JPWO2020045409A1 - 光学装置及び導電膜付きヒーター基板 - Google Patents

光学装置及び導電膜付きヒーター基板 Download PDF

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Abstract

長時間安定して使用することができ、信頼性を高めることができる、光学装置を提供する。透明基板2と、透明基板2上に配置されており、対向し合っている第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4と、透明基板2上に配置されており、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4に接触している、導電膜5とを備える、導電膜付きヒーター基板1と、センサー、カメラ、又は表示デバイスと、を備える、光学装置であって、導電膜付きヒーター基板1に、平面視で矩形の光透過領域6が設けられており、光透過領域6が、センサーエリア、撮像エリア、又は表示領域であり、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4間の距離をDとし、光透過領域6の幅をWとしたときに、比D/Wが、1.15≦D/W≦2.1の範囲内にある、光学装置。

Description

本発明は、透明基板上に導電膜が配置された導電膜付きヒーター基板を備える光学装置及び該光学装置に用いられる導電膜付きヒーター基板に関する。
従来、車載カメラ、車載ディスプレイ等の車載用途や、防犯カメラ等に導電膜付きヒーター基板が用いられている。このような導電膜付きヒーター基板は、例えば、車載カメラ等においては、カバーガラスの結露防止用ヒーターとして用いられている。また、車載ディスプレイ等の液晶表示装置においては、低温環境下における使用時の応答速度を維持するために用いられている。
このような導電膜付きヒーター基板の一例として、下記の特許文献1には、基板上に導電性の薄膜材料を一様に付着して形成した四角形状のヒーターが開示されている。特許文献1では、四角形状のヒーターの相対する二辺に、各々の相対向する一辺を互いに平行にしたバスバー電極をそれぞれ所定の電圧降下を生じるように設けられている。そして、これらのバスバー電極の両端側にそれぞれ電力供給用の接続端子が設けられている。
また、下記の特許文献2には、透明導電膜と、透明導電膜に通電する一対のバスバー電極がガラス板上に設けられてなる通電加熱ガラスが開示されている。特許文献2では、ガラス板の表面上に透明導電膜が設けられており、その上に一対のバスバー電極が設けられている。また、バスバー電極の透明導電膜への通電部は、透明導電膜を間に挟んで対向するように形成されている。
特開平7−99081号公報 特開2001−122643号公報
しかしながら、特許文献1や特許文献2のような導電膜付きヒーター基板では、車載カメラのカバーガラスや、液晶表示装置の液晶表示パネル等の被加熱物を加熱する際に、局所的に過熱され、均一に加熱できない場合があった。そのため、長時間の使用により抵抗が増大するなどの不具合が発生することがあり、信頼性を高めることが困難であった。
本発明の目的は、長時間安定して使用することができ、信頼性を高めることができる、光学装置及び該光学装置に用いられる導電膜付きヒーター基板を提供することにある。
本願の第1の発明に係る光学装置は、透明基板と、前記透明基板上に配置されており、対向し合っている第1のバスバー電極及び第2のバスバー電極と、前記透明基板上に配置されており、前記第1のバスバー電極及び前記第2のバスバー電極に接触している、導電膜とを備える、導電膜付きヒーター基板と、センサー、カメラ、又は表示デバイスと、を備える、光学装置であって、前記導電膜付きヒーター基板に、平面視で矩形の光透過領域が設けられており、前記光透過領域が、センサーエリア、撮像エリア、又は表示領域であり、前記第1のバスバー電極及び前記第2のバスバー電極間の距離をDとし、前記光透過領域の幅をWとしたときに、比D/Wが、1.15≦D/W≦2.1の範囲内にあることを特徴としている。
本願の第2の発明に係る光学装置は、透明基板と、前記透明基板上に配置されており、対向し合っている第1のバスバー電極及び第2のバスバー電極と、前記透明基板上に配置されており、前記第1のバスバー電極及び前記第2のバスバー電極に接触している、導電膜とを備える、導電膜付きヒーター基板と、センサー、カメラ、又は表示デバイスと、を備える、光学装置であって、前記導電膜付きヒーター基板に、平面視で矩形の光透過領域が設けられており、前記光透過領域が、センサーエリア、撮像エリア、又は表示領域であり、前記第1のバスバー電極の長さをL1とし、前記光透過領域の長さをL2としたときに、比L1/L2が、0.8≦L1/L2≦1.5の範囲内にあることを特徴としている。
本発明においては、前記透明基板が、ガラス基板であることが好ましい。
本発明においては、前記第1のバスバー電極及び前記第2のバスバー電極の少なくとも一部が、前記導電膜により覆われていることが好ましい。
本発明においては、前記透明基板上に配置されている前記導電膜の主面上に、さらに反射防止膜が積層されていることが好ましい。
本発明においては、前記透明基板の前記導電膜とは反対側の主面上に、反射防止膜が積層されていることが好ましい。
本発明に係る光学装置では、前記導電膜が、透明導電膜であることが好ましい。
本発明に係る光学装置では、前記導電膜が、インジウムを主成分とする酸化物により構成されていることが好ましい。
本願の第3の発明に係る導電膜付きヒーター基板は、透明基板と、前記透明基板上に配置されており、対向し合っている第1のバスバー電極及び第2のバスバー電極と、前記透明基板上に配置されており、前記第1のバスバー電極及び前記第2のバスバー電極に接触している、導電膜とを備える、導電膜付きヒーター基板であって、前記第1のバスバー電極の長さをL1とし、前記導電膜の長さをL3としたときに、比L3/L1が、1≦L3/L1≦1.75の範囲内にあることを特徴としている。
以下、本願の第1〜第3の発明を総称して、本発明と称する場合があるものとする。
本発明によれば、長時間安定して使用することができ、信頼性を高めることができる、光学装置及び該光学装置に用いられる導電膜付きヒーター基板を提供することができる。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る光学装置を構成する導電膜付きヒーター基板を示す模式的平面図である。 図2は、図1のA−A線に沿う部分の模式的断面図である。 図3は、本発明の第1の実施形態に係る光学装置を構成する導電膜付きヒーター基板において、比D/Wと、発熱密度比との関係を示すグラフである。 図4は、本発明の第2の実施形態に係る光学装置を構成する導電膜付きヒーター基板を示す模式的平面図である。 図5は、本発明の第2の実施形態に係る光学装置を構成する導電膜付きヒーター基板において、比L1/L2と、発熱密度比との関係を示すグラフである。 図6は、本発明の第3の実施形態に係る導電膜付きヒーター基板を示す模式的平面図である。 図7は、本発明の第3の実施形態に係る導電膜付きヒーター基板において、比L3/L1と、発熱密度比との関係を示すグラフである。 図8は、本発明の第4の実施形態に係る導電膜付きヒーター基板を示す模式的断面図である。 図9は、本発明の第5の実施形態に係る導電膜付きヒーター基板を示す模式的断面図である。 図10は、本発明の第6の実施形態に係る導電膜付きヒーター基板を示す模式的断面図である。 図11は、本発明の第7の実施形態に係る導電膜付きヒーター基板を示す模式的平面図である。 図12は、本発明の第8の実施形態に係る導電膜付きヒーター基板を示す模式的平面図である。
以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また、図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照する場合がある。
本発明に係る光学装置は、導電膜付きヒータ基板と、センサー、カメラ、又は表示デバイスと、を備える。上記導電膜付きヒータ基板には、平面視で矩形の光透過領域が設けられている。なお、本発明において、上記光透過領域は、センサーエリア、撮像エリア、又は表示領域に相当する領域であるものとする。
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る光学装置を構成する導電膜付きヒーター基板を示す模式的平面図である。図2は、図1のA−A線に沿う部分の模式的断面図である。
図1及び図2に示すように、導電膜付きヒーター基板1は、透明基板2と、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4と、導電膜5とを備える。
透明基板2は、本実施形態では、矩形板状の形状を有している。透明基板2は、本実施形態では、ガラス基板である。なお、本明細書において、「透明」とは、可視域、赤外域、又は紫外域のいずれかの波長領域で透明であること、すなわち光透過率が30%以上であることをいう。また、透明基板2は、対向している第1の主面2a及び第2の主面2bを有する。
透明基板2の第1の主面2a上には、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4が設けられている。第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4は、平面視で細長い矩形形状である。
図1において、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4が延びる長さ方向をx方向とする。第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4の幅方向であり、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4を結ぶ方向をy方向とする。また、x方向及びy方向は、直交しているものとする。
また、透明基板2の第1の主面2a上には、さらに導電膜5が設けられている。導電膜5は、平面視で矩形形状である。導電膜5の長さ方向は、x方向に沿う方向である。また、導電膜5の幅方向は、y方向に沿う方向である。
導電膜5は、x方向において、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4の両端より外側に延びるように配置されている。導電膜5は、y方向において、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4を結ぶ領域に設けられている。また、導電膜5は、透明基板2の第1の主面2aから、第1のバスバー電極3の主面3a及び第2のバスバー電極4の主面4aの一部に至るように設けられている。従って、導電膜5は、第1のバスバー電極3の主面3a及び第2のバスバー電極4の主面4aの一部を覆っている。
第1のバスバー電極3及び第2バスバー電極4の主面3a,4aにおいて、導電膜5により覆われていない領域は、露出部3b,4bである。導電膜付きヒーター基板1では、この露出部3b,4bに、例えば、リード線を取り付けることができる。リード線を通じて、第1のバスバー電極3及び第2バスバー電極4間に電圧を印加することにより、導電膜付きヒーター基板1を加熱することができる。
本実施形態において、導電膜付きヒーター基板1には、光透過領域6が設けられている。光透過領域6は、平面視で矩形形状である。なお、光透過領域6の長さ方向は、x方向に沿う方向である。この光透過領域6のx方向に沿う長さは、例えば、36mmとすることができる。また、光透過領域6の幅方向は、y方向に沿う方向である。この光透過領域6のy方向に沿う幅は、例えば、24mmとすることができる。
光透過領域6は、例えば、導電膜付きヒーター基板1を車載カメラ等のカメラに用いる場合は、撮像エリアに相当する領域である。また、車載ディスプレイ等の液晶表示装置に用いる場合は、液晶表示装置の表示領域に相当する領域である。また、センサーに用いる場合は、センサー領域である。
また、本実施形態の導電膜付きヒーター基板1では、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4間のy方向に沿う距離をDとし、光透過領域6のy方向に沿う幅をWとしたときに、比D/Wが、1.15≦D/W≦2.1の範囲内にある。
導電膜付きヒーター基板1では、比D/Wが上記範囲内にあるので、局所的な過熱が生じ難く、均一に加熱することができる。そのため、長時間の使用により抵抗が増大するなどの不具合が発生し難く、信頼性を高めることができる。これを、以下、図3を参照して具体的に説明する。
図3は、本発明の第1の実施形態に係る光学装置を構成する導電膜付きヒーター基板1において、比D/Wと、発熱密度比との関係を示すグラフである。図3においては、実線で発熱密度比の最大値を示しており、破線で発熱密度比の最小値を示している。また、発熱密度比の最大値とは、光透過領域6の各セルにおける発熱密度の最大値を、光透過領域6の各セルにおける発熱密度の平均値で除することにより求めた割合である。発熱密度比の最小値は、光透過領域6の各セルにおける発熱密度の最小値を、光透過領域6の各セルにおける発熱密度の平均値で除することにより求めた割合である。
なお、単位面積当たりの発熱量である発熱密度は、以下の手順で求めた。
まず、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4と導電膜5で構成される通電領域をモデル化し、通電領域を複数のセルに分割し、所定の電力となるような電位を正極(本実施形態では、第1のバスバー電極3)と負極(本実施形態では、第2のバスバー電極4)に与えた時の電位分布を有限体積法で求めた。なお、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4を介した導電膜5への通電時、透明基板2へ電気はほとんど流れないため、透明基板2はモデル化しなかった。
有限体積法では、セル内の電位を未知数としており、離散化された支配方程式を各要素で連立させて構成される連立方程式を、反復法により解くことで電位分布を得た。また、直流通電状態を前提としてシミュレーションを実施し、支配方程式としてラプラス方程式が成立すると仮定した。電位をφ、導電率をγとすると、−▽・(γ▽φ)=0である。なお、γを定数と仮定しているので、上記の式は▽φ=0となる。
得られた電位分布から発熱密度分布を計算した。各セルの発熱密度Qは次式(1)で計算される。
Figure 2020045409
(式(1)中、Aはセルを囲む面の面積であり、太文字のAは上記面の外向き法線ベクトルである。▽φ及びφは、上記面における電場及び電位であり、既に得られている各セルの電位を用いて補間により計算した。)
また、発熱密度比は、光透過領域6の各セルの発熱密度を、光透過領域6の各セルにおける発熱密度の平均値で除することにより計算される。この発熱密度比の最大値と最小値の差が小さいほど、該領域内での発熱密度の差が小さいことを意味しており、すなわち均一な加熱に近い状態にある。
図3より、比D/Wが大きいほど、発熱密度比の最大値及び最小値が、平均値である100%に近づいていることがわかる。すなわち、比D/Wが大きいほど、局所的な過熱が生じ難く、均一に加熱できることがわかる。
また、比D/Wと、抵抗変化率との関係を求めた。抵抗変化率は、次式(2)から求めた。
抵抗変化率=(R1000−Rini)/Rini…(2)
(式(2)中、Riniは、初期端子間抵抗である。R1000は、印加電力一定で1000時間通電した後の端子間抵抗である。また、印加電力は、7.1Wであり、初期抵抗9Ω、電圧8Vである。)
結果を下記の表1に示す。
Figure 2020045409
表1より、発熱密度比の最大値と最小値の差が60%以下のとき、すなわち比D/Wが1.17以上のとき抵抗変化率が低められていることがわかる。また、発熱密度比の最大値と最小値の差が82%以上のとき、すなわち比D/Wが1.08以下のとき抵抗変化率が高くなっていることがわかる。
なお、比D/Wが大きすぎると、光透過領域6の大きさに対して導電膜付きヒーター基板1が相対的に大きくなり、ひいてはカメラやディスプレイ等が著しく大型化してしまうという問題を生じる。
よって、導電膜付きヒーター基板1では、比D/Wが、1.15≦D/W≦2.1の範囲内にあるとき、局所的な過熱が生じ難く、均一に加熱することができる。また、長時間の使用により抵抗が増大するなどの不具合が発生し難く、信頼性を高めることができる。そのため、導電膜付きヒーター基板1は、車載カメラ、車載ディスプレイ等の車載用途や、防犯カメラ、センサー等の用途に好適に用いることができる。よって、このような導電膜付きヒーター基板1を備える光学装置は、長時間安定して使用することができ、信頼性を高めることができる。
なお、局所的な過熱をより一層生じ難くし、信頼性をより一層高める観点から、比D/Wは、1.2以上、1.8以下であることが好ましく、1.2以上、1.5以下であることがより好ましい。
(第2の実施形態)
図4は、本発明の第2の実施形態に係る光学装置を構成する導電膜付きヒーター基板を示す模式的平面図である。図4に示すように、導電膜付きヒーター基板21では、第1のバスバー電極3の長さをL1とし、光透過領域6の長さをL2としたときに、0.8≦L1/L2≦1.5の範囲内にある。なお、第1のバスバー電極3の長さL1は、第2のバスバー電極4と対向している側の辺の長さとする。また、導電膜付きヒーター基板21では、上述の比D/Wが、1.15≦D/W≦2.1の範囲内にあってもよく、1.15≦D/W≦2.1の範囲外にあってもよい。もっとも、局所的な過熱をより一層生じ難くする観点からは、1.15≦D/W≦2.1の範囲内にあることが好ましい。その他の点は、第1の実施形態と同様である。
本実施形態では、比L1/L2が上記範囲内にあるので、局所的な過熱が生じ難く、均一に加熱することができる。そのため、長時間の使用により抵抗が増大するなどの不具合が発生し難く、信頼性を高めることができる。これを、以下、図5を参照して具体的に説明する。
図5は、比L1/L2と、発熱密度比との関係を示すグラフである。図5においては、実線で発熱密度比の最大値を示しており、破線で発熱密度比の最小値を示している。また、発熱密度比の最大値及び最小値は、第1の実施形態と同様の方法により求めた。なお、比L1/L2は、L2を36mmに固定し、L1を変化させることにより求めた。
図5より、比L1/L2が大きいほど、発熱密度比の最大値及び最小値が、平均値である100%に近づいており、局所的な過熱が生じ難く、均一に加熱できることがわかる。特に、比L1/L2が0.8以上のとき、発熱密度比の最大値及び最小値の差が上述した60%以下となるので、長時間の使用により抵抗が増大するなどの不具合が発生し難いことがわかる。
なお、比L1/L2が大きすぎると、光透過領域6の大きさに対して導電膜付きヒーター基板21が相対的に大きくなり、引いてはカメラやディスプレイ等が著しく大型化してしまうという問題を生じる。
よって、導電膜付きヒーター基板21では、比L1/L2が、0.8≦L1/L2≦1.5の範囲内にあるとき、局所的な過熱が生じ難く、均一に加熱することができる。また、長時間の使用により抵抗が増大するなどの不具合が発生し難く、信頼性を高めることができる。そのため、導電膜付きヒーター基板21は、車載カメラ、車載ディスプレイ等の車載用途や、防犯カメラ、センサー等の用途に好適に用いることができる。よって、このような導電膜付きヒーター基板21を備える光学装置は、長時間安定して使用することができ、信頼性を高めることができる。
なお、局所的な過熱をより一層生じ難くし、信頼性をより一層高める観点から、比L1/L2は、0.9以上、1.4以下であることが好ましい。
(第3の実施形態)
図6は、本発明の第3の実施形態に係る導電膜付きヒーター基板を示す模式的平面図である。図6に示すように、導電膜付きヒーター基板31では、第1のバスバー電極3の長さL1と、導電膜5の長さL3との比L3/L1が、1≦L3/L1≦1.75の範囲内にある。なお、導電膜付きヒーター基板31では、上述の比D/Wが、1.15≦D/W≦2.1の範囲内にあってもよく、1.15≦D/W≦2.1の範囲外にあってもよい。もっとも、局所的な過熱をより一層生じ難くする観点からは、1.15≦D/W≦2.1の範囲内にあることが好ましい。また、上述の比L1/L2が、0.8≦L1/L2≦1.5の範囲内にあってもよく、0.8≦L1/L2≦1.5の範囲外にあってもよい。もっとも、局所的な過熱をより一層生じ難くする観点からは、0.8≦L1/L2≦1.5の範囲内にあることが好ましい。その他の点は、第1の実施形態と同様である。
本実施形態では、比L3/L1が上記範囲内にあるので、局所的な過熱が生じ難く、均一に加熱することができる。そのため、長時間の使用により抵抗が増大するなどの不具合が発生し難く、信頼性を高めることができる。これを、以下、図7を参照して具体的に説明する。
図7は、比L3/L1と、発熱密度比の最大値及び最小値との関係を示す図である。図7においては、実線で発熱密度比の最大値を示しており、破線で発熱密度比の最小値を示している。また、発熱密度比の最大値及び最小値は、第1の実施形態と同様の方法により求めた。なお、比L3/L1は、L1を36mmに固定し、L3を変化させることにより求めた。
図7より、比L3/L1が小さいほど、発熱密度比の最大値及び最小値が、平均値である100%に近づいており、局所的な過熱が生じ難く、均一に加熱できることがわかる。特に、L3/L1が1.75以下のとき、発熱密度比の最大値及び最小値の差が上述した60%以下となるので、長時間の使用により抵抗が増大するなどの不具合が発生し難いことがわかる。
なお、比L3/L1が小さすぎると、誤って導電膜5の端部が光透過領域6の内部に位置してしまい、カメラ映像やディスプレイ映像に不具合を生じる恐れがある。
よって、比L3/L1が、1≦L3/L1≦1.75の範囲内にあるとき、局所的な過熱が生じ難く、均一に加熱することができる。また、長時間の使用により抵抗が増大するなどの不具合が発生し難く、信頼性を高めることができる。そのため、車載カメラ、車載ディスプレイ等の車載用途や、防犯カメラ等の用途に好適に用いることができる。
なお、局所的な過熱をより一層生じ難くし、信頼性をより一層高める観点から、比L3/L1は、1.0以上、1.4以下であることが好ましい。
(第4の実施形態)
図8は、本発明の第4の実施形態に係る導電膜付きヒーター基板を示す模式的断面図である。図8に示すように、導電膜付きヒーター基板41では、透明基板2の第1の主面2a上に、導電膜5が設けられている。そして、導電膜5上に、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4が設けられている。その他の点は、第1の実施形態と同様である。なお、この構成は、第2の実施形態及び第3の実施形態に適用してもよい。
第4の実施形態においても、比D/W、比L1/L2、及び比L3/L1のうち少なくとも1つが上記範囲内にあるので、局所的な過熱が生じ難く、均一に加熱することができる。そのため、長時間の使用により抵抗が増大するなどの不具合が発生し難く、信頼性を高めることができる。
(第5の実施形態及び第6の実施形態)
図9は、本発明の第5の実施形態に係る導電膜付きヒーター基板を示す模式的断面図である。図9に示すように、導電膜付きヒーター基板51では、透明基板2の第1の主面2a上に配置されている導電膜5の主面5a上に、反射防止膜52が設けられている。その他の点は、第1の実施形態と同様である。なお、この構成は、第2の実施形態及び第3の実施形態に適用してもよい。
また、図10は、本発明の第6の実施形態に係る導電膜付きヒーター基板を示す模式的断面図である。図10に示すように、導電膜付きヒーター基板61では、透明基板2の第2の主面2b上にも反射防止膜62が設けられている。その他の点は、第5の実施形態と同様である。なお、この構成も、第2の実施形態及び第3の実施形態に適用してもよい。
第5の実施形態及び第6の実施形態においても、比D/W、比L1/L2、及び比L3/L1のうち少なくとも1つが上記範囲内にあるので、局所的な過熱が生じ難く、均一に加熱することができる。そのため、長時間の使用により抵抗が増大するなどの不具合が発生し難く、信頼性を高めることができる。
また、第5の実施形態及び第6の実施形態では、さらに反射防止膜52,62が設けられているので、より一層光線透過率を高めることができる。
なお、透明基板2の第2の主面2b上に、指紋の付着を防止し、撥水性、撥油性を付与するための防汚膜を設けてもよい。透明基板2の第2の主面2b上に反射防止膜62が設けられている場合は、反射防止膜62の上に防汚膜を形成することができる。
(第7の実施形態)
図11は、本発明の第7の実施形態に係る導電膜付きヒーター基板を示す模式的平面図である。図11に示すように、導電膜付きヒーター基板71では、導電膜5は、y方向に沿う幅方向においても、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4の両端より外側に延びるように配置されている。従って、導電膜付きヒーター基板71では、導電膜5が、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4を覆うように設けられている。もっとも、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4の長さ方向(X方向)における一端の一部は、リード線を取り付けることができる露出部3b,4bとされている。その他の点は、第3の実施形態と同様である。なお、この構成は、第1の実施形態及び第2の実施形態に適用してもよい。
第7の実施形態においても、比D/W、比L1/L2、及び比L3/L1のうち少なくとも1つが上記範囲内にあるので、局所的な過熱が生じ難く、均一に加熱することができる。そのため、長時間の使用により抵抗が増大するなどの不具合が発生し難く、信頼性を高めることができる。
また、第7の実施形態では、導電膜5が、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4を覆うように設けられているので、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4の耐久性を向上させることができる。さらに、第7の実施形態において、導電膜5は、幅方向(Y方向)においても、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4の両端より外側において、透明基板2と密着されている。ここで、導電膜5と透明基板2との密着力は、導電膜5と第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4との密着力よりも大きい。よって、導電膜5の密着性を高めることもできる。
(第8の実施形態)
図12は、本発明の第8の実施形態に係る導電膜付きヒーター基板を示す模式的平面図である。図12に示すように、導電膜付きヒーター基板81では、透明基板2が円盤状である。透明基板2の第1の主面2a上に、導電膜5が設けられている。導電膜5は、平面視において透明基板2と重なるように設けられており、平面視において円状の形状を有している。また、導電膜5上に、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4が設けられている。第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4の形状は、それぞれ、平面視において半楕円状の形状を有している。第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4の円弧部分は、平面視において透明基板2及び導電膜5の外周縁に沿うように設けられている。その他の点は、第1の実施形態と同様である。なお、この構成は、第2の実施形態及び第3の実施形態に適用してもよい。
第8の実施形態においても、比D/W、比L1/L2、及び比L3/L1のうち少なくとも1つが上記範囲内にあるので、局所的な過熱が生じ難く、均一に加熱することができる。そのため、長時間の使用により抵抗が増大するなどの不具合が発生し難く、信頼性を高めることができる。
なお、第8の実施形態のように、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4の形状が、それぞれ、平面視において半楕円状の形状である場合においても、第1のバスバー電極3の長さL1は、第2のバスバー電極4と対向している側の辺の長さとする。また、導電膜5が平面視において円状の形状を有している場合、導電膜5の長さL3は、導電膜5の直径であるものとする。
以下、第1〜第8の実施形態で説明した導電膜付きヒーター基板を構成する各材料の詳細について説明する。
透明基板;
透明基板は、ガラス基板であることが好ましい。もっとも、透明基板2は、Si基板やGe基板であってもよい。ガラス基板の材料としては、特に限定されず、例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、結晶化ガラス、石英ガラス等が挙げられる。また、強化ガラスとして用いられるアルミノシリケートガラスであってもよい。
透明基板の厚みとしては、特に限定されないが、例えば、30μm以上、5mm以下とすることができる。
第1のバスバー電極及び第2のバスバー電極;
第1のバスバー電極及び第2のバスバー電極は、電気を流す電極であり、これを構成する材料としては、特に限定されないが、例えば、Ag、Al、Cu、Pt、Au、Ir、Ti、Ni、Cr、Mo、W、Sn等の金属又はこれらの金属の合金を用いることができる。なかでも、Agであることが好ましい。第1のバスバー電極及び第2のバスバー電極は、1つの材料を単層で形成してもよいし、複数の材料を積層して積層体を形成してもよい。
第1のバスバー電極及び第2のバスバー電極におけるそれぞれの長さは、例えば、10mm以上、300mm以下とすることができる。第1のバスバー電極及び第2のバスバー電極におけるそれぞれの幅は、例えば、1mm以上、10mm以下とすることができる。第1のバスバー電極及び第2のバスバー電極間の距離は、例えば、5mm以上、320mm以下とすることができる。また、第1のバスバー電極及び第2のバスバー電極におけるそれぞれの厚みは、例えば、0.1μm以上、100μm以下とすることができる。
導電膜;
導電膜は、透明導電膜であることが好ましい。導電膜としては、例えば、インジウム錫酸化物(ITO)やインジウムチタン酸化物(ITiO)やインジウム亜鉛酸化物(IZO)等のインジウムを主成分とする酸化物、アルミニウム亜鉛酸化物(AZO)、ガリウム亜鉛酸化物(GZO)、フッ素錫酸化物(FTO)、アンチモン錫酸化物(ATO)などの導電性を有する複合酸化物薄膜からなる透明導電膜を用いることができる。なかでも、導電膜5としては、インジウムを主成分とする酸化物であることが好ましく、導電膜を透過させる光が紫外光〜可視光の場合は、インジウム錫酸化物(ITO)であることがより好ましく、導電膜を透過させる光が可視光〜赤外光の場合は、インジウムチタン酸化物(ITiO)であることがより好ましい。
導電膜の長さは、例えば、10mm以上、300mm以下とすることができる。導電膜の幅は、例えば、15mm以上、320mm以下とすることができる。また、導電膜の厚みは、例えば、20nm以上、850nm以下とすることができる。
反射防止膜;
反射防止膜としては、特に限定されないが、例えば、SiO、Al、TiO、Nb、Ta、SiN、SiON、AlN、AlON等から構成される単層または多層の誘電体膜を用いることができる。
防汚膜;
防汚膜は、フッ素含有シラン化合物を防汚層形成用組成物に含有することが好ましく、フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物溶液をコーティングして作製することができる。特に、フッ素含有シラン化合物がシラザンもしくはアルコキシシランであることが好ましい。また、上記フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物のなかでも、シラン化合物中のフルオロアルキル基が、Si原子1つに対し、1つ以下の割合でSi原子と結合されており、残りは加水分解性基もしくはシロキサン結合基であるシラン化合物が好ましい。ここでいう加水分解性基としては、例えばアルコキシ基等の基であり、加水分解によりヒドロキシル基となり、それにより上記シラン化合物は重縮合物を形成することができる。
以下、第1〜第7の実施形態で説明した導電膜付きヒーター基板の製造方法の一例として導電膜付きヒーター基板1の製造方法について詳細に説明する。
製造方法;
導電膜付きヒーター基板1は、例えば、以下のようにして製造することができる。
まず、透明基板2上に、例えば、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、蒸着法、スパッタリング法、CVD法等を用いて、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4を形成する。蒸着法、スパッタリング法、CVD法等を用いた場合は、フォトリソグラフィー処理をしたり、メタルマスクを用いたりすることにより、バスバー電極を形成する。続いて、導電膜5を形成する以外の部分をメタルマスクする。
次に、導電膜5を成膜する。導電膜5の成膜方法としては、特に限定されないが、例えば、蒸着法、スパッタリング法、CVD法等を用いることができる。成膜後、メタルマスクを除去することにより、第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4の一部が露出した導電膜付きヒーター基板1を得ることができる。なお、メタルマスクを用いない場合は、リソグラフィー処理等を用いることにより同様の構造を得ることができる。
なお、導電膜付きヒーター基板1は、大寸法の透明基板2の母材上に予め複数の第1のバスバー電極3及び第2のバスバー電極4を形成し、その上に導電膜5を形成した後に、カットすることにより個片化してもよい。
1,21,31,41,51,61,71,81…導電膜付きヒーター基板
2…透明基板
2a…第1の主面
2b…第2の主面
3…第1のバスバー電極
3a,4a,5a…主面
3b,4b…露出部
4…第2のバスバー電極
5…導電膜
6…光透過領域
52,62…反射防止膜

Claims (9)

  1. 透明基板と、前記透明基板上に配置されており、対向し合っている第1のバスバー電極及び第2のバスバー電極と、前記透明基板上に配置されており、前記第1のバスバー電極及び前記第2のバスバー電極に接触している、導電膜とを備える、導電膜付きヒーター基板と、
    センサー、カメラ、又は表示デバイスと、
    を備える、光学装置であって、
    前記導電膜付きヒーター基板に、平面視で矩形の光透過領域が設けられており、
    前記光透過領域が、センサーエリア、撮像エリア、又は表示領域であり、
    前記第1のバスバー電極及び前記第2のバスバー電極間の距離をDとし、前記光透過領域の幅をWとしたときに、比D/Wが、1.15≦D/W≦2.1の範囲内にある、光学装置。
  2. 透明基板と、前記透明基板上に配置されており、対向し合っている第1のバスバー電極及び第2のバスバー電極と、前記透明基板上に配置されており、前記第1のバスバー電極及び前記第2のバスバー電極に接触している、導電膜とを備える、導電膜付きヒーター基板と、
    センサー、カメラ、又は表示デバイスと、
    を備える、光学装置であって、
    前記導電膜付きヒーター基板に、平面視で矩形の光透過領域が設けられており、
    前記光透過領域が、センサーエリア、撮像エリア、又は表示領域であり、
    前記第1のバスバー電極の長さをL1とし、前記光透過領域の長さをL2としたときに、比L1/L2が、0.8≦L1/L2≦1.5の範囲内にある、光学装置。
  3. 前記透明基板が、ガラス基板である、請求項1又は2に記載の光学装置。
  4. 前記第1のバスバー電極及び前記第2のバスバー電極の少なくとも一部が、前記導電膜により覆われている、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学装置。
  5. 前記透明基板上に配置されている前記導電膜の主面上に、さらに反射防止膜が積層されている、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学装置。
  6. 前記透明基板の前記導電膜とは反対側の主面上に、反射防止膜が積層されている、請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学装置。
  7. 前記導電膜が、透明導電膜である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学装置。
  8. 前記導電膜が、インジウムを主成分とする酸化物により構成されている、請求項1〜7のいずれか1項に記載の光学装置。
  9. 透明基板と、前記透明基板上に配置されており、対向し合っている第1のバスバー電極及び第2のバスバー電極と、前記透明基板上に配置されており、前記第1のバスバー電極及び前記第2のバスバー電極に接触している、導電膜とを備える、導電膜付きヒーター基板であって、
    前記第1のバスバー電極の長さをL1とし、前記導電膜の長さをL3としたときに、比L3/L1が、1≦L3/L1≦1.75の範囲内にある、導電膜付きヒーター基板。
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