Applying a photoresist to the film; Exposing and developing the coated photoresist to form a photoresist pattern exposing a predetermined portion of the screen mesh; Forming a plating film on the screen mesh on which the photoresist pattern is not formed by an electroplating method; And removing the photoresist pattern.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 스크린 마스크 제작 방법How to make screen mask of plasma display panel

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 격벽, 전극 및 유전체층을 형성하기 위한 스크린 마스크를 전기도금법을 이용하여 제조하는 스크린 마스크의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a plasma display panel, and more particularly, to a method of manufacturing a screen mask for producing a screen mask for forming a partition, an electrode, and a dielectric layer using an electroplating method.

일반적으로, 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : 이하, PDP)은 독립적으로 방전시킬 수 있는 방전셀의 배열로 구성되어 있으며, 외부의 전기적 신호에따라 각각의 방전셀들을 독립적으로 방전시켜 원하는 영상신호를 재현하는 평판 디스플레이 장치이다.In general, a plasma display panel (PDP) is composed of an array of discharge cells capable of independently discharging, and independently discharges each discharge cell according to an external electrical signal to generate a desired video signal. It is a flat panel display device to reproduce.

이러한 PDP는 배면기판과 후면기판 사이의 간격을 약 10㎝ 이하로 할 수 있기 때문에 전자총을 사용하는 바라운관 디스플레이 장치에 비해 디스플레이 장치의 두께 및 무게를 현저하게 감소시킬 수 있다. 또한, 배면기판 및 전면기판 사이에 개재되어 독립적인 방전 공간을 정의하는 격벽(Barrier Rib)의 간격을 넓게 구성함으로써 액정표시소자에 비하여 큰 화면을 얻을 수 있고, 액정표시소자의 초대 약점인 협소한 시야각을 향상시킬 수 있는 장점이 지니고 있다.Such a PDP can reduce the distance between the rear substrate and the rear substrate to about 10 cm or less, and can significantly reduce the thickness and weight of the display device compared to the barone tube display device using an electron gun. In addition, by forming a wider gap between the rear substrate and the front substrate to define an independent discharge space, a larger screen can be obtained than the liquid crystal display device, and a narrow screen, which is the first weak point of the liquid crystal display device, can be obtained. It has the advantage of improving the viewing angle.

도 1 은 종래 기술에 따른 교류형 면방전 타입의 PDP를 설명하기 위한 단도면으로서, PDP는 독립적으로 방전을 할 수 있는 방전셀의 배열로 이루어지며, 도시된 바와 같이, 방전셀은 제 1 유전체층(3)으로 덮혀진 어드레스전극(2)이 형성되는 배면기판(1)과, 상기 배면기판(1)과 대향하여 배치되어 투명전극(5)및 버스전극(6)으로 이루어진 방전유지전극이 형성되고, 방전유지전극 상에는 제 2 유전체층(7) 및 보호층(8)이 적층된 전면기판(4)과, 상기 배면기판(1) 및 전면기판(4) 사이에 개재되어 독립적인 방전공간을 정의하고 화소간의 크로스 토오크를 방자하기 위하여 형성되는 격벽(9)으로 이루어진다.1 is a cross-sectional view for explaining an AC type surface discharge type PDP according to the prior art, wherein the PDP is formed of an array of discharge cells capable of independently discharging, and as shown, the discharge cell is formed of a first dielectric layer. A back substrate 1 on which an address electrode 2 covered by (3) is formed, and a discharge sustaining electrode composed of a transparent electrode 5 and a bus electrode 6 arranged to face the back substrate 1; On the discharge sustaining electrode, an independent discharge space is defined between the front substrate 4 having the second dielectric layer 7 and the protective layer 8 laminated therebetween, and the rear substrate 1 and the front substrate 4. And barrier ribs 9 formed to prevent cross talk between pixels.

아울러, 방전공간 내의 일부분에는 가스 방전시에 컬러화를 실현할 수 있도록 레드, 블루 또는 그린 중에서 선택되는 하나의 형광체(10)가 도포되며, 나머지 장전공간 내부는 네온(Ne), 크세논(Xe) 또는 아르곤(Ar)과 같은 방전가스(11)로 채워진다.In addition, one phosphor 10 selected from red, blue, or green is applied to a part of the discharge space to realize colorization during gas discharge, and the inside of the remaining charge space is neon, xenon, or argon. It is filled with a discharge gas 11 such as (Ar).

한편, 배면 또는 전면기판 상에 형성되는 격벽, 전극 및 유전체층들은 통상 스크린 인쇄법(Screen Printing)에 의해 형성되며, 이러한 스크린 인쇄법은 금속망으로 이루어진 스크린 마스크(Screen Mask)를 배면 또는 전면기판 상에 올려놓고 금속망 사이로 페이스트를 밀어내어 원하는 형상을 인쇄하는 방법이다. 여기서, 스크린 마스크는 와이어가 엮여져 있는 금속망(Stainless steel mesh), 즉, 스크린 메쉬(Screen Mesh)상에 에멀션감광피막법에 의해 소정의 감광막 패턴이 형성되어 있는 형태이다.On the other hand, barrier ribs, electrodes and dielectric layers formed on the back or front substrate are usually formed by screen printing, and this screen printing method forms a screen mask made of a metal mesh on the back or front substrate. It is a method of printing the desired shape by pushing the paste through the metal net on the plate. Here, the screen mask is a form in which a predetermined photoresist pattern is formed by an emulsion photosensitive coating method on a stainless steel mesh, that is, a screen mesh.

도 2a 및 도 2b 는 종래 기술에 따른 스크린 마스크의 제조 방법을 설명하기 위한 도면으로서, 스크린 마스크는 , 도 2a에 도시된 바와같이, 마스크 프레임(도시되지 않음)에 의해 지지되는 스크린 메쉬(21)상에 다량의 수분을 함유하고 있는 에멀션과 같은 감광성 유액(22)을 도포한 후, 도 2b 에 도시된 바와같이, 도포된 감광성 유액(22)을 노광 및 현상하여 소정의 감광막 패턴(23)을 형성하여 제작한다.2A and 2B are diagrams for explaining a method of manufacturing a screen mask according to the prior art, wherein the screen mask is, as shown in FIG. 2A, a screen mesh 21 supported by a mask frame (not shown). After applying a photosensitive emulsion 22 such as an emulsion containing a large amount of water on the surface, as shown in FIG. 2B, the applied photosensitive emulsion 22 is exposed and developed to expose a predetermined photoresist pattern 23. Form and manufacture.

그러나, 상기와 같은 종래 기술에 따른 스크린 제작 방법은 감광막 유액인 에멀션이 수분의 영향으로 팽창됨으로써, 마스크가 변형되는 문제점이 있었다.However, the screen manufacturing method according to the prior art as described above has a problem that the mask is deformed by the emulsion of the photosensitive film emulsion is expanded under the influence of moisture.

또한, 상기와 같은 종래 기술에 따른 스크린 제작 방법은 금속망으로 이루어진 스크린 마스크의 인장 압력이 프레임에서 가까운 쪽이 중앙 부분보다 크기 때문에 이러한 스크린 마스크를 사용하여 기판 상에 소정 패턴을 인쇄하는 경우에는 도 3 에 도시된 바와같이 기판(31) 상에 형성된 인쇄층(32)의 두께가 균일하지 않고 중앙 부분이 더 얇아지게 되는 문제점이 있었다.In addition, the screen manufacturing method according to the prior art as described above is used when printing a predetermined pattern on a substrate using such a screen mask because the tensile pressure of the screen mask made of a metal mesh is greater than the center portion near the frame. As shown in FIG. 3, there is a problem that the thickness of the printing layer 32 formed on the substrate 31 is not uniform and the center portion becomes thinner.

또한, 상기와 같은 스크린 마스크를 통해 형성되는 인쇄층은 통상 1회 인쇄로 약 20 내지 25㎛ 정도의 높이를 갖도록 형성할 수 있지만, 150 내지 200㎛ 정도의 높이를 갖는 격벽을 형성하기 위해서는 최소한 10회 정도의 인쇄를 해야하기 때문에 인쇄 공정이 복잡하면, 인쇄 공정이 반복됨에 따라 같은 매회 인쇄되는 인쇄층들을 정확하게 정렬시키기가 어렵기 때문에 일정한 폭을 갖는 격벽을 형성하기가 어려운 문제점이 있었다.In addition, the printing layer formed through the screen mask as described above can be formed to have a height of about 20 to 25 ㎛ in one printing, but at least 10 to form a partition having a height of about 150 to 200 ㎛ If the printing process is complicated because the printing process has to be about several times, it is difficult to form a partition wall having a constant width because it is difficult to align the printed layers printed the same each time as the printing process is repeated.

따라서, 본 발명은 전기도금법을 이용하여 스크린 메쉬 상에 소정 높이를 갖는 도금막 패턴을 형성함으로써, 마스크를 변형을 유지할 수 있는 PDP의 스크린 마스크 제작 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a screen mask manufacturing method of a PDP which can maintain a deformation of a mask by forming a plated film pattern having a predetermined height on a screen mesh using an electroplating method.

또한, 본 발명은 전기도금법을 이용하여 스크린 메쉬 상에 소정 높이를 갖는 도금막 패턴을 형성함으로써, 스크린 마스크의 중앙 부분이 프레임에 가까운 부분보다 인장 압력이 저하되는 것을 방지할 수 있는 PDP의 스크린 마스크 제작 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, the present invention forms a plated film pattern having a predetermined height on the screen mesh by using the electroplating method, the screen mask of the PDP that can prevent the tensile pressure is lowered than the portion closer to the frame of the center portion of the screen mask It aims at providing a manufacturing method.

또한, 본 발명은 전기도금법을 이용하여 한 번의 도금 공정으로 스크린 메쉬상에 원하는 높이의 도금막 패턴을 형성함으로써, 인쇄 공정을 단축시킴은 물론 전체적으로 균일한 폭의 격벽을 형성할 수 있는 PDP의 스크린 마스크 제작 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, the present invention forms a plated film pattern having a desired height on the screen mesh in one plating process by using an electroplating method, thereby shortening the printing process and forming a partition having a uniform width as a whole. It aims at providing the mask manufacturing method.

제1도는 플라즈마 디스플레이 패널을 설명하기 위한 단면도1 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel.

제2a도 및 제2b도는 종래 기술에 따른 에멀션감광피막법을 이용한 스크린 마스크의 제작방법을 설명하기 위한 공정 단면도.2A and 2B are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing a screen mask using the emulsion photosensitive coating method according to the prior art.

제3도는 종래 기술에 따라 제작된 스크린 마스크의 문제점을 설명하기 위한 도면.3 is a view for explaining the problem of the screen mask manufactured according to the prior art.

제4a도 내지 제4d도 본 발명에 따른 전기도금법을 이용한 스크린 마스크의 제작 방법을 설명하기 위한 공정 단면도.4A to 4D are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing a screen mask using the electroplating method according to the present invention.

제5a도 및 제5c도는 본 발명의 다른 실시예에따른 전기도금법을 이용한 스크린 마스크의 제작 방법을 설명하기 위한 공정 단면도.5A and 5C are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a screen mask using an electroplating method according to another embodiment of the present invention.

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for main parts of the drawings

41, 51 : 스크린 메쉬 42 : 감광막41, 51: screen mesh 42: photosensitive film

42a, 53 : 감광막 패턴 43, 52 : 도금막42a, 53: photosensitive film pattern 43, 52: plating film

44, 54 : 스크린 마스크44, 54: screen mask

상기와 같은 목적은, PDP의 투명기판 상에 격벽, 유전체층 및 전극 등의 인쇄층을 형성하기 위한 스크린 인쇄 공정시에 사용되는 스크린 마스크 제작 방법으로서, 스크린 메쉬 상에 감광막을 도포하는 단계; 상기 도포된 감광막을 노광 및 현상하여 상기 스크린 메쉬의 소정 부분을 노출시키는 감광막 패턴을 형성하는 단계; 상기 감광막 패턴이 형성되지 않는 스크린 메쉬 상에 전기도금법으로 도금막을 형성하는 단계; 및 상기 감광막 패턴을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 본 발명에 따른 PDP의 스크린 마스크 제작방법에 의하여 달성된다.The above object is a screen mask manufacturing method used in the screen printing process for forming a printed layer such as a partition, a dielectric layer and an electrode on a transparent substrate of the PDP, comprising the steps of: applying a photosensitive film on the screen mesh; Exposing and developing the coated photoresist to form a photoresist pattern exposing a portion of the screen mesh; Forming a plating film on the screen mesh on which the photoresist pattern is not formed by an electroplating method; And it is achieved by the screen mask manufacturing method of the PDP according to the invention, characterized in that it comprises the step of removing the photosensitive film pattern.

또한, 상기와 같은 목적은, PDP의 투명기판 상에 격벽, 유전체층 및 전극 등의 인쇄층을 형성하기 위한 스크린 인쇄 공정시에 사용되는 스크린 마스크 제작 방법으로서, 스크린 메쉬 상에 전기도금법으로 소정 높이의 도금막을 형성하는 단계; 상기 도금막 상에 감광막을 도포하고, 이를 노광 및 현상하여 상기 도금막의 소정 부분을 노출시키는 감광막 패턴을 형성하는 단계; 상기 노출된 도금막 부분을 식각하는 단계; 및 상기 감광막 패턴을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 본 발명에 따른 PDP의 스크린 마스크 제작 방법에 의하여 달성된다.In addition, the above object is a screen mask manufacturing method used in the screen printing process for forming a printed layer such as a partition wall, a dielectric layer and an electrode on a transparent substrate of the PDP, a predetermined height by electroplating method on the screen mesh Forming a plating film; Coating a photoresist film on the plating film, and exposing and developing the photoresist film to form a photoresist pattern that exposes a predetermined portion of the plating film; Etching the exposed plating film portion; And it is achieved by the screen mask manufacturing method of the PDP according to the invention, characterized in that it comprises the step of removing the photosensitive film pattern.

본 발명에 따르면, 스크린 메쉬 상에 전기도급법으로 스크린 마스크 패턴을 형성함으로써, 원하는 높이의 인쇄층을 형성할 수 있다.According to the present invention, a printed layer having a desired height can be formed by forming a screen mask pattern on the screen mesh by an electroplating method.

[실시예]EXAMPLE

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4a 내지 도 4d 는 본 발명의 실시예에 따른 전기도금법을 이용한 스크린 마스크의 제작 방법을 설명하기 위한 공정 단면도로서, 먼저, 도 4a에 도시된 바와 같이, 금속망으로 이루어진 스크린 메쉬(41) 상에 감광막(42)을 약 200 내지 250㎛ 높이를 갖도록 도포한다. 여기서, 감광막(42)은 형성하고자 하는 인쇄층, 즉, 격벽 또는 유전체층의 높이 보다 반드시 높게 형성해야 하는데, 이는 이후에 스크린 마스크를 이용하여 인쇄되는 인쇄 물질인 페이스트가 유동성이 있기 때문에 그로 인하여 퍼짐 현상이 발생되기 때문이다. 따라서, 실제의 형성하고자 하는 격벽 또는 인쇄층의 높이 보다 약간 높게 인쇄층을 형성해야지만 원하는 높이를 얻을 수 있기 때문이다.4A to 4D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a screen mask using an electroplating method according to an embodiment of the present invention. First, as shown in FIG. 4A, an image of a screen mesh 41 formed of a metal mesh is shown. The photosensitive film 42 is apply | coated so that it may have a height of about 200-250 micrometers. Here, the photoresist film 42 must be formed higher than the height of the printing layer, that is, the partition or dielectric layer, to be formed, which is because of the fluidity of the paste, which is a printing material which is subsequently printed using a screen mask, thereby spreading. This is because it occurs. Therefore, it is because the printed layer should be formed slightly higher than the actual height of the partition or printed layer to be formed, so that the desired height can be obtained.

이어서, 도 4b 에 도시된 바와 같이, 도포된 감광막을 노광 및 현상하여 패턴을 형성하고 하는 부분에만 감과막이 남도록 감광막 패펀(42a)을 형성한 후, 도 4c 에 도시된 바와같이, 감광막 패턴(42a)이 잔류되지 않는 스크린 메쉬(41) 상에 전기도금법으로 소정 두께를 갖는 도금막(43)을 형성한 상태에서, 도 4d에 도시된 바와 같이, 감광막 패턴을 제거하여 스크린 마스크(44)를 완성한다.Subsequently, as shown in FIG. 4B, the photosensitive film pad can be formed so that the photosensitive film remains only at the portion where the coated photosensitive film is exposed and developed to form a pattern. Then, as shown in FIG. 4C, the photosensitive film pattern 42a In the state where the plated film 43 having a predetermined thickness is formed by the electroplating method on the screen mesh 41 on which is not remaining, the screen mask 44 is completed by removing the photoresist pattern, as shown in FIG. 4D. do.

상기와 같은 공정에 의해 제작된 스크린 마스크를 이용하여 격벽 또는 유전체층을 형성하는 경우에 있어서, 본 발명에서는 도금막의 두께를 용이하게 조절할 수 있기 때문에 스크린 마스크를 이용한 인쇄층을 형성시에 1회 인쇄 공정으로도 원하는 높이의 격벽을 형성할 수 있다. 또한, 1회 인쇄 공정으로 격벽을 형성하기 때문에 전체적인 격벽의 폭을 균일하게 만들 수 있다.In the case of forming the partition wall or the dielectric layer by using the screen mask produced by the above process, in the present invention, since the thickness of the plated film can be easily adjusted, one printing process at the time of forming the printed layer using the screen mask It can also form a partition of the desired height. In addition, since the partitions are formed by one printing process, the width of the entire partition can be made uniform.

도 5a 내지 도 5c 는 본 발명의 다른 실시예에 따른 전기도금법을 이용한 스크린 마스크의 제작방법을 설명하기 위한 공정 도면으로서, 먼저, 도 5a 에도시된 바와 같이, 스크린 메쉬(51) 전면 상에 전기도금법으로 100 내지 200㎛ 정도의 높이를 갖는 도금막(52)을 형성한다. 이때, 도금막(52)은 형성하고자 하는 인쇄층의 두께보다 더 두껍게 형성한다. 이어서, 도 5b 에 도시된 바와같이, 도금막(52)상에 감광막을 도포한 후, 이를 노광 및 현상하여 감광막 패턴(53)을 형성한다. 그리고 나서, 도 5c 에 도시된 바와같이, 감광막 패턴(53)의 형태대로 그 하부의 도금막(52)을 식각한 후 , 감광막 패턴(53)을 제거하여 스크린 마스크(54)를 완성한다.5A to 5C are process drawings for explaining a method of manufacturing a screen mask using an electroplating method according to another embodiment of the present invention. First, as shown in FIG. A plating film 52 having a height of about 100 to 200 mu m is formed by the plating method. At this time, the plating film 52 is formed thicker than the thickness of the printed layer to be formed. Subsequently, as shown in FIG. 5B, a photosensitive film is coated on the plating film 52, and then exposed and developed to form a photosensitive film pattern 53. Then, as shown in FIG. 5C, after etching the plated film 52 under the shape of the photoresist pattern 53, the photoresist pattern 53 is removed to complete the screen mask 54.

이상에서와 같이, 본 발명의 PDP의 스크린 마스크 제작 방법은 전기도금법을 이용하여 스크린 메쉬 상에 도금막 패턴을 형성함으로써 마스크의 변형을 방지 할 수 있고, 또한, 이러한 스크린 마스크를 이용하여 기판 상에 인쇄층을 형성하는 경우에는 1회 인쇄 공정으로도 원하는 높이의 인쇄층을 형성함으로써 인쇄 공정 및 시간을 단축시킬 수 있다.As described above, the screen mask fabrication method of the PDP of the present invention can prevent the deformation of the mask by forming a plating film pattern on the screen mesh by using the electroplating method, and also by using such a screen mask on the substrate In the case of forming the printing layer, the printing process and time can be shortened by forming the printing layer having a desired height even in one printing process.

한편, 여기에서 본 발명의 특정 실시예에 대하여 설명하고 도시하였지만, 당업자에 의하여 이에 대한 수정과 변형을 할 수 있다. 따라서, 이하, 특허청구의 범위는 본 발명의 진정한 사상과 범위에 속하는 한 모든 수정과 변형을 포함하는 것으로 이해할 수 있다.Meanwhile, although specific embodiments of the present invention have been described and illustrated herein, modifications and variations can be made by those skilled in the art. Accordingly, the following claims are to be understood as including all modifications and variations as long as they fall within the true spirit and scope of the present invention.

Claims (5)

플라즈마 디스플레이 패널의 투명기판 상에 격벽, 유전체층 및 전극 등의 인쇄층을 형성하기 위한 스크린 인쇄 공정시에 사용되는 스크린 마스크 제작 방법으로서, 스크린 메쉬 상에 감광막을 도포하는 단계; 상기 도포된 감광막을 현상하여 상기 스크린 메쉬의 소정 부분을 노출시키는 감광막 패턴을 형성하는 단계; 상기 감광막 패턴이 형성되지 않는 스크린 메쉬 상에 전기도금법으로 도금막을 형성하는 단계; 및 상기 감광막 패턴을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 스크린 마스크 제작 방법.A screen mask fabrication method used in a screen printing process for forming a printed layer such as a partition, a dielectric layer, and an electrode on a transparent substrate of a plasma display panel, the method comprising: applying a photosensitive film on a screen mesh; Developing the coated photoresist to form a photoresist pattern exposing a predetermined portion of the screen mesh; Forming a plating film on the screen mesh on which the photoresist pattern is not formed by an electroplating method; And removing the photoresist pattern. 제1항에 있어서, 상기 감광막은 형성하고자 하는 인쇄층의 높이 보다 더 높게 도포하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 스크린 마스크 제작 방법.The method of claim 1, wherein the photoresist is applied higher than the height of the printed layer to be formed. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 감광막은 200 내지 250㎛ 정도의 높이로 도포하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 스크린 마스크 제작 방법.The method of claim 1, wherein the photosensitive film is applied at a height of about 200 to 250 μm. 플라즈마 디스플레이 패널의 투명기판 상에 격벽, 유전체층 및 전극 등의 인쇄층을 형성하기 위한 스크린 인쇄 공정시에 사용되는 스크린 마스크 제작 방법으로서, 스크린 메쉬 상에 전기도금법으로 소정 높이의 도금막을 형성하는 단계; 상기 도금막 상에 감광막을 도포하고, 이를 노광 및 현상하여 상기 도금막의 소정 부분을 노출시키는 감광막 패턴을 형성하는 단계; 상기 노출된 도금막 부분을 식각하는 단계; 및 상기 감광막 패턴을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 스크린 마스크 제작방법.A screen mask fabrication method used in a screen printing process for forming a printed layer such as a partition, a dielectric layer, and an electrode on a transparent substrate of a plasma display panel, the method comprising: forming a plating film having a predetermined height on an screen mesh by an electroplating method; Coating a photoresist film on the plating film, and exposing and developing the photoresist film to form a photoresist pattern that exposes a predetermined portion of the plating film; Etching the exposed plating film portion; And removing the photoresist pattern. 제4항에 있어서, 상기 도금막은 100 내지 200㎛ 정도의 높이로 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 스크린 마스크 제작 방법.The method of claim 4, wherein the plating film is formed to a height of about 100 to 200 μm.

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