JPWO2019035398A1 - Optical film, polarizing plate, and image display device - Google Patents

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Abstract

本発明の一の態様によれば、アクリル系樹脂を含む基材１１と、バインダ樹脂１２Ａおよび複数の粒子１２Ｂを含むハードコート層１２と、ハードコート層１２に密着した機能層１３とをこの順に備える光学フィルム１０であって、基材１１とハードコート層１２の間に設けられ、樹脂を含む下地層１４を備え、光学フィルム１０のヘイズ値が１．０％以下である、光学フィルム１０が提供される。According to one aspect of the present invention, a base material 11 containing an acrylic resin, a hard coat layer 12 containing a binder resin 12A and a plurality of particles 12B, and a functional layer 13 adhered to the hard coat layer 12 are provided in this order. An optical film 10 comprising: an optical film 10 provided between a base material 11 and a hard coat layer 12, comprising an underlayer 14 containing a resin, and having a haze value of 1.0% or less. Provided.

Description

関連出願の参照Reference to related applications

本願は、先行する日本国出願である特願２０１７−１５６７２８（出願日：２０１７年８月１５日）の優先権の利益を享受するものであり、その開示内容全体は引用することにより本明細書の一部とされる。 This application enjoys the benefit of the priority of Japanese Patent Application No. 2017-156728 (filing date: August 15, 2017), which is a prior Japanese application, and the entire disclosure thereof is incorporated herein by reference. Be part of.

本発明は、光学フィルム、偏光板、および画像表示装置に関する。 The present invention relates to an optical film, a polarizing plate, and an image display device.

液晶ディスプレイ等の画像表示装置の画像表示面には、通常、傷付き防止や外光の反射防止のために光学フィルムが設けられている。光学フィルムとしては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材と、バインダ樹脂およびシリカ粒子を含むハードコート層と、外光の反射防止機能等を有する機能層とをこの順で備えているものがある（特開２０１４−９５８２０号公報参照）。 An image display surface of an image display device such as a liquid crystal display is usually provided with an optical film for preventing scratches and reflection of external light. As the optical film, for example, one having a triacetyl cellulose (TAC) base material, a hard coat layer containing a binder resin and silica particles, and a functional layer having an external light reflection preventing function and the like in this order. (See JP-A-2014-95820).

機能層がハードコート層に密着している光学フィルムにおいては、光が照射されている状況下で、水分が存在すると、ハードコート層と機能層との間で界面剥離が生じやすいという問題がある。特に、ハードコート層は樹脂を含む有機層であるので、機能層が無機層である場合には、ハードコート層と機能層との間の界面は異種界面（有機／無機界面）となるので、界面剥離を生じやすい。 In the optical film in which the functional layer is in close contact with the hard coat layer, there is a problem that interface peeling easily occurs between the hard coat layer and the functional layer in the presence of water under the condition of being irradiated with light. .. In particular, since the hard coat layer is an organic layer containing a resin, when the functional layer is an inorganic layer, the interface between the hard coat layer and the functional layer is a heterogeneous interface (organic/inorganic interface). Interface peeling easily occurs.

ハードコート層と機能層との間の界面剥離を抑制する観点からは、光学フィルムの透湿度は低い方が望ましいので、現在、このようなことから、ＴＡＣ基材の代わりに、ＴＡＣ基材よりも透湿度が低いアクリル樹脂基材を用いることが考えられている。 From the viewpoint of suppressing interfacial peeling between the hard coat layer and the functional layer, it is desirable that the moisture permeability of the optical film be low. It is considered to use an acrylic resin base material having low moisture permeability.

しかしながら、アクリル系樹脂基材にハードコート層を直接形成すると、ハードコート層および機能層の間の界面剥離を抑制できるものの、光学フィルムの透明性が失われてしまうおそれがある。これは、ＴＡＣ基材では見られない現象である。 However, if the hard coat layer is directly formed on the acrylic resin substrate, the interface peeling between the hard coat layer and the functional layer can be suppressed, but the transparency of the optical film may be lost. This is a phenomenon not seen with TAC substrates.

本発明は、上記問題を解決するためになされたものである。すなわち、ハードコート層と機能層との間の界面剥離を抑制でき、かつ優れた透明性を有する光学フィルムならびにこれを備えた偏光板および画像表示装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems. That is, it is an object of the present invention to provide an optical film capable of suppressing interfacial peeling between a hard coat layer and a functional layer and having excellent transparency, a polarizing plate and an image display device including the optical film.

本発明の一の態様によれば、アクリル系樹脂を含む基材と、バインダ樹脂および複数の粒子を含むハードコート層と、前記ハードコート層に密着した機能層とをこの順に備える光学フィルムであって、前記基材と前記ハードコート層の間に設けられ、樹脂を含む下地層を備え、前記光学フィルムのヘイズ値が、１．０％以下である、光学フィルムが提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided an optical film including a base material containing an acrylic resin, a hard coat layer containing a binder resin and a plurality of particles, and a functional layer in close contact with the hard coat layer in this order. Thus, an optical film is provided, which is provided between the base material and the hard coat layer, includes an underlayer containing a resin, and has a haze value of 1.0% or less.

上記光学フィルムにおいて、前記粒子が、前記バインダ樹脂における前記機能層側の面から突出しており、突出した前記粒子が前記機能層に接していてもよい。 In the above optical film, the particles may project from the surface of the binder resin on the functional layer side, and the projected particles may be in contact with the functional layer.

上記光学フィルムにおいて、前記機能層が、無機層であってもよい。 In the above optical film, the functional layer may be an inorganic layer.

上記光学フィルムにおいて、前記ハードコート層に含まれる前記粒子が、無機粒子であってもよい。 In the above optical film, the particles contained in the hard coat layer may be inorganic particles.

上記光学フィルムにおいて、前記バインダ樹脂が、リン元素を含んでいてもよい。 In the optical film, the binder resin may contain a phosphorus element.

本発明の他の態様によれば、上記光学フィルムと、前記光学フィルムの前記基材における前記下地層側の第１の面とは反対側の第２の面側に設けられた偏光子と、を備える、偏光板が提供される。 According to another aspect of the present invention, the optical film, a polarizer provided on the second surface side opposite to the first surface of the base layer side of the base material of the optical film, A polarizing plate is provided.

本発明の他の態様によれば、上記光学フィルムまたは上記偏光板を備える、画像表示装置が提供される。 According to another aspect of the present invention, there is provided an image display device including the optical film or the polarizing plate.

本発明の一の態様によれば、ハードコート層と機能層との間の界面剥離を抑制でき、かつ優れた透明性を有する光学フィルムを提供することができる。また、本発明の他の態様によれば、このような光学フィルムを備える偏光板および画像表示装置を提供することができる。 According to one aspect of the present invention, it is possible to provide an optical film that can suppress interfacial peeling between a hard coat layer and a functional layer and that has excellent transparency. Further, according to another aspect of the present invention, it is possible to provide a polarizing plate and an image display device including such an optical film.

実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the optical film which concerns on embodiment. 図１に示される光学フィルムの一部の拡大図である。It is a partially expanded view of the optical film shown in FIG. 実施形態に係る偏光板の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the polarizing plate which concerns on embodiment. 実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an image display device according to an embodiment. 実施例１におけるハードコート層の表面写真である。4 is a surface photograph of the hard coat layer in Example 1. 比較例１におけるハードコート層の表面写真である。6 is a surface photograph of a hard coat layer in Comparative Example 1. 実施例１に係る光学フィルムの断面写真である。3 is a cross-sectional photograph of the optical film according to Example 1.

以下、本発明の実施形態に係る光学フィルム、偏光板および画像表示装置について、図面を参照しながら説明する。本明細書において、「フィルム」、「シート」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム」はシートとも呼ばれるような部材も含む意味で用いられる。図１は本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図であり、図２は図１に示される光学フィルムの一部の拡大図であり、図３は本実施形態に係る偏光板の概略構成図であり、図４は本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。 Hereinafter, an optical film, a polarizing plate and an image display device according to embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present specification, terms such as “film” and “sheet” are not distinguished from each other based only on the difference in designation. Therefore, for example, the "film" is used to include a member also called a sheet. 1 is a schematic configuration diagram of an optical film according to the present embodiment, FIG. 2 is an enlarged view of a part of the optical film shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a polarizing plate according to the present embodiment. 4 is a schematic configuration diagram of the image display device according to the present embodiment.

＜＜＜光学フィルム＞＞＞
図１に示される光学フィルム１０は、アクリル系樹脂を含む基材１１と、バインダ樹脂１２Ａおよび複数の粒子１２Ｂを含むハードコート層１２と、ハードコート層１２に密着した機能層１３とをこの順で備えている。光学フィルム１０は、基材１１とハードコート層１２との間に設けられ、かつ樹脂を含む下地層１４をさらに備えている。図１に示される下地層１４は、基材１１およびハードコート層１２の両方に密着している。なお、下地層とハードコート層の間に１以上の層を備えていてもよく、基材と機能層との間は下地層とハードコート層の２層構造のみならず、３層以上の構造となっていてもよい。３層以上の構造としては、例えば、基材側から、下地層、ハードコート層、下地層、ハードコート層をこの順で備える４層構造が挙げられる。<<<optical film>>>
The optical film 10 shown in FIG. 1 comprises a base material 11 containing an acrylic resin, a hard coat layer 12 containing a binder resin 12A and a plurality of particles 12B, and a functional layer 13 adhered to the hard coat layer 12 in this order. Prepared for. The optical film 10 further includes a base layer 14 provided between the base material 11 and the hard coat layer 12 and containing a resin. The underlayer 14 shown in FIG. 1 is in close contact with both the base material 11 and the hard coat layer 12. It should be noted that one or more layers may be provided between the underlayer and the hard coat layer, and not only the two-layer structure of the underlayer and the hard coat layer but also the three or more layers between the base material and the functional layer. May be. Examples of the structure having three or more layers include a four-layer structure including a base layer, a hard coat layer, a base layer, and a hard coat layer in this order from the base material side.

光学フィルム１０においては、ヘイズ値（全ヘイズ値）が、１．０％以下となっている。光学フィルム１０のヘイズ値が１．０％以下であれば、優れた透明性を得ることができる。光学フィルム１０のヘイズ値は、０．９％以下であることが好ましく、０．８％以下であることが最も好ましい。 In the optical film 10, the haze value (total haze value) is 1.0% or less. When the haze value of the optical film 10 is 1.0% or less, excellent transparency can be obtained. The haze value of the optical film 10 is preferably 0.9% or less, and most preferably 0.8% or less.

上記ヘイズ値は、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に準拠した方法により測定することができる。上記ヘイズ値は、光学フィルムを５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した後、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とする。本明細書における「３回測定する」とは、同じ場所を３回測定するのではなく、異なる３箇所を測定することを意味するものとする。光学フィルム１０においては、目視した表面１０Ａは平坦であり、かつハードコート層１２等の積層する層も平坦であり、また膜厚のばらつきも±１５％の範囲内に収まる。したがって、切り出した光学フィルムの異なる３箇所でヘイズ値を測定することで、おおよその光学フィルムの面内全体のヘイズ値の平均値が得られると考えられる。ヘイズ値のばらつきは、測定対象が１ｍ×３０００ｍと長尺であっても、５インチのスマートフォン程度の大きさであっても、±１０％以内である。なお、光学フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、例えば、ＨＭ−１５０は測定する際の入口開口が２０ｍｍφであるので、直径２１ｍｍ以上となるようなサンプル大きさが必要になる。このため、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の大きさに光学フィルムを適宜切り出してもよい。光学フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３箇所にする。 The haze value can be measured by a method according to JIS K7136:2000 using a haze meter (product name “HM-150”, manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.). The haze value was measured by cutting the optical film into a size of 50 mm×50 mm, setting it without curling or wrinkling, and without fingerprints, dust, etc., and measuring 3 times for one optical film. The arithmetic mean of the values obtained by measuring twice is used. In the present specification, “measuring three times” means not measuring three times at the same place but measuring three different places. In the optical film 10, the visually observed surface 10A is flat, the layers to be laminated such as the hard coat layer 12 are also flat, and the variation in the film thickness is within ±15%. Therefore, it is considered that by measuring the haze value at three different positions of the cut out optical film, an approximate average haze value of the entire in-plane of the optical film can be obtained. The variation in haze value is within ±10% regardless of whether the measurement target is as long as 1 m×3000 m or the size of a 5-inch smartphone. If the optical film cannot be cut into the above size, for example, since the HM-150 has an entrance opening of 20 mmφ for measurement, a sample size of 21 mm or more is required. Therefore, the optical film may be appropriately cut into a size of 22 mm×22 mm or more. When the size of the optical film is small, the measurement points are set at three points by gradually shifting or changing the angle within a range in which the light source spot does not deviate.

光学フィルム１０においては、全光線透過率が、８５％以上であることが好ましい。光学フィルム１０の全光線透過率が８０％以上であれば、充分な光透過性を得ることができる。光学フィルム１０の全光線透過率は、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが最も好ましい。 In the optical film 10, the total light transmittance is preferably 85% or more. When the total light transmittance of the optical film 10 is 80% or more, sufficient light transmittance can be obtained. The total light transmittance of the optical film 10 is more preferably 88% or more, and most preferably 90% or more.

上記全光線透過率は、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠した方法により測定することができる。上記全光線透過率は、光学フィルムを５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した後、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均値とする。光学フィルム１０においては、目視した表面１０Ａは平坦であり、かつハードコート層１２等の積層する層も平坦であり、また膜厚のばらつきも±１５％の範囲内に収まる。したがって、切り出した光学フィルムの異なる３箇所で全光線透過率を測定することで、おおよその光学フィルムの面内全体の全光線透過率の平均値が得られると考えられる。全光線透過率のばらつきは、測定対象が１ｍ×３０００ｍと長尺であっても、５インチのスマートフォン程度の大きさであっても、±１０％以内である。なお、光学フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の大きさに光学フィルムを適宜切り出してもよい。光学フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３箇所にする。 The total light transmittance can be measured by a method according to JIS K7361-1:1997 using a haze meter (product name "HM-150", manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.). The above-mentioned total light transmittance is measured three times for one optical film after cutting the optical film into a size of 50 mm×50 mm, setting it without curling or wrinkling, and without fingerprints or dust. The arithmetic mean of the values obtained by measuring three times is used. In the optical film 10, the visually observed surface 10A is flat, the layers to be laminated such as the hard coat layer 12 are also flat, and the variation in the film thickness is within ±15%. Therefore, by measuring the total light transmittance at three different positions of the cut out optical film, it is considered that an approximate average value of the total light transmittance over the entire surface of the optical film can be obtained. The variation of the total light transmittance is within ±10% regardless of whether the measurement target is as long as 1 m×3000 m or the size of a 5-inch smartphone. If the optical film cannot be cut into the above size, the optical film may be cut into a size of 22 mm×22 mm or more as appropriate. When the size of the optical film is small, the measurement points are set at three points by gradually shifting or changing the angle within a range in which the light source spot does not deviate.

光学フィルム１０の表面１０Ａ（機能層１３の表面）は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で測定されたときの硬度（鉛筆硬度）が、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましい。鉛筆硬度試験は、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムをガラス板上に折れやシワがないようニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定し、光学フィルムの表面に対し鉛筆硬度試験機（製品名「鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機（電動式）」、株式会社東洋精機製作所製）を用いて、鉛筆（製品名「ユニ」、三菱鉛筆株式会社製）に５００ｇの荷重を加えながら鉛筆を１ｍｍ／秒の移動速度で移動させることにより行うものとする。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上光学フィルムの表面に傷が付かなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかったと判断する。上記傷は、鉛筆硬度試験を行った光学フィルムの表面を蛍光灯下で透過観察して視認されるものを指す。 The surface 10A (the surface of the functional layer 13) of the optical film 10 preferably has a hardness (pencil hardness) of 2H or more when measured by a pencil hardness test defined in JIS K5600-5-4:1999. It is more preferably 3H or more. In the pencil hardness test, an optical film cut into a size of 50 mm×50 mm is fixed on a glass plate with Cellotape (registered trademark) manufactured by Nichiban Co., Ltd. so that there is no breakage or wrinkles, and the pencil hardness test is performed on the surface of the optical film. Using a machine (product name "pencil scratch coating hardness tester (electric type)" (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.), add a load of 500 g to a pencil (product name "Uni", manufactured by Mitsubishi Pencil Co., Ltd.) Meanwhile, the pencil is moved at a moving speed of 1 mm/sec. The pencil hardness is the highest hardness that does not scratch the surface of the optical film in the pencil hardness test. When measuring the pencil hardness, a plurality of pencils having different hardness are used. However, the pencil hardness test is performed 5 times for each pencil, and the surface of the optical film is scratched 4 times or more out of 5 times. If not, it is judged that the surface of the optical film was not scratched by the pencil of this hardness. The scratches are visible when the surface of the optical film that has been subjected to the pencil hardness test is observed by transmission under a fluorescent lamp.

光学フィルム１０においては、４０℃、相対湿度９０％での水蒸気透過率（WVTR：Water Vapor Transmission Rate）が１００ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下となっていることが好ましい。光学フィルム１０の上記水蒸気透過率が１００ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下となっていることにより、ハードコート層１２と機能層１３の間の界面剥離をより抑制できる。水蒸気透過率はＪＩＳ Ｋ７１２９：２００８に準拠した手法で得られる数値である。水蒸気透過率は、水蒸気透過率測定装置（製品名「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３１」、ＭＯＣＯＮ社製）を用いて、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムに対して３回測定を行い、３回測定して得られた値の算術平均値とする。光学フィルム１０の上記水蒸気透過率は、８０ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることがより好ましく、６０ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることが最も好ましい。In the optical film 10, the water vapor transmission rate (WVTR) at 40° C. and 90% relative humidity is preferably 100 g/(m 2 ·24 h) or less. When the water vapor transmission rate of the optical film 10 is 100 g/(m 2 ·24 h) or less, interfacial peeling between the hard coat layer 12 and the functional layer 13 can be further suppressed. The water vapor transmission rate is a numerical value obtained by a method based on JIS K7129:2008. The water vapor transmission rate was measured three times using an apparatus for measuring water vapor transmission rate (product name "PERMATRAN-W3/31", manufactured by MOCON) on an optical film cut into a size of 10 cm in length and 10 cm in width. The arithmetic mean value of the values obtained by measuring three times is used. The water vapor transmission rate of the optical film 10 is more preferably 80 g/(m 2 ·24 h) or less, and most preferably 60 g/(m 2 ·24 h) or less.

光学フィルム１０の用途は、特に制限されず、例えば、ノートパーソナルコンピュータ等を含むパーソナルコンピュータ（ＰＣ）、スマートフォン、タブレット端末、ウェアラブル端末、デジタルサイネージ、テレビジョン等の画像表示装置が挙げられる。 The use of the optical film 10 is not particularly limited, and examples thereof include personal computers (PC) including notebook personal computers, smartphones, tablet terminals, wearable terminals, digital signage, and image display devices such as televisions.

光学フィルム１０は、所望の大きさにカットされていてもよいが、ロール状であってもよい。光学フィルム１０が所望の大きさにカットされている場合、光学フィルムの大きさは、特に制限されず、用途（例えば、画像表示装置に用いられる場合には、画像表示装置の表示面の大きさ）に応じて適宜決定される。具体的には、光学フィルム１０の大きさは、例えば、１インチ以上５００インチ以下となっていてもよく、２．８インチ以上５００インチ以下となっていてもよい。本明細書における「インチ」とは、光学フィルムが四角形状である場合には対角線の長さを意味し、円形状である場合には直径を意味し、楕円形状である場合には、短径と長径の和の平均値を意味するものとする。ここで、光学フィルムが四角形状である場合、上記インチを求める際の光学フィルムの縦横比は、画像表示装置の表示面として問題がなければ特に限定されない。例えば、縦：横＝１：１、４：３、１６：１０、１６：９、２：１等が挙げられる。ただし、特に、デザイン性に富む車載用途やデジタルサイネージにおいては、このような縦横比に限定されない。また、光学フィルム１０の大きさが大きい場合には、任意の位置からＡ５サイズ（１４８ｍｍ×２１０ｍｍ）に切り出した後、各測定項目の大きさに切り出すものとする。 The optical film 10 may be cut into a desired size, or may be roll-shaped. When the optical film 10 is cut to a desired size, the size of the optical film is not particularly limited, and it is used (for example, when used in an image display device, the size of the display surface of the image display device). ). Specifically, the size of the optical film 10 may be, for example, 1 inch or more and 500 inches or less, or may be 2.8 inches or more and 500 inches or less. In the present specification, "inch" means the length of a diagonal line when the optical film has a quadrangular shape, the diameter when the optical film has a circular shape, and the minor axis when the optical film has an elliptical shape. And mean the major axis. Here, when the optical film has a quadrangular shape, the aspect ratio of the optical film when determining the inch is not particularly limited as long as there is no problem as the display surface of the image display device. For example, length:width=1:1, 4:3, 16:10, 16:9, 2:1 and the like. However, in particular, in an in-vehicle application and a digital signage which are rich in designability, the aspect ratio is not limited to this. When the size of the optical film 10 is large, it is cut out to an A5 size (148 mm×210 mm) from an arbitrary position and then cut out to the size of each measurement item.

＜＜基材＞＞
基材１１は、アクリル系樹脂を含む。アクリル樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸、またはその誘導体等の単量体を重合して得られる樹脂が挙げられる。これらの中でも、透明性および耐候性の観点から、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、メタクリル酸メチル単位を主構成成分とする共重合体、およびスチレン−メタクリル酸メチル共重合体が好ましい。基材１１は、アクリル系樹脂の他、他の樹脂や添加剤等を含んでいてもよい。<<Substrate>>
The base material 11 includes an acrylic resin. Examples of the acrylic resin include resins obtained by polymerizing monomers such as (meth)acrylic acid ester, acrylamide, acrylonitrile, (meth)acrylic acid, or derivatives thereof. Among these, polymethyl methacrylate (PMMA), a copolymer having a methyl methacrylate unit as a main constituent, and a styrene-methyl methacrylate copolymer are preferable from the viewpoint of transparency and weather resistance. The base material 11 may include other resins, additives, etc. in addition to the acrylic resin.

基材１１の厚みは、２０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましい。基材１１の厚みが、２０μｍ以上であれば、しわが発生することなく、優れた鉛筆硬度を有する光学フィルムを得ることができ、また基材１１の厚みが、２００μｍ以下であれば、ロールで取り扱うことが可能な柔軟性が得られる。基材の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、基材の断面を撮影し、その断面の画像において基材の厚みを２０箇所測定し、その２０箇所の膜みの算術平均値を求めることによって求めることができる。基材１１の厚みの下限は、２０μｍ以上、３０μｍ以上、４０μｍ以上であることがより好ましく（数値が大きいほど好ましく）、上限は、２００μｍ以下、１２０μｍ以下、８０μｍ以下であることがより好ましい（数値が小さいほど好ましい）。基材１１の厚みのバラツキは、２０％以下、１５％以下、１０％以下であることが好ましい（数値が小さいほど好ましい）。 The thickness of the base material 11 is preferably 20 μm or more and 200 μm or less. When the thickness of the base material 11 is 20 μm or more, an optical film having excellent pencil hardness can be obtained without wrinkling, and when the thickness of the base material 11 is 200 μm or less, it can be rolled. It provides the flexibility to handle. As for the thickness of the base material, a cross section of the base material is photographed using a scanning electron microscope (SEM), the thickness of the base material is measured at 20 points in the image of the cross section, and the arithmetic mean value of the film thickness at the 20 points is measured. Can be obtained by asking for. The lower limit of the thickness of the base material 11 is more preferably 20 μm or more, 30 μm or more, 40 μm or more (the larger the numerical value, the more preferable), and the upper limit is more preferably 200 μm or less, 120 μm or less, 80 μm or less (the numerical value Is smaller the better). The variation in the thickness of the base material 11 is preferably 20% or less, 15% or less, and 10% or less (the smaller the value, the better).

＜＜ハードコート層＞＞
ハードコート層１２は、バインダ樹脂１２Ａおよび複数の粒子１２Ｂを含む。ハードコート層１２は、バインダ樹脂１２Ａおよび粒子１２Ｂの他、紫外線吸収剤、レベリング剤、シランカップリング剤等の成分を含んでいてもよい。<<Hard coat layer>>
The hard coat layer 12 includes a binder resin 12A and a plurality of particles 12B. The hard coat layer 12 may include components such as an ultraviolet absorber, a leveling agent, and a silane coupling agent, in addition to the binder resin 12A and the particles 12B.

ハードコート層１２は、単層構造となっているが、２層以上の多層構造であってもよい。本明細書における「ハードコート層」とは、光透過性を有し、かつマルテンス硬度が、基材のマルテンス硬度よりも高い層を意味するものとする。本明細書において、「マルテンス硬度」とは、ナノインデンテーション法による硬度測定により、圧子を５００ｎｍ押込んだときの硬度である。上記ナノインデンテーション法によるマルテンス硬度の測定は、光学フィルムにおいてＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて行うものとする。すなわち、以下の測定条件で、上記圧子としてバーコビッチ圧子（三角錐）をハードコート層の断面中央に５００ｎｍ押し込み、一定保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐｍａｘ（μＮ）と深さ５００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ２）とを用い、Ｐｍａｘ／Ａにより、マルテンス硬度を算出する。マルテンス硬度は、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とする。基材のマルテンス硬度も上記と同様の方法によって測定するものとする。
（測定条件）
・荷重速度：１０ｎｍ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：１０ｎｍ／秒
・測定温度：２５℃The hard coat layer 12 has a single-layer structure, but may have a multi-layer structure of two or more layers. In the present specification, the “hard coat layer” means a layer having a light-transmitting property and a Martens hardness higher than that of the substrate. In the present specification, the “Martens hardness” is the hardness when the indenter is pushed in 500 nm by the hardness measurement by the nanoindentation method. The measurement of the Martens hardness by the above-mentioned nanoindentation method shall be performed using "TI950 TriboIndenter" manufactured by HYSITRON (Heiditron) for optical films. That is, under the following measurement conditions, a Berkovich indenter (triangular pyramid) was pushed into the center of the cross section of the hard coat layer as the above indenter by 500 nm, and the residual stress was relaxed by holding it constant and then unloading to remove the maximum after relaxation. The load is measured, and the Martens hardness is calculated from P max /A using the maximum load P max (μN) and the recess area A (nm 2 ) at a depth of 500 nm. The Martens hardness is the arithmetic average value of the values obtained by measuring 10 points. The Martens hardness of the substrate is also measured by the same method as above.
(Measurement condition)
・Load speed: 10 nm/sec ・Holding time: 5 sec ・Load unloading speed: 10 nm/sec ・Measuring temperature: 25°C

ハードコート層１２の膜厚は、１μｍ以上２０μｍ以下となっていることが好ましい。ハードコート層１２の膜厚が、１μｍ以上であれば、充分な硬度を維持することができ、また２０μｍ以下であれば、厚みが厚すぎることに起因して加工性が悪化するおそれもない。ハードコート層１２の下限は２μｍ以上であることがより好ましく（数値が大きいほど好ましく）、上限は１０μｍ以下、９μｍ以下、８μｍ以下であることがより好ましい（数値が小さいほど好ましい）。ハードコート層１２の膜厚のバラツキは、５０％以下、４０％以下、３０％以下であることが好ましい（数値が小さいほど好ましい）。 The thickness of the hard coat layer 12 is preferably 1 μm or more and 20 μm or less. If the film thickness of the hard coat layer 12 is 1 μm or more, sufficient hardness can be maintained, and if it is 20 μm or less, there is no fear that the workability will be deteriorated due to the excessive thickness. The lower limit of the hard coat layer 12 is more preferably 2 μm or more (the larger the numerical value, the more preferable), and the upper limit is more preferably 10 μm or less, 9 μm or less, 8 μm or less (the smaller the numerical value, the more preferable). The variation in the film thickness of the hard coat layer 12 is preferably 50% or less, 40% or less, and 30% or less (the smaller the value, the more preferable).

ハードコート層の膜厚は、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、ハードコート層の断面を撮影し、その断面の画像においてハードコート層の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とする。具体的な断面写真の撮影方法を以下に記載する。まず、１５ｍｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを樹脂板に固定して、ミクロトームＥＭ ＵＣ６（ライカ マイクロシステムズ株式会社製）でトリミング幅３００μｍ、高さ８０μｍに切り出した後、さらにＤｉＡＴＯＭＥ ダイヤモンドナイフ ＵＬＴＲＡにより厚さ方向に切削していき、穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出す。切片の作製には、ウルトラミクロトーム ＥＭ ＵＣ７（ライカ マイクロシステムズ株式会社）等を用いてもよい。そして、この穴等がない均一な切片が切り出された残りのブロックを測定サンプルとする。測定サンプルは、一般的に行われている樹脂に包含させる方法で作成してもよい。その後、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）（製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影する。上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＴＥ」、加速電圧を「５ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行う。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら５０００〜２０万倍で適宜調節する。なお、上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、さらに、アパーチャーを「ビームモニタ絞り３」にし、対物レンズ絞りを「３」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にしてもよい。ハードコート層の膜厚を測定する際には、断面観察した折に、ハードコート層と他の層（例えば、下地層）との界面コントラストが可能な限り明確に観察できることが重要となる。仮に、コントラスト不足でこの界面が見え難い場合には、四酸化オスミウム、四酸化ルテニウム、リンタングステン酸など染色処理を施すと、有機層間の界面が見やすくなるので、染色処理を行ってもよい。また、界面のコントラストは高倍率である方が分かりにくい場合がある。その場合には、低倍率も同時に観察する。例えば、２．５万倍と５万倍や、５万倍と１０万倍など、高低の２つの倍率で観察し、両倍率で上記した算術平均値を求め、さらにその平均値をハードコート層の膜厚の値とする。 The film thickness of the hard coat layer is determined by photographing a cross section of the hard coat layer using a scanning transmission electron microscope (STEM), a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM), and measuring the image of the cross section. The film thickness of the hard coat layer is measured at 20 points, and the arithmetic mean value of the film thickness at the 20 points is taken. A specific method of taking a cross-sectional photograph will be described below. First, an optical film cut out to a size of 15 mm×10 mm is fixed to a resin plate, cut out to a trimming width of 300 μm and a height of 80 μm with a Microtome EM UC6 (manufactured by Leica Microsystems Co., Ltd.), and then further cut with a DiATOME diamond knife ULTRA. By cutting in the direction, uniform slices having a thickness of 70 nm or more and 100 nm or less without holes are cut out. Ultramicrotome EM UC7 (Leica Microsystems, Inc.) or the like may be used for the preparation of the slice. Then, the remaining block obtained by cutting out a uniform section having no hole or the like is used as a measurement sample. The measurement sample may be prepared by a commonly used method of incorporating it in a resin. After that, a cross-sectional photograph of the measurement sample is taken using a scanning transmission electron microscope (STEM) (product name “S-4800”, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). When taking a cross-sectional photograph using the above S-4800, the cross section is observed with the detector set to "TE", the acceleration voltage set to "5 kV", and the emission current set to "10 µA". Regarding the magnification, the focus is adjusted, and the contrast and brightness are appropriately adjusted at 5000 to 200,000 times while observing whether each layer can be distinguished. When taking a cross-sectional photograph using the S-4800, the aperture is set to "beam monitor diaphragm 3", the objective lens diaphragm is set to "3", and W. D. May be “8 mm”. When measuring the film thickness of the hard coat layer, it is important to be able to observe the interface contrast between the hard coat layer and another layer (for example, an underlayer) as clearly as possible when observing the cross section. If the interface is difficult to see due to insufficient contrast, the interface between the organic layers can be easily seen by dyeing with osmium tetroxide, ruthenium tetroxide, phosphotungstic acid, or the like, so the dyeing may be performed. In addition, it may be difficult to understand the interface contrast when the magnification is high. In that case, the low magnification is also observed. For example, observation is performed at two magnifications, high and low, such as 25,000 times and 50,000 times or 50,000 times and 100,000 times, and the arithmetic mean value described above is obtained at both magnifications. Value of the film thickness.

＜バインダ樹脂＞
バインダ樹脂１２Ａは、重合性化合物（硬化性化合物）の重合体（硬化物）を含む。重合性化合物は、分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものであり、電離放射線で重合する電離放射線重合性化合物および熱で重合する熱重合性化合物のいずれであってもよい。重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。また、電離放射線としては、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線が挙げられる。<Binder resin>
The binder resin 12A contains a polymer (cured product) of a polymerizable compound (curable compound). The polymerizable compound has at least one polymerizable functional group in the molecule, and may be either an ionizing radiation-polymerizable compound that is polymerized by ionizing radiation or a heat-polymerizable compound that is polymerized by heat. Examples of the polymerizable functional group include ethylenically unsaturated groups such as (meth)acryloyl group, vinyl group and allyl group. The “(meth)acryloyl group” is meant to include both “acryloyl group” and “methacryloyl group”. Examples of the ionizing radiation include visible rays, ultraviolet rays, X rays, electron rays, α rays, β rays, and γ rays.

重合性化合物としては、重合性モノマー、重合性オリゴマー、および重合性プレポリマーが挙げられる。 Examples of the polymerizable compound include a polymerizable monomer, a polymerizable oligomer, and a polymerizable prepolymer.

重合性モノマーとしては、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。上記多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ、カプロラクトン等で変性したものが挙げられる。 A polyfunctional (meth)acrylate is preferable as the polymerizable monomer. Examples of the polyfunctional (meth)acrylate include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri( (Meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate , Ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, tripentaerythritol octa(meth)acrylate, tetrapentaerythritol deca(meth)acrylate, isocyanuric acid tri(meth)acrylate, isocyanuric acid di(meth) ) Acrylate, polyester tri(meth)acrylate, polyester di(meth)acrylate, bisphenol di(meth)acrylate, diglycerin tetra(meth)acrylate, adamantyl di(meth)acrylate, isobornyl di(meth)acrylate, dicyclopentane di( Examples thereof include (meth)acrylate, tricyclodecanedi(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, and those obtained by modifying these with PO, EO, caprolactone or the like.

これらの中でも上述したマルテンス硬度を好適に満たし得ることから、３〜６官能のものが好ましく、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート等が好ましい。なお、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートを意味する。 Among these, 3- to 6-functional ones are preferable because they can suitably satisfy the above-mentioned Martens hardness, and examples thereof include pentaerythritol triacrylate (PETA), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), and pentaerythritol tetraacrylate (PETTA). , Dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA), trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tripentaerythritol octa(meth)acrylate, tetrapentaerythritol deca(meth)acrylate and the like are preferable. In addition, in this specification, (meth)acrylate means an acrylate and a methacrylate.

なお、硬度や組成物の粘度調整、密着性の改善等のために、更に単官能（メタ）アクリレートモノマーを含んでいてもよい。上記単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）、グリシジルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシエチルサクシネート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、およびアダマンチルアクリレート等が挙げられる。 In addition, a monofunctional (meth)acrylate monomer may be further contained in order to adjust the hardness and the viscosity of the composition, improve the adhesion, and the like. Examples of the monofunctional (meth)acrylate monomer include hydroxyethyl acrylate (HEA), glycidyl methacrylate, methoxy polyethylene glycol (meth)acrylate, isostearyl (meth)acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinate, acryloylmorpholine, and N. -Acryloyloxyethyl hexahydrophthalimide, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofuryl acrylate, isobornyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, adamantyl acrylate and the like.

重合性オリゴマーまたは重合性プレポリマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、ポリフルオロアルキル（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーが挙げられる。これら重合性オリゴマーまたは重合性プレポリマーは、１種又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。 Examples of the polymerizable oligomer or polymerizable prepolymer include urethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, melamine (meth)acrylate, polyfluoroalkyl (meth)acrylate, and silicone (meth)acrylate. Included are oligomers or prepolymers. These polymerizable oligomers or polymerizable prepolymers may be used alone or in combination of two or more.

上記重合性モノマーの重量平均分子量は、ハードコート層の硬度を向上させる観点から、１０００未満が好ましく、２００以上８００以下がより好ましい。また、上記重合性オリゴマーの重量平均分子量は、１０００以上２万以下であることが好ましく、１０００以上１万以下であることがより好ましく、２０００以上７０００以下であることが更に好ましい。本明細書において、「重量平均分子量」は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算により得られる値である。 From the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer, the weight average molecular weight of the polymerizable monomer is preferably less than 1000, more preferably 200 or more and 800 or less. The weight average molecular weight of the polymerizable oligomer is preferably 1,000 or more and 20,000 or less, more preferably 1,000 or more and 10,000 or less, and even more preferably 2,000 or more and 7,000 or less. In the present specification, the “weight average molecular weight” is a value obtained by dissolving in a solvent such as tetrahydrofuran (THF) and converting into polystyrene by a conventionally known gel permeation chromatography (GPC) method.

バインダ樹脂１２Ａは、リン（Ｐ）元素を含むことが好ましい。バインダ樹脂１２Ａがリン元素を含むことにより、バインダ樹脂１２Ａと粒子１２Ｂとの密着性を高めることができる。バインダ樹脂１２Ａにリン元素が含まれるか否かは、ＸＰＳ（Ｘ−Ｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）、またはＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いることによって確認することができる。 The binder resin 12A preferably contains a phosphorus (P) element. Since the binder resin 12A contains the phosphorus element, the adhesiveness between the binder resin 12A and the particles 12B can be enhanced. Whether or not the binder resin 12A contains a phosphorus element can be confirmed by using XPS (X-Ray Photoelectron Spectroscopy) or ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis).

バインダ樹脂１２Ａがリン（Ｐ）元素を含む場合、ハードコート層１２の第１の面１２Ｃにおける元素比率は、リンが０．１％以上であることが好ましい。第１の面１２Ｃの元素比率においてリンが０．１％以上であれば、ハードコート層１２と機能層１３との密着性をさらに向上させることができる。ハードコート層の第１の面における元素比率は、ＸＰＳまたはＥＳＣＡによって求めることができる。上記元素比率におけるリンの下限は、０．３％以上であることがより好ましく、上限は、塗工時のリンを含む成分の凝集によるヘイズ上昇抑制の観点から、１０％以下が好ましい。 When the binder resin 12A contains a phosphorus (P) element, the element ratio of the first surface 12C of the hard coat layer 12 is preferably 0.1% or more of phosphorus. When phosphorus is 0.1% or more in the element ratio of the first surface 12C, the adhesion between the hard coat layer 12 and the functional layer 13 can be further improved. The element ratio on the first surface of the hard coat layer can be determined by XPS or ESCA. The lower limit of phosphorus in the above element ratio is more preferably 0.3% or more, and the upper limit is preferably 10% or less from the viewpoint of suppressing haze increase due to aggregation of components containing phosphorus during coating.

リン元素は、リン酸系モノマーを用いることによってバインダ樹脂１２Ａ中に含有させることができる。リン酸系モノマーは、リン酸基および重合性官能基を含んでいる。リン酸系モノマーとしては、例えば、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、ジメチルホスフェートエチルアクリレート、ジエチルホスフェートエチルアクリレート、２−アクリロイルオキシエチルリン酸、ビスアクリロイルオキシエチルホスフェート、トリスアクリロイルオキシエチルホスフェート、２−メタクリロイルオキシエチルリン酸、ビスメタクリロイルオキシエチルホスフェート、エトキシ化リン酸トリ（メタ）アクリレートが挙げられる。リン酸系モノマーのリン酸基が粒子に水素結合により相互作用するとともに、リン酸系モノマーの重合性官能基が重合性化合物と結合することによってバインダ樹脂１２Ａと粒子１２Ｂとの密着性を向上させることができるので、ハードコート層１２と機能層１３との間の界面剥離をより抑制できる。 The phosphorus element can be contained in the binder resin 12A by using a phosphoric acid-based monomer. The phosphoric acid-based monomer contains a phosphoric acid group and a polymerizable functional group. Examples of the phosphoric acid-based monomer include ethylene oxide-modified phosphoric acid (meth)acrylate, ethylene oxide-modified phosphoric acid di(meth)acrylate, dimethyl phosphate ethyl acrylate, diethyl phosphate ethyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl phosphoric acid, and bisacryloyl. Examples thereof include oxyethyl phosphate, trisacryloyloxyethyl phosphate, 2-methacryloyloxyethyl phosphate, bismethacryloyloxyethyl phosphate and ethoxylated phosphoric tri(meth)acrylate. The phosphoric acid group of the phosphoric acid-based monomer interacts with the particles by hydrogen bonding, and the polymerizable functional group of the phosphoric acid-based monomer bonds with the polymerizable compound to improve the adhesiveness between the binder resin 12A and the particles 12B. Therefore, the interface peeling between the hard coat layer 12 and the functional layer 13 can be further suppressed.

＜粒子＞
粒子１２Ｂは、無機粒子および有機粒子のいずれであってもよいが、優れた硬度を得る観点から、無機粒子であることが好ましい。無機粒子としては、特に限定されないが、より優れた硬度を得る観点から、シリカ粒子が好ましい。<Particles>
The particles 12B may be either inorganic particles or organic particles, but are preferably inorganic particles from the viewpoint of obtaining excellent hardness. The inorganic particles are not particularly limited, but silica particles are preferable from the viewpoint of obtaining more excellent hardness.

粒子１２Ｂが無機粒子であり、かつ機能層１３が無機層である場合、図２に示されるように、少なくとも一部の粒子１２Ｂはハードコート層１２における機能層１３側の第１の面１２Ｃに露出しており、露出している粒子１２Ｂは機能層１３に直接密着していることが好ましい。露出している粒子１２Ｂが機能層１３に直接密着することによって、粒子１２Ｂと機能層１３との間の界面が無機／無機界面となるので、ハードコート層１２と機能層１３との密着性をより向上させることができる。本明細書における「露出」とは、粒子においてバインダ樹脂によって覆われていない部分が存在することを意味する。粒子がハードコート層における機能層側の面に露出しているか否かは、ハードコート層の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）や透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することによって確認することができる。なお、ハードコート層の断面出しの手法としては、表面・界面切削試験装置（ＳＡＩＣＡＳ）による斜め切断やミクロトームによる切削等が利用できる。また、カッターやミクロトーム等による切断で光学フィルムの断面を出し、断面が出された状態の光学フィルムに対してキセノン耐侯試験機を用いて長時間試験環境で曝露させた後に追加で湿熱環境に晒したり、またはアルコール等の溶媒を断面近傍に作用させることにより強制的に機能層を剥離し、機能層を剥離した状態で粒子がハードコート層の表面に露出しているか観察してもよい。 When the particles 12B are inorganic particles and the functional layer 13 is an inorganic layer, at least a part of the particles 12B is present on the first surface 12C of the hard coat layer 12 on the functional layer 13 side, as shown in FIG. It is preferable that the exposed particles 12B are in direct contact with the functional layer 13. Since the exposed particles 12B directly adhere to the functional layer 13, the interface between the particles 12B and the functional layer 13 becomes an inorganic/inorganic interface, so that the adhesion between the hard coat layer 12 and the functional layer 13 is improved. It can be further improved. The term “exposed” as used herein means that there is a portion of the particle that is not covered with the binder resin. Whether or not the particles are exposed on the surface of the hard coat layer on the functional layer side can be confirmed by observing the cross section of the hard coat layer with a scanning electron microscope (SEM) or a transmission electron microscope (TEM). it can. As a method for obtaining a cross section of the hard coat layer, oblique cutting by a surface/interface cutting tester (SAICAS), cutting by a microtome, or the like can be used. In addition, a cross section of the optical film is exposed by cutting with a cutter or a microtome, and the exposed optical film is exposed in a test environment for a long time using a xenon weather resistance tester and then additionally exposed to a humid heat environment. Alternatively, the functional layer may be forcibly peeled off by allowing a solvent such as alcohol to act in the vicinity of the cross section, and whether the particles are exposed on the surface of the hard coat layer may be observed in the state where the functional layer is peeled off.

後述するように下地層１４によって粒子１２Ｂの凝集を抑制できるが、ハードコート層１２の第１の面１２Ｃを平面視したとき、粒子１２Ｂは凝集していないことが好ましい。本明細書における「粒子が凝集していない」とは、ハードコート層の断面を観察した場合に観察される粒子の全個数に対する、互いに隣り合う粒子の粒子間距離がそれらの粒径の１／２よりも短い距離で密集して３個以上の粒子と互いに隣接して塊状になっている粒子の個数の割合が５０％以下であることを意味するものとする。 Although the underlayer 14 can suppress the aggregation of the particles 12B as described below, it is preferable that the particles 12B are not aggregated when the first surface 12C of the hard coat layer 12 is viewed in a plan view. In the present specification, "the particles are not aggregated" means that the distance between the particles adjacent to each other is 1/of the particle diameter with respect to the total number of particles observed when the cross section of the hard coat layer is observed. It is meant that the ratio of the number of particles densely packed at a distance shorter than 2 and agglomerated with three or more particles adjacent to each other is 50% or less.

無機粒子は、球形粒子であってもよいが、異形粒子であることが好ましい。球形粒子と異形粒子とを混合させてもよい。上記異形粒子は、その表面積が球形粒子と比較して大きいため、このような異形粒子を含有することで、上記重合性化合物との接触面積が大きくなり、上記ハードコート層の硬度を向上させることができる。ハードコート層に含まれている粒子が異形粒子であるか否かは、ハードコート層の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）で観察することによって確認することができる。なお、本明細書における「球形粒子」とは、例えば、真球状、楕円球状等の粒子を意味し、また、「異形粒子」とは、ジャガイモ状（断面観察時のアスペクト比が１．２以上４０以下）のランダムな凹凸を表面に有する形状の粒子を意味する。 The inorganic particles may be spherical particles, but are preferably irregularly shaped particles. Spherical particles and irregularly shaped particles may be mixed. Since the surface area of the irregularly shaped particles is larger than that of the spherical particles, by containing such irregularly shaped particles, the contact area with the polymerizable compound is increased and the hardness of the hard coat layer is improved. You can Whether or not the particles contained in the hard coat layer are irregular particles can be confirmed by observing the cross section of the hard coat layer with a transmission electron microscope (TEM) or a scanning transmission electron microscope (STEM). it can. In addition, the "spherical particle" in the present specification means, for example, a particle having a perfect sphere shape, an elliptic sphere shape, or the like, and "atypical particle" has a potato shape (an aspect ratio of 1.2 or more when observing a cross section). 40 or less) means a particle having a shape having random irregularities on the surface.

粒子１２Ｂの平均一次粒径は、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。粒子１２Ｂの平均一次粒径が５ｎｍ以上であれば、粒子を容易に製造することができ、また２００ｎｍ以下であれば、ハードコート層１２に大きな凹凸が形成されることもない。粒子が球形粒子の場合には、粒子の平均粒径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した粒子の断面の画像から２０個の粒子の粒径を測定し、２０個の粒子の粒径の算術平均値とする。また、粒子が異形粒子である場合には、粒子の平均一次粒径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影したハードコート層の断面の画像から粒子の外周の２点間距離の最大値（長径）と最小値（短径）とを測定し、平均して一次粒径を求め、２０個の粒子の一次粒径の算術平均値とする。 The average primary particle diameter of the particles 12B is preferably 5 nm or more and 200 nm or less. When the average primary particle diameter of the particles 12B is 5 nm or more, the particles can be easily manufactured, and when the average primary particle diameter is 200 nm or less, large irregularities are not formed on the hard coat layer 12. When the particles are spherical particles, the average particle size of the particles is 20 particles from the image of the cross section of the particles taken by using a transmission electron microscope (TEM) or a scanning transmission electron microscope (STEM). Is measured to obtain the arithmetic mean value of the particle diameters of 20 particles. When the particles are irregularly shaped particles, the average primary particle size of the particles is determined from the image of the cross section of the hard coat layer taken by using a transmission electron microscope (TEM) or a scanning transmission electron microscope (STEM). The maximum value (major axis) and the minimum value (minor axis) of the distance between the two points on the outer circumference of are measured and averaged to obtain the primary particle diameter, which is the arithmetic average value of the primary particle diameters of 20 particles.

粒子１２Ｂの大きさ及び配合量を制御することでハードコート層１２の硬度（マルテンス硬度）を制御できる。例えば、粒子１２Ｂは直径が５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である場合、粒子１２Ｂの含有量は、上記重合性化合物１００質量部に対して、２５質量部以上６０質量部以下であることが好ましい。 The hardness (Martens hardness) of the hard coat layer 12 can be controlled by controlling the size and blending amount of the particles 12B. For example, when the diameter of the particles 12B is 5 nm or more and 200 nm or less, the content of the particles 12B is preferably 25 parts by mass or more and 60 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound.

無機粒子としてシリカ粒子を用いる場合、シリカ粒子は、反応性シリカ粒子であってもよい。上記反応性シリカ粒子は、上記重合性化合物との間で架橋構造を構成することが可能なシリカ粒子であり、この反応性シリカ粒子を含有することで、ハードコート層１２の硬度を充分に高めることができる。 When silica particles are used as the inorganic particles, the silica particles may be reactive silica particles. The reactive silica particles are silica particles capable of forming a cross-linked structure with the polymerizable compound, and by containing the reactive silica particles, the hardness of the hard coat layer 12 is sufficiently increased. be able to.

上記反応性シリカ粒子は、その表面に反応性官能基を有することが好ましく、該反応性官能基とてしては、例えば、上記の重合性官能基が好適に用いられる。 The reactive silica particles preferably have a reactive functional group on the surface thereof, and as the reactive functional group, for example, the above polymerizable functional group is preferably used.

上記反応性シリカ粒子としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、例えば、特開２００８−１６５０４０号公報記載の反応性シリカ粒子等が挙げられる。また、上記反応性シリカ粒子の市販品としては、例えば、ＭＩＢＫ−ＳＤ、ＭＩＢＫ−ＳＤ−ＭＳ、ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ、ＭＩＢＫ−ＳＤ−ＺＬ（いずれも、日産化学工業株式会社製）やＶ８８０２、Ｖ８８０３（いずれも、日揮触媒化成株式会社製）等が挙げられる。 The reactive silica particles are not particularly limited, and conventionally known ones can be used, and examples thereof include the reactive silica particles described in JP-A-2008-165040. Examples of commercially available reactive silica particles include MIBK-SD, MIBK-SD-MS, MIBK-SD-L, MIBK-SD-ZL (both manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and V8802. V8803 (all manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) and the like can be mentioned.

＜紫外線吸収剤＞
紫外線吸収剤は、紫外線を吸収する機能を有している。紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、及び、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等が挙げられる。<Ultraviolet absorber>
The ultraviolet absorber has a function of absorbing ultraviolet rays. The ultraviolet absorber is not particularly limited, but examples of the ultraviolet absorber include a triazine-based ultraviolet absorber, a benzophenone-based ultraviolet absorber, and a benzotriazole-based ultraviolet absorber.

上記トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、および２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２’−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。市販されているトリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ４６０、４７７（いずれもＢＡＳＦジャパン株式会社社製）等が挙げられる。 Examples of the triazine-based ultraviolet absorber include 2-(2-hydroxy-4-[1-octyloxycarbonylethoxy]phenyl)-4,6-bis(4-phenylphenyl)-1,3,5-triazine. , 2-[4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl)oxy]-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine, 2 ,4-Bis[2-hydroxy-4-butoxyphenyl]-6-(2,4-dibutoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2-[4-[(2-hydroxy-3-tridecyl Oxypropyl)oxy]-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine, and 2-[4-[(2-hydroxy-3-(2 '-Ethyl)hexyl)oxy]-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine and the like can be mentioned. Examples of commercially available triazine-based ultraviolet absorbers include TINUVIN 460 and 477 (all manufactured by BASF Japan Ltd.).

＜レベリング剤＞
レベリング剤とは、ハードコート層１２の表面張力が不均一となることによって生じる、ハジキ、凹み、ピンホール、ユズハダ等の欠陥を防止し、表面を滑らかにする添加剤を意味する。レベリング剤は、特に限定されないが、ポリエーテル基、ポリウレタン基、エポキシ基、カルボキシル基、アクリレート基、メタクリレート基、カルビノール基又は水酸基を有する化合物等が挙げられる。上記レベリング剤は、ポリエーテル基、ポリウレタン基、エポキシ基、カルボキシル基、アクリレート基、メタクリレート基、カルビノール基又は水酸基を主鎖の末端（片末端、両末端）に有していてもよく、側鎖に有していてもよく、主鎖の末端及び側鎖に有していてもよい。レベリング剤としては、ポリエーテル基、ポリウレタン基、エポキシ基、カルボキシル基、アクリレート基、メタクリレート基、カルビノール基又は水酸基を有する化合物であれば、特に限定されず、例えば、シリコーン系、フッ素系、シリコーン／フッ素混合系、アクリル系、メタクリル系、芳香族系のレベリング剤を挙げることができる。<Leveling agent>
The leveling agent means an additive which prevents defects such as cissing, dents, pinholes, and soldering caused by uneven surface tension of the hard coat layer 12 and smoothes the surface. The leveling agent is not particularly limited, and examples thereof include compounds having a polyether group, a polyurethane group, an epoxy group, a carboxyl group, an acrylate group, a methacrylate group, a carbinol group or a hydroxyl group. The leveling agent may have a polyether group, a polyurethane group, an epoxy group, a carboxyl group, an acrylate group, a methacrylate group, a carbinol group or a hydroxyl group at the ends of the main chain (one end, both ends), the side It may be contained in the chain, or may be contained in the terminal and side chains of the main chain. The leveling agent is not particularly limited as long as it is a compound having a polyether group, a polyurethane group, an epoxy group, a carboxyl group, an acrylate group, a methacrylate group, a carbinol group or a hydroxyl group, and examples thereof include silicone-based, fluorine-based, and silicone. /Fluorine mixed type, acrylic type, methacrylic type and aromatic type leveling agents can be mentioned.

市販されているシリコーン系レベリング剤としては、例えば、ＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４６、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、ＢＹＫ−３５１０、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０等（いれずれも、ビックケミージャパン株式会社製）のポリエステル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。 Examples of commercially available silicone leveling agents include BYK-300, BYK-302, BYK-306, BYK-307, BYK-320, BYK-325, BYK-330, BYK-331, BYK-333, BYK. -337, BYK-341, BYK-344, BYK-345, BYK-346, BYK-348, BYK-377, BYK-378, BYK-UV3500, BYK-3510, BYK-UV3570, etc. Polyester-modified silicone oil manufactured by Japan Co., Ltd., and the like.

＜シランカップリング剤＞
シランカップリング剤は、反応性官能基および加水分解性基を有する有機ケイ素化合物である。反応性官能基は、多官能電離放射線重合性化合物等と反応し得る基であり、反応性官能基としては、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、アミノ基、ウレイド基、チオール基、スルフィド基およびイソシアネート基からなる群から選択される１種以上の官能基が挙げられる。これらの中でも、下地層１４との密着性の観点から、（メタ）アクリロイル基が好ましい。<Silane coupling agent>
The silane coupling agent is an organosilicon compound having a reactive functional group and a hydrolyzable group. The reactive functional group is a group capable of reacting with a polyfunctional ionizing radiation-polymerizable compound or the like, and as the reactive functional group, a vinyl group, an epoxy group, a styryl group, a (meth)acryloyl group, an amino group, a ureido group, One or more functional groups selected from the group consisting of thiol groups, sulfide groups and isocyanate groups can be mentioned. Among these, the (meth)acryloyl group is preferable from the viewpoint of adhesion to the underlayer 14.

加水分解性基は、加水分解でシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）とアルコールを生じることの可能な基であり、加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルケニルオキシ基、カルバモイル基、アミノ基、アミノオキシ基、ケトキシメート基等があげられる。加水分解性基が炭素原子を有する場合には、その炭素数は６以下であることが好ましく、４以下であることがより好ましい。特に、炭素数４以下のアルコキシ基またはアルケニルオキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることが特に好ましい。 The hydrolyzable group is a group capable of producing a silanol group (Si-OH) and an alcohol by hydrolysis, and examples of the hydrolyzable group include a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, an alkenyloxy group, Examples thereof include a carbamoyl group, an amino group, an aminooxy group and a ketoximate group. When the hydrolyzable group has a carbon atom, the carbon number thereof is preferably 6 or less, more preferably 4 or less. Particularly, an alkoxy group or an alkenyloxy group having 4 or less carbon atoms is preferable, and a methoxy group or an ethoxy group is particularly preferable.

シランカップリング剤の具体例としては、例えば、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。市販されているシランカップリング剤としては、例えば、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＲ−５１３（いずれも、信越化学工業株式会社製）などが挙げられる。 Specific examples of the silane coupling agent include, for example, 3-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltriethoxysilane and 3 -Acryloyloxypropyltriethoxysilane and the like. Examples of commercially available silane coupling agents include KBM-5103, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503, and KR-513 (all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). To be

＜＜機能層＞＞
機能層１３は、光学フィルム１０において、何らかの機能を発揮する層である。機能層１３は、有機層および無機層のいずれであってもよい。機能層１３が有機層である場合には、機能層１３は塗布法によって形成することができ、また機能層１３が無機層である場合、スパッタリング法やＣＶＤ法等の蒸着法によって形成することができる。<< functional layer >>
The functional layer 13 is a layer that exhibits some function in the optical film 10. The functional layer 13 may be either an organic layer or an inorganic layer. When the functional layer 13 is an organic layer, the functional layer 13 can be formed by a coating method, and when the functional layer 13 is an inorganic layer, it can be formed by a vapor deposition method such as a sputtering method or a CVD method. it can.

機能層１３としては、特に限定されないが、例えば、反射防止層、密着性向上層、バリア層、導電層、防眩層、帯電防止層、防汚層、またはこれらの組み合わせが挙げられる。機能層は、単層構造であってもよいが、多層構造であってもよい。機能層１３は、多層構造となっている。具体的には、図１に示されるように、機能層１３は、密着性向上層１３Ａと反射防止層１３Ｂから構成されていてもよい。 The functional layer 13 is not particularly limited, but examples thereof include an antireflection layer, an adhesion improving layer, a barrier layer, a conductive layer, an antiglare layer, an antistatic layer, an antifouling layer, or a combination thereof. The functional layer may have a single layer structure or a multilayer structure. The functional layer 13 has a multilayer structure. Specifically, as shown in FIG. 1, the functional layer 13 may be composed of an adhesion improving layer 13A and an antireflection layer 13B.

機能層１３の膜厚は、１０ｎｍ以上２μｍ以下となっていることが好ましい。機能層１３の膜厚が、１０ｎｍ以上であれば、所望の機能を発揮させることができ、また２μｍ以下であれば、機能層１３の成膜時の残留応力による破損や温度変化や湿度変化による膨張率差による剥離などを抑制することができる。機能層の膜厚は、ハードコート層の膜厚と同様の方法によって測定することができる。機能層１３の膜厚の下限は２０ｎｍ以上、４０ｎｍ以上、８０ｎｍ以上であることがより好ましく（数値が大きいほど好ましい）、上限は１μｍ以下、９００ｎｍ以下、８００ｎｍ以下であることがより好ましい（数値が小さいほど好ましい）。なお、機能層が多層構造である場合には、機能層の膜厚は、各層の合計の膜厚とする。機能層１３の膜厚のバラツキは、１５％以下、１０％以下、７％以下であることが好ましい（数値が小さいほど好ましい）。 The film thickness of the functional layer 13 is preferably 10 nm or more and 2 μm or less. If the film thickness of the functional layer 13 is 10 nm or more, a desired function can be exhibited, and if it is 2 μm or less, damage due to residual stress during film formation of the functional layer 13 or temperature change or humidity change may occur. It is possible to suppress peeling due to a difference in expansion coefficient. The film thickness of the functional layer can be measured by the same method as the film thickness of the hard coat layer. The lower limit of the film thickness of the functional layer 13 is more preferably 20 nm or more, 40 nm or more, 80 nm or more (the larger the value, the more preferable), and the upper limit is more preferably 1 μm or less, 900 nm or less, 800 nm or less (the numerical value is Smaller is preferable). When the functional layer has a multi-layer structure, the film thickness of the functional layer is the total film thickness of each layer. The variation in the film thickness of the functional layer 13 is preferably 15% or less, 10% or less, and 7% or less (the smaller the value, the more preferable).

＜密着性向上層＞
密着性向上層１３Ａは、ハードコート層１２と反射防止層１３Ｂとの間の密着性を向上させる機能を有する層である。密着性向上層１３Ａの一方の面はハードコート層１２の第１の面１２Ｃに密着しており、他方の面は反射防止層１３Ｂに密着している。<Adhesion improving layer>
The adhesion improving layer 13A is a layer having a function of improving the adhesion between the hard coat layer 12 and the antireflection layer 13B. One surface of the adhesion improving layer 13A is in close contact with the first surface 12C of the hard coat layer 12, and the other surface is in close contact with the antireflection layer 13B.

密着性向上層１３Ａの膜厚は、１５ｎｍ以下となっていることが好ましい。密着性向上層１３Ａの膜厚が、１５ｎｍ以下であれば、光学特性に影響なく密着性向上の効果を得ることができる。密着性向上層の膜厚は、ハードコート層の膜厚と同様の方法によって測定するものとする。密着性向上層１３Ａの膜厚の下限は、確実に密着性向上の効果を得る観点から、５ｎｍ以上であることが好ましい。 The film thickness of the adhesion improving layer 13A is preferably 15 nm or less. When the thickness of the adhesion improving layer 13A is 15 nm or less, the effect of improving the adhesion can be obtained without affecting the optical characteristics. The film thickness of the adhesion improving layer shall be measured by the same method as the film thickness of the hard coat layer. The lower limit of the film thickness of the adhesion improving layer 13A is preferably 5 nm or more from the viewpoint of reliably obtaining the effect of improving the adhesion.

密着性向上層１３Ａは、無機層となっている。具体的には、密着性向上層１３Ａは、ＳｉＮｘ等の金属窒化物、あるいはＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２）やＣｒＯｘ（ｘ＝１〜２）等の金属酸化物から構成されている。The adhesion improving layer 13A is an inorganic layer. Specifically, the adhesion improving layer 13A is composed of a metal nitride such as SiN x or a metal oxide such as SiO x (x=1 to 2) or CrO x (x=1 to 2). ..

密着性向上層１３Ａの形成方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長（ＰＶＤ）法や化学気相成長（ＣＶＤ）法を用いることができる。密着性向上層１３Ａが無機系材料から構成されている場合には、密着性向上層の形成方法としては、スパッタリング法もしくはＣＶＤ法が好適である。 As a method for forming the adhesion improving layer 13A, for example, a physical vapor deposition (PVD) method such as a sputtering method or an ion plating method or a chemical vapor deposition (CVD) method can be used. When the adhesion improving layer 13A is made of an inorganic material, a sputtering method or a CVD method is suitable as a method for forming the adhesion improving layer.

＜反射防止層＞
反射防止層１３Ｂは、外光反射を抑制する機能を有する層である。反射防止層１３Ｂは、無機層となっている。反射防止層が多層構造となっている場合、反射防止層は、低屈折率層、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層の積層構造となっていてもよい。<Antireflection layer>
The antireflection layer 13B is a layer having a function of suppressing reflection of external light. The antireflection layer 13B is an inorganic layer. When the antireflection layer has a multilayer structure, the antireflection layer may have a laminated structure of a low refractive index layer, a high refractive index layer, a low refractive index layer, and a high refractive index layer.

高屈折率層は、屈折率が、低屈折率層の屈折率よりも高い層であり、各層の屈折率は、各層の欠片を切り出し等によりそれぞれ１０個取り出し、取り出した１０個の欠片において、ベッケ法により各層の屈折率をそれぞれ測定し、測定した各層の屈折率の１０個の平均値として求めることができる。ベッケ法とは、屈折率が既知の屈折率標準液を用い、上記欠片をスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に屈折率標準液を滴下し、屈折率標準液で欠片を浸漬し、その様子を顕微鏡観察によって観察し、強化部の表面と屈折率標準液の屈折率が異なることによって各層の表面に生じる輝線（ベッケ線）が目視で観察できなくなる屈折率標準液の屈折率を、各層の屈折率とする方法である。 The high refractive index layer is a layer whose refractive index is higher than the refractive index of the low refractive index layer, and the refractive index of each layer is obtained by cutting out 10 pieces of each layer by cutting out the pieces of each layer, etc. The refractive index of each layer is measured by the Becke method, and the average value of 10 measured refractive indexes of each layer can be obtained. The Becke method uses a refractive index standard solution with a known refractive index, put the above-mentioned piece on a slide glass, drop the refractive index standard solution on the sample, and dip the piece in the refractive index standard solution, Observing with a microscope, the bright line (Becke line) generated on the surface of each layer due to the difference in refractive index between the surface of the strengthened part and the refractive index standard solution cannot be visually observed. This is a method of setting the refractive index.

低屈折率層の屈折率は、１．４５以下であることが好ましい。低屈折率層の屈折率の下限は、１．４０以下であることがより好ましく、１．３８以下であることがさらに好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．５０以上２．００以下であってもよい。高屈折率層の屈折率の下限は１．５５以上であることが好ましく、高屈折率層の屈折率の上限は１．７５以下であることが好ましい。 The low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.45 or less. The lower limit of the refractive index of the low refractive index layer is more preferably 1.40 or less, and further preferably 1.38 or less. The high refractive index layer may have a refractive index of 1.50 or more and 2.00 or less. The lower limit of the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 or more, and the upper limit of the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.75 or less.

低屈折率層の膜厚は、２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。高屈折率層の膜厚は、２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。低屈折率層や高屈折率層の膜厚は、密着性向上層１３Ａの膜厚と同様の方法によって測定することができる。 The thickness of the low refractive index layer is preferably 20 nm or more and 500 nm or less. The film thickness of the high refractive index layer is preferably 20 nm or more and 500 nm or less. The film thickness of the low refractive index layer and the high refractive index layer can be measured by the same method as the film thickness of the adhesion improving layer 13A.

＜バリア層＞
バリア層は、水分や酸素の透過を抑制する機能を有する層である。バリア層の形成材料としては、バリア性が得られるものであれば特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素や酸化アルミニウム等の無機酸化物や金属等の無機系材料が挙げられる。<Barrier layer>
The barrier layer is a layer having a function of suppressing permeation of moisture and oxygen. The material for forming the barrier layer is not particularly limited as long as it has a barrier property, and examples thereof include inorganic oxides such as silicon oxide and aluminum oxide, and inorganic materials such as metals.

バリア層の膜厚は、特に限定されないが、０．０１μｍ以上１μｍ以下であることが好ましい。バリア層の膜厚が０．０１μｍ以上であれば、バリア層のバリア性能が十分に得られ、また１μｍ以下であれば、バリア層のクラック等によりバリア性能の劣化を抑制できる。バリア層の厚みのより好ましい下限は０．０３μｍ以上であり、より好ましい上限は０．５μｍ以下である。 The thickness of the barrier layer is not particularly limited, but is preferably 0.01 μm or more and 1 μm or less. When the thickness of the barrier layer is 0.01 μm or more, the barrier performance of the barrier layer is sufficiently obtained, and when it is 1 μm or less, deterioration of the barrier performance due to cracks in the barrier layer can be suppressed. The more preferable lower limit of the thickness of the barrier layer is 0.03 μm or more, and the more preferable upper limit thereof is 0.5 μm or less.

バリア層の膜厚は、密着性向上層１３Ａの膜厚と同様の方法によって測定することができる。また、バリア層は、単一の層であってもよく、複数の層が積層されたものであってもよい。バリア層が複数層積層されたものである場合、バリア層の膜厚はバリア層を構成する各層の膜厚の合計を意味する。 The film thickness of the barrier layer can be measured by the same method as the film thickness of the adhesion improving layer 13A. Further, the barrier layer may be a single layer or may be a laminate of a plurality of layers. When a plurality of barrier layers are laminated, the film thickness of the barrier layer means the total film thickness of the layers constituting the barrier layer.

バリア層の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長（ＰＶＤ）法や化学気相成長（ＣＶＤ）法を用いることができる。バリア層が無機系材料から構成されている場合には、バリア層の形成方法としては、ＣＶＤ法が好適である。 As a method of forming the barrier layer, for example, a physical vapor deposition (PVD) method such as a sputtering method or an ion plating method or a chemical vapor deposition (CVD) method can be used. When the barrier layer is made of an inorganic material, the CVD method is suitable as the method for forming the barrier layer.

＜導電層＞
導電層は、導電性を有する層である。導電層は、例えば、無機系の光透過性導電性材料、有機系の光透過性導電性材料、または無機系の光透過性導電性材料と有機系の光透過性導電性材料との混合材料を含む。無機系の光透過性導電性材料としては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛−酸化スズ系、酸化インジウム−酸化スズ系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物やカーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でも透明導電層における透明性と低抵抗の観点から、無機系の光透過性導電性材料料としては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）が好ましい。有機系の透明導電性材料としては、導電性ポリマー等が挙げられる。<Conductive layer>
The conductive layer is a layer having conductivity. The conductive layer is, for example, an inorganic light-transmitting conductive material, an organic light-transmitting conductive material, or a mixed material of an inorganic light-transmitting conductive material and an organic light-transmitting conductive material. including. Examples of the inorganic light-transmitting conductive material include tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), zinc oxide, indium oxide (In 2 O 3 ), aluminum-doped zinc oxide (AZO), and gallium-doped oxidation. Examples thereof include metal oxides such as zinc (GZO), tin oxide, zinc oxide-tin oxide-based, indium oxide-tin oxide-based, zinc oxide-indium oxide-magnesium oxide-based, and carbon nanotubes. Among these, tin-doped indium oxide (ITO) is preferable as the inorganic light-transmitting conductive material from the viewpoint of transparency and low resistance in the transparent conductive layer. Examples of the organic transparent conductive material include conductive polymers.

導電層の膜厚は、１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下とすることが好ましい。導電層の膜厚は、密着性向上層１３Ａの膜厚と同様の方法によって測定することができる。 The thickness of the conductive layer is preferably 15 nm or more and 50 nm or less. The film thickness of the conductive layer can be measured by the same method as the film thickness of the adhesion improving layer 13A.

導電層の形成方法は、特には限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法、ＣＶＤ法、塗工法、印刷法などを用いることができる。導電層が無機系の光透過性導電性材料から構成されている場合には、導電層の形成方法としては、ＰＶＤ法が好適である。 A method for forming the conductive layer is not particularly limited, and a PVD method such as a sputtering method, a vacuum evaporation method, an ion plating method, a CVD method, a coating method, a printing method, or the like can be used. When the conductive layer is made of an inorganic light-transmitting conductive material, the PVD method is suitable as the method for forming the conductive layer.

＜＜下地層＞＞
下地層１４は、基材１１とハードコート層１２との間に位置し、樹脂を含む層である。また、一次粒径が２００ｎｍ以下の粒子は凝集しやすいので、下地層１４は、実質的に一次粒径が２００ｎｍ以下の粒子を含まないことが好ましい。本明細書における「実質的に一次粒径が２００ｎｍ以下の粒子を含まない」とは、下地層が完全に一次粒径が２００ｎｍ以下の粒子を含んでいないことは勿論のこと、透明性にあまり影響を与えない範囲であれば、下地層が若干量の一次粒径が２００ｎｍ以下の粒子を含んでいてもよいことを意味する。<<Underlayer>>
The base layer 14 is a layer that is located between the base material 11 and the hard coat layer 12 and contains a resin. Further, since particles having a primary particle diameter of 200 nm or less are likely to aggregate, it is preferable that the underlayer 14 contains substantially no particles having a primary particle diameter of 200 nm or less. The phrase "substantially free of particles having a primary particle size of 200 nm or less" in the present specification means that the underlayer does not completely include particles having a primary particle size of 200 nm or less, and the transparency is not so high. This means that the underlayer may contain a small amount of particles having a primary particle size of 200 nm or less as long as it does not affect.

下地層に含まれていてもよい一次粒径が２００ｎｍ以下の粒子の含有量は、具体的には、下地層の断面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察した際に下地層の断面の面積に対する下地層の断面に現れる粒子の面積比が１０％以下であることが好ましく、０％であることがより好ましい。上記断面に現れる粒子が１０％以下であれば、ヘイズ値が低い下地層が得られる。走査電子顕微鏡による下地層の断面写真の撮影の際には、まず、ＥＭジャパン株式会社製のトリミングカミソリで２０ｍｍ×１０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムの両端をニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定して、光学フィルムの大きさが２０ｍｍ×５ｍｍとなるように光学フィルムの中央部において上記トリミングカミソリで光学フィルムをカットし、測定サンプルを得る。そして、垂直なサンプル固定面を有するＳＥＭ試料台のサンプル固定面にカットされた断面が接触しないように測定サンプルをカーボンテープで固定する。その後、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影する。上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＳＥ」、加速電圧を「１．５ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行う。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら１００〜１０万倍、好ましくは下地層の膜厚に応じて１０００倍〜１万倍で適宜調節する。さらに、アパーチャーを「ビームモニタ絞り１」にし、対物レンズ絞りを「２」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にする。 The content of the particles having a primary particle size of 200 nm or less that may be contained in the underlayer is specifically, relative to the area of the cross section of the underlayer when the cross section of the underlayer is observed with a scanning electron microscope (SEM). The area ratio of particles appearing in the cross section of the underlayer is preferably 10% or less, and more preferably 0%. When the particles appearing in the cross section are 10% or less, an underlayer having a low haze value can be obtained. When taking a cross-sectional photograph of the underlayer with a scanning electron microscope, first, both ends of the optical film cut out to a size of 20 mm×10 mm with a trimming razor manufactured by EM Japan Co., Ltd. are used as Nichiban Cellotape (registered trademark). ), the optical film is cut with the trimming razor at the center of the optical film so that the size of the optical film is 20 mm×5 mm, and a measurement sample is obtained. Then, the measurement sample is fixed with a carbon tape so that the cut section does not come into contact with the sample fixing surface of the SEM sample stage having the vertical sample fixing surface. After that, a cross-sectional photograph of the measurement sample is taken using a scanning electron microscope (SEM) (product name “S-4800”, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). When a cross-sectional photograph is taken using the above S-4800, the cross section is observed with the detector set to "SE", the acceleration voltage set to "1.5 kV", and the emission current set to "10 µA". Regarding the magnification, while adjusting the focus and observing whether each layer can be distinguished from each other, the contrast and the brightness are appropriately adjusted to 100 to 100,000 times, preferably 1,000 to 10,000 times according to the thickness of the underlying layer. Further, the aperture is set to "beam monitor diaphragm 1", the objective lens diaphragm is set to "2", and W.I. D. Is set to “8 mm”.

下地層１４は、樹脂以外に、紫外線吸収剤、レベリング剤、シランカップリング剤等の成分を含んでいてもよい。紫外線吸収剤、レベリング剤、シランカップリング剤としては、ハードコート層１２の欄で説明した紫外線吸収剤、レベリング剤、シランカップリング剤を用いることができるので、ここでは説明を省略するものとする。 The underlayer 14 may contain components such as an ultraviolet absorber, a leveling agent, and a silane coupling agent, in addition to the resin. As the ultraviolet absorber, the leveling agent, and the silane coupling agent, the ultraviolet absorber, the leveling agent, and the silane coupling agent described in the section of the hard coat layer 12 can be used, and thus the description thereof is omitted here. ..

下地層１４の膜厚は、１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。下地層１４の膜厚が、１μｍ以上であれば、アクリル系樹脂がハードコート層１２に入り込むことをより抑制でき、また下地層１４の膜厚が、１０μｍ以下であれば、光学フィルム１０の厚みが過度に厚くなることがない。下地層１４の膜厚は、ハードコート層１２の膜厚と同様の方法によって測定することができる。下地層１４の膜厚の下限は、１．５μｍ以上、２．０μｍ以上であることがより好ましく（数値が大きいほど好ましい）、下限は９μｍ以下、８μｍ以下であることがより好ましい（数値が小さいほど好ましい）。下地層１４の膜厚のバラツキは、５０％以下、３０％以下であることが好ましい（数値が小さいほど好ましい）。 The thickness of the underlayer 14 is preferably 1 μm or more and 10 μm or less. When the thickness of the underlayer 14 is 1 μm or more, it is possible to further suppress the acrylic resin from entering the hard coat layer 12, and when the thickness of the underlayer 14 is 10 μm or less, the thickness of the optical film 10. Does not become excessively thick. The film thickness of the underlayer 14 can be measured by the same method as the film thickness of the hard coat layer 12. The lower limit of the thickness of the underlayer 14 is more preferably 1.5 μm or more and 2.0 μm or more (the larger the value is, the more preferable), and the lower limit is more preferably 9 μm or less, 8 μm or less (the smaller the value is small). So much preferable). The variation in the film thickness of the underlayer 14 is preferably 50% or less and 30% or less (the smaller the value, the more preferable).

＜樹脂＞
下地層１４に含まれる樹脂は、重合性化合物（硬化性化合物）の重合体（硬化物）を含む。重合性化合物は、例えば、第１の重合性化合物、または第１の重合性化合物および第２の重合性化合物の両方を含んでいてもよい。第１の重合性化合物は、ハードコート層としての必要な硬度を得るための成分である。第１の重合性化合物としては、ハードコート層の欄１２で説明したと重合性化合物と同様の重合性化合物を用いることができる。具体的には、重合性モノマー、重合性オリゴマー、重合性プレポリマーが挙げられる。また、重合性化合物は、ハードコート層との密着性を向上させる観点から、ハードコート層１２で用いる重合性化合物と同様のものを用いることが好ましい。<Resin>
The resin contained in the underlayer 14 contains a polymer (cured product) of a polymerizable compound (curable compound). The polymerizable compound may include, for example, the first polymerizable compound or both the first polymerizable compound and the second polymerizable compound. The first polymerizable compound is a component for obtaining the hardness required for the hard coat layer. As the first polymerizable compound, the same polymerizable compound as the polymerizable compound described in the column 12 of the hard coat layer can be used. Specific examples include polymerizable monomers, polymerizable oligomers, and polymerizable prepolymers. Further, as the polymerizable compound, from the viewpoint of improving the adhesiveness with the hard coat layer, it is preferable to use the same polymerizable compound as that used in the hard coat layer 12.

第２の重合性化合物は、基材１１に対する密着性を改善するための成分である。第２の重合性化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。下地層１４が第２の重合性化合物を含む場合には、下地層１４と基材１１の密着性が改善されるので、良好なハードコート層密着性が得られる。ここでの「ハードコート層密着性」とは評価方法に関する名称であり、機能層形成前のクロスカット試験により基材からハードコート層、もしくは下地層が基材から剥がれてしまうことを含む。 The second polymerizable compound is a component for improving the adhesion to the base material 11. Examples of the second polymerizable compound include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and benzyl (meth)acrylate. When the underlayer 14 contains the second polymerizable compound, the adhesion between the underlayer 14 and the base material 11 is improved, and thus good hardcoat layer adhesion is obtained. The "hard coat layer adhesion" here is a name relating to the evaluation method and includes that the hard coat layer or the underlayer is peeled from the base material by the cross-cut test before forming the functional layer.

第２の重合性化合物の具体的な配合比率は、全重合性化合物中の１０質量％以上７０質量％以下であることが好ましい。第２の重合性化合物がこの範囲にある場合に良好な鉛筆硬度が維持され、ヘイズ値の上昇を抑制でき、良好な基材密着性、すなわち良好なハードコート層密着性が得られる。第２の重合性化合物の配合比率の下限は全重合性化合物中の２０質量％以上であることがより好ましく、上限は全重合性化合物中の６０質量％以下であることがより好ましい。 The specific blending ratio of the second polymerizable compound is preferably 10% by mass or more and 70% by mass or less based on all the polymerizable compounds. When the second polymerizable compound is in this range, good pencil hardness can be maintained, increase in haze value can be suppressed, and good substrate adhesion, that is, good hard coat layer adhesion can be obtained. The lower limit of the compounding ratio of the second polymerizable compound is more preferably 20% by mass or more in all the polymerizable compounds, and the upper limit is more preferably 60% by mass or less in the entire polymerizable compounds.

＜＜光学フィルムの製造方法＞＞
光学フィルム１０は、以下のようにして作製することができる。まず、基材１１の一方の面上に、バーコーター等の塗布装置によって、下地層用組成物を塗布して、下地層用組成物の塗膜を形成する。<<Optical Film Manufacturing Method>>
The optical film 10 can be manufactured as follows. First, the underlayer composition is applied to one surface of the substrate 11 by a coating device such as a bar coater to form a coating film of the underlayer composition.

＜下地層用組成物＞
下地層用組成物は、下地層１４を形成するための重合性化合物を含んでいる。下地層用組成物は、その他、必要に応じて、紫外線吸収剤、レベリング剤、シランカップリング剤、溶媒、重合開始剤等を含んでいてもよい。<Composition for underlayer>
The composition for the underlayer contains a polymerizable compound for forming the underlayer 14. The composition for the underlayer may further contain an ultraviolet absorber, a leveling agent, a silane coupling agent, a solvent, a polymerization initiator and the like, if necessary.

（溶媒）
溶媒は、例えば、第１の溶媒、または第１の溶媒および第２の溶媒の両方を含んでいてもよい。第１の溶媒は、モノマーを良好に溶解させておき、かつ乾燥工程でムラが生じないように蒸発させるものである。第１の溶媒としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール、ジアセトンアルコール）、エステル（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、蟻酸メチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ））、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、カーボネート（炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチルメチル）等が挙げられる。これらの溶媒、単独で用いられてもよく、２種類以上が併用されてもよい。なかでも、上記第１の溶媒としては、ウレタン（メタ）アクリレート等の成分、並びに、他の添加剤を溶解或いは分散させ、ハードコート層用組成物を好適に塗工できる点で、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。(solvent)
The solvent may include, for example, the first solvent or both the first solvent and the second solvent. The first solvent is a solvent in which the monomer is well dissolved and is evaporated so that unevenness does not occur in the drying step. Examples of the first solvent include alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, s-butanol, t-butanol, benzyl alcohol, PGME, ethylene glycol, diacetone alcohol), esters (methyl acetate, acetic acid). Ethyl, butyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, methyl formate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA)), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, etc.) Carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbon (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol ( Examples include 1-methoxy-2-propanol), carbonates (dimethyl carbonate, diethyl carbonate, ethyl methyl carbonate) and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more kinds. Among them, as the above-mentioned first solvent, propylene glycol monomethyl is preferable because components such as urethane (meth)acrylate and other additives can be dissolved or dispersed to suitably coat the composition for hard coat layer. Ether acetate is preferred.

第２の溶媒は、基材１１との密着性の改善するためのものである。下地層用組成物が実質的に２００ｎｍ以下の粒子を含まなければ、密着改善に改善効果のある第２の溶媒を含んでいてもヘイズ値の上昇を抑制できる。第２の溶媒としては、例えば、γ−ブチロラクトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトンが挙げられる。溶媒全体に対する第２の溶媒の含有量は、１０質量％以上７０質量％以下であることが好ましい。第２の溶媒が１０質量％未満であれば、基材に対して充分な密着性が得られないおそれがあり、また７０質量％を超えると、一定の乾燥時間では乾燥せずに下地層の硬度が不足してしまうおそれがある。第２の溶媒の上記含有量の下限は、２０質量％以上であることがより好ましく、上限は６０質量％以下であることがより好ましい。 The second solvent is for improving the adhesion to the base material 11. If the composition for the underlayer does not substantially contain particles having a particle size of 200 nm or less, an increase in the haze value can be suppressed even if the second solvent, which has an effect of improving adhesion, is included. Examples of the second solvent include ketones such as γ-butyrolactone, cyclohexanone, and cyclopentanone. The content of the second solvent with respect to the entire solvent is preferably 10% by mass or more and 70% by mass or less. If the second solvent is less than 10% by mass, sufficient adhesion to the substrate may not be obtained, and if it exceeds 70% by mass, it does not dry for a certain drying time, and The hardness may be insufficient. The lower limit of the content of the second solvent is more preferably 20% by mass or more, and the upper limit is more preferably 60% by mass or less.

（重合開始剤）
重合開始剤は、電離放射線照射より分解されて、ラジカルを発生して重合性化合物の重合（架橋）を開始または進行させる成分である。(Polymerization initiator)
The polymerization initiator is a component that is decomposed by irradiation with ionizing radiation to generate radicals to initiate or proceed with polymerization (crosslinking) of the polymerizable compound.

重合開始剤は、電離放射線照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。 The polymerization initiator is not particularly limited as long as it can release a substance that initiates radical polymerization upon irradiation with ionizing radiation. The polymerization initiator is not particularly limited and known ones can be used, and specific examples thereof include, for example, acetophenones, benzophenones, Michler benzoyl benzoate, α-amyloxime ester, thioxanthones, propiophenone. And benzyls, benzoins, and acylphosphine oxides. Further, it is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like.

下地層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶媒を蒸発させる。 After forming the coating film of the composition for the underlayer, the coating film is dried by various known methods, for example, by heating at a temperature of 30° C. or higher and 120° C. or lower for 10 seconds to 120 seconds to evaporate the solvent.

塗膜を乾燥させた後、塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、塗膜を硬化（完全硬化）させて、下地層１４を形成する。なお、塗膜を半硬化させてもよい。本明細書における「半硬化」とは、電離放射線をさらに照射すると硬化が実質的に進行することを意味し、「完全硬化」とは、これ以上電離放射線を照射しても硬化が実質的に進行しないことを意味する。 After the coating film is dried, the coating film is irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet rays to cure (completely cure) the coating film to form the base layer 14. The coating film may be semi-cured. In the present specification, "semi-curing" means that curing is substantially progressed by further irradiation with ionizing radiation, and "complete curing" means that the curing is substantially continued even when irradiated with further ionizing radiation. It means not to proceed.

下地層１４を形成した後、下地層１４の表面にハードコート層用組成物を塗布して、ハードコート層用組成物の塗膜を形成する。 After forming the underlayer 14, the composition for the hard coat layer is applied to the surface of the underlayer 14 to form a coating film of the composition for the hard coat layer.

＜ハードコート層用組成物＞
ハードコート層用組成物は、ハードコート層１２を形成するための重合性化合物および粒子１２Ｂを含んでいる。ハードコート層用組成物は、その他、必要に応じて、紫外線吸収剤、レベリング剤、シランカップリング剤、溶媒、重合開始剤を含んでいてもよい。溶媒および重合開始剤は、下地層用組成物の欄で説明した溶媒および重合開始剤と同様のものを用いることができる。<Composition for hard coat layer>
The composition for hard coat layer contains a polymerizable compound for forming the hard coat layer 12 and particles 12B. In addition, the composition for hard coat layer may optionally contain an ultraviolet absorber, a leveling agent, a silane coupling agent, a solvent, and a polymerization initiator. As the solvent and the polymerization initiator, those similar to the solvent and the polymerization initiator described in the section of the composition for the underlayer can be used.

ハードコート層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶媒を蒸発させる。 After forming a coating film of the composition for hard coat layer, the coating film is dried by various known methods, for example, by heating at a temperature of 30° C. or higher and 120° C. or lower for 10 seconds to 120 seconds to evaporate the solvent. ..

塗膜を乾燥させた後、塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、塗膜を硬化（完全硬化）させて、ハードコート層１２を形成する。 After the coating film is dried, the coating film is irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet rays to cure (completely cure) the coating film to form the hard coat layer 12.

ハードコート層１２を形成した後、ハードコート層１２の第１の面１２Ｃに粒子１２Ｂを露出させる。具体的には、ハードコート層１２の表面付近のバインダ樹脂１２Ａを選択的にエッチングして、粒子１２Ｂを露出させる。バインダ樹脂１２Ａを選択的にエッチングする方法としては、例えば、グロー放電処理、プラズマ処理、イオンエッチング処理、アルカリ処理が挙げられる。 After forming the hard coat layer 12, the particles 12B are exposed on the first surface 12C of the hard coat layer 12. Specifically, the binder resin 12A near the surface of the hard coat layer 12 is selectively etched to expose the particles 12B. Examples of the method for selectively etching the binder resin 12A include glow discharge treatment, plasma treatment, ion etching treatment, and alkali treatment.

ハードコート層１２の第１の面１２Ｃに粒子１２Ｂを露出させた後、例えば、スパッタリング法等の蒸着法によって、密着性向上層１３Ａおよび反射防止層１３Ｂを形成して、機能層１３を形成する。これにより、光学フィルム１０が得られる。 After exposing the particles 12B to the first surface 12C of the hard coat layer 12, the adhesion improving layer 13A and the antireflection layer 13B are formed by, for example, a vapor deposition method such as a sputtering method to form the functional layer 13. .. Thereby, the optical film 10 is obtained.

本実施形態によれば、アクリル系樹脂を含む基材１１を用いているので、ＴＡＣ基材に比べて透湿度が低い。このため、ハードコート層１２と機能層１３との間の界面付近に存在する水分を低減できる。これにより、ハードコート層１２と機能層１３との間の界面剥離を抑制できる。 According to this embodiment, since the base material 11 containing the acrylic resin is used, the moisture permeability is lower than that of the TAC base material. Therefore, it is possible to reduce the amount of water existing near the interface between the hard coat layer 12 and the functional layer 13. Thereby, interface peeling between the hard coat layer 12 and the functional layer 13 can be suppressed.

また、本発明者らは、鋭意研究を重ねたところ、アクリル系樹脂基材にハードコート層を直接形成した場合に光学フィルムの透明性が失われてしまうのは、ハードコート層用組成物中の溶媒によってアクリル系樹脂基材中の成分が溶出し、この溶出した成分によってハードコート層用組成物中の一次粒径が２００ｎｍ以下の粒子が凝集してしまうことが原因であることを見出した。本実施形態においては、基材１１とハードコート層１２との間に樹脂からなる下地層１４を設けているので、ハードコート層用組成物中に基材１１中の成分が入り込むことを抑制できる。これにより、粒子１２Ｂの凝集を抑制できるので、光学フィルム１０のヘイズ値が１．０％以下とすることができ、優れた透明性を得ることができる。 Further, the inventors of the present invention have conducted extensive studies and found that the transparency of the optical film is lost when the hard coat layer is directly formed on the acrylic resin substrate in the composition for the hard coat layer. It was found that the cause is that components in the acrylic resin base material are eluted by the solvent of 1. and the eluted components cause aggregation of particles having a primary particle diameter of 200 nm or less in the composition for hard coat layer. .. In the present embodiment, since the base layer 14 made of a resin is provided between the base material 11 and the hard coat layer 12, it is possible to prevent the components in the base material 11 from entering the hard coat layer composition. .. As a result, aggregation of the particles 12B can be suppressed, so that the haze value of the optical film 10 can be 1.0% or less, and excellent transparency can be obtained.

＜＜＜偏光板＞＞＞
光学フィルム１０は、例えば、偏光板に組み込んで使用することができる。なお、本実施形態においては、光学フィルム１０は偏光子用の保護フィルムとして用いられているが、光学フィルム１０の用途は特に限定されない。<<<Polarizing plate>>>
The optical film 10 can be used, for example, by incorporating it in a polarizing plate. In addition, in this embodiment, the optical film 10 is used as a protective film for a polarizer, but the use of the optical film 10 is not particularly limited.

図３に示されるように偏光板２０は、光学フィルム１０と、光学フィルム１０の基材１１における下地層１４側の第１の面１１Ａとは反対側の第２の面１１Ｂ側に設けられた偏光子２１と、偏光子２１における光学フィルム１０側とは反対側に設けられた保護フィルム２２とを備えている。保護フィルム２２は位相差フィルムであってもよい。 As shown in FIG. 3, the polarizing plate 20 is provided on the optical film 10 and the second surface 11B side of the base material 11 of the optical film 10 opposite to the first surface 11A of the base layer 14 side. The polarizer 21 and the protective film 22 provided on the opposite side of the polarizer 21 from the optical film 10 side are provided. The protective film 22 may be a retardation film.

偏光子２１は、ヨウ素または二色性色素により染色し、一軸延伸させたポリビニルアルコール系樹脂フィルムが上げられる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニル系樹脂を鹸化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。 The polarizer 21 is a polyvinyl alcohol resin film dyed with iodine or a dichroic dye and stretched uniaxially. As the polyvinyl alcohol-based resin, a saponified polyvinyl acetate-based resin can be used. Examples of the polyvinyl acetate-based resin include polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, and copolymers of vinyl acetate and another monomer copolymerizable therewith. Examples of other monomers copolymerizable with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, and acrylamides having an ammonium group.

ポリビニルアルコール系樹脂は、変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタール等を用いることもできる。 The polyvinyl alcohol-based resin may be modified, and for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes may be used.

このような光学フィルム１０や偏光板２０は、例えば、画像表示装置に組み込んで使用することが可能である。 Such an optical film 10 and a polarizing plate 20 can be used, for example, by incorporating them in an image display device.

＜＜＜画像表示装置＞＞＞
図４に示されるように、画像表示装置３０は、主に、画像を表示するための表示パネル４０と、表示パネル４０の背面側に配置されたバックライト装置５０とを備えている。本実施形態においては、表示パネル４０が液晶表示パネルであるので、画像表示装置３０はバックライト装置５０を備えているが、表示パネル（表示素子）の種類によってはバックライト装置５０を備えていなくともよい。<<< Image display device >>>
As shown in FIG. 4, the image display device 30 mainly includes a display panel 40 for displaying an image and a backlight device 50 arranged on the back side of the display panel 40. In this embodiment, since the display panel 40 is a liquid crystal display panel, the image display device 30 includes the backlight device 50. However, depending on the type of display panel (display element), the backlight device 50 may not be provided. Good.

＜＜表示パネル＞＞
表示パネル４０は、図４に示されるように、バックライト装置５０側から観察者側に向けて、偏光板４１、光透過性の粘着層４２、表示素子４３、光透過性の粘着層４４、偏光板２０の順に積層された構造を有している。表示パネル４０は、偏光板２０を備えていればよく、偏光板４１等は備えていなくともよい。<<Display panel>>
As shown in FIG. 4, the display panel 40 includes a polarizing plate 41, a light-transmissive adhesive layer 42, a display element 43, and a light-transmissive adhesive layer 44 from the backlight device 50 side toward the viewer side. It has a structure in which the polarizing plate 20 is laminated in this order. The display panel 40 only needs to include the polarizing plate 20, and need not include the polarizing plate 41 and the like.

偏光板４１は、保護フィルム４５、偏光子４６、保護フィルム４７をこの順に備えているものである。保護フィルム４５、４７は、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）やシクロオレフィンポリマーフィルムから構成されている。偏光子４６は、偏光子２１と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。 The polarizing plate 41 includes a protective film 45, a polarizer 46, and a protective film 47 in this order. The protective films 45 and 47 are composed of a triacetyl cellulose film (TAC film) or a cycloolefin polymer film. Since the polarizer 46 is similar to the polarizer 21, the description thereof will be omitted here.

表示素子４３は液晶表示素子である。ただし、表示素子４３は液晶表示素子に限られず、例えば、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、無機発光ダイオード、および／または量子ドット発光ダイオード（ＱＬＥＤ）を用いた表示素子であってもよい。液晶表示素子としては、２枚のガラス基材間に、液晶層、配向膜、電極層、カラーフィルタ等を配置した公知の液晶表示素子を用いることが可能である。 The display element 43 is a liquid crystal display element. However, the display element 43 is not limited to the liquid crystal display element, and may be, for example, a display element using an organic light emitting diode (OLED), an inorganic light emitting diode, and/or a quantum dot light emitting diode (QLED). As the liquid crystal display element, it is possible to use a known liquid crystal display element in which a liquid crystal layer, an alignment film, an electrode layer, a color filter and the like are arranged between two glass substrates.

＜＜バックライト装置＞＞
バックライト装置５０は、表示パネル４０の背面側から表示パネル４０を照明するものである。バックライト装置５０としては、公知のバックライト装置を用いることができ、またバックライト装置５０はエッジライト型や直下型のバックライト装置のいずれであってもよい。<<Backlight device>>
The backlight device 50 illuminates the display panel 40 from the back side of the display panel 40. A publicly known backlight device can be used as the backlight device 50, and the backlight device 50 may be either an edge light type or a direct type backlight device.

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。 The present invention will be described below in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these descriptions.

下記に示す組成となるように各成分を配合して、下地層用組成物を得た。
（下地層用組成物１）
・多官能ウレタンアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：９８質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：８８質量部
・ポリマーアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：１２９質量部
・２−ヒドロキシエチルメタクリレート（第２の重合性化合物、製品名「２−ヒドロキシエチルメタクリレート」、東京化成株式会社製）：２７０質量部
量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３００質量部
・酢酸ブチル（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：１０２質量部
・シクロヘキサノン（第２の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：２８５質量部
・γ−ブチロラクトン（第２の溶媒、三菱ケミカル株式会社製）：１５１質量部Each component was mixed so as to have the composition shown below to obtain a composition for an underlayer.
(Composition 1 for underlayer)
-Polyfunctional urethane acrylate (first polymerizable compound, product name "KAYARAD DPHA-40H", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 98 parts by mass pentaerythritol triacrylate (first polymerizable compound, product name "A"-TMM-3L", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.: 88 parts by mass Polymer acrylate (first polymerizable compound, product name "BS371", manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.): 129 parts by mass 2-hydroxy Ethyl methacrylate (second polymerizable compound, product name "2-hydroxyethyl methacrylate", manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.): 270 parts by mass Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, product name "Irgacure (registered Trademark) 184", manufactured by BASF Japan Ltd.: 36 parts by mass, silicone leveling agent (product name "BYK-377", manufactured by BYK Japan KK): 0.6 parts by mass, triazine-based UV absorber (product) Name "Tinuvin 477", manufactured by BASF Japan Ltd.: 11 parts by mass ・ Silane coupling agent (product name "KR-513", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 43 parts by mass ・ Propylene glycol monomethyl ether acetate (first) Solvent, DNP Fine Chemical Co., Ltd.: 300 parts by mass Butyl acetate (first solvent, DNP Fine Chemical Co., Ltd.): 102 parts by mass Cyclohexanone (second solvent, DNP Fine Chemical Co., Ltd.): 285 parts by mass γ-butyrolactone (second solvent, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation): 151 parts by mass

（下地層用組成物２）
・多官能ウレタンアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：９８質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：８８質量部
・ポリマーアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：１２９質量部
・２−ヒドロキシエチルメタクリレート（第２の重合性化合物、製品名「２−ヒドロキシエチルメタクリレート」、東京化成株式会社製）：２７０質量部
・シリカ粒子分散液（ＢＥＴ法測定による粒径４０ｎｍ〜５０ｎｍ、固形分３０質量％、分散媒イソプロパノール（ＩＰＡ）、製品名「ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ」、日産化学工業株式会社製）：８８９質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３７０質量部
・酢酸ブチル（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：１１５質量部
・シクロヘキサノン（第２の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３５２質量部(Composition 2 for underlayer)
-Polyfunctional urethane acrylate (first polymerizable compound, product name "KAYARAD DPHA-40H", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 98 parts by mass pentaerythritol triacrylate (first polymerizable compound, product name "A"-TMM-3L", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.: 88 parts by mass Polymer acrylate (first polymerizable compound, product name "BS371", manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.): 129 parts by mass 2-hydroxy Ethyl methacrylate (second polymerizable compound, product name "2-hydroxyethyl methacrylate", manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.): 270 parts by mass Silica particle dispersion (particle size 40 nm to 50 nm by BET measurement, solid content 30 mass) %, dispersion medium isopropanol (IPA), product name “IPA-ST-L”, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.: 889 parts by mass Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, product name “Irgacure (registered trademark)” 184", manufactured by BASF Japan Ltd.: 36 parts by mass, silicone-based leveling agent (product name "BYK-377", manufactured by BYK Japan KK): 0.6 parts by mass, triazine-based ultraviolet absorber (product name " Tinuvin 477", manufactured by BASF Japan Ltd.: 11 parts by mass, silane coupling agent (product name "KR-513", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 43 parts by mass, propylene glycol monomethyl ether acetate (first solvent, DNP Fine Chemical Co., Ltd.): 370 parts by mass Butyl acetate (first solvent, DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 115 parts by mass cyclohexanone (second solvent, DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 352 parts by mass

（下地層用組成物３）
・多官能ウレタンアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：１９８質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：２５８質量部
・ポリマーアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：１２９質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３００質量部
・酢酸ブチル（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：１０２質量部
・シクロヘキサノン（第２の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：２８５質量部
・γ−ブチロラクトン（第２の溶媒、三菱ケミカル株式会社製）：１５１質量部(Composition 3 for underlayer)
-Polyfunctional urethane acrylate (first polymerizable compound, product name "KAYARAD DPHA-40H", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 198 parts by mass pentaerythritol triacrylate (first polymerizable compound, product name "A"-TMM-3L", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.: 258 parts by mass, polymer acrylate (first polymerizable compound, product name "BS371", manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.): 129 parts by mass, polymerization initiator (1-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, product name "Irgacure (registered trademark) 184", manufactured by BASF Japan Ltd.): 36 parts by mass Silicone-based leveling agent (product name "BYK-377", manufactured by BYK Japan KK) : 0.6 parts by mass triazine-based ultraviolet absorber (product name "Tinuvin 477", manufactured by BASF Japan Ltd.): 11 parts by mass silane coupling agent (product name "KR-513", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) : 43 parts by mass propylene glycol monomethyl ether acetate (first solvent, manufactured by DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 300 parts by mass butyl acetate (first solvent, manufactured by DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 102 parts by mass cyclohexanone (second) Solvent, manufactured by DNP Fine Chemical Co., Ltd.: 285 parts by mass, γ-butyrolactone (second solvent, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.): 151 parts by mass

（下地層用組成物４）
・多官能ウレタンアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：９８質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：８８質量部
・ポリマーアクリレート（第１の重合性化合物、製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：１２９質量部
・２−ヒドロキシエチルメタクリレート（第２の重合性化合物、製品名「２−ヒドロキシエチルメタクリレート」、東京化成株式会社製）：２７０質量部
量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：５８５質量部
・酢酸ブチル（第１の溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：２５３質量部(Composition 4 for underlayer)
-Polyfunctional urethane acrylate (first polymerizable compound, product name "KAYARAD DPHA-40H", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 98 parts by mass pentaerythritol triacrylate (first polymerizable compound, product name "A"-TMM-3L", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.: 88 parts by mass Polymer acrylate (first polymerizable compound, product name "BS371", manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.): 129 parts by mass 2-hydroxy Ethyl methacrylate (second polymerizable compound, product name "2-hydroxyethyl methacrylate", manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.): 270 parts by mass Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, product name "Irgacure (registered Trademark) 184", manufactured by BASF Japan Ltd.: 36 parts by mass, silicone leveling agent (product name "BYK-377", manufactured by BYK Japan KK): 0.6 parts by mass, triazine-based UV absorber (product) Name "Tinuvin 477", manufactured by BASF Japan Ltd.: 11 parts by mass ・ Silane coupling agent (product name "KR-513", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 43 parts by mass ・ Propylene glycol monomethyl ether acetate (first) Solvent, made by DNP Fine Chemical Co., Ltd.: 585 parts by mass Butyl acetate (first solvent, made by DNP Fine Chemical Co., Ltd.): 253 parts by mass

下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用組成物を得た。
（ハードコート層用組成物１）
・多官能ウレタンアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：１９６質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：１７６質量部
・ポリマーアクリレート（製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：２５９質量部
・シリカ粒子分散液（ＢＥＴ法測定による粒径４０ｎｍ〜５０ｎｍ、固形分３０質量％、分散媒イソプロパノール（ＩＰＡ）、製品名「ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ」、日産化学工業株式会社製）：８８９質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３７０質量部
・酢酸ブチル（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：７０質量部
・シクロヘキサノン（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３５２質量部Each component was mixed so as to have the composition shown below to obtain a composition for a hard coat layer.
(Composition 1 for hard coat layer)
Polyfunctional urethane acrylate (product name "KAYARAD DPHA-40H", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 196 parts by mass pentaerythritol triacrylate (product name "A-TMM-3L", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 176 parts by mass Polymer acrylate (product name "BS371", manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.): 259 parts by mass Silica particle dispersion liquid (particle size 40 nm to 50 nm measured by BET method, solid content 30% by mass, dispersion medium isopropanol) (IPA), product name "IPA-ST-L", manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.: 889 parts by mass Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, product name "Irgacure (registered trademark) 184", BASF Japan. Co., Ltd.: 36 parts by mass Silicone-based leveling agent (product name “BYK-377”, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.): 0.6 parts by mass · Triazine-based UV absorber (product name “Tinuvin 477”, BASF Japan 11 parts by mass silane coupling agent (product name "KR-513", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 43 parts by mass propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent, manufactured by DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 370 Mass part-Butyl acetate (solvent, manufactured by DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 70 mass parts-Cyclohexanone (solvent, manufactured by DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 352 mass parts

（ハードコート層用組成物２）
・多官能ウレタンアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：１８６質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：１６７質量部
・ポリマーアクリレート（製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：２４６質量部
・２−メタクロイロキシエチルアシッドホスフェート（製品名「ライトエステルＰ−２Ｍ」、共栄社化学株式会社製）：２７質量部
・シリカ粒子分散液（ＢＥＴ法測定による粒径４０〜５０ｎｍ、固形分３０質量％、分散媒メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、製品名「ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ」、日産化学工業株式会社製）：８８９質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３７０質量部
・酢酸ブチル（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：７５質量部
・シクロヘキサノン（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３５２質量部(Composition 2 for hard coat layer)
Polyfunctional urethane acrylate (product name "KAYARAD DPHA-40H", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 186 parts by mass pentaerythritol triacrylate (product name "A-TMM-3L", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 167 parts by mass Polymer acrylate (product name "BS371", manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.): 246 parts by mass 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate (product name "light ester P-2M", manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. ): 27 parts by mass-silica particle dispersion (particle diameter measured by BET method: 40 to 50 nm, solid content: 30% by mass, dispersion medium methyl isobutyl ketone (MIBK), product name "MIBK-SD-L", Nissan Chemical Industries Ltd.) Company-made): 889 parts by mass-Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, product name "Irgacure (registered trademark) 184", manufactured by BASF Japan Ltd.): 36 parts-mass-silicone leveling agent (product name "BYK -377", manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.: 0.6 parts by mass, triazine-based ultraviolet absorber (product name "Tinuvin 477", manufactured by BASF Japan Co., Ltd.): 11 parts by mass, silane coupling agent (product name "KR"-513", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 43 parts by mass, propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent, manufactured by DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 370 parts by mass, butyl acetate (solvent, manufactured by DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 75 parts by mass -Cyclohexanone (solvent, manufactured by DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 352 parts by mass

（ハードコート層用組成物３）
・多官能ウレタンアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：１８６質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：１６７質量部
・ポリマーアクリレート（製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：２４６質量部
・２−メタクロイロキシエチルアシッドホスフェート（製品名「ライトエステルＰ−１Ｍ」、共栄社化学株式会社製）：２７質量部
・シリカ粒子分散液（ＢＥＴ法測定による粒径４０〜５０ｎｍ、固形分３０質量％、分散媒メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、製品名「ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ」、日産化学工業株式会社製）：８８９質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３７０質量部
・酢酸ブチル（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：７５質量部
・シクロヘキサノン（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３５２質量部(Composition 3 for hard coat layer)
Polyfunctional urethane acrylate (product name "KAYARAD DPHA-40H", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 186 parts by mass pentaerythritol triacrylate (product name "A-TMM-3L", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 167 parts by mass-Polymer acrylate (product name "BS371", manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.): 246 parts by mass 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate (product name "light ester P-1M", manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. ): 27 parts by mass-silica particle dispersion (particle diameter measured by BET method: 40 to 50 nm, solid content: 30% by mass, dispersion medium methyl isobutyl ketone (MIBK), product name "MIBK-SD-L", Nissan Chemical Industries Ltd.) (Manufactured by the company): 889 parts by mass, polymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, product name "Irgacure (registered trademark) 184", manufactured by BASF Japan Ltd.): 36 parts by mass, silicone-based leveling agent (product name "BYK -377", manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.: 0.6 parts by mass, triazine-based ultraviolet absorber (product name "Tinuvin 477", manufactured by BASF Japan Co., Ltd.): 11 parts by mass, silane coupling agent (product name "KR"-513", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 43 parts by mass, propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent, manufactured by DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 370 parts by mass, butyl acetate (solvent, manufactured by DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 75 parts by mass -Cyclohexanone (solvent, manufactured by DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 352 parts by mass

（ハードコート層用組成物４）
・多官能ウレタンアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ」、日本化薬株式会社製）：１３７質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業株式会社製）：１２３質量部
・ポリマーアクリレート（製品名「ＢＳ３７１」、荒川化学工業株式会社製）：１８１質量部
・ベンジルメタクリレート（製品名「ライトエステルＢＺ」、共栄社化学株式会社製）：１６２質量部
・シリカ粒子分散液（ＢＥＴ法測定による粒径４０〜５０ｎｍ、固形分３０質量％、分散媒イソプロパノール（ＩＰＡ）、製品名「ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ」、日産化学工業株式会社製）：８８９質量部
・重合開始剤（製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：３６質量部
・シリコーン系レベリング剤（製品名「ＢＹＫ−３７７」、ビックケミージャパン株式会社製）：０．６質量部
・トリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：１１質量部
・シランカップリング剤（製品名「ＫＲ−５１３」、信越化学工業株式会社製）：４３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：３００質量部
・酢酸ブチル（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：８４質量部
・シクロヘキサノン（溶媒、株式会社ＤＮＰファインケミカル製）：２８５質量部
・γ−ブチロラクトン（溶媒」、三菱ケミカル株式会社製）：１５１質量部(Composition 4 for hard coat layer)
-Polyfunctional urethane acrylate (product name "KAYARAD DPHA-40H", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 137 parts by mass pentaerythritol triacrylate (product name "A-TMM-3L", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) : 123 parts by mass Polymer acrylate (product name "BS371", manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.): 181 parts by mass benzyl methacrylate (product name "Light Ester BZ", manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.): 162 parts by mass Silica particles Dispersion liquid (particle size measured by BET method: 40 to 50 nm, solid content: 30% by mass, dispersion medium: isopropanol (IPA), product name "IPA-ST-L", manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.): 889 parts by mass, initiation of polymerization Agent (Product name "Irgacure (registered trademark) 184", manufactured by BASF Japan Ltd.): 36 parts by mass Silicone-based leveling agent (Product name "BYK-377", manufactured by BYK Japan KK): 0.6 parts by mass Triazine-based ultraviolet absorber (product name "Tinuvin 477", manufactured by BASF Japan Ltd.): 11 parts by mass Silane coupling agent (product name "KR-513", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 43 parts by mass-Propylene Glycol monomethyl ether acetate (solvent, manufactured by DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 300 parts by mass, butyl acetate (solvent, manufactured by DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 84 parts by mass, cyclohexanone (solvent, manufactured by DNP Fine Chemicals Co., Ltd.): 285 parts by mass, γ -Butyrolactone (solvent), manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: 151 parts by mass

下記に示す組成となるように各成分を配合して、高屈折率層用組成物および低屈折率層用組成物を得た。
（高屈折率層用組成物１）
・五酸化アンチモン粒子（平均一次粒径２０ｎｍ）：４００質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」、日本化薬株式会社製）：１００質量部
・重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：４質量部
・フッ素系レベリング剤（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ株式会社製）：１５質量部
・メチルイソブチルケトン（溶媒、東京化成株式会社製）：１６０００質量部The components were blended so that the compositions shown below were obtained to obtain a composition for high refractive index layer and a composition for low refractive index layer.
(Composition 1 for high refractive index layer)
Antimony pentoxide particles (average primary particle size 20 nm): 400 parts by mass Mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (product name "KAYARAD DPHA", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 100 parts by mass Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, product name "Irgacure (registered trademark) 184", manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass, fluorine-based leveling agent (product name "F568", manufactured by DIC Ltd.): 15 parts by mass methyl isobutyl ketone (solvent, manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.): 16000 parts by mass

（低屈折率層用組成物１）
・中空シリカ粒子（平均一次粒径７５ｎｍ）：１００質量部（固形分１００％換算値）
・ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０」、日本化薬株式会社製）：２０質量部
・フッ素系ポリマー（製品名「オプスターＪＮ３５」、ＪＳＲ株式会社製）：８０質量部（固形分１００％換算値）
・重合開始剤（製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１２７」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）：４質量部
・反応性シリコーンオイル（製品名「Ｘ２２−１６４Ｅ」、信越化学工業株式会社製）：１２質量部
・フッ素系防汚剤（製品名「オプツールＤＡＣ」、ダイキン工業株式会社製）：２０質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（溶媒、東京化成株式会社製）：８０００質量部(Composition 1 for low refractive index layer)
Hollow silica particles (average primary particle diameter 75 nm): 100 parts by mass (solid content 100% conversion value)
Mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (product name "KAYARAD PET-30", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 20 parts by mass Fluorine-based polymer (product name "OPSTAR JN35", manufactured by JSR Corporation) : 80 parts by mass (100% solid content conversion value)
Polymerization initiator (product name "Irgacure (registered trademark) 127", manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass Reactive silicone oil (product name "X22-164E", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 12 parts by mass Part: Fluorine-based antifouling agent (product name "OPTOOL DAC", manufactured by Daikin Industries, Ltd.): 20 parts by mass (solid content 100% conversion value)
Methyl isobutyl ketone (solvent, manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.): 8000 parts by mass

＜実施例１＞
まず、基材としての厚さ４０μｍのアクリル樹脂フィルムを準備し、このアクリル樹脂フィルムの一方の面に、下地層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対し、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で８０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚４μｍの下地層を形成した。<Example 1>
First, an acrylic resin film having a thickness of 40 μm was prepared as a substrate, and the underlayer composition 1 was applied to one surface of the acrylic resin film to form a coating film. Next, to the formed coating film, dry air at 50° C. is circulated for 15 seconds at a flow rate of 0.5 m/s, and then dry air at 80° C. is circulated for 30 seconds at a flow rate of 10 m/s to be dried. Thus, the solvent in the coating film was evaporated, and the coating film was cured by irradiating the coating film with ultraviolet rays so that the integrated light amount was 100 mJ/cm 2 , thereby forming a base layer having a film thickness of 4 μm.

下地層を形成した後、下地層の表面に、ハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚５μｍのハードコート層を形成した。After forming the underlayer, the composition 1 for hard coat layer was applied to the surface of the underlayer to form a coating film. Next, dry air at 50° C. was circulated for 15 seconds at a flow rate of 0.5 m/s, and then dry air at 70° C. was circulated for 30 seconds at a flow rate of 10 m/s to dry the formed coating film. By doing so, the solvent in the coating film was evaporated, and the coating film was cured by irradiating with ultraviolet rays so that the integrated light amount was 100 mJ/cm 2 , thereby forming a hard coat layer having a film thickness of 5 μm.

ハードコート層を形成した後、ハードコート層の表面に処理強度８０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２でグロー放電処理を行い、ハードコート層の表面付近に存在する粒子をバインダ樹脂から露出させた。その後、スパッタリング法により膜厚５ｎｍのＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２未満）からなる密着性向上層を形成し、さらに密着性向上層上にスパッタリング法により反射防止層を形成し、これにより密着性向上層および反射防止層からなる機能層を形成し、光学フィルムを得た。反射防止層は下側から順に、Ｎｂ２Ｏ５からなる膜厚２０ｎｍの高屈折率層、ＳｉＯ２からなる膜厚３５ｎｍの低屈折率層、Ｎｂ２Ｏ５からなる膜厚３５ｎｍの高屈折率層、およびＳｉＯ２からなる膜厚１００ｎｍの低屈折率層からなる多層構造であった。なお、高屈折率層および低屈折率層の屈折率をベッケ法で測定したところ、高屈折率層の屈折率は２．３であり、低屈折率層の屈折率は１．４８であった。After forming the hard coat layer, the surface of the hard coat layer was subjected to glow discharge treatment at a treatment intensity of 80 W·min/m 2 to expose particles existing near the surface of the hard coat layer from the binder resin. After that, an adhesion improving layer made of SiO x (x=1 to less than 2) having a film thickness of 5 nm is formed by a sputtering method, and an antireflection layer is further formed on the adhesion improving layer by a sputtering method. A functional layer consisting of an improvement layer and an antireflection layer was formed to obtain an optical film. The antireflection layer is, in order from the bottom, a high-refractive index layer made of Nb 2 O 5 with a thickness of 20 nm, a low-refractive index layer made of SiO 2 with a thickness of 35 nm, and a high-refractive index layer made of Nb 2 O 5 with a thickness of 35 nm. It was a multilayer structure composed of a layer and a low refractive index layer of SiO 2 having a thickness of 100 nm. When the refractive indices of the high refractive index layer and the low refractive index layer were measured by the Becke method, the refractive index of the high refractive index layer was 2.3, and the refractive index of the low refractive index layer was 1.48. ..

ハードコート層の膜厚は、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて、ハードコート層の断面を撮影し、その断面の画像においてハードコート層の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とした。 Regarding the film thickness of the hard coat layer, a cross section of the hard coat layer was photographed using a scanning transmission electron microscope (STEM), and the film thickness of the hard coat layer was measured at 20 points in the image of the cross section. The arithmetic mean value of the film thickness was used.

走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）によるハードコート層の断面写真は、以下のようにして撮影された。まず、１５ｍｍ×１０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを樹脂板上に固定して、ミクロトームＥＭ ＵＣ６（ライカ マイクロシステムズ株式会社製）でトリミング幅３００μｍ、高さ８０μｍに切り出した後、さらにＤｉＡＴＯＭＥ ダイヤモンドナイフ ＵＬＴＲＡにより厚さ方向に切削していき、穴等がない均一な、厚さ８０ｎｍの切片を切り出した。そして、この穴等がない均一な切片を測定サンプルとした。その後、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）（製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影した。上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＴＥ」、加速電圧を「３０ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行った。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら４万倍〜１０万倍で適宜調節した。なお、上記Ｓ−４８００を用いて断面写真を撮影する際には、さらに、「ビームモニタ絞りを「３」にし、対物レンズ絞りを「３」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にした。なお、実施例１の光学フィルムにおける下地層、密着性向上層、反射防止層や他の実施例および比較例のハードコート層、下地層、密着性向上層、反射防止層も、上記ハードコート層の膜厚の測定方法と同様の方法によって測定した。 A cross-sectional photograph of the hard coat layer by a scanning transmission electron microscope (STEM) was taken as follows. First, an optical film cut into a size of 15 mm×10 mm was fixed on a resin plate, cut with a Microtome EM UC6 (manufactured by Leica Micro Systems Co., Ltd.) into a trimming width of 300 μm and a height of 80 μm, and then further cut with a DiATOME diamond knife. Cutting was performed in the thickness direction by ULTRA to cut out a uniform slice having a thickness of 80 nm with no holes or the like. Then, a uniform section without such holes was used as a measurement sample. After that, a cross-sectional photograph of the measurement sample was taken using a scanning transmission electron microscope (STEM) (product name "S-4800", manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). When taking a cross-sectional photograph using the above S-4800, the cross section was observed with the detector set to "TE", the acceleration voltage set to "30 kV", and the emission current set to "10 µA". Regarding the magnification, the focus was adjusted and the contrast and brightness were appropriately adjusted at 40,000 to 100,000 times while observing whether each layer can be distinguished. When taking a cross-sectional photograph using the above S-4800, “Beam monitor diaphragm is set to “3”, objective lens diaphragm is set to “3”, and W. D. Was set to "8 mm". The undercoat layer, the adhesion improving layer and the antireflection layer in the optical film of Example 1 and the hard coat layer, undercoating layer, the adhesion improving layer and the antireflection layer of the other Examples and Comparative Examples are the above hard coating layers. The film thickness was measured by the same method as the film thickness measuring method.

＜実施例２＞
実施例２においては、ハードコート層用組成物１の代わりにハードコート層用組成物２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得た。<Example 2>
In Example 2, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the composition 2 for hard coat layer was used instead of the composition 1 for hard coat layer.

＜実施例３＞
実施例３においては、ハードコート層用組成物１の代わりにハードコート層用組成物３を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得た。<Example 3>
In Example 3, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition 3 for hard coat layer was used instead of the composition 1 for hard coat layer.

＜実施例４＞
まず、基材としての厚さ４０μｍのアクリル樹脂フィルムを準備し、このアクリル樹脂フィルムの一方の面に、下地層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対し、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で８０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚４μｍの下地層を形成した。<Example 4>
First, an acrylic resin film having a thickness of 40 μm was prepared as a substrate, and the underlayer composition 1 was applied to one surface of the acrylic resin film to form a coating film. Next, to the formed coating film, dry air at 50° C. is circulated for 15 seconds at a flow rate of 0.5 m/s, and then dry air at 80° C. is circulated for 30 seconds at a flow rate of 10 m/s to be dried. Thus, the solvent in the coating film was evaporated, and the coating film was cured by irradiating the coating film with ultraviolet rays so that the integrated light amount was 100 mJ/cm 2 , thereby forming a base layer having a film thickness of 4 μm.

下地層を形成した後、下地層の表面に、ハードコート層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚５μｍのハードコート層を形成した。After forming the undercoat layer, the composition 2 for hard coat layer was applied to the surface of the undercoat layer to form a coating film. Next, dry air at 50° C. was circulated for 15 seconds at a flow rate of 0.5 m/s, and then dry air at 70° C. was circulated for 30 seconds at a flow rate of 10 m/s to dry the formed coating film. By doing so, the solvent in the coating film was evaporated, and the coating film was cured by irradiating with ultraviolet rays so that the integrated light amount was 100 mJ/cm 2 , thereby forming a hard coat layer having a film thickness of 5 μm.

ハードコート層を形成した後、ハードコート層の表面に機能層としての反射防止層を形成した。具体的には、まず、ハードコート層の表面に、高屈折率層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚１５０ｎｍの高屈折率層を形成した。さらに、高屈折率層の表面に、低屈折率層用組成物１を塗布して、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、４０℃で１分間乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、窒素雰囲気下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚１００ｎｍの低屈折率層を形成した。これにより、光学フィルムを得た。なお、高屈折率層および低屈折率層の屈折率をベッケ法で測定したところ、高屈折率層の屈折率は１．６３であり、低屈折率層の屈折率は１．３２であった。After forming the hard coat layer, an antireflection layer as a functional layer was formed on the surface of the hard coat layer. Specifically, first, the composition 1 for a high refractive index layer was applied to the surface of the hard coat layer to form a coating film. Next, dry air at 50° C. was circulated for 15 seconds at a flow rate of 0.5 m/s, and then dry air at 70° C. was circulated for 30 seconds at a flow rate of 10 m/s to dry the formed coating film. By doing so, the solvent in the coating film was evaporated, and the coating film was cured by irradiating with ultraviolet rays so that the integrated light amount was 100 mJ/cm 2 , thereby forming a high refractive index layer having a film thickness of 150 nm. Further, the composition 1 for a low refractive index layer was applied to the surface of the high refractive index layer to form a coating film. Then, the formed coating film is dried at 40° C. for 1 minute to evaporate the solvent in the coating film so that the integrated amount of ultraviolet rays becomes 100 mJ/cm 2 under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less). The low refractive index layer having a film thickness of 100 nm was formed by irradiating the film with the above to cure the coating film. Thereby, an optical film was obtained. When the refractive index of the high refractive index layer and the low refractive index layer were measured by the Becke method, the refractive index of the high refractive index layer was 1.63 and the refractive index of the low refractive index layer was 1.32. ..

＜実施例５＞
まず、基材としての厚さ４０μｍのアクリル樹脂フィルムを準備し、このアクリル樹脂フィルムの一方の面に、下地層用組成物１を吐出量を調整した上で塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対し、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で８０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚２μｍの下地層を形成した。<Example 5>
First, an acrylic resin film having a thickness of 40 μm was prepared as a base material, and the composition 1 for the underlayer was applied to one surface of the acrylic resin film after adjusting the discharge amount to form a coating film. Next, to the formed coating film, dry air at 50° C. is circulated for 15 seconds at a flow rate of 0.5 m/s, and then dry air at 80° C. is circulated for 30 seconds at a flow rate of 10 m/s to be dried. Thus, the solvent in the coating film was evaporated, and the coating film was cured by irradiating the coating film with ultraviolet rays so that the integrated light amount was 100 mJ/cm 2 , thereby forming a base layer having a film thickness of 2 μm.

下地層を形成した後、下地層の表面に、ハードコート層用組成物２を塗工量調整の上で塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚３μｍのハードコート層を形成した。After forming the undercoat layer, the composition 2 for hard coat layer was applied on the surface of the undercoat layer after adjusting the coating amount to form a coating film. Next, dry air at 50° C. was circulated for 15 seconds at a flow rate of 0.5 m/s, and then dry air at 70° C. was circulated for 30 seconds at a flow rate of 10 m/s to dry the formed coating film. By doing so, the solvent in the coating film was evaporated, and the coating film was cured by irradiating with ultraviolet rays so that the integrated light amount was 100 mJ/cm 2 , thereby forming a hard coat layer having a film thickness of 3 μm.

その後、ハードコート層上に再度下地層用組成物１を用いて、上記下地層の形成条件と同じ条件で膜厚２μｍの下地層を形成した。そして、最後に、下地層上に再度ハードコート層用組成物２を用いて、上記ハードコート層の形成条件と同じ条件で膜厚３μｍのハードコート層を形成した。すなわち、アクリル樹脂フィルム上に、下地層、ハードコート層、下地層、ハードコート層の順で形成した。 Then, the underlayer composition 1 was used again on the hard coat layer to form an underlayer having a film thickness of 2 μm under the same conditions as the above underlayer forming conditions. Then, finally, the composition 2 for hard coat layer was used again on the underlayer to form a hard coat layer having a film thickness of 3 μm under the same conditions as those for forming the hard coat layer. That is, a base layer, a hard coat layer, a base layer, and a hard coat layer were formed in this order on an acrylic resin film.

ハードコート層を形成した後、実施例１と同様の条件で、密着性向上層および反射防止層からなる機能層を形成し、光学フィルムを得た。 After forming the hard coat layer, a functional layer including the adhesion improving layer and the antireflection layer was formed under the same conditions as in Example 1 to obtain an optical film.

＜実施例６＞
実施例６においては、下地層用組成物１の代わりに、下地層用組成物３を用いた以外は実施例２と同様にして光学フィルムを得た。<Example 6>
In Example 6, an optical film was obtained in the same manner as in Example 2 except that the underlayer composition 3 was used instead of the underlayer composition 1.

＜実施例７＞
実施例７においては、下地層用組成物１の代わりに、下地層用組成物４を用いた以外は実施例２と同様にして光学フィルムを得た。<Example 7>
In Example 7, an optical film was obtained in the same manner as in Example 2 except that the underlayer composition 4 was used instead of the underlayer composition 1.

＜比較例１＞
まず、基材としての厚さ４０μｍのアクリル樹脂フィルムを準備し、このアクリル樹脂フィルムの一方の面に、ハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶媒を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚５μｍのハードコート層を形成した。<Comparative Example 1>
First, an acrylic resin film having a thickness of 40 μm was prepared as a base material, and the hard coat layer composition 1 was applied to one surface of the acrylic resin film to form a coating film. Next, dry air at 50° C. was circulated for 15 seconds at a flow rate of 0.5 m/s, and then dry air at 70° C. was circulated for 30 seconds at a flow rate of 10 m/s to dry the formed coating film. By doing so, the solvent in the coating film was evaporated, and the coating film was cured by irradiating with ultraviolet rays so that the integrated light amount was 100 mJ/cm 2 , thereby forming a hard coat layer having a film thickness of 5 μm.

ハードコート層を形成した後、ハードコート層の表面に処理強度８０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２でグロー放電処理を行い、ハードコート層の表面に存在する粒子を樹脂から露出させた。その後、スパッタリング法により膜厚５ｎｍのＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２未満）からなる密着性向上層を形成し、さらに密着性向上層上にスパッタリング法により反射防止層を形成し、これにより密着性向上層および反射防止層からなる機能層を形成し、光学フィルムを得た。反射防止層は下側から順に、Ｎｂ２Ｏ５からなる膜厚２０ｎｍの高屈折率層、ＳｉＯ２からなる膜厚３５ｎｍの低屈折率層、Ｎｂ２Ｏ５からなる膜厚３５ｎｍの高屈折率層、およびＳｉＯ２からなる膜厚１００ｎｍの低屈折率層からなる多層構造であった。After forming the hard coat layer, the surface of the hard coat layer was subjected to glow discharge treatment at a treatment intensity of 80 W·min/m 2 to expose particles existing on the surface of the hard coat layer from the resin. After that, an adhesion improving layer made of SiO x (x=1 to less than 2) having a film thickness of 5 nm is formed by a sputtering method, and an antireflection layer is further formed on the adhesion improving layer by a sputtering method. A functional layer consisting of an improvement layer and an antireflection layer was formed to obtain an optical film. The antireflection layer is, in order from the bottom, a high-refractive index layer made of Nb 2 O 5 with a thickness of 20 nm, a low-refractive index layer made of SiO 2 with a thickness of 35 nm, and a high-refractive index layer made of Nb 2 O 5 with a thickness of 35 nm. It was a multilayer structure composed of a layer and a low refractive index layer of SiO 2 having a thickness of 100 nm.

＜比較例２＞
比較例２においては、ハードコート層用組成物１の代わりに、ハードコート層用組成物４を用いたこと以外は、比較例１と同様にして光学フィルムを得た。<Comparative example 2>
In Comparative Example 2, an optical film was obtained in the same manner as Comparative Example 1 except that the composition 4 for hard coat layer was used instead of the composition 1 for hard coat layer.

＜比較例３＞
比較例３においては、下地層用組成物１の代わりに、下地層用組成物２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得た。<Comparative example 3>
In Comparative Example 3, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the underlayer composition 2 was used instead of the underlayer composition 1.

＜比較例４＞
比較例４においては、アクリル系樹脂基材の代わりに、トリアセチルセルロース基材（製品名「ＴＤ８０ＵＬ」、富士フイルム株式会社製）を用いたこと以外は、比較例１と同様にして光学フィルムを得た。<Comparative example 4>
In Comparative Example 4, an optical film was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that a triacetyl cellulose base material (product name “TD80UL”, manufactured by FUJIFILM Corporation) was used instead of the acrylic resin base material. Obtained.

＜ヘイズ値＞
実施例および比較例に係る光学フィルムのヘイズ値をそれぞれ測定した。ヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に準拠して、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、縦５０ｍｍ×横５０ｍｍの大きさに光学フィルムを切り出した後、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で反射防止層側が非光源側となるように設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定を行い、３回測定して得られた値の算術平均値とした。<Haze value>
The haze values of the optical films according to Examples and Comparative Examples were measured. After cutting the optical film into a size of 50 mm in length×50 mm in width using a haze meter (product name “HM-150”, manufactured by Murakami Color Research Laboratory) according to JIS K7136:2000. It is obtained by setting the anti-reflection layer side to the non-light source side without curling or wrinkling, and without fingerprints or dust, and measuring three times for one optical film and measuring three times. The arithmetic mean of the measured values was used.

＜全光線透過率＞
実施例および比較例に係る光学フィルムの全光線透過率をそれぞれ測定した。全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠して、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、縦５０ｍｍ×横５０ｍｍの大きさに光学フィルムを切り出した後、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で反射防止層側が非光源側となるように設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定を行い、３回測定して得られた値の算術平均値とした。<Total light transmittance>
The total light transmittances of the optical films according to Examples and Comparative Examples were measured. The total light transmittance is based on JIS K7361-1:1997, using a haze meter (product name “HM-150”, manufactured by Murakami Color Research Laboratory), and an optical film having a size of 50 mm length×50 mm width. After cutting out, set it so that the anti-reflection layer side is the non-light source side without curling or wrinkling, and without fingerprints, dust, etc., and measure three times for one optical film and measure three times. The arithmetic mean value of the values obtained by

＜耐候試験＞
実施例および比較例に係る光学フィルムにおいて、耐候試験を行い、耐候試験後にハードコート層と密着性向上層との間の界面に剥離が生じているか評価した。耐候試験は、耐候性試験機（製品名「Ｃｉ４０００」、ＡＴＬＡＳ社製、光源：キセノンランプ）に、縦５ｃｍ×横５ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムを投入し、５０℃、相対湿度５０％の環境下で、キセノンランプを照度６０Ｗ／ｍ２で点灯させた状態で、６０時間放置することによって行われた。さらに耐候性試験機（製品名「ＳＸ７５−ＡＰ」、スガ試験機製、光源：キセノンランプ）に、縦５ｃｍ×横５ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムを投入し、５０℃、相対湿度５０％の環境下で、キセノンランプを照度１８０Ｗ／ｍ２で点灯させた状態で、６０時間放置する過酷環境の処理も同時に実施した。そして、耐候試験後の光学フィルムを８０℃、相対湿度９０％に調整された恒温恒湿環境下で保管した後、ハードコート層と密着性向上層との界面で剥離が生じているか光学顕微鏡（倍率２００倍）で確認し、評価した。評価基準は、以下の通りとした。
○：ハードコート層と機能層との間の界面で剥離が生じていなかった。
△：ハードコート層と機能層との間の界面で若干剥離が生じていたが、実用上問題のないレベルであった。
×：ハードコート層と機能層との間の界面で明らかに剥離が生じていた。<Weather resistance test>
The optical films according to the examples and comparative examples were subjected to a weather resistance test, and after the weather resistance test, it was evaluated whether peeling occurred at the interface between the hard coat layer and the adhesion improving layer. For the weather resistance test, an optical film cut into a size of length 5 cm×width 5 cm was put into a weather resistance tester (product name “Ci4000”, manufactured by ATLAS, light source: xenon lamp), and the temperature was 50° C. and relative humidity 50%. Under the environment, the xenon lamp was lit at an illuminance of 60 W/m 2 and left for 60 hours. Furthermore, the weather resistance tester (product name "SX75-AP", manufactured by Suga Tester, light source: xenon lamp) was charged with an optical film cut into a size of 5 cm in length and 5 cm in width, and the temperature was 50° C. and the relative humidity was 50%. Under the environment, the xenon lamp was lit at an illuminance of 180 W/m 2 , and a treatment in a harsh environment in which it was left for 60 hours was also performed at the same time. Then, after the optical film after the weather resistance test is stored in a constant temperature and constant humidity environment adjusted to 80° C. and a relative humidity of 90%, whether peeling has occurred at the interface between the hard coat layer and the adhesion improving layer is observed by an optical microscope ( It was confirmed and evaluated at a magnification of 200 times. The evaluation criteria are as follows.
◯: No peeling occurred at the interface between the hard coat layer and the functional layer.
Δ: Some peeling occurred at the interface between the hard coat layer and the functional layer, but there was no practical problem.
Poor: Clear peeling occurred at the interface between the hard coat layer and the functional layer.

＜ハードコート層の密着性＞
実施例および比較例に係る光学フィルムに密着性向上層や反射防止層を形成する前の状態のハードコート層の密着性をクロスカット法によって評価した。具体的には、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６：１９９９に準拠し、クロスカットＣＣＪ−１（コーテック社製）を用い、密着性向上層や反射防止層を形成する前の状態において、ハードコート層の表面に碁盤目状の切り傷を入れ、１ｍｍ角を１００マス作製した。そして、ニチバン株式会社製の工業用２４ｍｍ幅のセロテープ（登録商標）を碁盤目の上に貼り、その上からヘラで往復１０回擦って、密着させ１５０°方向に急速剥離を行なった。このような動作を５回繰り返し、残った升目の数をカウントした。残った升目の数を分子、升目の全個数を分母にして、以下の基準で評価した。
◎：１００／１００
○：５０／１００以上９９／１００以下
△：３０／１００以上４９／１００以下
×：２９／１００以下<Adhesion of hard coat layer>
The cross-cut method evaluated the adhesiveness of the hard coat layer in the state before forming the adhesiveness improving layer and the antireflection layer on the optical films according to Examples and Comparative Examples. Specifically, in accordance with JIS K5600-5-6:1999, using a cross-cut CCJ-1 (manufactured by Cotech), in the state before forming the adhesion improving layer and the antireflection layer, the hard coat layer A grid-like cut was made on the surface to make 100 squares of 1 mm square. Then, an industrial 24 mm wide cellophane tape (registered trademark) manufactured by Nichiban Co., Ltd. was adhered onto the cross-cut and rubbed with a spatula 10 times from above to make close contact with each other and rapidly peeled in the direction of 150°. This operation was repeated 5 times, and the number of remaining squares was counted. The number of remaining squares was used as the numerator and the total number of squares was used as the denominator, and the evaluation was made according to the following criteria.
◎: 100/100
◯: 50/100 or more and 99/100 or less Δ: 30/100 or more and 49/100 or less ×: 29/100 or less

＜リン元素の存在確認＞
実施例および比較例に係る光学フィルムにおいて、リン元素が存在するか否かを確認した。具体的には、光学フィルムの上面から表面・界面切削試験装置（ＳＡＩＣＡＳ）による斜め方向の切削を行い、現れた切削面にエネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＸ分析）によりリン元素の有無をマッピングして存在有無を確認した。評価基準は、以下の通りとした。
有：リン元素が確認された。
無：リン元素が確認されなかった。<Confirmation of the presence of phosphorus element>
In the optical films according to Examples and Comparative Examples, it was confirmed whether or not phosphorus element was present. Specifically, diagonal cutting is performed from the upper surface of the optical film by a surface/interface cutting tester (SAICAS), and the presence or absence of phosphorus element is mapped on the appeared cutting surface by energy dispersive X-ray analysis (EDX analysis). And confirmed the existence. The evaluation criteria are as follows.
Existence: Phosphorus element was confirmed.
None: No phosphorus element was confirmed.

＜鉛筆硬度試験＞
実施例２、５に係る光学フィルムの表面における鉛筆硬度を、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４：１９９９に基づいてそれぞれ測定した。鉛筆硬度試験は、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムをガラス板上に折れやシワがないようニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定し、光学フィルムの表面に対し鉛筆硬度試験機（製品名「鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機（電動式）」、株式会社東洋精機製作所製）を用いて、鉛筆（製品名「ユニ」、三菱鉛筆株式会社製）に５００ｇの荷重を加えながら鉛筆を１ｍｍ／秒の移動速度で移動させることにより行った。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とした。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上蛍光灯下で光学フィルムの表面を透過観察した際に光学フィルムの表面に傷が視認されなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかったと判断した。<Pencil hardness test>
The pencil hardness on the surfaces of the optical films according to Examples 2 and 5 was measured according to JIS K5600-5-4:1999. In the pencil hardness test, an optical film cut into a size of 50 mm×50 mm is fixed on a glass plate with Cellotape (registered trademark) manufactured by Nichiban Co., Ltd. so that there is no breakage or wrinkles, and the pencil hardness test is performed on the surface of the optical film. Using a machine (product name "pencil scratch coating hardness tester (electric type)" (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.), add a load of 500 g to a pencil (product name "Uni", manufactured by Mitsubishi Pencil Co., Ltd.) While doing so, the pencil was moved at a moving speed of 1 mm/sec. The pencil hardness was the highest hardness that did not scratch the surface of the optical film in the pencil hardness test. When measuring the pencil hardness, a plurality of pencils having different hardnesses are used, and the pencil hardness test is performed 5 times for each pencil, and the surface of the optical film is exposed 4 times or more out of 5 times under a fluorescent lamp. When no scratch was visually recognized on the surface of the optical film during transmission observation of No. 1, it was determined that the surface of the optical film was not scratched by the pencil having this hardness.

以下、結果を表１に示す。

Figure 2019035398
The results are shown in Table 1 below.
Figure 2019035398

表１に示されたように、比較例１〜３に係る光学フィルムは、いずれもヘイズ値が高かった。これは、アクリル樹脂フィルム上にシリカ粒子を含む層を直接形成することによってシリカ粒子の凝集が発生したことが原因であると考えられる。この状態では、ヘイズ値の高さから優れた透明性が求められる光学フィルムとしての実用性は低い。また、比較例１に係る光学フィルムは、ハードコート層の密着性が低く、これが耐候試験後の界面剥離に影響しているものと考えられる。一方で、比較例４に係る光学フィルムは、ヘイズ値が低く、かつハードコート層の密着も良好であるが、耐候試験後に界面剥離が生じていた。この場合も、光学フィルムとして長時間の使用に耐えないために光学フィルムとしての実用は低いものとなる。これに対し、実施例１〜７に係る光学フィルムにおいては、ヘイズ値が低く、かつ耐候試験後の密着性も良好であるので、光学フィルムとして実用性が高いことが確認された。また、実施例５に係る光学フィルムの鉛筆硬度は、実施例２に係る光学フィルムの鉛筆硬度よりも高かったので、これにより下地層とハードコート層を複数形成すれば、より高い鉛筆硬度を達成可能であることが確認された。また、実施例１〜５に係る光学フィルムにおいては、第１の重合性化合物および第１の溶媒の他に、第２の重合性化合物および第２の溶媒を含む下地層用組成物１、２を用いて下地層を形成したので、第２の重合性化合物または第２の溶媒を含まない下地層用組成物３、４を用いて下地層を形成した実施例６、７に係る光学フィルムよりも、基材に対するハードコート層の密着性が優れていた。 As shown in Table 1, each of the optical films according to Comparative Examples 1 to 3 had a high haze value. It is considered that this is because the silica particles were agglomerated by directly forming the layer containing the silica particles on the acrylic resin film. In this state, the practicability as an optical film requiring excellent transparency is low due to the high haze value. Further, in the optical film according to Comparative Example 1, the adhesion of the hard coat layer is low, which is considered to affect the interfacial peeling after the weathering test. On the other hand, the optical film of Comparative Example 4 had a low haze value and good adhesion of the hard coat layer, but interfacial peeling occurred after the weather resistance test. Also in this case, the optical film cannot be used for a long time, so that it is not practically used as an optical film. On the other hand, in the optical films according to Examples 1 to 7, the haze value was low, and the adhesion after the weathering test was also good, so that it was confirmed that the optical film was highly practical. Moreover, since the pencil hardness of the optical film according to Example 5 was higher than the pencil hardness of the optical film according to Example 2, a higher pencil hardness was achieved by forming a plurality of base layers and hard coat layers. It was confirmed to be possible. In addition, in the optical films according to Examples 1 to 5, underlayer compositions 1, 2 containing a second polymerizable compound and a second solvent in addition to the first polymerizable compound and the first solvent. Since the underlayer was formed using, the optical film according to Examples 6 and 7 in which the underlayer was formed using the underlayer compositions 3 and 4 containing no second polymerizable compound or second solvent. Also, the adhesion of the hard coat layer to the substrate was excellent.

なお、実施例１〜７に係る光学フィルムにおいて、アクリル樹脂フィルムおよびハードコート層のマルテンス硬度を、上記ハードコート層の欄で説明した測定条件で、それぞれ測定したところ、ハードコート層のマルテンス硬度はアクリル樹脂フィルムのマルテンス硬度よりも高かった。 In the optical films according to Examples 1 to 7, the Martens hardness of the acrylic resin film and the hard coat layer was measured under the measurement conditions described in the section of the hard coat layer, and the Martens hardness of the hard coat layer was It was higher than the Martens hardness of the acrylic resin film.

実施例１および比較例１において、機能層を形成する前に、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、倍率５００００倍でハードコート層の表面写真を撮影し、ハードコート層の表面を観察した。実施例１におけるハードコート層の表面写真を図５に示し、比較例１におけるハードコート層の表面写真を図６に示す。図５と図６の比較から明らかなように下地層を形成した場合には、粒径が２００ｎｍ以下の粒子の凝集が抑制されており、これが粒子存在下で低ヘイズ値を実現する要因となっていると考えられる。逆に下地層が形成されていない比較例１においては粒径が２００ｎｍ以下の粒子が顕著に凝集しており、これがヘイズ値上昇の要因となっていると考えられる。凝集塊のサイズは粒子のサイズから推測すると２００ｎｍ以上のサイズがあり、これは可視光を散乱させることによりヘイズ上昇に繋がる可能性が極めて高い。 In Example 1 and Comparative Example 1, before forming the functional layer, using a scanning electron microscope (SEM, product name "S-4800", manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), a hard coat layer with a magnification of 50,000 times. The surface of the hard coat layer was observed. A surface photograph of the hard coat layer in Example 1 is shown in FIG. 5, and a surface photograph of the hard coat layer in Comparative Example 1 is shown in FIG. As is clear from the comparison between FIG. 5 and FIG. 6, when the underlayer is formed, aggregation of particles having a particle size of 200 nm or less is suppressed, which is a factor for realizing a low haze value in the presence of particles. It is thought that On the contrary, in Comparative Example 1 in which the underlayer is not formed, the particles having a particle size of 200 nm or less are remarkably aggregated, which is considered to be a factor for increasing the haze value. The size of the aggregate is 200 nm or more when estimated from the size of the particles, and this is extremely likely to lead to an increase in haze by scattering visible light.

走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、上記ハードコート層の表面写真を撮影する際には、まず、実施例１および比較例１において、機能層を形成する前の状態で、２０ｍｍ×２０ｍｍの大きさにハードコート層を切り出して、測定サンプルとした。そして、上記走査型電子顕微鏡を用いて、測定サンプルにおけるハードコート層の表面写真を撮影した。ここで、表面写真を撮影する際には、検出器を「ＳＥ」、加速電圧を「１．５ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にした。さらに、アパーチャーを「ビームモニタ絞り１」にし、対物レンズ絞りを「２」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にした。なお、ＳＥＭ観察前にスパッタ法によっての膜厚が数ｎｍの帯電防止用の白金層をハードコート層の表面に形成した。 When taking a surface photograph of the hard coat layer using a scanning electron microscope (SEM, product name “S-4800”, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), first, in Example 1 and Comparative Example 1. Before forming the functional layer, the hard coat layer was cut into a size of 20 mm×20 mm to obtain a measurement sample. Then, a surface photograph of the hard coat layer in the measurement sample was taken using the scanning electron microscope. Here, when taking a surface photograph, the detector was set to “SE”, the acceleration voltage was set to “1.5 kV”, and the emission current was set to “10 μA”. Further, the aperture is set to "beam monitor diaphragm 1", the objective lens diaphragm is set to "2", and W.I. D. Was set to "8 mm". Before the SEM observation, an antistatic platinum layer having a thickness of several nm was formed on the surface of the hard coat layer by a sputtering method.

さらに、実施例１に係る光学フィルムにおいて、下地層とハードコート層を含むように倍率１００００倍で上記走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、断面写真を撮影し、断面観察を行った。実施例１に係る光学フィルムの断面写真を図７に示す。図７に示されるように、写真中央より上側の部分であるハードコート層においては粒径が２００ｎｍ以下の粒子を多く含むが、写真中央より下側の部分である下地層においては粒子が全く含まれていないことが確認された。実施例に係る光学フィルムにおいては、下地層が基材密着性に効果のある特定のモノマー、溶媒を含むが、粒径が２００ｎｍ以下の粒子を実質的に含まず、さらにハードコート層にのみ粒子を含ませることにより低ヘイズ値を維持しつつ機能層の密着性確保に成功している。 Furthermore, in the optical film according to Example 1, the scanning electron microscope (SEM, product name "S-4800", manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) was used at a magnification of 10,000 times so as to include a base layer and a hard coat layer. Then, a cross-sectional photograph was taken and the cross-section was observed. A cross-sectional photograph of the optical film according to Example 1 is shown in FIG. As shown in FIG. 7, the hard coat layer above the center of the photograph contains many particles having a particle size of 200 nm or less, but the underlayer below the center of the photograph contains no particles at all. It was confirmed that it was not. In the optical films according to the examples, the underlayer contains a specific monomer and a solvent that are effective for substrate adhesion, but does not substantially contain particles having a particle size of 200 nm or less, and particles only in the hard coat layer. By including the above, the adhesion of the functional layer has been successfully ensured while maintaining a low haze value.

上記走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、断面写真を撮影する際には、まず、ＥＭジャパン株式会社製のトリミングカミソリで２０ｍｍ×１０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムの両端をニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定して、光学フィルムの大きさが２０ｍｍ×５ｍｍとなるように光学フィルムの中央部において上記トリミングカミソリで光学フィルムをカットし、測定サンプルを得た。そして、垂直なサンプル固定面を有するＳＥＭ試料台のサンプル固定面にカットされた断面が接触しないように測定サンプルをカーボンテープで固定した。その後、倍率を１００００倍とした以外は、上記ハードコート層の表面写真の撮影条件と同じ条件で撮影を行った。 When taking a cross-sectional photograph using the scanning electron microscope (SEM, product name “S-4800”, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), first, a trimming razor manufactured by EM Japan Co., Ltd., 20 mm×10 mm The both ends of the optical film cut out in the size of are fixed with Cellotape (registered trademark) manufactured by Nichiban Co., Ltd., and the size of the optical film is 20 mm×5 mm. The film was cut to obtain a measurement sample. Then, the measurement sample was fixed with a carbon tape so that the cut section did not come into contact with the sample fixing surface of the SEM sample stage having the vertical sample fixing surface. After that, photographing was performed under the same conditions as the photographing conditions of the surface photograph of the hard coat layer except that the magnification was 10,000 times.

１０…光学フィルム
１１…基材
１２…ハードコート層
１２Ａ…バインダ樹脂
１２Ｂ…粒子
１３…機能層
１３Ａ…密着性向上層
１３Ｂ…反射防止層
１４…下地層
２０…偏光板
２１…偏光子
３０…画像表示装置
４０…表示パネル10... Optical film 11... Substrate 12... Hard coat layer 12A... Binder resin 12B... Particles 13... Functional layer 13A... Adhesion improving layer 13B... Antireflection layer 14... Underlayer 20... Polarizer 21... Polarizer 30... Image Display device 40... Display panel

Claims (5)

アクリル系樹脂を含む基材と、バインダ樹脂および複数の粒子を含むハードコート層と、前記ハードコート層に密着した機能層とをこの順に備える光学フィルムであって、
前記基材と前記ハードコート層の間に設けられ、樹脂を含む下地層を備え、
前記光学フィルムのヘイズ値が、１．０％以下である、光学フィルム。An optical film comprising a base material containing an acrylic resin, a hard coat layer containing a binder resin and a plurality of particles, and a functional layer adhered to the hard coat layer in this order,
A base layer including a resin, which is provided between the base material and the hard coat layer,
An optical film having a haze value of 1.0% or less. 少なくとも一部の前記粒子が前記ハードコート層における前記機能層側の面に露出しており、前記露出している前記粒子が前記機能層に直接密着している、請求項１に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, wherein at least a part of the particles is exposed on a surface of the hard coat layer on the functional layer side, and the exposed particles are directly adhered to the functional layer. .. 前記バインダ樹脂が、リン元素を含む、請求項１に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, wherein the binder resin contains a phosphorus element. 請求項１に記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムの前記基材における前記下地層側の第１の面とは反対側の第２の面側に設けられた偏光子と、
を備える、偏光板。The optical film according to claim 1,
A polarizer provided on a second surface side of the substrate of the optical film, which is opposite to the first surface on the side of the base layer,
A polarizing plate. 請求項１に記載の光学フィルムまたは請求項４に記載の偏光板を備える、画像表示装置。 An image display device comprising the optical film according to claim 1 or the polarizing plate according to claim 4.
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