JPWO2017057587A1 - 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2017057587A1 JPWO2017057587A1 JP2017543566A JP2017543566A JPWO2017057587A1 JP WO2017057587 A1 JPWO2017057587 A1 JP WO2017057587A1 JP 2017543566 A JP2017543566 A JP 2017543566A JP 2017543566 A JP2017543566 A JP 2017543566A JP WO2017057587 A1 JPWO2017057587 A1 JP WO2017057587A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure apparatus
- measured
- measurement
- substrate
- scale
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 394
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 99
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract description 46
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 167
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 26
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 description 32
- 230000008569 process Effects 0.000 description 18
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 15
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 15
- 230000008859 change Effects 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 5
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000668842 Lepidosaphes gloverii Species 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 240000007124 Brassica oleracea Species 0.000 description 1
- 235000003899 Brassica oleracea var acephala Nutrition 0.000 description 1
- 235000012905 Brassica oleracea var viridis Nutrition 0.000 description 1
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70591—Testing optical components
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/36—Forming the light into pulses
- G01D5/38—Forming the light into pulses by diffraction gratings
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70141—Illumination system adjustment, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of illumination system
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
以下、第1の実施形態について、図1〜図17(B)を用いて説明する。
次に、第2の実施形態に係る液晶露光装置について、図18(A)、及び図18(B)を用いて説明する。第2の実施形態に係る液晶露光装置の構成は、基板エンコーダシステム150の構成が異なる点を除き、上記第1の実施形態と同じであるので、以下、相違点についてのみ説明し、上記第1の実施形態と同じ構成及び機能を有する要素については、上記第1の実施形態と同じ符号を付してその説明を省略する。
Claims (34)
- 互いに直交する第1方向及び第2方向を移動する移動体に保持された物体に対して、前記移動体が第1方向へ移動中に、光学系を介して照明光を照射する露光装置であって、
前記移動体の前記第1方向への移動に基づいて計測される第1被計測部と、
前記移動体の前記第1方向への移動に基づいて、前記第1被計測部に対して前記第1方向に相対移動しながら前記第1被計測部を計測する第1計測部と、
前記移動体の前記第2方向への移動に基づいて計測される、前記第1方向の互いに異なる位置に配置された複数の第2被計測部と、
前記複数の第2被計測部ごとに設けられ、且つ前記物体の前記第2方向への移動に基づき、前記第2被計測部に対して前記第2方向に相対移動しながら前記第2被計測部を計測する複数の第2計測部と、を有する露光装置。 - 請求項1に記載の露光装置であって、
前記第1計測部の出力と前記第2計測部の出力とに基づいて、前記移動体の前記第1方向および前記第2方向における位置情報を求める露光装置。 - 請求項1又は2に記載の露光装置であって、
前記第1計測部と前記第2計測部は一体的に移動し、
前記移動体の前記第1方向への移動に基づき、前記第1被計測部に対し前記相対移動する際の前記第1計測部および前記第2計測部の出力に基づいて前記第1方向の位置情報を求め、
前記移動体の前記第2方向への移動に基づき、前記第2被計測部に対し前記相対移動する際の前記第1計測部および前記第2計測部の出力に基づいて前記第2方向の位置情報を求める露光装置。 - 請求項3に記載の露光装置であって、
前記第1被計測部は、前記第1方向に関して複数の格子領域が互いに離れて配置される第1格子部材を含み、
前記第1計測部は、前記第1格子部材に対して計測ビームを照射するヘッドを含み、
前記第2被計測部は、前記第2方向に関して複数の格子領域が互いに離れて配置される第2格子部材を含み、
前記第2計測部は、前記第2格子部材に対して計測ビームを照射するヘッドを含む、露光装置。 - 請求項1〜4の何れか一項に記載の露光装置であって、
前記第1被計測部は前記移動体上に設けられている露光装置。 - 請求項1〜5の何れか一項に記載の露光装置であって、
前記第2被計測部は、前記光学系を保持する保持部材に設けられている露光装置。 - 請求項1〜6の何れか一項に記載の露光装置であって、
前記複数の第2被計測部は、前記第1方向において互いに離間した位置に配置されている露光装置 - 請求項1〜7の何れか一項に記載の露光装置であって、
前記光学系は、基板に対して前記照明光を照射する、前記第2方向に並んで配置された複数の投影レンズをそれぞれ含む複数のレンズモジュールを備え、
前記複数のレンズモジュールは、前記第1方向に離れて配置されており、
前記複数の第2被計測部は、前記複数のレンズモジュールそれぞれに対して、前記第1方向における位置が重なるように配置されている露光装置。 - 請求項1〜7の何れか一項に記載の露光装置であって、
前記基板上に形成されたマークを計測するマーク計測系を有し、
前記光学系は、基板に対して前記照明光を照射する投影光学系を含み、
前記複数の第2被計測部は、前記計測系と前記投影光学系のそれぞれに対して、前記第1方向における位置が重なるように配置されている露光装置。 - 請求項9に記載の露光装置であって、
前記複数の第2被計測部のうち、前記計測系に対応する第2被計測部は、前記投影光学系に対応する第2計測部よりも、前記第2方向における長さが短く構成されている露光装置。 - 請求項9又は10に記載の露光装置であって、
前記マーク計測系は、前記第2方向に離れて複数設けられ、且つ前記第2方向における少なくとも2つのマーク計測系の相対間隔を変更可能に設けられている露光装置。 - 互いに直交する第1方向及び第2方向を移動する移動体に保持された物体に対して、前記移動体が第1方向へ移動中に、光学系を介して照明光を照射する露光装置であって、
前記移動体の前記第2方向における位置情報を得るために、前記移動体の前記第2方向への移動に基づいて計測される、前記第1方向の互いに異なる位置に配置された複数の被計測部と、
前記複数の被計測部ごとに設けられ、且つ前記物体の前記第2方向への移動に基づき、前記被計測部に対して前記第2方向に相対移動しながら前記被計測部を計測する複数の計測部と、を有する露光装置。 - 互いに直交する第1方向及び第2方向を含む面内で前記第1及び第2方向へ移動可能に保持された物体の前記第1方向への移動中に、光学系を介して前記物体に照明光を照射する露光装置であって、
前記物体の前記第2方向における位置情報を得るために、前記物体の前記第2方向への移動に基づいて計測される、前記第1方向の互いに異なる位置に配置された複数の被計測部と、
前記複数の被計測部ごとに設けられ、且つ前記物体の前記第2方向への移動に基づき、前記被計測部に対して前記第2方向に相対移動しながら前記被計測部を計測する複数の計測部と、を有する露光装置。 - 互いに直交する第1方向及び第2方向を移動する移動体に保持された物体に対して、前記移動体が第1方向へ移動中に、光学系を介して照明光を照射する露光装置であって、
前記移動体の前記第1方向への移動に基づいて計測される第1被計測部と、
前記第1被計測部と対向配置されているときに、前記移動体の前記第1方向への移動に基づき、前記第1被計測部に対して前記第1方向に相対移動しながら前記第1被計測部を計測する第1計測部と、を備え、
前記第1計測部は、前記移動体の前記第2方向への移動に基づいて前記第2方向に移動し、且つ前記第2方向における互いに異なる位置において前記第1被計測部と対向配置される複数の第1計測部を含む、露光装置。 - 請求項14に記載の露光装置であって、
前記第1被計測部は、前記移動体の前記第1方向への移動に基づいて計測される、互いに前記第2方向の異なる位置に配置された複数の第1被計測部を含み、
前記複数の第1計測部のそれぞれは、前記複数の第1被計測部のうちの対応する第1被計測部に対向配置された状態を維持したまま、前記移動体の前記第1方向への移動に基づき、前記第1被計測部に対して前記第1方向に相対移動しながら前記各第1被計測部を計測する、露光装置。 - 請求項15に記載の露光装置であって、
前記複数の第1計測部は、前記移動体の前記第2方向への移動に基づいて、前記各第1計測部の前記第2方向における相対位置関係を維持したまま、前記第2方向へ移動する、露光装置。 - 請求項14に記載の露光装置であって、
前記複数の第1計測部の、前記第2方向における可動範囲は互いに異なる露光装置。 - 請求項17に記載の露光装置であって、
前記複数の第1計測部の、前記第2方向における可動範囲は連続している露光装置。 - 請求項17又は18に記載の露光装置であって、
前記複数の第1計測部は何れも、前記第2方向の所定位置に移動された前記第2被計測部を計測する露光装置。 - 請求項19に記載の露光装置であって、
前記複数の第1計測部は、前記所定位置に位置する前記第1被計測部を同時に計測する露光装置。 - 請求項17に記載の露光装置であって、
前記複数の第1計測部の、前記第2方向における可動範囲は、前記第2方向において不連続である露光装置。 - 請求項21に記載の露光装置であって、
前記不連続の区間における前記移動体の前記第2方向の位置を計測する位置計測系を更に有する露光装置。 - 請求項22に記載の露光装置であって、
前記計測系は干渉計を含み、
前記移動体の前記第2方向の位置は、前記第1計測部の出力と前記位置計測系の出力とに基づいて求められる露光装置。 - 互いに直交する第1方向及び第2方向を移動する移動体に保持された物体に対して、前記移動体が第1方向へ移動中に、光学系を介して照明光を照射する露光装置であって、
前記移動体の前記第1方向への移動に基づいて計測される、互いに前記第2方向の異なる位置に配置された複数の第1被計測部と、
前記複数の第1被計測部を計測する位置において、前記移動体の前記第1方向への移動に基づき、前記第1被計測部に対して前記第1方向に相対移動しながら前記第1被計測部を計測する複数の第1計測部と、を有する露光装置。 - 互いに直交する第1方向及び第2方向を移動する移動体に保持された物体に対して、前記移動体が第1方向へ移動中に、光学系を介して照明光を照射する露光装置であって、
前記移動体の前記第1方向への移動に基づいて計測される被計測部と、
前記被計測部と対向配置されているときに、前記移動体の前記第1方向への移動に基づき、前記被計測部に対して前記第1方向に相対移動しながら前記被計測部を計測する計測部と、を備え
前記被計測部は、前記第2方向における互いに異なる第1位置および第2位置へ移動可能であり、
前記計測部は、前記第1位置に移動した前記被計測部に対向配置される第1計測部と、第2位置に移動した前記被計測部に対向配置される第2計測部とを含む露光装置。 - 請求項14〜25の何れか一項に記載の露光装置であって、
前記移動体の前記第2方向への移動に基づいて計測される第2被計測部と、
前記移動体の前記第2方向への移動に基づき、前記第2被計測部に対して前記第2方向に相対移動しながら前記第2被計測部を計測する複数の第2計測部と、を有し、
前記第1計測部と前記第2計測部は一体的に移動し、
前記移動体の前記第1方向への移動に基づき、前記第1被計測部に対し前記相対移動する際の前記第1計測部および前記第2計測部の出力に基づいて前記第1方向の位置情報を求め、
前記移動体の前記第2方向への移動に基づき、前記第2被計測部に対し前記相対移動する際の前記第1計測部および前記第2計測部の出力に基づいて前記第2方向の位置情報を求める露光装置。 - 請求項26に記載の露光装置であって、
前記第1被計測部は、前記第1方向に関して複数の格子領域が互いに離れて配置される第1格子部材を含み、
前記第1計測部は、前記第1格子部材に対して計測ビームを照射するヘッドを含み、
前記第2被計測部は、前記第2方向に関して複数の格子領域が互いに離れて配置される第2格子部材を含み、
前記第2計測部は、前記第2格子部材に対して計測ビームを照射するヘッドを含む、露光装置。 - 請求項26又は27に記載の露光装置であって、
前記第1被計測部は前記移動体上に設けられている露光装置。 - 請求項26〜28の何れか一項に記載の露光装置であって、
前記第2被計測部は、前記光学系を保持する保持部材に設けられている露光装置。 - 請求項1〜29のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記照明光としてエネルギビームを用いて前記物体に所定のパターンを形成する露光装置。 - 請求項1〜30の何れか一項に記載の露光装置であって、
前記物体は、フラットパネルディスプレイに用いられる基板である露光装置。 - 請求項31に記載の露光装置であって、
前記基板は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が500mm以上である露光装置。 - 請求項1〜32の何れか一項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、
を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。 - 請求項1〜32のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、
を含むデバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015194829 | 2015-09-30 | ||
JP2015194829 | 2015-09-30 | ||
PCT/JP2016/078842 WO2017057587A1 (ja) | 2015-09-30 | 2016-09-29 | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020184460A Division JP7060059B2 (ja) | 2015-09-30 | 2020-11-04 | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017057587A1 true JPWO2017057587A1 (ja) | 2018-08-09 |
JP6791154B2 JP6791154B2 (ja) | 2020-11-25 |
Family
ID=58423733
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017543566A Active JP6791154B2 (ja) | 2015-09-30 | 2016-09-29 | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
JP2020184460A Active JP7060059B2 (ja) | 2015-09-30 | 2020-11-04 | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020184460A Active JP7060059B2 (ja) | 2015-09-30 | 2020-11-04 | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20180364595A1 (ja) |
JP (2) | JP6791154B2 (ja) |
KR (1) | KR20180059814A (ja) |
CN (2) | CN113359395B (ja) |
HK (1) | HK1249192A1 (ja) |
TW (2) | TWI727975B (ja) |
WO (1) | WO2017057587A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6562626B2 (ja) * | 2014-12-10 | 2019-08-21 | キヤノン株式会社 | 顕微鏡システム |
KR20180059861A (ko) * | 2015-09-30 | 2018-06-05 | 가부시키가이샤 니콘 | 이동체 장치, 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 및 디바이스 제조 방법, 그리고 물체의 이동 방법 |
CN112415863B (zh) | 2015-09-30 | 2023-05-23 | 株式会社尼康 | 曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法 |
WO2019234664A1 (en) | 2018-06-06 | 2019-12-12 | Minoryx Therapeutics S.L. | 5-[[4-[2-[5-(1-hydroxyethyl)pyridin-2-yl]ethoxy]phenyl]methyl]-1,3-thiazolidine-2,4-dione and its salts for use in the treatment of mitochondrial diseases |
IT202100006692A1 (it) * | 2021-03-19 | 2022-09-19 | Lika Electronic S R L | Apparecchiatura di trasduzione di posizione/spostamenti e sistema e metodo correlati |
CN114043004A (zh) * | 2021-11-02 | 2022-02-15 | 湖南红宝科技开发有限公司 | 一种用于新能源汽车配件加工的切割平台 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007292735A (ja) * | 2006-03-21 | 2007-11-08 | Asml Netherlands Bv | 変位測定システム、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2009055036A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Nikon Corp | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
WO2014054690A1 (ja) * | 2012-10-02 | 2014-04-10 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5729331A (en) | 1993-06-30 | 1998-03-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
JPH07270122A (ja) * | 1994-03-30 | 1995-10-20 | Canon Inc | 変位検出装置、該変位検出装置を備えた露光装置およびデバイスの製造方法 |
JP2001215718A (ja) | 1999-11-26 | 2001-08-10 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
US6639686B1 (en) | 2000-04-13 | 2003-10-28 | Nanowave, Inc. | Method of and apparatus for real-time continual nanometer scale position measurement by beam probing as by laser beams and the like of atomic and other undulating surfaces such as gratings or the like relatively moving with respect to the probing beams |
JP2003004040A (ja) | 2001-06-19 | 2003-01-08 | Thk Co Ltd | 転がり案内装置 |
WO2006098194A1 (ja) | 2005-03-15 | 2006-09-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | 表示装置の駆動方法、表示装置の駆動装置、そのプログラムおよび記録媒体、並びに、それを備える表示装置 |
CN100514193C (zh) * | 2005-03-29 | 2009-07-15 | 株式会社尼康 | 曝光装置、曝光装置的制造方法以及微元件的制造方法 |
SG170010A1 (en) * | 2006-02-21 | 2011-04-29 | Nikon Corp | Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure appararus and method, and device manufacturing method |
US20080094592A1 (en) | 2006-08-31 | 2008-04-24 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method |
TWI609252B (zh) * | 2006-08-31 | 2017-12-21 | Nikon Corp | Moving body driving system and moving body driving method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, element manufacturing method, and determination method |
WO2008129762A1 (ja) | 2007-03-05 | 2008-10-30 | Nikon Corporation | 移動体装置、パターン形成装置及びパターン形成方法、デバイス製造方法、移動体装置の製造方法、並びに移動体駆動方法 |
EP2120097A1 (en) * | 2007-03-08 | 2009-11-18 | Nikon Corporation | Position measuring module, position measuring apparatus, stage apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method |
JP5169492B2 (ja) * | 2007-05-30 | 2013-03-27 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
US8243257B2 (en) * | 2007-07-24 | 2012-08-14 | Nikon Corporation | Position measurement system, exposure apparatus, position measuring method, exposure method and device manufacturing method, and tool and measuring method |
TWI547769B (zh) | 2007-12-28 | 2016-09-01 | 尼康股份有限公司 | An exposure apparatus, a moving body driving system, a pattern forming apparatus, and an exposure method, and an element manufacturing method |
US8269945B2 (en) * | 2007-12-28 | 2012-09-18 | Nikon Corporation | Movable body drive method and apparatus, exposure method and apparatus, pattern formation method and apparatus, and device manufacturing method |
US8792079B2 (en) * | 2007-12-28 | 2014-07-29 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method having encoders to measure displacement between optical member and measurement mount and between measurement mount and movable body |
DE102008010284A1 (de) * | 2008-02-21 | 2009-08-27 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | XY-Tisch mit einer Messanordnung zur Positionsbestimmung |
TW201100975A (en) | 2009-04-21 | 2011-01-01 | Nikon Corp | Moving-object apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US8355116B2 (en) * | 2009-06-19 | 2013-01-15 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device manufacturing method |
NL2005013A (en) * | 2009-07-31 | 2011-02-02 | Asml Netherlands Bv | Positioning system, lithographic apparatus and method. |
NL2005545A (en) * | 2009-11-17 | 2011-05-18 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
US8988655B2 (en) | 2010-09-07 | 2015-03-24 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method |
NL2008272A (en) * | 2011-03-09 | 2012-09-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus. |
KR101792276B1 (ko) * | 2012-08-23 | 2017-11-02 | 매그나칩 반도체 유한회사 | 반도체 소자 및 그 소자의 제조 방법 |
CN104685251B (zh) | 2012-10-04 | 2017-02-22 | 日产自动车株式会社 | 通气构造 |
WO2015147319A1 (ja) * | 2014-03-28 | 2015-10-01 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体駆動方法 |
-
2016
- 2016-09-29 KR KR1020187009712A patent/KR20180059814A/ko not_active Application Discontinuation
- 2016-09-29 US US15/763,819 patent/US20180364595A1/en not_active Abandoned
- 2016-09-29 CN CN202110601500.0A patent/CN113359395B/zh active Active
- 2016-09-29 CN CN201680057154.1A patent/CN108139677B/zh active Active
- 2016-09-29 JP JP2017543566A patent/JP6791154B2/ja active Active
- 2016-09-29 WO PCT/JP2016/078842 patent/WO2017057587A1/ja active Application Filing
- 2016-09-30 TW TW105131975A patent/TWI727975B/zh active
- 2016-09-30 TW TW110113777A patent/TW202132925A/zh unknown
-
2018
- 2018-07-04 HK HK18108661.1A patent/HK1249192A1/zh unknown
-
2020
- 2020-02-21 US US16/797,602 patent/US11392048B2/en active Active
- 2020-11-04 JP JP2020184460A patent/JP7060059B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007292735A (ja) * | 2006-03-21 | 2007-11-08 | Asml Netherlands Bv | 変位測定システム、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2009055036A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Nikon Corp | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
WO2014054690A1 (ja) * | 2012-10-02 | 2014-04-10 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI727975B (zh) | 2021-05-21 |
TW201723673A (zh) | 2017-07-01 |
JP7060059B2 (ja) | 2022-04-26 |
US20200192232A1 (en) | 2020-06-18 |
CN108139677A (zh) | 2018-06-08 |
JP2021015302A (ja) | 2021-02-12 |
KR20180059814A (ko) | 2018-06-05 |
WO2017057587A1 (ja) | 2017-04-06 |
CN113359395B (zh) | 2024-07-09 |
JP6791154B2 (ja) | 2020-11-25 |
US11392048B2 (en) | 2022-07-19 |
TW202132925A (zh) | 2021-09-01 |
CN113359395A (zh) | 2021-09-07 |
US20180364595A1 (en) | 2018-12-20 |
CN108139677B (zh) | 2021-06-22 |
HK1249192A1 (zh) | 2018-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6838598B2 (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法 | |
US11126094B2 (en) | Exposure apparatus, manufacturing method of flat-panel display, device manufacturing method, and exposure method | |
JP7060059B2 (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
US11009799B2 (en) | Exposure apparatus, manufacturing method of flat-panel display, device manufacturing method, and exposure method | |
JP7111149B2 (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイ製造方法 | |
WO2017057560A1 (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイ製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190805 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200525 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20200722 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200923 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201006 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201019 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6791154 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |