KR0122931Y1 - 공작물의 2차 방전을 방지하기 위한 액 처리용 플레이트 - Google Patents
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Abstract
본 고안은 공작물의 중앙부를 관통하는 방전가공을 실시함에 있어서 2차 방전을 방지하기 위한 액 처리용 플레이트에 관한 것이다.
종래에는 비교적 작은 부품을 가공시에는 평상시에 사용되는 플레이트를 떼어내고 액 처리를 할 수 있게 하는데 세팅 시간이 많이 소요되는 문제점이 있었다.
본 고안은 방전가공을 위해 공작물(1)을 안착시킴에 있어서, 공작물(1)을 지지하는 받침대 위에 플레이트(6)를 설치하여 상기 플레이트(6) 위에 공작물(1)을 안착시키되, 공작물(1)이 안착되는 플레이트(6)는 하부측이 밀폐되는 중공체로 이루어지며, 그 하부 일측에는 니플(8)이 결합되어 방전시 발생되는 이물질과 함께 방전액이 플레이트의 니플을 통해 방출하여 이물질에 의한 2차방전을 예방할 수 있도록 구성한 것임.
Description
제1도는 일반적인 방전가공을 설명하는 참고도.
제2도는 본 고안의 구성을 나타낸 예시도.
제3도는 종래의 구성을 나타낸 예시도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 공작물 2 : 전극
3 : 공작액 6 : 플레이트
8 : 니플
본 고안은 공작물의 중앙부를 관통하는 방전가공을 실시함에 있어서 2차 방전을 방지하기 위한 액 처리용 플레이트에 관한 것이다.
방전가공(放電加功:electric discharge machining)은 액 중에서의 방전에 의하여 직접 기계가공을 하는 기계 가공법으로, 방전전극의 소모현상을 이용한 것이다.
가공물이 가공되는 모양에 알맞게 만든 전극(공구)과 공작물 사이에 방전을 시켜 구멍뚫기, 조작, 절단, 그 밖의 가공을 하는 방법이다.
이 방법에 의하면 절삭가공에 어려운 초경합금, 담금질 열처리강, 내열강 등 높은 경도의 재료도 비교적 쉽고, 또 경제적으로 가공할 수 있다.
또 열의 영향이 적으므로 가공변질층이 얇고 내마멸성, 내부식성이 높은 표면을 얻을 수 있다.
다이가공 등에서는 공구를 회전시킬 필요가 없고, 임의의 모양으로 가공된다. 또 가공정밀도가 높고, 블랭킹 다이(blanking die)의 제작에 좋은 결과를 나타내고 있다.
방전가공은 방전방법에 따라 여러 가지 방법이 이용되고 있으나 일반적으로 제1도와 같이 공작물(1)과 전극(2)을 공작액(3)에 잠기게 하고, 공작물을 (+), 전극을 (-)로 하여 직류전류를 흐르게 하여 단속적인 방전(100~100 회/s)을 발생시키며, 전극(2)에 진동 이송을 주어 공작물(1)의 재료를 전극(2)과 같은 모양으로 미소량씩 용해시켜 가공한다.
종래에는 테이블의 상면에 클램프로 고정되는 받침대를 설치하여 상기 받침대 상부에 공작물을 안착시킨 상태에서 공작물의 방전작업을 실시하게 된다.
제3도에 나타낸 바와 같이 공작물(1)의 중앙에 방전 가공할 경우 이물질이 하측 방향으로 유입되어 제2차 방전을 유도함으로써 공작물의 질을 저하시키는 결점이 있다.
더욱이 비교적 작은 부품을 가공시에는 평상시에 사용되는 플레이트를 떼어내고 액 처리를 할 수 있게 하는데 세팅 시간이 많이 소요되는 문제점이 있었다.
이러한 문제점은 평상시 사용하는 받침대 위에서 사용할 수 있도록 만든다면 작업시 세팅 시간과 액 처리를 확실히 할 수 있게 되어 상기와 같은 문제점이 해소될 수 있는 것이다.
이에 본 고안은 상기와 같은 종래의 제반 문제점을 해소하기 위해 하부측이 밀폐되는 중공체로 구성되는 플레이트의 하부 일측에 니플을 결합하여 그 위에 공작물을 안착시켜 방전기 발생되는 이물질과 함께 방전액이 플레이트의 니플을 통해 방출되게 하여 이물질에 의한 2차방전을 예방할 수 있도록 구성함을 특징으로 한다.
이하, 본 고안의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참고하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
제2도는 본 고안의 구성을 묘사하고 있는 일 예시도로서, 방전가공을 위해 공작물(1)을 안착시킴에 있어서 공작물을 지지하는 받침대 위에 플레이트(6)를 설치하고 상기 플레이트(6) 위에 공작물이(1)이 안착될 수 있도록 구성한 것이다.
상기 공작물(1)이 놓여지는 플레이트(6)는 하부측이 밀폐되는 구조를 가지는 중공체로 형성되며, 그 하부 일측에는 니플(8)이 결합되는 구조로 되어 있다.
이와 같이 구성된 본 고안은 방전가공을 위해 공작물을 받침대에 안착시킴에 있어서, 공작물과 받침대 사이에 플레이트를 삽입하여 공작물의 내측 중앙 부위를 방전가공을 실시함에 따라 발생되는 이물질과 함께 방전액이 플레이트의 하부 일측에 설치하고 있는 니플을 통해 방출될 수 있도록 한 것이다.
따라서 공작물의 내측부위를 방전함에 있어서 발생되는 이물질이 공작물의 내측에 적체되지 아니하고 니플을 통해 방전액과 함께 방출되게 함으로써 공작물이 내측에 적채되는 이물질로 인한 제품이 2차 방전되는 것을 사전 예방되게 되는 이점이 있다.
이상에서와 같이 본 고안은 평상시 사용하는 플레이트는 물론 공작물이 하부에 플레이트를 설치하여 방전가공을 함으로써 작업시 세팅 시간과 액처리를 확실히 할 수 있게 되어 공작물의 품질은 물론 작업 능률이 크게 향상되는 이점이 있게 된다.
Claims (1)
- 방전가공을 위해 공작물(1)을 안착시킴에 있어서, 공작물(1)을 지지하는 받침대 위에 플레이트(6)를 설치하여 상기 플레이트(6) 위에 공작물(1)을 안착시키되, 공작물(1)이 안착되는 플레이트(6)는 하부측이 밀폐되는 중공체로 이루어지며, 그 하부 일측에는 니플(8)이 결합되는 것을 특징으로 하는 공작물의 2차방전을 방지하기 위한 액처리용 플레이트.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019950042205U KR0122931Y1 (ko) | 1995-12-16 | 1995-12-16 | 공작물의 2차 방전을 방지하기 위한 액 처리용 플레이트 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019950042205U KR0122931Y1 (ko) | 1995-12-16 | 1995-12-16 | 공작물의 2차 방전을 방지하기 위한 액 처리용 플레이트 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970027581U KR970027581U (ko) | 1997-07-24 |
KR0122931Y1 true KR0122931Y1 (ko) | 1998-10-15 |
Family
ID=19434650
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR2019950042205U KR0122931Y1 (ko) | 1995-12-16 | 1995-12-16 | 공작물의 2차 방전을 방지하기 위한 액 처리용 플레이트 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR0122931Y1 (ko) |
-
1995
- 1995-12-16 KR KR2019950042205U patent/KR0122931Y1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR970027581U (ko) | 1997-07-24 |
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