JPWO2020159666A5 - - Google Patents
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- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive Effects 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910052904 quartz Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
図2及び図3に関して上記で述べた実施形態のいずれかにおいては、第1のポジショナ106は、単軸AODシステム又は多軸AODシステムとして提供され得る。(例えば上述したような)AODシステム内でのAODの構成に応じて、AODは、縦モードAOD又は剪断モードAODとして特徴付けることができ、直線偏光又は円偏光されたレーザエネルギービームを回折できるようになっていてもよい。このように、レーザエネルギービームの波長に応じて、またAODシステム中のAODのAOセルを形成する材料に応じて、AOD内のAOセルの回折軸がこれに入射するレーザエネルギービームの偏光面に平行又は垂直(あるいは少なくとも実質的に平行又は垂直)となるように内部のAODを方向付けることができる。例えば、レーザエネルギービームの波長は、電磁波スペクトルの紫外線域又は可視緑光域にあり、AODのAOセルは、石英のような材料から形成され、AOセルの回折軸が入射したレーザエネルギービームの偏光面に垂直(又は少なくとも実質的に垂直)になるようにAODを方向付けることができる。他の例においては、レーザエネルギービームの波長がいわゆる電磁波スペクトルの中波長赤外域又は長波長赤外域(すなわち、3μm(又はその前後)から15μm(又はその前後)の範囲にわたる波長)にあり、AODのAOセルが結晶ゲルマニウムのような材料から形成される場合には、AOセルの回折軸が入射したレーザエネルギービームの偏光面に平行(又は少なくとも実質的に平行)になるようにAODを方向付けることができる。
一般的に、第2のAOD404は、第2の回転軸が第1の回転軸と異なったものとなるように第1のAOD402に対して方向付けられる。例えば、第2の回転軸は、第1の回転軸に直交していてもよく、あるいは第1の回転軸に対して斜めになっていてもよい。しかしながら、他の実施形態においては、第2のAOD404は、第2の回転軸が第1の回転軸に平行(又は少なくとも実質的に平行)となるように第1のAOD402に対して方向付けられる。この場合において、第2のAOD404上に投影した場合に第1のAOD402の偏向平面が第2のAOD404の偏向平面の方向に対して(例えば、90度又はその前後)回転するように第1のAOD402の偏向平面を(例えば、90度又はその前後だけ)回転させるように1以上の光学的構成要素をビーム経路114’に配置することができる。例えば、上述したように偏向平面を回転させ得る方法の例に関して、国際公開第WO2019/060590A1を参照されたい。
一般的に、第1のAOD402内のAOセルは、第2のAOD404内のAOセルと同一か、あるいはこれと異なり得る材料から形成されている。さらに、第1のAOD402が入射レーザエネルギービームを偏光するために使用する音波の種類(すなわち、剪断モード又は縦モード)は、第2のAOD404が入射レーザエネルギービームを偏光するために使用する音波の種類と同じであってもよいし、あるいはこれと異なっていてもよい。
一体化ビームダンプシステム700及び1000に関する上記説明からすれば、フレーム702及び1002によって提供される上記面は、レーザエネルギーがそれぞれのビームトラップに向かって伝搬し得る内部領域を規定することは理解できるであろう。例えば、フレーム702によって提供される上記面は内部領域726を規定し、フレーム1002によって提供される上記面は内部領域1028を規定する。好ましくない塵や他の粒子又は物体がこれらの内部領域に進入することを防止し、あるいはこれを最小限にするために、一体化ビームダンプシステム700又は1000のいずれかは、必要に応じて、内部領域に及ぶ1以上のプレートを含んでいてもよい。例えば、一体化ビームダンプシステム700は、(例えば、その第1の側方で)フレーム702に連結される第1のプレート728、(例えば、その第1の側方とは反対側の第2の側方で)フレーム702に(例えば、ネジ、接着材、クランプなど、あるいはこれらを任意に組み合わせたものにより)連結される第2のプレート730(図7においては点線で示されている)、又はこれらを組み合わせたものを含んでいてもよい。同様に、一体化ビームダンプシステム1000は、(例えば、その第1の側方で)フレーム1002に連結される第1のプレート1030、(例えば、その第1の側方とは反対側の第2の側方で)フレーム1002に(例えば、ネジ、接着材、クランプなど、あるいはこれらを任意に組み合わせたものにより)連結される第2のプレート1032(図10においては点線で示されている)、又はこれらを組み合わせたものを含んでいてもよい。一体化ビームダンプシステム1000に関しては、上記ではフレーム1002が面1008を提供するものとして説明されているが、面1008は、(例えば、ネジ、接着材、クランプなど、あるいはこれらを任意に組み合わせたものにより)第1のプレート1030に連結されるブロック(例えばブロック1034)により提供されていてもよい。
Claims (18)
- ビーム経路に沿って伝搬可能なレーザエネルギービームを生成可能なレーザ源と、
前記ビーム経路内に配置され、前記ビーム経路を偏向可能な第1の偏向器と、
前記第1の偏向器の出力と光学的に連結され、前記ビーム経路を偏向可能な第2の偏向器と、
前記第1の偏向器に連結されるコントローラと
を備え、
前記コントローラは、前記ビーム経路を複数のスキャンフィールド内で偏向するように前記第1の偏向器及び前記第2の偏向器の動作を制御するように構成され、前記複数のスキャンフィールドのうち少なくとも2つは互いに重なっておらず、互いに接していない、
レーザ加工装置。 - 前記レーザ源は、電磁波スペクトルの紫外(UV)域の波長を有するレーザエネルギービームを生成可能である、請求項1の装置。
- 前記レーザ源は、電磁波スペクトルの長波長赤外(LWIR)域の波長を有するレーザエネルギービームを生成可能である、請求項1の装置。
- スキャンレンズを含む第1のスキャンヘッドと、
スキャンレンズを含む第2のスキャンヘッドと、
前記複数のスキャンフィールドのうち第1のスキャンフィールド内で偏向された前記ビーム経路を前記第1のスキャンヘッドに導くように配置される少なくとも1つの光学的構成要素と、
前記複数のスキャンフィールドのうち第2のスキャンフィールド内で偏向された前記ビーム経路を前記第2のスキャンヘッドに導くように配置される少なくとも1つの光学的構成要素と
をさらに備える、請求項1の装置。 - 前記第1のスキャンヘッド及び前記第2のスキャンヘッドの少なくとも一方は、前記ビーム経路を偏向可能なポジショナを含む、請求項4の装置。
- 前記ポジショナは、ガルバノメータミラーシステムを含む、請求項5の装置。
- 前記複数のスキャンフィールドのうち少なくとも1つは、矩形の形状を有する、請求項1の装置。
- 前記複数のスキャンフィールドのうち少なくとも1つは、正方形の形状を有する、請求項1の装置。
- 前記第1の偏向器及び前記第2の偏向器の少なくとも一方は、音響光学偏向器(AOD)を含む、請求項1の装置。
- 前記コントローラは、前記複数のスキャンフィールドのそれぞれの内部の複数の位置に前記ビーム経路を偏向するように前記第1の偏向器及び前記第2の偏向器の動作を制御するようにさらに構成される、請求項1の装置。
- レーザエネルギービームが伝搬可能なビーム経路を偏向可能な第1の偏向器と、前記第1の偏向器の出力と光学的に連結され、前記ビーム経路を偏向可能な第2の偏向器とを備える装置とともに使用されるコントローラであって、
プロセッサと、
前記プロセッサによりアクセス可能なメモリであって、前記プロセッサにより実行された際に、前記コントローラに複数のスキャンフィールド内で前記ビーム経路を偏向するように前記第1の偏向器及び前記第2の偏向器の動作を制御させる命令を格納したメモリと
を備え、
前記複数のスキャンフィールドのうち少なくとも2つは、互いに重なっておらず、互いに接していない第1のスキャンフィールド及び第2のスキャンフィールドである、
コントローラ。 - 前記第1のスキャンフィールド内の第1の複数の位置と前記第2のスキャンフィールド内の第2の複数の位置とに前記ビーム経路を偏向するように、第1の偏向器及び前記第2の偏向器の動作を制御するようにさらに構成される、請求項11のコントローラ。
- 前記第1のスキャンフィールド及び前記第2のスキャンフィールドの少なくとも一方は、矩形の形状を有する、請求項11のコントローラ。
- 前記第1のスキャンフィールド及び前記第2のスキャンフィールドの少なくとも一方は、正方形の形状を有する、請求項11のコントローラ。
- レーザエネルギービームが伝搬可能なビーム経路を偏向可能な第1の偏向器と、前記第1の偏向器の出力と光学的に連結され、前記ビーム経路を偏向可能な第2の偏向器と、前記第1の偏向器及び前記第2の偏向器の動作を制御するように構成されるコントローラとを備える装置とともに使用される非一過性コンピュータ読取可能媒体であって、前記コントローラにより実行された際に、前記コントローラに、
複数のスキャンフィールド内で前記ビーム経路を偏向させるように前記第1の偏向器及び前記第2の偏向器の動作を制御させる
命令を格納し、
前記複数のスキャンフィールドのうち少なくとも2つは、互いに重なっておらず、互いに接していない第1のスキャンフィールド及び第2のスキャンフィールドである、
非一過性コンピュータ読取可能媒体。 - 前記コントローラにより実行された際に、前記コントローラに、前記第1のスキャンフィールド内の第1の複数の位置と前記第2のスキャンフィールド内の第2の複数の位置とに前記ビーム経路を偏向するように前記第1の偏向器及び前記第2の偏向器の動作を制御させる命令を格納している、請求項15の非一過性コンピュータ読取可能媒体。
- 前記第1のスキャンフィールド及び前記第2のスキャンフィールドの少なくとも一方は、矩形の形状を有する、請求項15の非一過性コンピュータ読取可能媒体。
- 前記第1のスキャンフィールド及び前記第2のスキャンフィールドの少なくとも一方は、正方形の形状を有する、請求項15の非一過性コンピュータ読取可能媒体。
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201962799218P | 2019-01-31 | 2019-01-31 | |
US62/799,218 | 2019-01-31 | ||
US201962832064P | 2019-04-10 | 2019-04-10 | |
US62/832,064 | 2019-04-10 | ||
US201962854579P | 2019-05-30 | 2019-05-30 | |
US62/854,579 | 2019-05-30 | ||
PCT/US2020/012219 WO2020159666A1 (en) | 2019-01-31 | 2020-01-03 | Laser-processing apparatus, methods of operating the same, and methods of processing workpieces using the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022518898A JP2022518898A (ja) | 2022-03-17 |
JPWO2020159666A5 true JPWO2020159666A5 (ja) | 2022-12-01 |
Family
ID=71842451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021542372A Pending JP2022518898A (ja) | 2019-01-31 | 2020-01-03 | レーザ加工装置、これを動作させる方法、及びこれを用いてワークピースを加工する方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220048135A1 (ja) |
EP (1) | EP3917717A4 (ja) |
JP (1) | JP2022518898A (ja) |
KR (1) | KR20210111246A (ja) |
CN (1) | CN112867578A (ja) |
SG (1) | SG11202103563XA (ja) |
WO (1) | WO2020159666A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20200298344A1 (en) * | 2019-03-22 | 2020-09-24 | Via Mechanics, Ltd. | Laser processing apparatus and laser processing method |
CN112059422A (zh) * | 2020-09-12 | 2020-12-11 | 北京航空航天大学 | 用于半导体晶圆研磨的激光加工设备 |
US20220143905A1 (en) * | 2020-11-12 | 2022-05-12 | Eagle Technology, Llc | Additive manufacturing device with acousto-optic deflector and related methods |
US20220176495A1 (en) * | 2020-12-04 | 2022-06-09 | Lawrence Livermore National Security, Llc | System and method for radius of curvature modification of optical plates and lenses by irradiation with optical energy |
US20220196563A1 (en) * | 2020-12-17 | 2022-06-23 | The Boeing Company | Laser bond inspection system and method |
WO2022271483A1 (en) * | 2021-06-21 | 2022-12-29 | Electro Scientific Industries, Inc. | Laser processing apparatus including beam analysis system and methods of measurement and control of beam characteristics |
CN113478097B (zh) * | 2021-07-05 | 2022-11-29 | 上海维宏智能技术有限公司 | 激光切割数控***中实现圆孔环绕排序处理的方法、装置、处理器及其计算机可读存储介质 |
US11874163B2 (en) | 2022-01-14 | 2024-01-16 | Ophir Optronics Solutions, Ltd. | Laser measurement apparatus having a removable and replaceable beam dump |
WO2023146631A1 (en) * | 2022-01-28 | 2023-08-03 | Electro Scientific Industries, Inc. | Germanium aod system with parallel and perpendicular orientations |
TW202337606A (zh) * | 2022-02-27 | 2023-10-01 | 美商伊雷克托科學工業股份有限公司 | 用於聲光偏轉器(aod)之熱穩定操作的方法和設備 |
WO2023235066A1 (en) * | 2022-06-02 | 2023-12-07 | Electro Scientific Industries, Inc. | Laser processing apparatus including laser sensor system and methods of measurement of beam characteristics |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3925986B2 (ja) * | 1996-12-16 | 2007-06-06 | 富士通株式会社 | 高さ測定装置及び高さ測定方法 |
JPH1147965A (ja) * | 1997-05-28 | 1999-02-23 | Komatsu Ltd | レーザ加工装置 |
JP3945951B2 (ja) * | 1999-01-14 | 2007-07-18 | 日立ビアメカニクス株式会社 | レーザ加工方法およびレーザ加工機 |
JP3642969B2 (ja) * | 1999-02-09 | 2005-04-27 | 松下電器産業株式会社 | レーザー加工装置および方法 |
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KR100938325B1 (ko) * | 2001-06-13 | 2010-01-22 | 오르보테크 엘티디. | 에너지 전달 시스템 |
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JP2006281268A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Hitachi Via Mechanics Ltd | レーザ加工機 |
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TWI523720B (zh) * | 2009-05-28 | 2016-03-01 | 伊雷克托科學工業股份有限公司 | 應用於雷射處理工件中的特徵的聲光偏轉器及相關雷射處理方法 |
GB2485985B (en) * | 2010-11-30 | 2015-07-22 | Powerphotonic Ltd | Laser pulse generation method and apparatus |
TWI608886B (zh) * | 2011-07-05 | 2017-12-21 | 電子科學工業股份有限公司 | 用於提供聲光束偏轉器與聲光調變器使用期間之溫度穩定性之系統與方法 |
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EP3649499A1 (en) * | 2017-07-07 | 2020-05-13 | University of Rochester | Optical design for a two-degree-of-freedom scanning system with a curved sample plane |
-
2020
- 2020-01-03 CN CN202080005766.2A patent/CN112867578A/zh active Pending
- 2020-01-03 US US17/276,736 patent/US20220048135A1/en active Pending
- 2020-01-03 KR KR1020217016628A patent/KR20210111246A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-01-03 JP JP2021542372A patent/JP2022518898A/ja active Pending
- 2020-01-03 SG SG11202103563XA patent/SG11202103563XA/en unknown
- 2020-01-03 EP EP20748524.4A patent/EP3917717A4/en active Pending
- 2020-01-03 WO PCT/US2020/012219 patent/WO2020159666A1/en unknown
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