JPWO2019098026A1 - 半導体封止用樹脂組成物及び半導体パッケージ - Google Patents
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Abstract
本開示の目的は、封止樹脂の黒色化と、封止樹脂の低誘電正接化を両立することができる半導体封止用樹脂組成物と、半導体パッケージとを提供することにある。本開示に係る半導体封止用樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、チタン原子の酸化数が+IV未満である低次酸化チタンと、を含有する。本開示に係る半導体パッケージ1は、半導体チップ2と、半導体チップ2を覆い、前記半導体封止用樹脂組成物の硬化物である封止樹脂4と、を備える。
Description
本開示は、半導体封止用樹脂組成物及び半導体パッケージに関し、より詳しくは、エポキシ樹脂を含有する半導体封止用樹脂組成物と、この半導体封止用樹脂組成物の硬化物からなる封止樹脂を備える半導体パッケージに関する。
特許文献1には、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、着色剤とを含有し、この着色剤としてチタンブラックを含有する半導体封止用熱硬化性樹脂組成物が記載されている。
本開示の目的は、封止樹脂の黒色化と、封止樹脂の低誘電正接化を両立することができる半導体封止用樹脂組成物と、半導体パッケージとを提供することである。
本開示の一態様に係る半導体封止用樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、チタン原子の酸化数が+IV未満である低次酸化チタンと、を含有する。
本開示の一態様に係る半導体パッケージは、半導体チップと、前記半導体チップを覆い、前記半導体封止用樹脂組成物の硬化物である封止樹脂と、を備える。
本開示によれば、封止樹脂の黒色化と、封止樹脂の低誘電正接化を両立できる半導体封止用樹脂組成物と、半導体パッケージとを提供することができる。
1.本開示の概要
半導体パッケージは、例えばトランジスタ、IC等の半導体チップと、この半導体チップを覆う樹脂組成物の硬化物である封止樹脂とを備える。また樹脂組成物に黒色着色剤を配合することで、封止樹脂を黒色化できる。黒色着色剤としては、カーボンブラック、チタンブラック等が例示される。例えば特許文献1(特開平4−72360号公報)には、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、着色剤とを含有し、この着色剤としてチタンブラックを含有する半導体封止用熱硬化性樹脂組成物が記載されている。
半導体パッケージは、例えばトランジスタ、IC等の半導体チップと、この半導体チップを覆う樹脂組成物の硬化物である封止樹脂とを備える。また樹脂組成物に黒色着色剤を配合することで、封止樹脂を黒色化できる。黒色着色剤としては、カーボンブラック、チタンブラック等が例示される。例えば特許文献1(特開平4−72360号公報)には、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、着色剤とを含有し、この着色剤としてチタンブラックを含有する半導体封止用熱硬化性樹脂組成物が記載されている。
電子デバイスの高速化及び高周波化に伴い、半導体チップの高速化が進められ、そのため半導体チップを備える半導体パッケージの高周波特性の向上が求められている。半導体パッケージの高周波特性を向上させるために、封止樹脂の比誘電率及び誘電正接を低下させることが求められている。
特許文献1のようにチタンブラックを含有する封止樹脂が、カーボンブラックを含有する封止樹脂と同程度の黒色度を有するためには、多量のチタンブラックを配合する必要があるという問題があった。また特許文献1のようにチタンブラックを含有する封止樹脂では、誘電正接を十分に低下させることができなかった。
そこで、発明者は、封止樹脂の黒色化と、封止樹脂の低誘電正接化を両立することができる半導体封止用樹脂組成物を提供すべく研究開発を行った結果、本開示の完成に至った。
本開示の実施形態に係る半導体封止用樹脂組成物(以下、樹脂組成物Xという)は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、硬化促進剤と、無機充填材と、チタンの酸化数が+IV未満である低次酸化チタンと、を含有する。
樹脂組成物Xは、図1、図2A及び図2Bに示す半導体パッケージ1における封止樹脂4を作製することに適している。例えば、半導体パッケージ1の製造方法は、樹脂組成物Xを、加圧成形法で成形することで、封止樹脂4を作製することを含む。この封止樹脂4は、半導体チップ2を覆うように成形されている。このため、本実施形態に係る半導体パッケージ1は、半導体チップ2と、半導体チップ2を覆い、樹脂組成物Xの硬化物である封止樹脂4とを備える。また本実施形態に係る半導体パッケージ1は、半導体チップ2と、半導体チップ2を覆い、樹脂組成物Xの硬化物である封止樹脂4とを備える。
チタンブラックは、TiO+TiNの式で表される酸窒化チタンであり、青みがかった黒色である。これに対して低次酸化チタンは、酸窒化チタンよりも黒色度が高い。また低次酸化チタンとチタン酸窒化チタンの含有量が同じである封止樹脂を比較すると、低次酸化チタンを含有する封止樹脂の方が、酸窒化チタンを含有する封止樹脂よりも、誘電正接を低くすることができる。これらのことから、封止樹脂が低次酸化チタンを含有することにより、封止樹脂を十分に黒色化することができ、かつ、封止樹脂の誘電正接を低くすることができる。
また酸窒化チタンを含有する樹脂組成物から形成された封止樹脂に、YAGレーザー等のレーザー光が照射されると、酸窒化チタンの酸化によって、封止樹脂のレーザー光が照射された部分が変色する。これにより、封止樹脂にマーキングを行うことできる。本実施形態でも、樹脂組成物Xから形成された封止樹脂4にレーザー光が照射されると、低次酸化チタンの酸化によって、封止樹脂4のレーザー光が照射された部分が変色する。低次酸化チタンは酸窒化チタンよりも黒色度が高いため、本実施形態の樹脂組成物Xから形成された封止樹脂4は、黒色着色剤として酸窒化チタンを含有する場合よりも、レーザー光の照射によって変色した部分が目視し易く、すなわちマーキングを判別し易い。
2.半導体封止用樹脂組成物について
以下、樹脂組成物Xの詳細について、更に説明する。上述の通り、樹脂組成物Xは、エポキシ樹脂と、硬化剤と、低次酸化チタンと、を含有する。半導体封止用樹脂組成物は、更に硬化促進剤と、無機充填材と、インデン構造を有するオリゴマーと、を含有してもよい。
以下、樹脂組成物Xの詳細について、更に説明する。上述の通り、樹脂組成物Xは、エポキシ樹脂と、硬化剤と、低次酸化チタンと、を含有する。半導体封止用樹脂組成物は、更に硬化促進剤と、無機充填材と、インデン構造を有するオリゴマーと、を含有してもよい。
2−1.エポキシ樹脂
エポキシ樹脂は、常温で固体であることが好ましい。特にエポキシ樹脂は、18℃以上25℃以下のいずれの温度でも固体であることが好ましい。
エポキシ樹脂は、常温で固体であることが好ましい。特にエポキシ樹脂は、18℃以上25℃以下のいずれの温度でも固体であることが好ましい。
エポキシ樹脂は、例えばグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂及びオレフィン酸化型(脂環式)エポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。より具体的には、エポキシ樹脂は、例えばフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のアルキルフェノールノボラック型エポキシ樹脂;ナフトールノボラック型エポキシ樹脂;フェニレン骨格、ビフェニレン骨格等を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂;ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂;フェニレン骨格、ビフェニレン骨格等を有するナフトールアラルキル型エポキシ樹脂;トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂等の多官能型エポキシ樹脂;トリフェニルメタン型エポキシ樹脂;テトラキスフェノールエタン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;スチルベン型エポキシ樹脂;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂;ビフェニル型エポキシ樹脂;ナフタレン型エポキシ樹脂;脂環式エポキシ樹脂;ビスフェノールA型ブロム含有エポキシ樹脂等のブロム含有エポキシ樹脂;ジアミノジフェニルメタンやイソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;並びにフタル酸やダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂からなる群から選択される一種以上の成分を含有できる。
特にエポキシ樹脂は、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂及びトリフェニルホスフィン型エポキシ樹脂からなる群から選択される一種以上の成分を含有することが好ましい。
2−2.硬化剤
硬化剤は、エポキシ樹脂を硬化させるために用いられる。硬化剤は、例えばフェノール化合物、酸無水物、及びフェノール性水酸基を生成する機能性化合物からなる群から選択される一種以上の成分を含有する。特に硬化剤がフェノール化合物と機能性化合物とのうち少なくとも一方を含有すると、封止樹脂62に高い耐湿信頼性が付与される。
硬化剤は、エポキシ樹脂を硬化させるために用いられる。硬化剤は、例えばフェノール化合物、酸無水物、及びフェノール性水酸基を生成する機能性化合物からなる群から選択される一種以上の成分を含有する。特に硬化剤がフェノール化合物と機能性化合物とのうち少なくとも一方を含有すると、封止樹脂62に高い耐湿信頼性が付与される。
硬化剤がフェノール化合物を含有する場合、硬化剤は、1分子内に2個以上のフェノール性水酸基を有するモノマー、オリゴマー及びポリマーのうちいずれも含みうる。例えば硬化剤は、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビフェニル型ノボラック樹脂、トリフェニルメタン型樹脂、ナフトールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、及びビフェニルアラルキル樹脂からなる群から選択される一種以上の成分を含有できる。
硬化剤がフェノール化合物を含有する場合、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量当たりのフェノール化合物の水酸基当量は、0.5以上であることが好ましく0.8以上であれば更に好ましい。またこの水酸基当量は2.0以下であることが好ましく1.4以下であれば更に好ましい。
硬化剤が酸無水物を含有する場合、硬化剤は、例えば無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸及びポリアゼライン酸無水物からなる群から選択される一種以上の成分を含有できる。硬化剤が酸無水物を含有する場合、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量当たりの酸無水物は0.7当量以上であることが好ましく0.8当量以上であることが更に好ましい。また、酸無水物は1.5当量以下であることが好ましく1.2当量以下であれば更に好ましい。
硬化剤がフェノール性水酸基を生成する機能性化合物を含有する場合、硬化剤は、加熱されることでフェノール性水酸基を生成する化合物を含有できる。より具体的には、例えば硬化剤は、加熱されると開環してフェノール性水酸基を生成するベンゾオキサジン類を含有できる。
2−3.低次酸化チタン
低次酸化チタンは、上述の通り、チタンの酸化数が+IV未満である。低次酸化チタンは、TinO2n−1の式で示される酸化チタンであり、式中のnは0.5より大きい数である。式中のnは10以下であり、好ましくは5以下であり、さらに2以下であることが好ましい。市販されている低次酸化チタンとしては、例えば赤穂化成株式会社製の商品名ティラック(Tilack)Dの品番TM−F、TM−B等が挙げられる。
低次酸化チタンは、上述の通り、チタンの酸化数が+IV未満である。低次酸化チタンは、TinO2n−1の式で示される酸化チタンであり、式中のnは0.5より大きい数である。式中のnは10以下であり、好ましくは5以下であり、さらに2以下であることが好ましい。市販されている低次酸化チタンとしては、例えば赤穂化成株式会社製の商品名ティラック(Tilack)Dの品番TM−F、TM−B等が挙げられる。
本実施形態では、低次酸化チタンのL*値は9以上14以下であり、a*値は−3.0以上0.5以下であり、b*値は−5.0以上−0.1以下であることが好ましい。この場合、封止樹脂4を黒色化し易く、封止樹脂4にレーザー光を照射することで形成されるマーキングを判別し易くすることができる。また黒色着色剤として低次酸化チタンを使用する場合と酸窒化チタンを使用する場合とを比較すると、低次酸化チタンを使用する場合の方が、封止樹脂4の黒色度を一定値にするために必要な黒色着色剤の量を少なくすることができる。
低次酸化チタンの平均粒子径は、0.2μm以上2.0μm以下であることが好ましく、0.4μm以上1.5μm以下であることがより好ましい。この場合、封止樹脂4中の低次酸化チタンの分散性、及び封止樹脂4を黒色の発色性の両方を向上させることができる。なお、平均粒子径は、レーザー回折・散乱法による粒度分布の測定値から算出される体積基準のメディアン径であり、市販のレーザー回折・散乱式粒度分布測定装置を用いて得られる。
低次酸化チタンの含有量は、樹脂組成物X全量に対して0.1質量%以上7質量%以下であることが好ましく、0.3質量%以上5質量%以下であることがより好ましい。この場合、封止樹脂4を黒色化し易く、かつ、封止樹脂4の誘電正接を低くすることができる。
また低次酸化チタン及び後述の無機充填材の合計の含有量が、樹脂組成物X全量に対して80質量%以上97質量%以下であることが好ましい。この場合、無機充填材は封止樹脂の線膨張係数を適度に小さくしてリフロー時等の半導体パッケージ1の反りを抑制でき、かつ、成形時の樹脂組成物Xの良好な流動性を確保できる。
2−4.硬化促進剤
硬化促進剤は、樹脂組成物Xに配合され得る通常の硬化促進剤であれば、特に限定されない。硬化促進剤は、例えば、イミダゾール類、有機ホスフィン類、及び第三級アミン類からなる群から選択される一種以上の成分を含有できる。イミダゾール類の例には、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール等が含まれる。有機ホスフィン類の例には、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリメチルホスフィン等が含まれる。第三級アミン類の例には、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン、トリエタノールアミン、ベンジルジメチルアミン等が含まれる。
硬化促進剤は、樹脂組成物Xに配合され得る通常の硬化促進剤であれば、特に限定されない。硬化促進剤は、例えば、イミダゾール類、有機ホスフィン類、及び第三級アミン類からなる群から選択される一種以上の成分を含有できる。イミダゾール類の例には、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール等が含まれる。有機ホスフィン類の例には、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリメチルホスフィン等が含まれる。第三級アミン類の例には、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン、トリエタノールアミン、ベンジルジメチルアミン等が含まれる。
樹脂組成物X中の硬化促進剤の含有量は、エポキシ樹脂と硬化剤の合計量に対して0.1〜5質量%が好ましい。この場合、硬化剤によるエポキシ樹脂の硬化を特に促進させることができ、樹脂組成物Xを特に硬化させやすい。
2−5.無機充填材
無機充填材は、金属酸化物粒子又は窒化ケイ素を含有することが好ましい。金属酸化物粒子は、例えばシリカ、及びアルミナからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。樹脂組成物Xに無機充填材を含有させることで、封止樹脂62の熱膨張係数を調整できる。金属酸化物粒子は、シリカを含むことが好ましい。シリカは線膨張係数が小さいため、樹脂組成物Xがシリカを含むことで、基板の片面上に樹脂組成物X製の封止樹脂62を設けた場合に、この基板の反りを抑制しやすい。シリカの例には、溶融球状シリカ等の溶融シリカ及び結晶シリカが含まれる。特に無機充填材は溶融シリカを含有することが好ましい。この場合、樹脂組成物X中の無機充填材の高い充填性と、成形時の樹脂組成物Xの高い流動性とが得られる。無機充填材がアルミナ、結晶シリカ及び窒化ケイ素からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することも好ましく、この場合、封止樹脂62の高い熱伝導性が得られる。
無機充填材は、金属酸化物粒子又は窒化ケイ素を含有することが好ましい。金属酸化物粒子は、例えばシリカ、及びアルミナからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。樹脂組成物Xに無機充填材を含有させることで、封止樹脂62の熱膨張係数を調整できる。金属酸化物粒子は、シリカを含むことが好ましい。シリカは線膨張係数が小さいため、樹脂組成物Xがシリカを含むことで、基板の片面上に樹脂組成物X製の封止樹脂62を設けた場合に、この基板の反りを抑制しやすい。シリカの例には、溶融球状シリカ等の溶融シリカ及び結晶シリカが含まれる。特に無機充填材は溶融シリカを含有することが好ましい。この場合、樹脂組成物X中の無機充填材の高い充填性と、成形時の樹脂組成物Xの高い流動性とが得られる。無機充填材がアルミナ、結晶シリカ及び窒化ケイ素からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することも好ましく、この場合、封止樹脂62の高い熱伝導性が得られる。
無機充填材の平均粒子径は例えば0.2μm以上70μm以下である。この場合、樹脂組成物Xの成形時に特に良好な流動性が得られる。無機充填材は、成形時の樹脂組成物Xの粘度、封止樹脂4の物性等の調整のために、平均粒子径の異なる二種以上の成分を含有してもよい。
2−6.インデン構造を有するオリゴマー
樹脂組成物Xが、インデン構造を有するオリゴマーを含むことにより、半導体封止用樹脂組成物の吸湿性を低下させることができる。これにより、封止樹脂の比誘電率及び誘電正接を低下させることができる。
樹脂組成物Xが、インデン構造を有するオリゴマーを含むことにより、半導体封止用樹脂組成物の吸湿性を低下させることができる。これにより、封止樹脂の比誘電率及び誘電正接を低下させることができる。
インデン構造を有するオリゴマーは、例えば、インデン類、スチレン類、及びフェノール類を含むモノマー成分の共重合体であることが好ましい。インデン構造を有するオリゴマーの数平均分子量は、300以上1000以下であることが好ましい。インデン構造を有するオリゴマーの軟化点は、50℃以上160℃以下であることが好ましい。
インデン類は、例えば、インデン、メチルインデン、エチルインデン、プロピルインデン、及びフェニルインデンからなる群から選択される一種以上の成分を含有することができる。インデン類は、特にインデンを含有することが好ましい。モノマー成分は、インデン類を60質量%以上含有することが好ましい。
スチレン類は、例えば、スチレン、o‐メチルスチレン、m‐メチルスチレン、p‐メチルスチレン、o‐エチルスチレン、m‐エチルスチレン、p‐エチルスチレン、o‐プロピルスチレン、m‐プロピルスチレン、p‐プロピルスチレン、o‐n‐ブチルスチレン等のアルキル置換スチレン、α‐メチルスチレン、α‐エチルスチレン、α‐プロピルスチレンからなる群から選択される一種以上の成分を含有することができる。スチレン類は、特にスチレンを含有することが好ましい。
フェノール類は、例えば、フェノール、クレゾール類等のアルキルフェノール類、キシレノール等のジアルキルフェノール類、ナフトール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のビスフェノール類、及びフェノールノボラック、フェノールアラルキル樹脂等の多官能性フェノール樹脂からなる群から選択される一種以上の成分を含有することができる。フェノール類は、特にフェノールを含有することが好ましい。
モノマー成分は、インデン類、スチレン類、フェノール類以外の成分を含有してもよい。例えばモノマー成分は、ベンゾチオフェン、メチルベンゾチオフェン類、ベンゾフラン、メチルベンゾフラン類、ビニルナフタレン、ビニルビフェニル、アセナフチレン、アクリル酸、アクリル酸エステル類、メタアクリル酸、メタアクリル酸エステル類、無水マレイン酸、フマル酸、ジビニルベンゼン類、及びジイソプロペニルベンゼン類からなる群から選択される一種以上の成分を含有することができる。
インデン構造を有するオリゴマーは、ラジカル重合法によって製造されてもよく、カチオン重合法によって製造されてもよく、アニオン重合法によって製造されてもよいが、特にカチオン重合法によって製造されることが好ましい。すなわち、インデン類、スチレン類、フェノール類を含むモノマー成分を、カチオン重合法で共重合することにより、インデン構造を有するオリゴマーを製造することが好ましい。
インデン構造を有するオリゴマーは、例えば、下記式(I)に示す構造を有し得る。
上記式(I)中のm及びnは、正の整数である。またm及びnの値は、モノマー成分に含まれるインデン類、スチレン類、フェノール類のそれぞれの構造及び含有量によって決定される。
インデン構造を有するオリゴマーの市販品としては、新日鐡住金化学株式会社製の商品名I−100、I−120、IP−100、IP−120、IS−100BT等が挙げられる。樹脂組成物Xは、インデン構造を有するオリゴマーとして、新日鐡住金化学株式会社製の商品名I−100及びIP−100のうち少なくとも一方を含有することが好ましい。
樹脂組成物X全量に対するインデン構造を有するオリゴマーの割合は、0.5質量%以上2.0質量%以下であることが好ましく、1.0質量%以上2.0質量%以下であることがより好ましい。この場合、樹脂組成物Xの吸湿性を特に低下させることができ、樹脂組成物Xの硬化物の誘電正接を特に低下させることができる。
2−7.添加剤
樹脂組成物Xは、本実施形態の利点を大きく損なわない範囲内で、上記成分以外の添加剤を含有してもよい。添加剤の例には、離型剤、カップリング剤、着色剤、難燃剤、低応力化剤、及びイオントラップ剤が含まれ得る。
樹脂組成物Xは、本実施形態の利点を大きく損なわない範囲内で、上記成分以外の添加剤を含有してもよい。添加剤の例には、離型剤、カップリング剤、着色剤、難燃剤、低応力化剤、及びイオントラップ剤が含まれ得る。
離型剤は、例えばカルナバワックス、ステアリン酸、モンタン酸、カルボキシル基含有ポリオレフィン、エステルワックス、酸化ポリエチレン、及び金属石鹸からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することができる。
カップリング剤は、例えばシランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、及びアルミニウム/ジルコニウムカップリング剤からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することができる。シランカップリング剤は、例えばγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のグリシドキシシラン;N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノシラン;アルキルシラン;ウレイドシラン;並びにビニルシランからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することができる。
樹脂組成物X中の無機充填剤が金属酸化物粒子を含み、かつ、樹脂組成物Xカップリング剤も含む場合、金属酸化物粒子に対するカップリング剤の割合は、0.01重量%以上1重量%以下が好ましく、0.2重量%以上1重量%以下がより好ましい。この場合、半導体封止用樹脂組成物から形成される封止樹脂の比誘電率及び誘電正接を低減しやすい。
難燃剤は、例えば水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム及び赤リンからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することができる。
着色剤は、例えばカーボンブラック、ベンガラ、酸化チタン、フタロシアニン及びペリレンブラックからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することができる。
低応力化剤は、例えばシリコーンエラストマー、シリコーンレジン、シリコーンオイル及びブタジエン系ゴムからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することができる。ブタジエン系ゴムは、例えばアクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン共重合体及びメタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン共重合体のうち少なくとも一方の成分を含有することができる。
イオントラップ剤は、例えばハイドロタルサイト類化合物と金属元素の含水酸化物とのうち少なくとも一方を含有することができる。金属元素の含水酸化物は、例えばアルミニウムの含水酸化物、ビスマスの含水酸化物、チタンの含水酸化物、及びジルコニウムの含水酸化物からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することができる。
2−8.半導体封止用樹脂組成物の製造方法
樹脂組成物Xの製造方法について説明する。樹脂組成物Xは、その原料を加熱しながら混練することによって、製造することができる。より具体的には、例えばエポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無機充填材、低次酸化チタン、及び所望の添加剤を含む原料を、ミキサー、ブレンダーなどで混合し、続いて熱ロール、ニーダーといった混練機で加熱しながら混練してから、室温に冷却することで、樹脂組成物Xが得られる。樹脂組成物Xを粉砕することで粉末にしてもよく、粉末にしてから打錠することでタブレット状にしてもよい。
樹脂組成物Xの製造方法について説明する。樹脂組成物Xは、その原料を加熱しながら混練することによって、製造することができる。より具体的には、例えばエポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無機充填材、低次酸化チタン、及び所望の添加剤を含む原料を、ミキサー、ブレンダーなどで混合し、続いて熱ロール、ニーダーといった混練機で加熱しながら混練してから、室温に冷却することで、樹脂組成物Xが得られる。樹脂組成物Xを粉砕することで粉末にしてもよく、粉末にしてから打錠することでタブレット状にしてもよい。
3.半導体パッケージ
(第1例の半導体パッケージ)
以下、樹脂組成物Xの硬化物である封止樹脂62を備える第1例の半導体パッケージ1について、図1を参照しながら説明する。なお、半導体パッケージ1の構成は、以下の構成に限定されない。
(第1例の半導体パッケージ)
以下、樹脂組成物Xの硬化物である封止樹脂62を備える第1例の半導体パッケージ1について、図1を参照しながら説明する。なお、半導体パッケージ1の構成は、以下の構成に限定されない。
半導体パッケージ1は、例えばMini、Dパック、D2パック、To22O、To3P、デュアル・インライン・パッケージ(DIP)といった挿入型パッケージ、又はクワッド・フラット・パッケージ(QFP)、スモール・アウトライン・パッケージ(SOP)、スモール・アウトライン・Jリード・パッケージ(SOJ)、ボールグリッドアレイ(BGA)といった表面実装型パッケージである。半導体パッケージ1は、システム・オン・チップ(SOC)であってもよく、システム・イン・パッケージ(SiP)であってもよい。
半導体パッケージ1は、例えば基板3と、基板3に搭載されている半導体チップ2と、半導体チップ2を覆う封止樹脂4とを備える。封止樹脂4は、半導体パッケージ1の外形を構成するパッケージであり、樹脂組成物Xの硬化物からなる。半導体チップ2は、例えば集積回路、大規模集積回路、トランジスタ、サイリスタ、ダイオード又は固体撮像素子である。半導体チップ2は、SiC、GaNといった新規のパワーデバイスであってもよい。基板3は、例えばリードフレーム又は配線板である。
図1に示す半導体パッケージ1における基板3は、リードフレーム31である。図1に示す半導体パッケージ1は、金属製のリードフレーム31と、リードフレーム31に搭載されている半導体チップ2と、半導体チップ2とリードフレーム31とを電気的に接続するワイヤ5と、半導体チップ2を覆う封止樹脂4とを備える。
リードフレーム31は、ダイパッド311、インナーリード312及びアウターリード313を備える。リードフレーム31は、例えば42アロイなどの鉄合金又は銅を主に含む金属材料から形成できる。
図1に示す半導体パッケージ1を製造する場合、例えばリードフレーム31のダイパッド311上に半導体チップ2を適宜のダイボンド材6で固定する。これによりリードフレーム31に半導体チップ2を搭載する。続いて、半導体チップ2における電極パッド(図示せず)とリードフレーム31におけるインナーリード312とを、ワイヤ5で接続する。ワイヤ5は、金製でもよいが、銀及び銅のうち少なくとも一方を含んでもよい。続いて、半導体チップ2の周りで樹脂組成物Xを成形して硬化させることで、封止樹脂4を作製する。さらに、封止樹脂4に、YAGレーザー等のレーザー光を照射することで、封止樹脂4に含まれる低次酸化チタンが酸化されて白色化し、封止樹脂4にマーキングが施される。
樹脂組成物Xを加圧成形法で成形することで、封止樹脂4を作製することが好ましい。加圧成形法は、例えば射出成形法、トランスファー成形法又は圧縮成形法である。
第1例の半導体パッケージ1の封止樹脂4の比誘電率は3.3以上3.6以下であることが好ましい。また半導体パッケージ1の封止樹脂4の誘電正接は、0.003以上0.015以下であることが好ましく、0.003以上0.008以下であることも好ましく、0.003以上0.007以下であることがより好ましい。この場合、半導体パッケージ1は良好な高周波特性を有することができる。
(第2例の半導体パッケージ)
以下、樹脂組成物Xの硬化物である封止樹脂4を備える第2例の半導体パッケージ1について、図2A及び図2Bを参照しながら説明する。なお、半導体パッケージ1の構成は、以下の構成に限定されない。
以下、樹脂組成物Xの硬化物である封止樹脂4を備える第2例の半導体パッケージ1について、図2A及び図2Bを参照しながら説明する。なお、半導体パッケージ1の構成は、以下の構成に限定されない。
第2例の半導体パッケージ1は、図2A及び図2Bに示すように基板3上に半導体チップ2を含む複数の電子部品20が搭載され、これらの複数の電子部品20が一つの封止樹脂4で片面封止されている。このため、第2例の半導体パッケージ1は、片面封止型のパッケージである。図2A及び図2Bに示すような半導体パッケージ1は、表面実装型パッケージの一例であるボールグリッドアレイ(BGA)であり、またシステム・イン・パッケージ(SiP)でもある。以下、第2例の半導体パッケージ1の構成を詳細に説明する。
第2例の半導体パッケージ1は、基板3と、複数の電子部品20と、複数のバンプ電極7と、複数のバンプ電極8と、封止樹脂4とを含む。
第2例における基板3は配線板32である。配線板32の一つの面である搭載面321には、複数の電子部品20が搭載されている。配線板32の搭載面321とは反対側の面322には、複数のバンプ電極8が設けられている。
複数の電子部品20は、上記の通り、配線板32の搭載面321に搭載される。複数の電子部品20のうち少なくとも一つが半導体チップ2である。半導体チップ2は、ベアチップであってもよく、パッケージであってもよい。半導体チップ2は、第1例の半導体チップ2と同じでもよい。半導体チップ2は、複数のバンプ電極7を備え、このバンプ電極7によって、半導体チップ2が配線板32に電気的に接続されている。半導体チップ2と配線板32との間隔(図2Bの長さX1)は、例えば20μm以上50μm以下である。第2例の半導体パッケージ1は、一つの半導体チップ2を含むが、二つ以上の半導体チップ2を含んでいてもよい。
複数の電子部品20は、例えば少なくとも一つのインダクタ21を含む。インダクタ21と配線板32とは電気的に接続されている。インダクタ21と配線板32との間隔(図2Bの長さX2)は、例えば10μm以上50μm以下である。インダクタ21と半導体チップ2との間隔(図2Bの長さX3)は、例えば0.1μm以上数μm以下である。第2例の半導体パッケージ1は、二つのインダクタ21を含んでいるが、一つのインダクタ21を含んでいてもよく、3つ以上のインダクタ21を含んでいてもよい。電子部品20は、半導体チップ2及びインダクタ21以外の部品を含んでいてもよい。
封止樹脂4は、樹脂組成物Xの硬化物からなる。封止樹脂4は、基板3(配線板32)の搭載面321側で半導体チップ2を覆っている。また封止樹脂4は、複数の電子部品20を覆っている。すなわち封止樹脂4は、基板3の片面を封止している。搭載面321を覆う封止樹脂4の厚み(図2Bの長さX4)は、例えば100μm以上500μm以下である。電子部品20(半導体チップ2又はインダクタ21)を覆う封止樹脂4の厚み(図2Bの長さX5)は、例えば10μm以上100μm以下である。配線板32と半導体チップ2との隙間には、封止樹脂4が充填されている。また配線板32とインダクタ21との隙間にも、封止樹脂4が充填されている。
第2例の半導体パッケージ1を製造する場合、例えば配線板32の搭載面321上に、複数の電子部品20を搭載した後、搭載面321を覆うように樹脂組成物Xを成形して硬化させることで、封止樹脂4を作製する。樹脂組成物Xの成形には、トランスファー成形法又は圧縮成形法を採用することができる。この場合、封止樹脂4は、半導体チップ2及びインダクタ21の表面を覆うと共に、半導体チップ2と配線板32との隙間及びインダクタ21と配線板32との隙間に充填される。さらに、封止樹脂4に、YAGレーザー等のレーザー光を照射することで、封止樹脂4に含まれる低次酸化チタンが酸化されて白色化し、封止樹脂4にマーキングが施される。
第2例の半導体パッケージ1の封止樹脂4の比誘電率も、3.3以上3.6以下であることが好ましい。また第2例の半導体パッケージ1の封止樹脂4の誘電正接も、0.003以上0.015以下であることが好ましく、0.003以上0.008以下であることも好ましく、0.003以上0.007以下であることがより好ましい。この場合、半導体パッケージ1は良好な高周波特性を有することができる。
以下、本開示を実施例によって具体的に説明する。なお、本開示は下記の実施例のみには制限されない。
(1)半導体封止用樹脂組成物の調製
各実施例及び比較例において、後掲の表1〜3に示す成分をミキサーで均一に混合分散した後、ニーダーで加熱しながら混練し、更に冷却してから粉砕した。これにより、半導体封止用樹脂組成物の粉末を得た。
各実施例及び比較例において、後掲の表1〜3に示す成分をミキサーで均一に混合分散した後、ニーダーで加熱しながら混練し、更に冷却してから粉砕した。これにより、半導体封止用樹脂組成物の粉末を得た。
なお、表1〜3に示す成分の詳細は次の通りである。
・エポキシ樹脂1:ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、日本化薬株式会社製、品番NC3000(当量276)。
・エポキシ樹脂2:ビフェニル型エポキシ樹脂、三菱化学株式会社製、品番YX4000H(当量195)。
・硬化剤:フェノール硬化剤、明和化成株式会社製、品番DL92(当量105)。
・硬化促進剤:トリフェニルホスフィン、北興化学株式会社制、品番TPP。
・無機充填材:球状溶融シリカ、電気化学工業株式会社製、品番FB940。
・低次酸化チタン1:商品名Tilack D、赤穂化成株式会社製、品番TM−F(L*値10.44、a*値0.36、b*値−0.35、平均粒径0.4μm)。
・低次酸化チタン2:商品名Tilack D、赤穂化成株式会社製、品番TM−B(L*値12.88、a*値−1.50、b*値−3.99、平均粒径0.7μm)。
・着色剤1(カーボンブラック):三菱化学株式会社製、品番MA600(平均粒子径0.20μm)。
・着色剤2(酸窒化チタン):三菱化学株式会社製、品番13M−T(L*値9.5、平均粒子径0.67μm)。
・インデンオリゴマー1:新日鐡住金化学株式会社製、商品名I−100。
・インデンオリゴマー2:新日鐡住金化学株式会社製、商品名IP−100。
・離型剤:ポリエチレンワックス、大日化学工業株式会社製、品番PE−A。
・カップリング剤:3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、品番KBM803。
・エポキシ樹脂1:ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、日本化薬株式会社製、品番NC3000(当量276)。
・エポキシ樹脂2:ビフェニル型エポキシ樹脂、三菱化学株式会社製、品番YX4000H(当量195)。
・硬化剤:フェノール硬化剤、明和化成株式会社製、品番DL92(当量105)。
・硬化促進剤:トリフェニルホスフィン、北興化学株式会社制、品番TPP。
・無機充填材:球状溶融シリカ、電気化学工業株式会社製、品番FB940。
・低次酸化チタン1:商品名Tilack D、赤穂化成株式会社製、品番TM−F(L*値10.44、a*値0.36、b*値−0.35、平均粒径0.4μm)。
・低次酸化チタン2:商品名Tilack D、赤穂化成株式会社製、品番TM−B(L*値12.88、a*値−1.50、b*値−3.99、平均粒径0.7μm)。
・着色剤1(カーボンブラック):三菱化学株式会社製、品番MA600(平均粒子径0.20μm)。
・着色剤2(酸窒化チタン):三菱化学株式会社製、品番13M−T(L*値9.5、平均粒子径0.67μm)。
・インデンオリゴマー1:新日鐡住金化学株式会社製、商品名I−100。
・インデンオリゴマー2:新日鐡住金化学株式会社製、商品名IP−100。
・離型剤:ポリエチレンワックス、大日化学工業株式会社製、品番PE−A。
・カップリング剤:3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、品番KBM803。
(2)硬化物の作製
実施例1−20及び比較例1−4の半導体封止用樹脂組成物の粉末を、成形圧力3.9MPa、温度175℃、成形時間120秒の条件でトランスファー成形した。その後、175℃、4時間の条件でアフターキュアを行うことにより、半導体封止用樹脂組成物の硬化物を作製した。
実施例1−20及び比較例1−4の半導体封止用樹脂組成物の粉末を、成形圧力3.9MPa、温度175℃、成形時間120秒の条件でトランスファー成形した。その後、175℃、4時間の条件でアフターキュアを行うことにより、半導体封止用樹脂組成物の硬化物を作製した。
(3)評価
(3−i)黒色度
色差計(東京電色株式会社製、型番SP−80)を用いて、実施例1−20及び比較例1−4の硬化物の黒色度(L値)を測定し、以下の基準で硬化物の黒色度を評価した。
A:黒色度が11以上である。
B:黒色度が10以上9以下である。
C:黒色度が8以下である。
(3−i)黒色度
色差計(東京電色株式会社製、型番SP−80)を用いて、実施例1−20及び比較例1−4の硬化物の黒色度(L値)を測定し、以下の基準で硬化物の黒色度を評価した。
A:黒色度が11以上である。
B:黒色度が10以上9以下である。
C:黒色度が8以下である。
(3−ii)比誘電率、及び誘電正接の測定
実施例1−20及び比較例1−4の硬化物を、1.5mm×1.5mm×85mmの大きさの成形品に加工した。ネットワークアナライザ(アジレント・テクノロジー株式会社製、型番N5230A)を用いて、10GHzにおける成形品の比誘電率及び誘電正接を測定した。
実施例1−20及び比較例1−4の硬化物を、1.5mm×1.5mm×85mmの大きさの成形品に加工した。ネットワークアナライザ(アジレント・テクノロジー株式会社製、型番N5230A)を用いて、10GHzにおける成形品の比誘電率及び誘電正接を測定した。
(3−ii)YAGレーザーマーク性
実施例1−20及び比較例1−4の硬化物に、波長1.06μm、レーザー出力13Aの条件で、YAGレーザー(NEC株式会社製、品番SL475K−0181)からレーザー光を照射して、硬化物にマーキングを施した。そして、マーキングの印字を以下の基準で評価した。
A:目視でマーキングを判別しやすい。
B:目視ではマーキングを判別しにくい。
C:目視ではマーキングを判別できない。
実施例1−20及び比較例1−4の硬化物に、波長1.06μm、レーザー出力13Aの条件で、YAGレーザー(NEC株式会社製、品番SL475K−0181)からレーザー光を照射して、硬化物にマーキングを施した。そして、マーキングの印字を以下の基準で評価した。
A:目視でマーキングを判別しやすい。
B:目視ではマーキングを判別しにくい。
C:目視ではマーキングを判別できない。
(分析)
黒色着色剤として低次酸化チタンを含有する実施例1から20の硬化物は、カーボンブラックのみを含有する比較例1の硬化物、酸窒化チタンを含有する比較例2、3の硬化物、及び黒色着色剤を含有していない比較例4の硬化物よりも、誘電正接が低い。また実施例1から8、10から14の硬化物と、実施例9の硬化物とでは、含まれるエポキシ樹脂が異なっているが、いずれの実施例の硬化物も誘電正接が低い。
黒色着色剤として低次酸化チタンを含有する実施例1から20の硬化物は、カーボンブラックのみを含有する比較例1の硬化物、酸窒化チタンを含有する比較例2、3の硬化物、及び黒色着色剤を含有していない比較例4の硬化物よりも、誘電正接が低い。また実施例1から8、10から14の硬化物と、実施例9の硬化物とでは、含まれるエポキシ樹脂が異なっているが、いずれの実施例の硬化物も誘電正接が低い。
また実施例1、2の硬化物は、比較例2の硬化物に含まれる酸窒化チタンと同量の低次酸化チタンを含有しているが、比較例2の硬化物よりも黒色度が高く、YAGレーザーによるマーキングが判別しやすく、かつ、誘電正接が低い。
また実施例3、4、7の硬化物に含まれる低次酸化チタンの量は、比較例3の硬化物に含まれる酸窒化チタンの量よりも少ないが、実施例3、4、7の硬化物は、比較例3の硬化物と同等の黒色度を有し、かつ、比較例3の硬化物よりも誘電正接が低い。
また実施例5、6の硬化物は、比較例3の硬化物に含まれる酸窒化チタンと同量の低次酸化チタンを含有しているが、比較例3の硬化物よりも黒色度が高く、YAGレーザーによるマーキングが判別しやすく、かつ、誘電正接が低い。
すなわち、黒色着色剤として低次酸化チタンを含有することにより、硬化物の黒色化と、低誘電正接化を両立させることができる。
また実施例10から実施例15の硬化物は、インデン構造を有するオリゴマーを含有するため、インデン構造を有するオリゴマーを含有しない実施例1から実施例7の硬化物よりも、誘電正接が低い。
また実施例16の硬化物は、実施例17及び実施例20の硬化物よりも無機充填剤に対するカップリング剤の割合が多いため、実施例16の硬化物は実施例17及び実施例20の硬化物よりも誘電正接が低い。また実施例15の硬化物は、実施例18及び実施例19の硬化物よりも無機充填剤に対するカップリング剤の割合が多いため、実施例15の硬化物は、実施例18及び実施例19の硬化物よりも誘電正接及び非誘電率が低い。
以上述べた実施形態から明らかなように、本開示に係る第1の態様の半導体封止用樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、チタン原子の酸化数が+IV未満である低次酸化チタンと、を含有する。
第1の態様によれば、半導体封止用樹脂組成物から形成される封止樹脂を十分に黒色化することができ、かつ、この封止樹脂の誘電正接を低くすることができる。また半導体封止用樹脂組成物から形成された封止樹脂は、黒色着色剤として酸窒化チタンを含有する場合よりも、レーザー光の照射によって変色した部分が目視し易く、すなわちマーキングを判別し易い。
本開示に係る第2の態様の半導体封止用樹脂組成物は、第1の態様において、前記低次酸化チタンは、L*値が9以上14以下であり、a*値が−3.0以上0.5以下であり、b*値が−5.0以上−0.1以下である。
第2の態様によれば、半導体封止用樹脂組成物から形成される封止樹脂を黒色化し易く、封止樹脂にレーザー光を照射することで形成されるマーキングを判別し易くすることができる。また黒色着色剤として低次酸化チタンを使用する場合と酸窒化チタンを使用する場合とを比較すると、低次酸化チタンを使用する場合の方が、封止樹脂の黒色度を一定値にするために必要な黒色着色剤の量を少なくすることができる。
本開示に係る第3の態様の半導体封止用樹脂組成物は、第1又は2の態様において、前記低次酸化チタンの平均粒子径が、0.2μm以上2.0μm以下である。
第3の態様によれば、半導体封止用樹脂組成物から形成される封止樹脂中の低次酸化チタンの分散性、及び封止樹脂を黒色の発色性の両方を向上させることができる。
本開示に係る第4の態様の半導体封止用樹脂組成物は、第1から第3のいずれか一の態様において、前記低次酸化チタンの含有量が、0.1質量%以上7質量%以下である。
第4の態様によれば、半導体封止用樹脂組成物から形成される封止樹脂を黒色化し易く、かつ、封止樹脂の誘電正接を低くすることができる。
本開示に係る第5の態様の半導体封止用樹脂組成物は、第1から4のいずれか一の態様において、インデン構造を有するオリゴマーを0.5質量%以上2.0質量%以下含有する。
第5の態様によれば、半導体封止用樹脂組成物の吸湿性を特に低下させることができ、半導体封止用樹脂組成物の硬化物の誘電正接を特に低下させることができる。
本開示に係る第6の態様の半導体封止用樹脂組成物は、第1から5のいずれか一の態様において、金属酸化物粒子を含む無機充填剤と、カップリング剤とを更に含有する。前記金属酸化物粒子に対する前記カップリング剤の割合は、0.01重量%以上1重量%以下である。
第6の態様によれば、金属酸化物粒子の表面に存在するOH基と、カップリング剤とを効率よく反応させることができる。これにより、半導体封止用樹脂組成物から形成される封止樹脂の比誘電率及び誘電正接を低減しやすい。
本開示に係る第7の態様の半導体封止用樹脂組成物は、第6の態様において、前記金属酸化物粒子がシリカを含有する。
第7の態様によれば、シリカは線膨張係数が小さいため、半導体封止用樹脂組成物がシリカを含むことで、基板の片面上に半導体封止用樹脂組成物製の封止樹脂を設けた場合に、この基板の反りを抑制しやすい。
本開示に係る第8の態様の半導体パッケージ(1)は、半導体チップ(2)と、半導体チップ(2)を覆い、第1から7のいずれか一の態様に係る半導体封止用樹脂組成物の硬化物である封止樹脂(4)と、を備える。
第8の態様によれば、封止樹脂(4)が十分に黒色化され、かつ、封止樹脂(4)の誘電正接が十分に低い、半導体パッケージ(1)が得られる。また封止樹脂(4)にレーザー光が照射されて形成されたマーキングが判別しやすい半導体パッケージ(1)が得られる。
本開示に係る第9の態様の半導体パッケージ(1)は、第8の態様において、基板(3)を更に備え、基板(3)の一つの面である搭載面(321)に半導体チップ(2)が搭載され、封止樹脂(4)は、基板(3)の搭載面(321)側で半導体チップ(2)を覆う。
第9の態様によれば、封止樹脂(4)が十分に黒色化され、かつ、封止樹脂(4)の誘電正接が十分に低い、半導体パッケージ(1)が得られる。また封止樹脂(4)にレーザー光が照射されて形成されたマーキングが判別しやすい半導体パッケージ(1)が得られる。
本開示に係る第10の態様の半導体パッケージ(1)は、第8又は9の態様において、封止樹脂(4)にマーキングが施されている。
第10の態様によれば、封止樹脂(4)が十分に黒色化されているため、マーキングが判別しやすい。
1 半導体パッケージ
2 半導体チップ
3 基板
321 搭載面
4 封止樹脂
2 半導体チップ
3 基板
321 搭載面
4 封止樹脂
Claims (10)
- エポキシ樹脂と、
硬化剤と、
チタン原子の酸化数が+IV未満である低次酸化チタンと、
を含有する、
半導体封止用樹脂組成物。 - 前記低次酸化チタンは、
L*値が9以上14以下であり、
a*値が−3.0以上0.5以下であり、
b*値が−5.0以上−0.1以下である、
請求項1に記載の半導体封止用樹脂組成物。 - 前記低次酸化チタンの平均粒子径が、0.2μm以上2.0μm以下である、
請求項1又は2に記載の半導体封止用樹脂組成物。 - 前記低次酸化チタンの含有量が、0.1質量%以上7質量%以下である、
請求項1から3のいずれか一項に記載の半導体封止用樹脂組成物。 - インデン構造を有するオリゴマーを0.5質量%以上2.0質量%以下含有する、
請求項1から4のいずれか一項に記載の半導体封止用樹脂組成物。 - 金属酸化物粒子を含む無機充填剤と、カップリング剤とを更に含有し、
前記金属酸化物粒子に対する前記カップリング剤の割合は、0.01重量%以上1重量%以下である、
請求項1から5のいずれか一項に記載の半導体封止用樹脂組成物。 - 前記金属酸化物粒子がシリカを含有する、
請求項6に記載の半導体封止用樹脂組成物。 - 半導体チップと、
前記半導体チップを覆い、請求項1から7のいずれか一項に記載の半導体封止用樹脂組成物の硬化物である封止樹脂と、
を備える、
半導体パッケージ。 - 基板を更に備え、
前記基板の一つの面である搭載面にの前記半導体チップが搭載され、
前記封止樹脂は、前記基板の前記搭載面側で前記半導体チップを覆う、
請求項8に記載の半導体パッケージ。 - 前記封止樹脂にマーキングが施されている、
請求項8又は9に記載の半導体パッケージ。
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