JPWO2016208548A1 - 光学フィルム、およびこれを含む光学積層体 - Google Patents

Abstract

本発明によると、光学フィルムの基材および反射層の高温物性が大きく異なる場合においても、光学フィルムの加工工程におけるシワの発生を十分に抑制しうる手段が提供される。本発明は、基材、および反射層を有し、前記基材および前記反射層は、１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’） （測定条件：ＪＩＳ Ｋ７２４４−１：１９９８準拠、引張モード、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１０Ｈｚ）の差の絶対値が０．０５ＧＰａ以上であり、１５０℃における損失係数（ｔａｎδ） （測定条件：ＪＩＳ Ｋ７２４４−１：１９９８準拠、引張モード、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１０Ｈｚ）の値が０．１２〜０．２０である、光学フィルムに関する。【選択図】図１

Description

本発明は、光学フィルム、およびこれを含む光学積層体に関する。より詳細には、本発明は、光学積層体形成のために光学フィルムを加工する際の、光学フィルムのシワの発生を抑制するための技術に関する。

近年、特定の波長域の光線を透過する、もしくは反射吸収することを目的として、または自動車や建物などの窓に貼合し、断熱や遮光、破損時の破片飛散防止などを目的として、光学フィルムが利用されている。かような光学フィルムは、たとえば、赤外線の侵入を抑え、建物室内または車内の温度が過剰に上昇するのを防ぐ赤外遮蔽能を有しており、冷房の使用を低減し省エネルギー化を達成することに有用である。このような光学遮蔽特性を有する膜として、屈折率の異なる層を積層させた誘電多層膜が知られている。当該誘電多層膜は、反射層として機能し、層の境界からの反射光の干渉を利用することで、分光反射率を自由に設定できるという利点がある。これより、当該光学フィルムとしては、建築物の窓などに貼合して用いられており、また当該光学フィルムを用いた光学積層体の一つである、一対のガラス基板の間に当該光学フィルムが配置されてなる、合わせガラスが市場に流通している。

ここで、光学フィルムは、光学積層体の形成に際して、一般的には熱と荷重とを加えることによって加工が行われることとなるが、従来の光学フィルムでは、この加工工程においてシワが発生することが問題となっていた。加工工程におけるシワの発生は、光学積層体の外観を損なうだけでなく、フィルム変形に伴う光学性能の低下を生じさせることとなる。そこで、かような問題を解決するため、光学フィルムの熱収縮率を大きくし、光学積層体における基体や合わせガラスのガラス板の形状に合わせて光学フィルムを変形させることで光学フィルムの余り部分を減少させて、加工工程におけるシワの発生を抑制する技術が提案されている。

たとえば特表２００４−５０３４０２号公報（ＷＯ２００１／０９６１０７号に相当）には、複合的な湾曲を有する基材に対して、実質的にシワが発生しないよう、複屈折性誘電性多層フィルムが十分に収縮できるようヒートセットを行う工程を含む、積層物品の製造方法、およびこれに用いられる複屈折性誘電性多層フィルムが開示されている。

また、たとえば特開２０１０−２６５１６１号公報（ＷＯ２０１０／１１９７７０号に相当）には、湾曲形状を有する２枚のガラス板の間に、２枚の樹脂中間膜と赤外線反射膜付きプラスチックフィルムを有する合わせガラスの製造方法が開示されている。より詳細には、２枚の樹脂中間膜同士、または当該赤外線反射膜付きプラスチックフィルムと樹脂中間膜とを熱融着する前の、当該赤外線反射膜付きプラスチックフィルムの形状およびガラス板に対するサイズを適切に選択することが開示されている。さらに、特開２０１０−２６５１６１号公報には、当該赤外線反射膜付きプラスチックフィルムの熱収縮率を所定の値以上とすることが開示されている。

ここで、本発明者らは、従来技術においては、光学フィルムによっては、加工工程におけるシワの発生が十分に抑制できない場合があることに着目した。そして、本発明者らは、基材および反射層を有し、かつ基材および反射層の高温物性が大きく異なる光学フィルムでは、単に光学フィルムの熱収縮率を大きくすることのみによっては、シワを十分に抑制することができないことを見出した。

そこで、本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、光学フィルムの基材および反射層の高温物性が大きく異なる場合においても、光学フィルムの加工工程におけるシワの発生を十分に抑制しうる手段を提供することを目的としている。

本発明者らは、上記課題に鑑み、鋭意検討を進めた。その結果、光学フィルムの１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）を所定の範囲内の値とすることで、上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させた。

すなわち、本発明の上記課題は、以下の手段によって解決される。

基材、および反射層を有し、
前記基材および前記反射層は、１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’） （測定条件：ＪＩＳ Ｋ７２４４−１：１９９８準拠、引張モード、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１０Ｈｚ）の差の絶対値が０．０５ＧＰａ以上であり、
１５０℃における損失係数（ｔａｎδ） （測定条件：ＪＩＳ Ｋ７２４４−１：１９９８準拠、引張モード、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１０Ｈｚ）の値が０．１２〜０．２０である、
光学フィルム。

本発明の一形態に係る光学フィルムを含む光学積層体の一例を示す概略断面図である。ここで、１０は光学積層体を、１１は屋外側の曲面を有する基体を、１２および１４は中間層を、１３は本発明の一形態に係る光学フィルムを、１５は屋内側の曲面を有する基体を、それぞれ表す。また、１３ａは本発明の一形態に係る光学フィルムの基材を、１３ｂは本発明の一形態に係る光学フィルムの反射層を、それぞれ表す。 本発明の光学フィルムを含む光学積層体の他の一例を示す概略断面図である。ここで、２０は光学積層体を、２１は曲面を有する基体を、２２は中間層を、２３は本発明の一形態に係る光学フィルムを、それぞれ表す。また、２３ａは本発明の一形態に係る光学フィルムの基材を、２３ｂは本発明の一形態に係る光学フィルムの反射層を、それぞれ表す。

以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみには限定されない。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。

また、本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％ＲＨの条件で測定する。

さらに、本明細書において、化合物の具体名における表記「（メタ）アクリル」は「アクリル」および「メタクリル」を、「（メタ）アクリロイル」は「アクリロイル」および「メタクリロイル」を、「（メタ）アクリレート」は「アクリレート」および「メタクリレート」を、それぞれ表す。また、「アクリル樹脂」とは、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルまたはこれらの誘導体を（共）重合体の構成成分とする樹脂を表す。なお、「アクリル系樹脂」には、上記単量体以外に、さらに他の単量体を共重合体の構成成分として有する樹脂も含まれる。

＜光学フィルム＞
本発明の一形態は、光学フィルムが、基材、および反射層を有し、前記基材および前記反射層は、１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’） （測定条件：ＪＩＳ Ｋ７２４４−１：１９９８準拠、引張モード、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１０Ｈｚ）の差の絶対値が０．０５ＧＰａ以上であり、１５０℃における損失係数（ｔａｎδ） （測定条件：ＪＩＳ Ｋ７２４４−１：１９９８準拠、引張モード、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１０Ｈｚ）の値が０．１２〜０．２０であることを特徴とする。本形態に係る光学フィルムによれば、光学フィルムの基材および反射層の高温物性が大きく異なる場合においても、光学フィルムの加工工程におけるシワの発生を十分に抑制することができる。

ここでまず、本発明者らは、本発明の一形態に係る光学フィルムによって、上記課題を解決しうるメカニズムを以下のように推測している。

基材および反射層の高温物性が大きく異なる場合は、これらの変形挙動が異なることから、基材および反射層の層間に応力が発生し、シワの原因となる。これより、従来技術のように光学フィルムの熱収縮率を大きくすることで加工工程における光学フィルムの変形を大きくし、フィルムの余り部分を減少させることのみでは、十分にシワは改善されない。また、このとき仮に基材および反射層の熱収縮率を同じ値となるよう制御したとしても、加工工程において熱と共に荷重が加えられることから、各層の高温における貯蔵弾性率（Ｅ’）等が異なることからその変形挙動の違いは解消されず、上記課題は解決されない。

ここで、光学フィルム全体の塑性変形のし易さに注目する。塑性変形のし易さを表す指標としては、損失係数（ｔａｎδ）が挙げられる。損失係数（ｔａｎδ）は、ｔａｎδ＝Ｅ”／Ｅ’ （Ｅ’：貯蔵弾性率、Ｅ”：損失弾性率）として定義される値である。貯蔵弾性率（Ｅ’）および損失弾性率（Ｅ”）とは、試料に対し振動により正弦波形のひずみ（変形）を与えたときに生ずる複素弾性率の中の、ひずみと同位相でひずみのエネルギーが応力として貯蔵される実数成分、ひずみより９０°位相が進んでおりひずみエネルギーが他のエネルギーに変換されるなどして損失を発生させる虚数成分をそれぞれ表している。光学フィルムの高温における損失係数（ｔａｎδ）を所定の値以上とすることで、光学フィルム全体の塑性変形をより容易に生じさせることができるようになり、基材と反射層との間に発生する応力が緩和される。また、フィルム全体としての塑性変形も容易になることから、光学フィルムの余り部分を減少する効果も得ることができる。これより、基材および反射層の高温物性が大きく異なる場合においても、光学フィルムのシワを十分に抑制することができる。また、高温における損失係数（ｔａｎδ）を所定の値以下とすることで、フィルムの変形量が過剰となることによって反射層の膜厚変動が生じることを防ぎ、光学フィルムは高い反射性能を有することができる。

なお、上記メカニズムは推測に基づくものであり、その正誤が本発明の技術的範囲に影響を及ぼすものではない。

本発明の一形態に係る光学フィルムは、基材および反射層を必須として有する。なお、各層間、層および基材の間、最外の層および基材上の任意の位置に、上記以外の機能層やさらなる基材が配置されたものであってもよい。

ここで、本発明の一形態に係る光学フィルムは、基材および反射層の、１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の差の絶対値が０．０５ＧＰａ以上である。従来の光学フィルムにおいて、基材および反射層の、１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の差の絶対値が０．０５ＧＰａ以上である光学フィルムは、基材および反射層の高温物性の違いから、熱収縮率を制御する公知のシワ抑制手段ではシワを十分に抑制することが困難であった。一方、本発明の一形態に係る光学フィルムは、かように基材および反射層の高温物性が大きく異なる場合においても、光学フィルムの加工工程におけるシワの発生を十分に抑制しうるものである。ここで、１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の差の絶対値が大きい方が、高弾性率材料を用いる必要がある場合に薄膜化できるという観点から好ましい。また、１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の値の絶対値の差は、１３．２０ＧＰａ以下であることが、基材と反射層との界面剥離の観点から好ましい。同様の観点から、１．５０〜１３．２０ＧＰａであることがより好ましく、１．５０〜１３．００ＧＰａであることがさらに好ましく、２．００〜７．００ＧＰａであることがさらに好ましい。

１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）は、ＪＩＳ Ｋ７２４４−１：１９９８に準拠して、動的粘弾性自動測定器（エーアンドディー株式会社製 ＤＤＶ−０１ＧＰ）を用いて、引張モードで、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１０Ｈｚとして、測定することができる。測定は面内の任意の一方向とそれに直交する方向について行い、その平均値を評価結果とする。ここで、測定方向は、特に制限されないが、たとえば機械方向および機械方向に垂直な方向とすることが好ましい。本願明細書において、「機械方向」とは、基材、反射層または光学フィルムの製膜方向と同じ方向を意味する。この場合、機械方向はフィルムの長手方向に一致する。なお、詳細な測定方法は実施例に記載する。

また、本発明の一形態に係る光学フィルムは、１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）の値が０．１２〜０．２０である。前述の推定メカニズムで述べたように、光学フィルムの１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）が０．１２未満であると、シワの発生を十分に抑制することができない。また、１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）が０．２０超であると、十分な光学特性を有することができない。かような観点から、１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）の値は、０．１２〜０．１９であることがより好ましく、０．１３〜０．１８であることがさらに好ましく、０．１５〜０．１８であることが特に好ましい。

１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）は以下のように求めることができる。まず、貯蔵弾性率（Ｅ’）および損失弾性率（Ｅ”）を、ＪＩＳ Ｋ７２４４−１：１９９８に準拠して、動的粘弾性自動測定器（エーアンドディー株式会社製 ＤＤＶ−０１ＧＰ）を用いて、引張モードで、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１０Ｈｚとして測定する。次いで、得られた結果より、Ｅ”／Ｅ’を算出することにより損失係数（ｔａｎδ）を求める。測定は面内の任意の一方向とそれに直交する方向について行い、その平均値を評価結果とする。ここで、測定方向は、特に制限されないが、たとえば機械方向および機械方向に垂直な方向とし、平均値を用いることが好ましい。

ここで、光学フィルムの１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）の制御方法は、特に制限されないが、たとえば基材や反射層の材料および製法の選択が挙げられる。また、光学フィルムの１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）は、基材や反射層の１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）を小さくすること、熱収縮率を大きくすること等で、大きくすることができる。また、基材が後述の基材の説明中に例示するような一般的な樹脂フィルムである場合は、基材および反射層の膜厚の合計に対する基材の膜厚の占める割合を大きくすることや、反射層の膜厚の占める割合を小さくすること等で、大きくすることができる。

光学フィルムの厚さは、特に制限されないが、撓み防止、可視光透過率、取り扱い性等の観点から２０〜３００μｍが好ましく、２５〜１００μｍであることがより好ましく、３０〜６０μｍであることがさらに好ましい。

以下、光学フィルムの各構成要素について、詳細に説明する。

［基材］
本発明の一形態に係る光学フィルムに用いられる基材は、光学フィルムの支持体としての役割を果たす。

本発明の一形態に係る基材は、基材および反射層の、１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の差の絶対値が０．０５ＧＰａ以上であるように、また、光学フィルムの１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）が０．１２〜０．２０となるように製法、材料や厚さ等が設定されているものである。

ここで、基材の１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の値は、特に制限されないが、０．００１ＧＰａ以上であって、かつ反射層の１５０℃における貯蔵弾性率よりも小さい値であることが好ましい。光学フィルムの加熱加工時における塑性変形は、基材や反射層の１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の値が小さい方がより生じ易くなる傾向がある。ここで、高い反射性能が要求される反射層に対して、さらに低い貯蔵弾性率を要求することよりも、低い貯蔵弾性率を有する基材を選択する方が、より容易に塑性変形を生じさせることができる。これは、貯蔵弾性率（Ｅ’）の値が小さな基材を選択することによって、より容易に塑性変形を生じさせることができ、より容易にシワを抑制することができるからであると推測している。また、基材の１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）は、０．００１ＧＰａ以上であると、加熱加工後の反射性能をさらに良好なものとすることができるため好ましい。これは、光学フィルムがかような基材を有することで、基材の変形量が過剰となることによって生じる反射層の膜厚変動をより抑制することができるからであると推測している。同様の観点から、基材の１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の値は０．０１ＧＰａ〜２．００ＧＰａであることが好ましく、０．１０〜１．００ＧＰａであることがより好ましく、０．２０〜０．８０ＧＰａであることがさらに好ましく、０．３０〜０．５０ＧＰａであることが特に好ましく、０．３５〜０．４５ＧＰａであることが最も好ましい。

１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の測定方法としては、光学フィルムの１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）と同様の方法を用いて測定することができる。なお、詳細な測定方法は実施例に記載する。

また、基材の１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）の値は、特に制限されないが、０．１２〜０．４５であることが好ましい。基材の１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）を０．１２以上とすることで、基材の塑性変形性をより高めることができる。これは、基材の塑性変形性がより向上することで、光学フィルム全体の塑性変形をより容易に生じさせることができるようになり、光学フィルムのシワをさらに抑制することができるからであると推測している。また、高温における損失係数（ｔａｎδ）を０．４５以下とすることで、加熱加工後の反射性能をさらに良好なものとすることができる。これは、基材の変形量が過剰となることによって反射層の膜厚変動が生じることを防ぎ、光学フィルムはより高い反射性能を有することができるからであると推測している。同様の観点から、０．１２〜０．４０であることがより好ましく、０．１２〜０．３０であることがさらに好ましく、０．１５〜０．３０であることが特に好ましい。

１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）の測定方法としては、光学フィルムの１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）と同様の方法を用いて測定することができる。なお、詳細な測定方法は実施例に記載する。

ここで、光学フィルムの１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）の制御方法は、特に制限されないが、たとえば基材の材料および製法の選択が挙げられる。製法としては、基材が後述の基材の説明中に例示するような一般的な樹脂フィルムである場合は、たとえば熱処理条件や、延伸条件等が挙げられる。基材の１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）は、たとえば、熱処理温度を高くすることや、熱処理時間を短くすること等で、大きくすることができる。また、基材の１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）は、基材の１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）を小さくすることや、熱収縮率を大きくすること等で、大きくすることができる。

また、基材の１５０℃３０分経時における熱収縮率の値は、特に制限されないが、２．０〜１０．０％であることが好ましい。反射層の１５０℃３０分経時における熱収縮率の値が２．０％以上であると、シワの抑制効果がより高くなる。これは、かような値を有する基材は、光学フィルムの変形を大きくし、フィルムの余り部分を減少させるとともに、光学フィルムの塑性変形性をより高めることができるからであると推測している。また、反射層の１５０℃３０分経時における熱収縮率の値が１０．０％以下であると、加熱加工後の反射性能をさらに良好なものとすることができる。これは、基材の変形量が過剰となることによって反射層の膜厚変動が生じることを防ぎ、光学フィルムはより高い反射性能を有することができるからであると推測している。同様の観点から、反射層の１５０℃３０分経時における熱収縮率の値は、２．０〜８．０％であることがより好ましく、２．０〜７．０％であることがより好ましく、２．０〜５．０％であることがさらに好ましく、２．５〜５．０％であることが特に好ましく、３．０〜５．０％であることが最も好ましい。

１５０℃３０分経時における熱収縮率の測定方法としては、以下の方法を用いることができる。基材および反射層を温度２３℃、相対湿度５５％ＲＨの環境にて、２４時間保存した後、幅方向に１００ｍｍ間隔で二つの印を付け、無荷重状態で二つの印の間の距離Ｌ１を、顕微鏡等を用いて測定する。続いて、１５０℃の環境のオーブン内に試料を吊るし、３０分間放置する。３０分間経過後、オーブンから当該試料を取り出し、再び温度２３℃、相対湿度５５％ＲＨの環境で２４時間保存する。次いで、無荷重状態の試料の二つの印の間の距離Ｌ２を、顕微鏡等を用いて測定する。そして、測定した距離Ｌ１およびＬ２から、下記式により試料の熱収縮率を算出する；
熱収縮率（％）＝（（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１）×１００
ここで、測定方向は、特に制限されないが、たとえば機械方向および機械方向に垂直な方向とし、平均値を用いることが好ましい。

本発明の一形態に係る基材の厚さは、特に制限されないが、たとえば１０〜３００μｍの範囲内であることが好ましく、２０〜１００μｍの範囲内であることがより好ましく、３０〜６０μｍであることがさらに好ましい。厚さが１０μｍ以上であれば、取扱い中のしわが発生しにくくなり、また厚さが３００μｍ以下であれば、ガラスと貼り合わせる際にガラス曲面への追従性が良くなり、しわが発生しにくくなる。

基材が後述するような一般的な樹脂フィルムである場合は、基材の膜厚は、損失係数（ｔａｎδ）を大きくするとの観点から、基材および反射層の膜厚の合計に対して、８６．５％以上の割合を占めることが好ましい。また、反射性能の観点から、９７．５％以下の割合を占めることが好ましい。同様の観点から、基材が樹脂フィルムである場合は、基材の膜厚は８６．７〜９７．３％の割合を占めることがより好ましく、８６．９〜９７．２％の割合を占めることが好ましい。

また、本発明の一形態に係る基材としては、透明であることが好ましい。合わせガラス用フィルムの光学特性として、ＪＩＳ Ｒ ３１０６：１９９８で測定される可視光透過率は好ましくは７０％以上であり、より好ましくは８０％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。

（樹脂フィルム）
本発明の一形態に係る基材は、樹脂フィルムであることが好ましい。樹脂フィルムを形成する樹脂としては、特に制限されないが、たとえば、ポリオレフィン（たとえば、ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステル（たとえば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリ塩化ビニル、３酢酸セルロース、ポリイミド、ポリブチラール、シクロオレフィンポリマー、セルロースナノファイバー等を用いることができる。これらの中でも、好ましくはポリエステルである。

ポリエステルとしては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。ジカルボン酸成分としては、これらの酸無水物、酸ハロゲン化物またはエステルの形で用いられてもよい。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や２，６−ナフタレンジカルボン酸、またはこれらの酸無水物、酸ハロゲン化物もしくはエステルを、ジオール成分として、エチレングリコールや１，４−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と２，６−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、およびこれらのポリエステルの２種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルがより好ましい。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。

樹脂フィルムは、取扱いを容易にするために透明性を損なわない条件で粒子を含有させてもよい。本発明で用いる粒子の例としては、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、シリカ、カオリン、タルク、二酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、硫化モリブデン等の無機粒子や、架橋高分子粒子、シュウ酸カルシウム等の有機粒子を挙げることができる。また、粒子を添加する方法としては、原料とする上記樹脂材料中に粒子を含有させて添加する方法、押出機に直接添加する方法等を挙げることができ、このうちいずれか一方の方法を採用しても良く、二つの方法を併用してもよい。本発明では、必要に応じて上記粒子の他にも添加剤を加えてもよい。このような添加剤としては、たとえば、安定剤、潤滑剤、架橋剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤、染料、顔料、紫外線吸収剤などが挙げられる。

樹脂フィルムは、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。たとえば、材料となる樹脂を押出機により溶融し、環状ダイやＴダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の樹脂フィルムを製造することができる。また、未延伸の樹脂フィルムを一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、樹脂フィルムの流れ（ＭＤ）方向、または樹脂フィルムの流れ方向と直角（ＴＤ）方向に延伸することにより延伸樹脂フィルムを製造することができる。この場合の延伸倍率は、樹脂フィルムの原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、ＭＤ方向およびＴＤ方向にそれぞれ２〜１０倍が好ましい。

樹脂フィルムとしては、強度向上、熱膨張抑制の点から、延伸フィルムであることがより好ましい。かようなフィルムとしては、二軸配向ポリエステルフィルムであることが特に好ましいが、得られたフィルムが本発明の要旨を逸脱しない限り、未延伸または少なくとも一方に延伸されたポリエステルフィルムを用いることもできる。なお、上記観点から、延伸フィルムは特に自動車のフロントガラス用途として好ましく用いることができる。

また、樹脂フィルムは、１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）の制御の観点から、弛緩処理、オフライン熱処理を行ってもよい。弛緩処理は前記ポリエステルフィルムの延伸成膜工程中の熱固定した後、横延伸のテンター内、またはテンターを出た後の巻き取りまでの工程で行われるのが好ましい。弛緩処理は処理温度（熱処理温度）が８０〜２００℃であることが好ましく、１００〜１８０℃であることがより好ましく、１１０〜１７０であることがさらに好ましい。処理温度（熱処理温度）を８０℃以上とすることで、基材の１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）をより大きくすることができる。また、処理温度（熱処理温度）を２００℃以下とすることで、基材の１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）をより小さくすることができる。処理時間（熱処理時間）は１〜６０秒であることが好ましい。処理時間（熱処理時間）を１秒以上とすることで、基材の１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）をより小さくすることができる。また、処理時間（熱処理時間）を６０秒以下とすることで、基材の１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）をより大きくすることができる。同様の観点から、処理時間は、１〜５０秒であることがより好ましく、２〜４０秒であることがさらに好ましい。また、長手方向、幅手方向ともに、弛緩率が０．１〜１０％の範囲で行われることが好ましく、より好ましくは弛緩率が２〜６％で処理されることである。

樹脂フィルムは、下引層を有していてもよい。下引層とは、本発明においては、片面または両面に直接隣接する形で形成される水系易接着樹脂塗布層であり、本願における反射層ないし反射層を形成する層とは異なる層であるとする。ここで、水系易接着樹脂塗布層とは、易接着効果を有する水溶性の樹脂および溶媒としての水を含む、水系易接着塗布液（下引層塗布液）を塗布することによって得られる層を表す。
なお、本発明においては、樹脂フィルムがその片面または両面に直接隣接して下引層を有する場合は、下引層を有する樹脂フィルム（下引層および樹脂フィルムからなる積層体）を基材として取り扱うものとする。

ここで、樹脂フィルムは、成膜過程で片面または両面にインラインで下引層塗布液を塗布することが好ましい。本発明の一形態においては、成膜工程中での下引塗布をインライン下引という。本発明の一形態に係る有用な下引層塗布液に使用する樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレンイミンビニリデン樹脂、ポリエチレンイミン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、変性ポリビニルアルコール樹脂およびゼラチン等が挙げられ、いずれも好ましく用いることができる。これらの中でも、水溶性のポリエステル樹脂またはアクリル変性ポリエステル樹脂を用いることがより好ましい。これらの下引層には、従来公知の添加剤を加えることもできる。そして、上記の下引層は、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等の公知の方法によりコーティングすることができる。上記の下引層の塗布量としては、０．０１〜５ｇ／ｍ^２（乾燥状態）程度が好ましく、０．０１〜２ｇ／ｍ^２（乾燥状態）程度がより好ましい。

［反射層］
本発明の一形態に係る反射層は、入射光の一部を反射する機能を有する層である。

なお、本発明の一形態に係る反射層は、基材および反射層の、１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の差の絶対値が０．０５ＧＰａ以上であるように、また、光学フィルムの１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）が０．１２〜０．２０となるように製法、材料や厚さ等が設定されているものである。

ここで、反射層の１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の値は、特に制限されないが、２．００〜１３．５０ＧＰａであることが好ましい。反射層の１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の値が２．００ＧＰａ以上であると、加熱加工後の反射性能をさらに良好なものとすることができる。これは、かような反射層を有することで、反射層の変形量が過剰となることによって生じる反射層の膜厚変動をより抑制することができるからであると推測している。また、反射層の１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の値が１３．５０ＧＰａ以下であると、シワの抑制効果がより高くなる。これは、かような値を有する反射層は、光学フィルムの塑性変形性をより高めることができるからであると推測している。同様の観点から、反射層の１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の値は、２．２０〜１３．２０ＧＰａであることがより好ましく、２．５０〜８．００ＧＰａであることがさらに好ましく、２．６０〜７．００ＧＰａであることが特に好ましい。

１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の測定方法としては、反射層測定用試料を用いて測定を行うこと以外は、光学フィルムの１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）と同様の方法を用いて測定することができる。なお、詳細な測定方法は実施例に記載する。

また、反射層の１５０℃３０分経時における熱収縮率の値は、特に制限されないが、０．５％〜５．０％であることが好ましい。反射層の１５０℃３０分経時における熱収縮率の値が０．５％以上であると、シワの抑制効果がより高くなる。これは、かような値を有する反射層は、光学フィルムの変形を大きくし、フィルムの余り部分を減少させるとともに、光学フィルムの塑性変形性をより高めることができるからであると推測している。また、反射層の１５０℃３０分経時における熱収縮率の値が５．０％以下であると、加熱加工後の反射性能をさらに良好なものとすることができる。これは、かような反射層を有することで、反射層の変形量が過剰となることによって生じる反射層の膜厚変動をより抑制することができるからであると推測している。同様の観点から、反射層の１５０℃３０分経時における熱収縮率の値は、０．５〜４．０％であることがより好ましく、１．０〜３．０％であることがさらに好ましい。

１５０℃３０分経時における熱収縮率の測定方法としては、反射層測定用試料を用いて測定を行うこと以外は、基材の１５０℃３０分経時における熱収縮率と同様の方法を用いて測定することができる。なお、詳細な測定方法は実施例に記載する。

反射層の膜厚は、特に制限されないが、１．２μｍ〜７．８μｍであることが好ましい。反射層の膜厚が１．２μｍ以上であると、反射性能をさらに良好なものとすることができる。また、反射層の膜厚が７．８μｍ以下であると、シワの抑制効果がより高くなる。これは、かような値を有する反射層は、光学フィルムの塑性変形性をより高めることができるからであると推測している。同様の観点から、反射層の膜厚は、１．２〜７．６μｍ以下であることがより好ましく、１．４〜４．５μｍであることがさらに好ましい。

反射層の膜厚の測定方法としては、光学フィルムの断層を切削し、その断面を、電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ、Ｓ−５０００Ｈ型、株式会社日立製作所製）を用いて観察することから求めることができる。なお、詳細な測定方法は実施例に記載する。

ここで、反射層は、特定の波長の光を選択的に透過する反射層であることが好ましく、可視領域から赤外線領域の波長の光を透過する赤外反射膜であることがより好ましい。

特定の波長の光を選択的に透過する反射層としては、特に制限されないが、たとえば屈折率が互いに異なる屈折率層を交互に積層してその層厚に応じた波長の光のみを反射する誘電多層膜などを挙げることができる。

（誘電多層膜）
本発明に係る光学フィルムに用いられる反射層としては、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層して構成される誘電多層膜であることが好ましい。

本明細書において、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が高い方の屈折率層を高屈折率層とし、低い方の屈折率層を低屈折率層とすることを意味する。したがって、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、光反射フィルムを構成する各屈折率層において、隣接する２つの屈折率層に着目した場合に、各屈折率層が同じ屈折率を有する形態以外のあらゆる形態を含むものである。

また、反射層として誘電多層膜を有する光学フィルムの光学特性としては、ＪＩＳ Ｒ ３１０６：１９９８により測定される可視光領域の透過率が６０％以上であり、かつ、波長８００〜１４００ｎｍの領域に反射率５０％を超える領域を有することが好ましい。

反射層は、基材や他の層など、他の隣接部材との密着性、ヘイズおよび可視光透過率の観点から、少なくとも他の隣接部材と接する屈折率層の表面粗さは、算術平均表面粗さ（Ｒａ）が１０〜１００ｎｍであることが好ましく、１０〜５０ｎｍであることがより好ましく、１２〜２０ｎｍであることがさらに好ましい。前記屈折率層の算術平均表面粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以上であると、アンカー効果により、反射層と隣接部材との密着性を上げることができる。前記算術平均表面粗さが１００ｎｍ以下であると、反射層と隣接部材との界面が乱れることなく、ヘイズおよび可視光透過率の低下が抑制できる。なお、隣接部材としては、特に制限されないが、本発明の一形態に係る光学フィルムを合わせガラス用途に用いた時には、たとえば後述の中間層等が挙げられる。

高屈折率層の１層当たりの厚さは、２０〜８００ｎｍであることが好ましく、５０〜３５０ｎｍであることがより好ましい。また、低屈折率層の１層当たりの厚さは、２０〜８００ｎｍであることが好ましく、５０〜３５０ｎｍであることがより好ましい。

ここで、１層あたりの厚さを測定する場合、高屈折率層と低屈折率層とは、これらの間に明確な界面をもっていても、徐々に変化していてもよい。界面が徐々に変化している場合には、それぞれの層が混合し屈折率が連続的に変化する領域中で、最大屈折率−最小屈折率＝Δｎとした場合、２層間の最小屈折率＋Δｎ／２の地点を層界面とみなす。なお、後述する低屈折率層の層厚においても同様である。

高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層して形成された反射層の金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、ＸＰＳ表面分析装置を用いて、最表面を０ｎｍとして、０．５ｎｍ／ｍｉｎの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで見ることができる。また、積層膜を切断して、切断面をＸＰＳ表面分析装置で原子組成比を測定することで見ることも可能である。混合領域において、金属酸化物の濃度が不連続に変化している場合には電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断層写真により境界を確認することができる。

ＸＰＳ表面分析装置としては、特に制限されず、いかなる機種も使用することができるが、たとえば、ＶＧサイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いることができる。Ｘ線アノードにはＭｇを用い、出力６００Ｗ（加速電圧１５ｋＶ、エミッション電流４０ｍＡ）で測定することができる。

反射層は、生産性の観点から、好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲としては、６〜１００層であり、より好ましくは７〜６０層であり、さらに好ましくは８〜５５層であり、特に好ましくは８〜４０層であり、最も好ましくは、９〜３０層である。

反射層は、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本発明の一形態においては、隣接する高屈折率層と低屈折率層との屈折率差は０．１以上が好ましく、より好ましくは０．３以上であり、さらに好ましくは０．３５以上であり、よりさらに好ましくは０．４以上である。ただし、最表層や最下層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。

また、特定波長領域の反射率は、隣接する２層の屈折率差と積層数で決まり、屈折率の差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。たとえば、近赤外反射率９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと、２００層以上の積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下し、また故障なく製造することも非常に困難になる。反射率の向上と層数を少なくするという観点からは、屈折率差に上限はないが、実質的には１．４程度が限界である。

低屈折率層および高屈折率層は樹脂成分を含むことが好ましい。屈折率層を形成するのが樹脂成分であれば、塗布やスピンコートなどの成膜方法が選択可能となる。これらの方法は簡便であり、基材の耐熱性を問わないので選択肢が広く、特に樹脂基材に対して有効な成膜方法といえる。たとえば塗布型ならばロール・ツー・ロール法などの大量生産方式が採用でき、コスト面でもプロセス時間面でも有利になる。また、ポリマー材料を含む膜はフレキシブル性が高いため、生産時や運搬時に巻き取りを行っても、これらの欠陥が発生しづらく、取扱性に優れているという長所がある。また、上記ポリマーを用いて、たとえば共押出法または共流延法等により連続フラットフィルム製造ラインにより、反射層を形成することも可能である。

また、前記高屈折率層および前記低屈折率層に含まれるポリマー材料は、バインダーとして機能する水溶性バインダー樹脂であることが好ましい。

ここで、本発明の一形態に係る光学フィルムおいて、高屈折率層または低屈折率層に含まれる第１および第２の水溶性バインダー樹脂は、ポリビニルアルコールであることが好ましい。また、高屈折率層に含まれるポリビニルアルコールのケン化度と、低屈折率層に含まれるポリビニルアルコールのケン化度とは異なることが好ましい。また、前記高屈折率層には第１の金属酸化物粒子を含むことが好ましく、前記低屈折率層には第２の金属酸化物粒子を含むことが好ましい。ここで、前記高屈折率層に含まれる第１の金属酸化物粒子は、含ケイ素の水和酸化物で表面処理された酸化チタン粒子であることが好ましい。

前記反射層の少なくとも１層の屈折率層は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が４０℃〜７０℃である樹脂成分を含むことが好ましい。樹脂成分とは、従来公知のものを使用することができ、たとえば、水溶性バインダー樹脂単独または水溶性バインダー樹脂とラテックスの混合物が挙げられる。特定のＴｇを有する樹脂成分の割合は、１つの屈折率層の全質量に対し、好ましくは２０〜７０質量％であり、より好ましくは２５〜６５質量％であり、さらに好ましくは、３０〜６５質量％である。屈折率層は、透明基材上の少なくとも一つの面に、屈折率が互いに異なる、第１の水溶性バインダー樹脂と第１の金属酸化物粒子とを含む高屈折率層と、第２の水溶性バインダー樹脂と第２の金属酸化物粒子とを含む低屈折率層と、を少なくとも１層ずつ積層した層であることが好ましい。

反射層は、少なくとも他の隣接部材と接する屈折率層のガラス転移温度（Ｔｇ）が４０〜７０℃である樹脂成分を含むことが好ましい。他の隣接部材と接する屈折率層は、高屈折率層、低屈折率層のどちらでもよいが、他の隣接部材への密着性の観点から、好ましくは低屈折率層である。屈折率層のガラス転移温度（Ｔｇ）は、樹脂成分が水溶性バインダー樹脂単独の場合、当該水溶性バインダー樹脂の組成や重合度を調節して制御することができ、樹脂成分が水溶性バインダー樹脂およびラテックスの混合物の場合、樹脂成分の合計に対するラテックスの含有量によって制御することができる。

（高屈折率層）
本発明の好ましい一形態においては、高屈折率層は、第１の水溶性バインダー樹脂および第１の金属酸化物粒子を含むことができる。必要に応じて、樹脂成分のガラス転移温度（Ｔｇ）を制御するため、高屈折率層に含まれる樹脂成分としてラテックスを含んでもよい。また、高屈折率層は、硬化剤、その他のバインダー樹脂、界面活性剤、およびその他の添加剤からなる群より選択される少なくとも１種をさらに含んでもよい。

高屈折率層の屈折率は、好ましくは１．８０〜２．５０であり、より好ましくは１．９０〜２．２０である。

以下、第１の水溶性バインダー樹脂、ラテックス、その他のバインダー樹脂、第１の金属酸化物粒子、硬化剤、界面活性剤およびその他の添加剤について説明する。

（第１の水溶性バインダー樹脂）
本発明の一形態に係る第１の水溶性バインダー樹脂は、該水溶性バインダー樹脂が最も溶解する温度で、０．５質量％の濃度に水に溶解させた際、Ｇ２グラスフィルタ（最大細孔４０〜５０μｍ）で濾過した場合に濾別される不溶物の質量が、加えた該水溶性バインダー樹脂の５０質量％以内であるものをいう。

第１の水溶性バインダー樹脂の重量平均分子量は、１，０００以上２００，０００以下が好ましく、３，０００以上４０，０００以下がより好ましい。

ここで、重量平均分子量は、公知の方法によって測定することができ、たとえば、静的光散乱、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法（ＧＰＣ）、飛行時間型質量分析法（ＴＯＦ−ＭＡＳＳ）などによって測定することができる。重量平均分子量は、本願明細書においては、一般的な公知の方法であるゲルパーミエーションクロマトグラフィ法によって測定した値を用いている。

高屈折率層における第１の水溶性バインダー樹脂の含有量は、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることがより好ましい。

第１の水溶性バインダー樹脂は、特に制限はないが、ポリビニルアルコールであることが好ましい。また、後述する低屈折率層に存在する第２の水溶性バインダー樹脂も、ポリビニルアルコールであることが好ましい。したがって、以下では、高屈折率層および低屈折率層に含まれるポリビニルアルコールを併せて説明する。

（ポリビニルアルコール）
本発明の一形態においては、高屈折率層と低屈折率層は、それぞれケン化度の異なる２種以上のポリビニルアルコールを含むことが好ましい。ここで、区別するために、第１の水溶性バインダー樹脂としてのポリビニルアルコールをポリビニルアルコール（Ａ）と呼び、第２の水溶性バインダー樹脂としてのポリビニルアルコールをポリビニルアルコール（Ｂ）と呼ぶ。なお、各屈折率層が、ケン化度や重合度が異なる複数のポリビニルアルコールを含む場合には、各屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコールをそれぞれ高屈折率層におけるポリビニルアルコール（Ａ）、および低屈折率層におけるポリビニルアルコール（Ｂ）と称する。

本願明細書でいう「ケン化度」とは、ポリビニルアルコール中のアセチルオキシ基（原料の酢酸ビニル由来のもの）と水酸基との合計数に対する水酸基の割合のことである。

また、ここでいう「屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコール」という際には、ケン化度の差が３ｍｏｌ％以内のポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールであるとし、重合度を算出する。ただし、重合度１０００以下の低重合度ポリビニルアルコールは、異なるポリビニルアルコールとする（仮にケン化度の差が３ｍｏｌ％以内のポリビニルアルコールがあったとしても同一のポリビニルアルコールとはしない）。具体的には、ケン化度が９０ｍｏｌ％、ケン化度が９１ｍｏｌ％、ケン化度が９３ｍｏｌ％のポリビニルアルコールが同一層内にそれぞれ１０質量％、４０質量％、５０質量％含まれる場合には、これら３つのポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールとし、これら３つの混合物をポリビニルアルコール（Ａ）または（Ｂ）とする。また、上記「ケン化度の差が３ｍｏｌ％以内のポリビニルアルコール」とは、いずれかのポリビニルアルコールに着目した場合に３ｍｏｌ％以内であれば足り、たとえば、９０ｍｏｌ％、９１ｍｏｌ％、９２ｍｏｌ％、９４ｍｏｌ％のポリビニルアルコールを含む場合には、９１ｍｏｌ％のポリビニルアルコールに着目した場合に、いずれのポリビニルアルコールのケン化度の差も３ｍｏｌ％以内なので、同一のポリビニルアルコールとなる。

同一層内にケン化度が３ｍｏｌ％以上異なるポリビニルアルコールが含まれる場合、異なるポリビニルアルコールの混合物とみなし、それぞれに重合度とケン化度を算出する。たとえば、ＰＶＡ２０３：５質量％、ＰＶＡ１１７：２５質量％、ＰＶＡ２１７：１０質量％、ＰＶＡ２２０：１０質量％、ＰＶＡ２２４：１０質量％、ＰＶＡ２３５：２０質量％、ＰＶＡ２４５：２０質量％が含まれる場合、最も含有量の多いＰＶＡ（ポリビニルアルコール）は、ＰＶＡ２１７〜２４５の混合物であり（ＰＶＡ２１７〜２４５のケン化度の差は３ｍｏｌ％以内なので同一のポリビニルアルコールである）、この混合物がポリビニルアルコール（Ａ）または（Ｂ）となる。そうして、ＰＶＡ２１７〜２４５の混合物（ポリビニルアルコール（Ａ）または（Ｂ））において、重合度が、（１７００×０．１＋２０００×０．１＋２４００×０．１＋３５００×０．２＋４５００×０．７）／０．７＝３２００であり、ケン化度は、８８ｍｏｌ％となる。

ポリビニルアルコール（Ａ）とポリビニルアルコール（Ｂ）とのケン化度の絶対値の差は、３ｍｏｌ％以上であることが好ましく、５ｍｏｌ％以上であることがより好ましい。かような範囲であれば、高屈折率層と低屈折率層との層間混合状態が好ましいレベルになるため好ましい。また、ポリビニルアルコール（Ａ）とポリビニルアルコール（Ｂ）とのケン化度の差は、離れていれば離れているほど好ましいが、ポリビニルアルコールの水への溶解性の観点から、２０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。

また、ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）のケン化度は、水への溶解性の観点で、７５ｍｏｌ％以上であることが好ましい。さらに、ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）のうち一方がケン化度９０ｍｏｌ％以上であり、他方が９０ｍｏｌ％以下であることが、高屈折率層と低屈折率層との層間混合状態を好ましいレベルにするために好ましい。ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）のうち一方が、ケン化度９５ｍｏｌ％以上であり、他方が９０ｍｏｌ％以下であることがより好ましい。なお、ポリビニルアルコールのケン化度の上限は特に限定されるものではないが、通常１００ｍｏｌ％未満であり、好ましくは９９．９ｍｏｌ％以下である。

また、ケン化度の異なる２種のポリビニルアルコールの重合度は、１，０００以上のものが好ましく用いられる。ポリビニルアルコールの重合度が、１，０００以上であると塗布膜のひび割れの発生頻度がより低くなるからである。また、ケン化度の異なる２種のポリビニルアルコールの重合度は、５，０００以下のものが好ましく用いられる。ポリビニルアルコールの重合度が、５，０００以下であると塗布液がより安定するからである。なお、本願明細書において、「塗布液が安定する」とは、塗布液が経時的に安定することを意味する。同様の観点から、重合度が１，５００〜５，０００のものがより好ましく、２，０００〜５，０００のものがさらに好ましい。ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）の少なくとも一方の重合度が２，０００〜５，０００であると、塗膜のひび割れの発生頻度が顕著に減少し、特定の波長の反射率が向上するからである。ここで、ポリビニルアルコール（Ａ）とポリビニルアルコール（Ｂ）との双方が２，０００〜５，０００であると、上記効果はより顕著に発揮できるため、特に好ましい。

本明細書でいう「重合度」とは、粘度平均重合度を指し、ＪＩＳ Ｋ ６７２６：１９９４に準じて測定され、ＰＶＡを完全に再ケン化し、精製した後、３０℃の水中で測定した極限粘度［η］（ｄｌ／ｇ）から次式により求められるものである。

低屈折率層に含まれるポリビニルアルコール（Ｂ）は、ケン化度が７５ｍｏｌ％以上９０ｍｏｌ％以下で、かつ重合度が２，０００以上５，０００以下であることが好ましい。かようなポリビニルアルコールを低屈折率層に含有させると、界面混合がより抑制され点で好ましい。これは塗膜のひび割れが少なく、かつセット性が向上するためであると考えられる。

本発明の一形態において用いられるポリビニルアルコール（Ａ）および（Ｂ）は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。ポリビニルアルコール（Ａ）および（Ｂ）として用いられる市販品としては、たとえば、ＰＶＡ−１０２、ＰＶＡ−１０３、ＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２３５（以上、株式会社クラレ製）、ＪＣ−２５、ＪＣ−３３、ＪＦ−０３、ＪＦ−０４、ＪＦ−０５、ＪＰ−０３、ＪＰ−０４ＪＰ−０５、ＪＰ−４５（以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製）等が挙げられる。

本発明の一形態に係る第１の水溶性バインダー樹脂は、本発明の効果を損なわない限りは、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、一部が変性された変性ポリビニルアルコールを含んでもよい。かような変性ポリビニルアルコールを含むと、膜の密着性や耐水性、柔軟性が改良される場合がある。かような変性ポリビニルアルコールとしては、たとえば、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマー等が挙げられる。

カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、たとえば、特開昭６１−１０４８３号公報に記載されているような、第一〜三級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコール等であり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。

カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、たとえば、トリメチル−（２−アクリルアミド−２，２−ジメチルエチル）アンモニウムクロライド、トリメチル−（３−アクリルアミド−３，３−ジメチルプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−（２−メタクリルアミドプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−ジメチルアミノプロピル）アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して好ましくは０．１〜１０ｍｏｌ％、より好ましくは０．２〜５ｍｏｌ％である。

アニオン変性ポリビニルアルコールは、たとえば、特開平１−２０６０８８号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号公報および同６３−３０７９７９号公報に記載されているようなビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体、および特開平７−２８５２６５号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。

また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、たとえば、特開平７−９７５８号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシ基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。

また、ビニルアルコール系ポリマーとして、たとえば、エクセバール（登録商標、株式会社クラレ製）やニチゴＧポリマー（登録商標、日本合成化学工業株式会社製）等が挙げられる。

変性ポリビニルアルコールは、重合度や変性の種類違いなど２種類以上を併用することができる。

変性ポリビニルアルコールの含有量は、特に限定されるものではないが、各屈折率の全質量（固形分）に対し、好ましくは１〜３０質量％である。かような範囲であれば、上記効果がより発揮される。

本発明の一形態においては、屈折率の異なる層間ではケン化度の異なる２種のポリビニルアルコールがそれぞれ用いられることが好ましい。

たとえば、高屈折率層に低ケン化度のポリビニルアルコール（Ａ）を用い、低屈折率層に高ケン化度のポリビニルアルコール（Ｂ）を用いる場合には、高屈折率層中のポリビニルアルコール（Ａ）が層中の全ポリビニルアルコール類の全質量に対し、４０質量％以上１００質量％以下の範囲で含有されることが好ましく、６０質量％以上９５質量％以下がより好ましく、低屈折率層中のポリビニルアルコール（Ｂ）が低屈折率層中の全ポリビニルアルコール類の全質量に対し、４０質量％以上１００質量％以下の範囲で含有されることが好ましく、６０質量％以上９５質量％以下がより好ましい。

また、高屈折率層に高ケン化度のポリビニルアルコール（Ａ）を用い、低屈折率層に低ケン化度のポリビニルアルコール（Ｂ）を用いる場合には、高屈折率層中のポリビニルアルコール（Ａ）が層中の全ポリビニルアルコール類の全質量に対し、４０質量％以上１００質量％以下の範囲で含有されることが好ましく、６０質量％以上９５質量％以下がより好ましく、低屈折率層中のポリビニルアルコール（Ｂ）が低屈折率層中の全ポリビニルアルコール類の全質量に対し、４０質量％以上１００質量％以下の範囲で含有されることが好ましい。低屈折率層中のポリビニルアルコール（Ｂ）の含有量が４０質量％以上であると、層間混合が抑制され、界面の乱れがより小さくなるという効果が顕著に現れる。一方、低屈折率層中のポリビニルアルコール（Ｂ）の含有量が１００質量％以下であれば、塗布液の安定性がより向上する。同様の観点から、低屈折率層中のポリビニルアルコール（Ｂ）の含有量は、６０質量％以上９５質量以下がより好ましい。

（ラテックス）
本発明の一形態においては、高屈折率層は、樹脂成分として水溶性バインダー樹脂に加え、ラテックスを含んでもよい。ラテックスとは、水媒体中に安定して分散される樹脂である。本発明の一形態におけるラテックスとしては、たとえば、エマルジョン樹脂が挙げられる。樹脂成分の合計に対するラテックスの含有量により、樹脂成分のガラス転移温度（Ｔｇ）を制御することができ、また樹脂成分としてラテックスを含むことにより、作製した合わせガラスの耐熱性が良くなる。

上記ラテックスの含有量としては、前記水溶性バインダー樹脂とラテックスの合計（１００質量％）に対して、好ましくは１質量％以上５０質量％以下であり、より好ましくは５質量％以上５０質量％未満であり、さらに好ましくは、５質量％〜２０質量％である。

エマルジョン樹脂とは、水系媒体中に微細な、たとえば、平均粒径が０．０１〜２．０μｍ程度の樹脂粒子がエマルジョン状態で分散されている樹脂で、油溶性のモノマーを、水酸基を有する高分子分散剤を用いてエマルジョン重合する等によって得ることができる。用いる分散剤の種類によって、得られるエマルジョン樹脂のポリマー成分に基本的な違いは見られない。エマルジョンの重合時に使用される分散剤としては、たとえば、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ジエチルアミン、エチレンジアミン、４級アンモニウム塩のような低分子の分散剤の他に、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエキシエチレンラウリル酸エーテル、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルピロリドンのような高分子分散剤が挙げられる。水酸基を有する高分子分散剤を用いてエマルジョン重合すると、微細な微粒子の少なくとも表面に水酸基の存在が推定され、他の分散剤を用いて重合したエマルジョン樹脂とはエマルジョンの化学的、物理的性質が異なる。

水酸基を含む高分子分散剤とは、重量平均分子量が１００００以上の高分子の分散剤で、側鎖または末端に水酸基が置換されたものであり、たとえばポリアクリル酸ソーダ、ポリアクリルアミドのようなアクリル系の高分子で２−エチルヘキシルアクリレートが共重合されたもの、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールのようなポリエーテル、ポリビニルアルコールなどが挙げられ、特にポリビニルアルコールが好ましい。

高分子分散剤として使用されるポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、カチオン変性したポリビニルアルコールやカルボキシル基のようなアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール、シリル基を有するシリル変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールが含まれていてもよい。ポリビニルアルコールは、平均重合度が高い方がインク吸収層を形成する際のクラックの発生を抑制する効果が大きいが、平均重合度が５０００以内であると、エマルジョン樹脂の粘度が高くなく、製造時に取り扱いやすい。したがって、平均重合度は３００〜５０００のものが好ましく、１５００〜５０００のものがより好ましく、３０００〜４５００のものが特に好ましい。ポリビニルアルコールのケン化度は７０〜１００ｍｏｌ％のものが好ましく、８０〜９９．５ｍｏｌ％のものがより好ましい。

上記の高分子分散剤で乳化重合される樹脂としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル系化合物、スチレン系化合物といったエチレン系単量体、ブタジエン、イソプレンといったジエン系化合物の単独重合体または共重合体が挙げられる。より詳細には、高分子分散剤で乳化重合される樹脂としては、たとえばアクリル系樹脂（アクリル樹脂）、スチレン−ブタジエン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂等が挙げられる。

アクリル樹脂としては、特に制限されないが、構成成分である単量体の合計を１００モル％としたときに、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルの割合が５０モル％以上であるものが好ましい。

アクリル樹脂としては、市販されているものを用いてもよく、たとえば、ＡＥ１２０Ａ（株式会社イーテック製）、ビニブラン（登録商標）２５８５、２６８０（日信化学工業株式会社製）、ＥＫ１０８（サイデン化学株式会社製）、ＶＯＮＣＯＡＴ（登録商標）ＣＥ−６４００（ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。

（その他のバインダー樹脂）
本発明の一形態においては、高屈折率層は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、前記第一の水溶性バインダー樹脂成分に加え、その他の水溶性バインダー樹脂を使用することができる。その他の水溶性バインダー樹脂としては、特に制限はないが、環境の問題や塗膜の柔軟性を考慮すると、水溶性高分子が好ましい。

高屈折率層において、前記第一の水溶性バインダー樹脂成分とともに併用する、その他のバインダー樹脂の含有量は、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、５〜５０質量％で用いることもできる。

すなわち、本発明の一形態においては、その効果を損なわない限りにおいて、上記ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールに加えて、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール以外の水溶性高分子をバインダー樹脂として用いてもよい。前記水溶性高分子とは、該水溶性高分子が最も溶解する温度で、０．５質量％の濃度に水に溶解させた際、Ｇ２グラスフィルタ（最大細孔４０〜５０μｍ）で濾過した場合に濾別される不溶物の質量が、加えた該水溶性高分子の５０質量％以内であるものをいう。そのような水溶性高分子の中でも特にゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、または反応性官能基を有するポリマーが好ましい。これらの水溶性高分子は単独で用いても構わないし、２種類以上を混合して用いても構わない。

（共押出法または共流延法によって形成する反射層に好適な樹脂成分）
また、共押出法または共流延法を用いて反射層を形成する場合、高屈折率層に含まれる樹脂成分としては、特に制限されないが、たとえば、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタラートのコポリマー（ｃｏＰＥＴ）、ポリ（メチルメタクリラート）（ＰＭＭＡ）、ポリ（メチルメタクリラート）のコポリマー（ｃｏＰＭＭＡ）、シクロヘキサンジメタノール（ＰＥＴＧ）、シクロヘキサンジメタノールのコポリマー（ｃｏＰＥＴＧ）、ポリエチレンナフタラート（ＰＥＮ）ポリエチレンナフタラートのコポリマー（ｃｏＰＥＮ）、ポリエチレンナフタラート、ポリエチレンナフタラートのコポリマー、ポリ（メチルメタクリラート）、およびポリ（メチルメタクリラート）のコポリマー等が挙げられる。なお、低屈折率層に含まれる樹脂成分としても、高屈折率層に含まれる樹脂成分と同様のものを挙げることができる。各高屈折率層および低屈折率層には、これらのポリマーを１種、または２種以上の組み合わせを用いることができる。また、好適なポリマーの組み合わせの例として、米国特許第６，３５２，７６１号明細書に記載のものが挙げられる。

（第１の金属酸化物粒子）
本発明の一形態に係る第１の金属酸化物粒子としては、屈折率が２．０以上、３．０以下である金属酸化物粒子が好ましい。さらに具体的には、たとえば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。また複数の金属で構成された複合酸化物粒子やコアシェル状に金属構成が変化するコアシェル粒子等を用いてもよい。

透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成するために、本発明の一形態に係る高屈折率層には、チタン、ジルコニウム等の高屈折率を有する金属の酸化物微粒子を含有させることが好ましく、酸化チタン微粒子または酸化ジルコニア微粒子を含有させることがより好ましい。これらの中でも、高屈折率層を形成するための塗布液の安定性の観点から、酸化チタンがさらに好ましい。また、酸化チタンの中でも、アナターゼ型よりもルチル型（正方晶形）の方が、触媒活性が低いために、高屈折率層や隣接した層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高くなることから特に好ましい。

また、酸化チタンは、含ケイ素の水和酸化物で被覆されたコアシェル粒子の形態であってもよい。当該コアシェル粒子は、酸化チタン粒子の表面を、コアとなる酸化チタンに含ケイ素の水和酸化物からなるシェルが被覆してなる構造を有する。この際のコアの部分となる酸化チタン粒子の体積平均粒径は、１ｎｍ超３０ｎｍ未満であることが好ましく、４ｎｍ以上３０ｎｍ未満であることがより好ましく、４ｎｍ以上１５ｎｍ未満であることがより好ましい。かようなコアシェル粒子を含有させることで、シェル層の含ケイ素の水和酸化物と水溶性樹脂との相互作用により、高屈折率層と低屈折率層との層間混合をより抑制することができる。

上述の第１の金属酸化物粒子は、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。

第１の金属酸化物粒子の含有量は、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、１５〜８０質量％であると、低屈折率層との屈折率差を付与するという観点で好ましい。さらに、２０〜７７質量％であることがより好ましく、３０〜７５質量％であることがさらに好ましい。

第１の金属酸化物粒子の体積平均粒径は、３０ｎｍ以下であることが好ましく、１〜３０ｎｍであることがより好ましい。第１の金属酸化物粒子の体積平均粒径が１ｎｍ以上３０ｎｍ以下であれば、ヘイズがより少なく可視光透過性により優れる高屈折率層を形成することができる。同様の観点から、第１の金属酸化物粒子の体積平均粒径は、５〜１５ｎｍであることがさらに好ましい。

なお、第１の金属酸化物粒子の体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子がそれぞれｎ１、ｎ２・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する粒子状の金属酸化物の集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、体積平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される体積で重み付けされた平均粒径である。

さらに、第１の金属酸化物粒子は、単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散度が４０％以下であることをいう。この単分散度は、さらに好ましくは３０％以下であり、特に好ましくは０．１〜２０％である。

（硬化剤）
本発明の一形態においては、第１の水溶性バインダー樹脂を硬化させるため、硬化剤を使用することもできる。第１の水溶性バインダー樹脂と共に用いることができる硬化剤としては、当該水溶性バインダー樹脂と硬化反応を起こすものであれば特に制限はない。たとえば、第１の水溶性バインダー樹脂として、ポリビニルアルコールを用いる場合では、硬化剤として、ホウ酸またはその塩が好ましい。ホウ酸またはその塩以外にも公知のものが使用でき、一般的には、ポリビニルアルコールと反応し得る基を有する化合物あるいはポリビニルアルコールが有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、適宜選択して用いられる。硬化剤の具体例としては、たとえば、エポキシ系硬化剤（ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ジグリシジルシクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−４−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等）、アルデヒド系硬化剤（ホルムアルデヒド、グリオキザール等）、活性ハロゲン系硬化剤（２，４−ジクロロ−４−ヒドロキシ−１，３，５，−ｓ−トリアジン等）、活性ビニル系化合物（１，３，５−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等）、アルミニウム明礬等が挙げられる。

ホウ酸またはその塩とは、硼素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸および八ホウ酸およびそれらの塩が挙げられる。

硬化剤としてのホウ素原子を有するホウ酸またはその塩は、単独の水溶液でも、また、２種以上を混合して使用してもよい。特に好ましいのはホウ酸とホウ砂との混合水溶液である。

ホウ酸とホウ砂は、水溶液を調製するに際しては、それぞれ、比較的希薄な水溶液を形成する含有量でしか添加することができないが、両者を混合することで濃厚な水溶液にすることができ、塗布液を濃縮化することができる。また、添加する水溶液のｐＨを比較的自由にコントロールすることができる利点がある。

本発明の一形態においては、硬化剤は、ホウ酸もしくはその塩、またはホウ砂を用いることがより好ましい。ホウ酸もしくはその塩、またはホウ砂を用いた場合には、金属酸化物粒子と水溶性バインダー樹脂であるポリビニルアルコールのＯＨ基と水素結合ネットワークがより形成しやすく、その結果として高屈折率層と低屈折率層との層間混合が抑制され、好ましい近赤外遮断特性が達成されると考えられる。特に、高屈折率層および低屈折率層の多層重層をコーターで塗布後、一旦塗膜の膜面温度を１５℃程度に冷やした後、膜面を乾燥させるセット系塗布プロセスを用いた場合には、より好ましく効果を発現することができる。

高屈折率層における硬化剤の含有量は、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、１〜１０質量％であることが好ましく、２〜６質量％であることがより好ましい。

特に、第１の水溶性バインダー樹脂としてポリビニルアルコールを使用する場合の上記硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール１ｇ当たり１〜６００ｍｇが好ましく、ポリビニルアルコール１ｇ当たり１００〜６００ｍｇがより好ましい。

（界面活性剤）
本発明の一形態においては、高屈折率層の少なくとも１層が、さらに界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤としては、両性イオン系、カチオン系、アニオン系、ノニオン系のいずれの種類も使用することができる。より好ましくは、ベタイン系両性イオン性界面活性剤、４級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤、ジアルキルスルホコハク酸塩系アニオン性界面活性剤、アセチレングリコール系ノニオン性界面活性剤、またはフッ素系カチオン性界面活性剤が好ましい。

界面活性剤としては、たとえばソフタゾリン（登録商標）ＬＳＢ−Ｒ（川研ファインケミカル株式会社製）等の市販品を用いることができる。

界面活性剤の添加量としては、高屈折率層用塗布液の全質量を１００質量％としたとき、０．００５〜０．３０質量％であることが好ましく、０．０１〜０．１０質量％であることがより好ましい。

（その他の添加剤）
本発明の一形態に係る高屈折率層に適用可能な各種の添加剤を、以下に列挙する。たとえば、特開昭５７−７４１９３号公報、特開昭５７−８７９８８号公報、および特開昭６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤；特開昭５７−７４１９２号、特開昭５７−８７９８９号公報、特開昭６０−７２７８５号公報、特開昭６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報、および特開平３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤；特開昭５９−４２９９３号公報、特開昭５９−５２６８９号公報、特開昭６２−２８００６９号公報、特開昭６１−２４２８７１号公報、および特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤；硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤；消泡剤；ジエチレングリコール等の潤滑剤；防腐剤；防黴剤；帯電防止剤；マット剤；熱安定剤；酸化防止剤；難燃剤；結晶核剤；無機粒子；有機粒子；減粘剤；滑剤；赤外線吸収剤；色素；顔料等の公知の各種添加剤などが挙げられる。

ここで、ｐＨ調整剤を用いる場合は、高屈折率層用塗布液の全質量を１００質量％としたとき、０．５〜５．０質量％であることが好ましく、１．０〜４．０質量％であることがより好ましい。

＜低屈折率層＞
本発明の好ましい一形態において、低屈折率層は、樹脂成分として第２の水溶性バインダー樹脂および第２の金属酸化物粒子を含むことができる。必要に応じて、低屈折率層に含まれる樹脂成分として、高屈折率層と同様に、水溶性バインダー樹脂に加え、ラテックスを含むことができる。また、その他のバインダー樹脂、硬化剤、界面活性剤、およびその他の添加剤からなる群から選択される少なくとも１種を含んでもよい。

低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．１０〜１．６０であり、より好ましくは１．３０〜１．５０である。

以下、第２の水溶性バインダー樹脂、その他のバインダー樹脂、および第２の金属酸化物粒子について説明する。なお、第２の水溶性バインダー樹脂、ラテックス、硬化剤、界面活性剤、およびその他の添加剤としては高屈折率層と同様のものを用いることができるため、これらの詳細は高屈折率層における説明を参照されたい。

（第２の水溶性バインダー樹脂）
本発明の一形態においては、第２の水溶性バインダー樹脂としては、第１の水溶性バインダー樹脂と同様のものが用いられうる。

低屈折率層における第２の水溶性バインダー樹脂の含有量は、低屈折率層の固形分１００質量％に対して、２０〜９９．９質量％であることが好ましく、２５〜８０質量％であることがより好ましく、２１．５〜２５．０質量％であることがさらに好ましく、２２．５〜２４．５質量％であることが特に好ましい。

（ラテックス）
本発明の一形態においては、低屈折率層は、樹脂成分として水溶性バインダー樹脂に加え、ラテックスを含んでもよい。ラテックスとは、水媒体中に安定して分散される樹脂である。好ましいラテックスとしては、高屈折率層で挙げたものと同様のものを用いることができる。

上記ラテックスの含有量としては、前記水溶性バインダー樹脂とラテックスの合計（１００質量％）に対して、好ましくは１質量％以上５０質量％以下、より好ましくは５質量％以上５０質量％未満であり、さらに好ましくは２２．０質量％以上４９質量％以下であり、よりさらに好ましくは３０．０質量％以上４９質量％以下であり、特に好ましくは３０質量％以上４５．０質量％以下であり、極めて好ましくは３０．０質量％以上４０．０質量％以下であり、最も好ましくは３０．０質量％以上３５．０質量％以下である。

（その他のバインダー樹脂）
本発明の一形態においては、低屈折率層に含まれうるその他のバインダー樹脂としては、高屈折率層と同様のものが用いられうる。

低屈折率層において、前記第二の水溶性バインダー樹脂成分とともに併用する、その他のバインダー樹脂の含有量は、低屈折率層の固形分１００質量％に対して、０．１〜１０質量％で用いることもできる。

（第２の金属酸化物粒子）
本発明の一形態に係る第２の金属酸化物粒子としては、シリカ（二酸化ケイ素）を用いることが好ましい。シリカの具体的な例としては、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらの中でも、酸性のコロイダルシリカゾル（コロイダルシリカ分散液）を用いることがより好ましく、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカゾルを用いることがさらに好ましい。また、屈折率をより低減させるためには、第２の金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いることができ、シリカ（二酸化ケイ素）の中空微粒子が特に好ましい。

第２の金属酸化物粒子（好ましくは二酸化ケイ素）は、その平均粒径が３〜１００ｎｍであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、３〜５０ｎｍであることがより好ましく、３〜４０ｎｍであることがさらに好ましく、３〜２０ｎｍであることが特に好ましく、４〜１０ｎｍであることが最も好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、３０ｎｍ以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。

第２の金属酸化物微粒子の平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。

本発明の一形態において用いられるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、たとえば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、および国際公開第９４／２６５３０号などに記載されているものである。

かようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、たとえばスノーテックス（登録商標）ＯＸＳ（日産化学工業株式会社製）等を挙げることができる。コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、ＭｇまたはＢａ等で処理されたものであってもよい。

本発明の一形態においては、第２の金属酸化物粒子として、中空粒子を用いることもできる。中空粒子を用いる場合には、平均粒子空孔径が、３〜７０ｎｍであるのが好ましく、５〜５０ｎｍがより好ましく、５〜４５ｎｍがさらに好ましい。なお、中空粒子の平均粒子空孔径とは、中空粒子の内径の平均値である。本発明の一形態においては、中空粒子の平均粒子空孔径は、上記範囲であれば、十分に低屈折率層の屈折率が低屈折率化される。平均粒子空孔径は、電子顕微鏡観察で、円形、楕円形または実質的に円形は楕円形として観察できる空孔径を、ランダムに５０個以上観察し、各粒子の空孔径を求め、その数平均値を求めることにより得られる。なお、本願明細書中、平均粒子空孔径としては、円形、楕円形または実質的に円形もしくは楕円形として観察できる空孔径の外縁を、２本の平行線で挟んだ距離のうち、最小の距離を意味する。

本発明の一形態においては、第２の金属酸化物粒子は、表面被覆成分により表面コーティングされていてもよい。特に本発明に係る第１の金属酸化物粒子としてコアシェル状ではない金属酸化物粒子を用いる際に、第２の金属酸化物粒子の表面をポリ塩化アルミニウムなどの表面被覆成分によりコーティングすると、第１の金属酸化物粒子と凝集しにくくなる。

低屈折率層における第２の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層の固形分１００質量％に対して、０．１〜７０質量％であることが好ましく、３０〜７０質量％であることがより好ましく、４５〜６５質量％であることがさらに好ましく、５５〜６５質量％であることがよりさらに好ましく、５８〜６４質量％であることが特に好ましく、６０〜６３質量％であることが最も好ましい。

上記の第２の金属酸化物粒子は、屈折率を調整する等の観点から、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（硬化剤）
本発明の一形態においては、第２の水溶性バインダー樹脂を硬化させるため、硬化剤を使用することもできる。好ましい硬化剤としては、高屈折率層で挙げたものと同様のものを用いることができる。

低屈折率層における硬化剤の含有量は、低屈折率層の固形分１００質量％に対して、１．０〜１０．０質量％であることが好ましく、１．６２〜１．８８質量％であることが好ましく、１．７０〜１．８５質量％であることがより好ましい。

特に、第２の水溶性バインダー樹脂としてポリビニルアルコールを使用する場合の上記硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール１ｇ当たり１〜６００ｍｇが好ましく、ポリビニルアルコール１ｇ当たり１００〜６００ｍｇがより好ましい。

（界面活性剤）
本発明の一形態においては、低屈折率層の少なくとも１層が、さらに界面活性剤を含有してもよい。好ましい界面活性剤としては、高屈折率層で挙げたものと同様のものを用いることができる。

界面活性剤の添加量としては、低屈折率層用塗布液の全質量を１００質量％としたとき、０．０１〜２．００質量％であることが好ましく、０．０１〜１．００質量％であることがより好ましく、０．０１〜０．１０質量％であることがさらに好ましい。

（その他の添加剤）
本発明の一形態においては、その他添加剤は高屈折率層で挙げたものと同様のものを用いることができる。

（反射層の製造方法）
本発明の一形態に係る反射層の形成方法は、特に制限されない。好ましくは、基材上に、第１の水溶性バインダー樹脂と第１の金属酸化物粒子と、を含む、高屈折率層用塗布液と、第２の水溶性バインダー樹脂と第２の金属酸化物粒子と、を含む、低屈折率層用塗布液と、を塗布する工程を含む製造方法を実施することができる。

塗布方法は、特に制限されず、たとえば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、スライド型カーテン塗布法、または米国特許第２，７６１，４１９号明細書、米国特許第２，７６１，７９１号明細書などに記載のスライドホッパー塗布法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。また、複数の層を重層塗布する方式としては、逐次重層塗布でもよいし同時重層塗布でもよいが、同時重層塗布であることが好ましい。

以下、本発明の好ましい製造方法（塗布方法）であるスライドホッパー塗布法による同時重層塗布について詳細に説明する。

（溶媒）
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。

有機溶媒としては、特に制限されず、適切な溶媒を用いることができる。具体的には、たとえば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。

環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、特に水が好ましい。

（塗布液の濃度）
高屈折率層用塗布液中の第１の水溶性バインダー樹脂の濃度は、１〜１０質量％であることが好ましい。また、高屈折率層用塗布液中の第１の金属酸化物粒子の濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。

低屈折率層用塗布液中の第２の水溶性バインダー樹脂の濃度は、１〜１０質量％であることが好ましい。また、低屈折率層用塗布液中の第２の金属酸化物粒子の濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。

（塗布液の調製方法）
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の調製方法は、特に制限されず、たとえば、水溶性バインダー樹脂、金属酸化物粒子、および必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、攪拌混合する方法が挙げられる。この際、水溶性バインダー樹脂、金属酸化物粒子、および必要に応じて用いられるその他の添加剤の添加順も特に制限されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。必要に応じて、さらに溶媒を用いて、適当な粘度に調製される。

コアシェル粒子を添加、分散して調製した水系の高屈折率層用塗布液を用いて、高屈折率層を形成してもよい。このとき、コアシェル粒子としては、ｐＨが５．０以上、７．５以下で、かつ粒子のゼータ電位が負であるゾルとして、高屈折率層用塗布液に添加して調製することが好ましい。

（塗布液の粘度）
スライドホッパー塗布法により同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の３０〜４５℃における粘度は、５〜５００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、１０〜４５０ｍＰａ・ｓの範囲がより好ましい。また、スライド型カーテン塗布法により同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の３０〜４５℃における粘度は、５〜１２００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、２５〜５００ｍＰａ・ｓの範囲がより好ましい。

また、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の１５℃における粘度は、１００ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１００〜３０，０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、３，０００〜３０，０００ｍＰａ・ｓがさらに好ましく、１０，０００〜３０，０００ｍＰａ・ｓが特に好ましい。

（塗布および乾燥方法）
スライドホッパー塗布法は、スライドホッパー塗布装置を用いて塗布を行う方法である。

塗布および乾燥方法は、特に制限されないが、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を３０℃以上に加温して、基材上に高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは１〜１５℃に一旦冷却し（セット）、その後１０℃以上で乾燥することが好ましい。より好ましい乾燥条件は、湿球温度５〜５０℃、膜面温度１０〜５０℃の範囲の条件である。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。

高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の塗布厚は、上記で示したような好ましい乾燥時の厚さとなるように塗布すればよい。

ここで、前記セットとは、冷風等を塗膜に当てて温度を下げるなどの手段により、塗膜組成物の粘度を高め各層間および各層内の物質の流動性を低下させる工程のことを意味する。冷風を塗布膜に表面から当てて、塗布膜の表面に指を押し付けたときに指に何もつかなくなった状態を、セット完了の状態と定義する。

塗布した後、冷風を当ててからセットが完了するまでの時間（セット時間）は、７分以内であることが好ましく、５分以内であることが好ましい。また、下限の時間は特に制限されないが、４５秒以上の時間をとることが好ましい。セット時間が４５秒以上であれば、層中の成分がより充分に混合される。一方、セット時間が７分以内であれば、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が不十分となることをより防止できる。なお、高屈折率層と低屈折率層との間の中間層の高弾性化が素早く起こるのであれば、セットさせる工程は設けなくてもよい。

なお、セット時間は、水溶性バインダー樹脂の濃度や金属酸化物粒子等の濃度設定や、ゼラチン、ペクチン、寒天、カラギーナン、ゲランガム等の各種公知のゲル化剤など、他の成分を添加すること等によって、調整することができる。

冷風の温度は、０〜２５℃であることが好ましく、５〜１０℃であることがより好ましい。また、塗膜が冷風に晒される時間は、塗膜の搬送速度にもよるが、１０〜１２０秒であることが好ましい。

［他の層］
本発明の一形態に係る光学フィルムにおいては、基材上に、さらなる機能の付加を目的として、光吸収層、断熱層、帯電防止層、ガスバリア層、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層などの機能層を有していてもよい。

以下では、他の層の１つである、光吸収層について詳細に説明する。

（光吸収層）
本発明の一形態に係る光学フィルムは、基材上に、さらに光吸収層を有していてもよい。光吸収層としては、特に制限されないが、たとえば赤外線吸収層等が挙げられる。また、光吸収層は、染料や顔料によって特定の波長を吸収する層であってもよい。以下では、赤外線吸収層を一例として説明するが、本発明に用いることができる光吸収層はこれに限定されない。

赤外線吸収層に含まれる材料としては、ポリマーである紫外線硬化樹脂、光重合開始剤、赤外線吸収剤などが挙げられる。赤外線吸収層は、含まれるポリマー成分が硬化していることが好ましい。ここで、硬化とは、紫外線などの活性エネルギー線や熱などにより反応が進み硬化することを指す。

紫外線硬化樹脂は、他の樹脂よりも硬度や平滑性に優れ、さらにはＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）、ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化スズ）や熱伝導性の金属酸化物の分散性の観点からも有利である。紫外線硬化樹脂としては、硬化によって透明な層を形成する物であれば特に制限なく使用でき、たとえば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、アクリル樹脂、アリルエステル樹脂等が挙げられる。これらの中でも、硬度、平滑性、透明性の観点からアクリル樹脂が好ましい。

アクリル樹脂は、硬度、平滑性、透明性の観点から、国際公開第２００８／０３５６６９号に記載されているような、表面に光重合反応性を有する感光性基が導入された反応性シリカ粒子（以下、単に「反応性シリカ粒子」ともいう）を含むことが好ましい。ここで、光重合性を有する感光性基としては、（メタ）アクリロイルオキシ基に代表される重合性不飽和基などを挙げることができる。また、紫外線硬化樹脂は、この反応性シリカ粒子の表面に導入された光重合反応性を有する感光性基と光重合反応可能な化合物、たとえば、重合性不飽和基を有する有機化合物を含むものであってもよい。

また重合性不飽和基修飾加水分解性シランが、加水分解性シリル基の加水分解反応によって、シリカ粒子との間に、シリルオキシ基を生成して化学的に結合しているようなものを、反応性シリカ粒子として用いることができる。ここで、反応性シリカ粒子の平均粒子径は、０．００１〜０．１μｍであることが好ましい。平均粒子径をこのような範囲にすることにより、透明性、平滑性、硬度をバランスよく満たすことができる。

また、アクリル樹脂は、屈折率を調整するという観点から、フッ素を含むことが好ましい。すなわち、赤外線吸収層はフッ素を含むことが好ましい。このようなアクリル樹脂としては、含フッ素ビニルモノマーに由来する構成単位を含むアクリル樹脂が挙げられる。含フッ素ビニルモノマーとしては、フルオロオレフィン類（たとえばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（たとえば大阪有機化学工業株式会社製ビスコート６ＦＭや、ダイキン工業株式会社製Ｒ−２０２０等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。

光重合開始剤としては、公知のものを使用することができ、単独でもまたは２種以上の組み合わせでも使用することができる。

赤外線吸収層に含まれうる無機赤外線吸収剤としては、可視光線透過率、赤外線吸収性、樹脂中への分散適性等の観点から、ＩＴＯ、ＡＴＯ、アンチモン酸亜鉛、６ホウ化ランタン（ＬａＢ_６）、セシウム含有酸化タングステン（たとえば、Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３など）等が好ましい。

これらは単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。無機赤外線吸収剤の平均粒径は、５〜１００ｎｍが好ましく、１０〜５０ｎｍがより好ましい。５ｎｍ以上であると樹脂中の分散性や、赤外線吸収性がより良好となる。一方、１００ｎｍ以下であると、可視光線透過率がより向上する。

なお、平均粒径の測定は、透過型電子顕微鏡により撮像し、無作為に、たとえば５０個の粒子を抽出して該粒径を測定し、これを平均したものである。また、粒子の形状が球形でない場合には、長径を測定して算出したものと定義する。

前記赤外線吸収層における無機赤外線吸収剤の含有量は、赤外線吸収層の全質量に対して１〜８０質量％であることが好ましい。無機赤外線吸収剤の含有量が１％以上であれば、より高い赤外線吸収効果が表れ、８０％以下であれば、可視光線をより透過できる。同様の観点から、無機赤外線吸収剤の含有量は、５〜５０質量％であることがより好ましい。

また、有機物の赤外線吸収材料としては、ポリメチン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、金属錯体系、アミニウム系、イモニウム系、ジイモニウム系、アンスラキノン系、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系、インドールフェノール系、アゾ系、トリアリルメタン系の化合物などが挙げられる。これらの中でも、金属錯体系化合物、アミニウム系化合物（アミニウム誘導体）、フタロシアニン系化合物（フタロシアニン誘導体）、ナフタロシアニン系化合物（ナフタロシアニン誘導体）、ジイモニウム系化合物（ジイモニウム誘導体）、スクワリウム系化合物（スクワリウム誘導体）等が特に好ましく用いられる。

赤外線吸収層においては、本発明の効果を奏する範囲内で、上記以外の金属酸化物や、有機系赤外線吸収剤、金属錯体等の他の赤外線吸収剤を含んでもよい。このような他の赤外線吸収剤の具体例としては、たとえば、ジイモニウム系化合物、アルミニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、有機金属錯体、シアニン系化合物、アゾ化合物、ポリメチン系化合物、キノン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリフェニルメタン系化合物等が挙げられる。

赤外線吸収層の厚さは０．１〜５０μｍの範囲が好ましい。赤外線吸収層の厚さが０．１μｍ以上であれば、赤外線吸収能力がより向上する傾向にあり、一方、５０μｍ以下であれば、塗膜の耐クラック性がより向上する。同様の観点から、赤外線吸収層の厚さは、１〜２０μｍの範囲がより好ましい。

該赤外線吸収層の形成方法は特に制限されず、たとえば、上記各成分を含む赤外線吸収層用塗布液を調製した後、ワイヤーバー等を用いて塗布液を塗布し、乾燥することにより形成する方法等が挙げられる。

なお、光吸収層は、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４：１９９９に準じた鉛筆硬度がＨ以上の層である場合は、ハードコート層を兼ねることができる。ハードコート層を兼ねる光吸収層を有する形態は、光学フィルムと一枚の基体とを貼合した光学積層体に用いられ、光吸収層が光学積層体の最外層に配置されることが好ましい。

本発明の特に好ましい一形態に係る光学フィルムは、曲面を有する基体への貼合用の光学フィルムである。なお、曲面を有する基体については、後述の光学積層体の説明に詳細を記載する。

＜光学積層体＞
次いで、本発明の他の形態である光学積層体に用いられる基体について説明する。ここで、光学積層体は、本発明の一形態に係る光学フィルム、および基体を含む。

以下、本形態の光学フィルム全体の構成について、図面を参照しながら説明する。なお、図面の寸法比率は説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。

図１は、本発明の光学フィルムを含む光学積層体である合わせガラスの一例を示す概略断面図である。ここで、光学積層体１０は、合わせガラスであり、屋外側の曲面を有する基体１１、中間層１２、光学フィルム１３、中間層１４、および屋内側の曲面を有する基体１５がこの順で積層されてなる。ここで、光学フィルム１３は、基材１３ａが屋内側の曲面を有する基体１５側、反射層１３ｂが屋外側の曲面を有する基体１１側になるよう配置されてなる。ただし、本発明に係る光学フィルムは、この構造に限定されるものではない。

また、図２は、本発明の光学フィルムを含む光学積層体の他の一例を示す概略断面図である。ここで、光学積層体２０は、曲面を有する基体２１、中間層２２、光学フィルム２３がこの順に配置されてなる。ここで、光学フィルム２３は、基材２３ａが曲面を有する基体２１側、反射層２３ｂが曲面を有する基体２１側とは反対側となるよう配置されてなる。ただし、本発明に係る光学フィルムは、この構造に限定されるものではない。

なお、上記図１および図２の構成は一例であり、本発明はこれらに限定されない。

（中間層）
本発明の一形態に係る光学積層体は、特に図１に示すような合わせガラスにおいて、光学フィルムを中間層でラミネートして基材に貼合することが好ましい。このとき、光学フィルムの両面に中間層をラミネート貼合し、光学フィルムおよび中間層からなる積層体を形成した後、二枚のガラスで前記積層体を圧着して合わせガラスを作製してもよい。

このとき、中間層は、ガラスと光学フィルムの間に介在され、ガラスと光学フィルムを接着し固定する役割を果たす。典型的には、合わせガラスは、二組の中間層およびガラスで、赤外遮蔽フィルムを、中間層同志が向かい合うようにして挟持する構成である。２つの中間層の構成材料は、同一であっても異なっていてもよい。

中間層としては、ポリビニルブチラールやエチレン−酢酸ビニルなどの樹脂により構成されているシートであることが好ましい。具体的には可塑性ポリビニルブチラール（積水化学工業株式会社製、三菱モンサント化成株式会社製等）、エチレン−酢酸ビニル共重合体（デュポン株式会社製、武田薬品工業株式会社製 デュラミン）、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体（東ソー株式会社製 メルセン（登録商標）Ｇ）等を用いることができる。

この中間層には、添加剤として、たとえば安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を含有させることもできる。特に、窓貼用として使用する場合は、紫外線による光学フィルムの劣化を抑制するためにも、紫外線吸収剤の添加は有効である。

合わせガラスに用いる中間膜層の膜厚は、特に限定されるものではないが、合わせガラスとして最小限必要な耐貫通性や経済性等の観点から、好ましくは１００〜１０００μｍであり、より好ましくは１００〜７５０μｍ、さらに好ましくは、２００〜５００μｍであり、特に好ましくは３００〜４００μｍであり、最も好ましくは、３５０〜４５０μｍである。

また、本発明に関わる中間層は、あらかじめ光学フィルムに接着層として付与しておくこともできる。かような形態としては、特に図２に示すような光学積層体の構成において、光学フィルムの少なくとも一方の面に中間層である接着層を配置した後、接着層を介して光学フィルムと基体が接合されて光学積層体を構成することが好ましい。

接着層の光学フィルム上への形成方法は、特に制限されず、たとえば、上記粘着剤を含む粘着剤塗布液を調製した後、ワイヤーバー等を用いて光学フィルム上に塗布し、乾燥して接着層付きの光学フィルムを作製する方法等を用いることができる。

光学反射フィルムと基体とを貼り合わせる接着層は、光学フィルムを光線（たとえば日光、熱線など）入射面側に設置することが好ましい。また、本発明の一実施態様に係る光学フィルムの１種である光学フィルムを、窓ガラスと基体との間に挟持すると、水分等の周囲のガスから封止でき耐久性に優れるため好ましい。また、本発明の一形態係る光学フィルムである赤外遮蔽フィルムを、屋外や車の外側（外貼り用）に設置することは、良好な環境耐久性が得られるため好ましい。

適用可能な接着層形成材料としては、公知の接着剤を用いることができる。接着剤としては、特に制限されず、たとえば光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂を主成分とする接着剤等を用いることができる。また、接着層形成材料としては、粘着剤を用いることもできる。粘着剤としては、紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤がより好ましい。これらの中でも粘着特性やコストの観点から、アクリル系粘着剤がさらに好ましい。アクリル系粘着剤としては、剥離強さの制御が容易なことから、溶剤系のアクリル系粘着剤（アクリル溶剤系粘着剤）であることが好ましい。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。

この接着層には、添加剤として、たとえば安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を含有させることもできる。特に、窓貼用として使用する場合は、紫外線による光学フィルムの劣化を抑制するためにも、紫外線吸収剤の添加は有効である。

（基体）
基体としては、特に制限されないが、ガラス基板であることが好ましい。ガラス基板に用いられるガラスとしては、無機ガラスおよび有機ガラスが挙げられる。無機ガラスとしては、特に限定されないが、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入り板ガラス、線入り板ガラス、熱線吸収板ガラス、着色板ガラスなどの各種無機ガラスなどが挙げられる。また、有機ガラスとしては、特に限定されないが、ポリカーボネート類、ポリスチレン類、ポリメチルメタクリレート類等の樹脂からなるガラス板などが挙げられる。これらの有機ガラス板は、上記樹脂からなるシート形状のものを複数積層してなる積層体であってもよい。

ガラス基板としては、市販のガラスを用いることができる。ガラスの種類は特に限定されないが、通常、ソーダライムシリカガラスが好適に用いられる。この場合、無色透明ガラスであってよいし、有色透明ガラスであってもよい。

光学積層体の構成は、特に制限されないが、たとえば１枚の基体上に本発明の一形態に係る光学フィルムが配置された構成であってもよい。また、２枚以上の基体の間に本発明の一形態に係る光学フィルムが配置された構成からなる合わせガラスであってもよい。本発明の一形態に係る光学積層体としては、合わせガラスであることが好ましい。

ここで、光学積層体が２枚の基体を有する合わせガラスである場合、２枚の基体のうち、入射光に近い室外側のガラス基板は、無色透明ガラスであることが好ましい。また、入射光側から遠い室内側のガラス基板は、グリーン系有色透明ガラス、濃色透明ガラスまたは無色透明ガラスであることが好ましい。グリーン系有色透明ガラスは、紫外線吸収性能および赤外線吸収性能を有することが好ましい。これらを用いることにより、室外側でできるだけ日射エネルギーを反射することができ、さらに合わせガラスの日射透過率を小さくすることができるからである。

グリーン系有色透明ガラスは、特に限定されないが、たとえば、鉄を含有するソーダライムシリカガラス等が好適に挙げられる。グリーン系有色透明ガラスの一例としては、たとえば、ソーダライムシリカ系の母ガラスに、Ｆｅ_２Ｏ_３換算で、全鉄０．３〜１質量％を含有するソーダライムシリカガラスが挙げられる。さらに、近赤外領域の波長の光の吸収は全鉄のうちの２価の鉄による吸収が支配的であるため、ＦｅＯ（２価の鉄）の質量が、Ｆｅ_２Ｏ_３換算で、全鉄の２０〜４０質量％であることが好ましい。

紫外線吸収性能を付与するためには、ソーダライムシリカ系の母ガラスにセリウム等を加える方法が挙げられる。具体的には、実質的に以下の組成のソーダライムシリカガラスを用いるのが好ましい；
ＳｉＯ_２：６５〜７５質量％、Ａｌ_２Ｏ_３：０．１〜５質量％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ：１０〜１８質量％、ＣａＯ：５〜１５質量％、ＭｇＯ：１〜６質量％、Ｆｅ_２Ｏ_３換算した全鉄：０．３〜１質量％、ＣｅＯ_２換算した全セリウムおよびＴｉＯ_２：０．５〜２質量％。

また、濃色透明ガラスは、特に限定されないが、たとえば、鉄を高濃度で含有するソーダライムシリカガラスが好適に挙げられる。

本発明の一形態に係る光学積層体において、基体の厚さは、１．５〜３．０ｍｍであることが好ましい。かような厚さとすることで、光学積層体は車両等の窓用としてより適したものとなる。２枚の基体を有する合わせガラスにおいては、室内側の基体および室外側の基体を等しい厚さにすることも、異なる厚さにすることもできる。２枚の基体を有する合わせガラスを自動車窓に用いるにあたっては、たとえば、室内側の基体および室外側の基体を、ともに２．０ｍｍの厚さにしたり、２．１ｍｍの厚さにしたりすることも可能である。

また、２枚の基体を有する合わせガラスを自動車窓に用いるにあたっては、たとえば、室内側の基体の厚さを２ｍｍ未満、室外側の基体の厚さを２ｍｍ強とすることで、合わせガラスの総厚さを小さくし、かつ車外側からの外力に抗することができる。

基体は、平板状でも曲面を有していてもよい。本発明の一形態においては、光学積層体が、曲面を有する基体を含むことが好ましい。曲面を有する場合、光学フィルムの端の部分にしわやうねりが生じやすくなるが、本発明の一形態に係る光学フィルムではその抑制効果が大きいので、光学フィルムを、曲面を有する基体を含む光学積層体に好ましく適用できる。

本願明細書において、曲面とは、曲率半径Ｒが無限大ではない面をいう。曲面を有する合わせガラスとは、合わせガラスの少なくとも一部分に曲面を有していることを意味する。

車両、特に自動車窓は曲面を有していることが多いため、基体の形状は湾曲形状であることが多い。

曲面を有する基体の一例としては、湾曲したガラス板が挙げられる。湾曲したガラス板は、フロート法によるソーダライムガラスを軟化点以上の温度に加熱し、曲げ加工されて得られ、３次元的に湾曲したガラス板の使用が簡便である。

３次元的に湾曲した基体の形状としては、たとえば、球面、楕円球面、または、自動車の前面ガラスなどのような曲率半径が場所によって異なる基体等が挙げられる。曲面を有する基体の円直径φは、特に制限されないが、１００〜５００ｍｍであることが好ましい。円直径φが１００〜５００ｍｍであると自動車窓などの曲率のある曲面ガラスと対応したシワ評価ができるためより好ましい。同様の観点から、より好ましくは１００〜３００ｍｍである。

また、曲面を有する基体の曲率半径Ｒは、特に制限はないが、０．１〜３．０ｍであることが好ましい。曲率半径Ｒが０．１ｍより大きいと、一般に合わせ加工において、光学フィルムのしわがより生じ難くなる。同様の観点から、より好ましくは０．９〜３ｍである。

この場合、２枚の基体を有する合わせガラスに含まれる光学フィルムは、室外側ガラス基板の凹面側に設けられることが好ましい。

更に、必要に応じて３枚以上のガラス基板を用いることもできる。

（光学積層体の製造方法）
本発明の光学積層体の製造方法の一例として、２枚の基体を有する合わせガラスの製造方法を記載するが、本発明はこれに限定されるものではない。

前記光学フィルムは、２枚の基体の間に挟んで合わせガラスとすることができる。合わせガラスの製造方法は、特に制限されないが、たとえば、光学フィルムを中間層（たとえば、ポリビニルブチラールからなるシート等）で両面ラミネートして得られた積層体を２枚の基体の間に挟み込んで基体に挟持された積層体を製造する工程と、前記基体に挟持された積層体を加熱しながら接合する工程を含むことが好ましい。詳細な製造方法としては、公知の合わせガラス作製方法を適宜用いることができる。

一般的には、光学フィルムを２枚のガラス基板に挟んだ後、加熱処理と加圧処理（ゴムローラーでしごく等）とを数回繰り返し、最後にオートクレーブ等を利用して加圧条件下での加熱処理を行い接合するという方法がとられる。

光学フィルムが接していない基体に挟持された積層体を、加熱しながら圧着することが好ましい。前記基体に挟持された積層体と期待との接合は、たとえば、真空バッグなどで減圧下において、温度８０〜１２０℃、時間３０〜６０分で予備圧着した後、オートクレーブ中、１．０〜１．５ＭＰａの加圧下で１００〜１５０℃、好ましくは１２０〜１５０℃の温度で接合し、２枚の基体に積層体が挟まれた合わせガラスとすることができる。また、粘着剤等を用いて貼り合わせてもよい。このとき、１．０〜１．５ＭＰａの加圧下で１００〜１５０℃、好ましくは１２０〜１５０℃の温度での加熱圧着の時間は、２０〜９０分であることが好ましい。

加熱圧着終了後、放冷の仕方については特に制限はなく、適宜圧力を開放しながら放冷して、合わせガラスを得てもよい。本発明では、加熱圧着終了後、圧力を保持した状態で降温を行うことが、得られる合わせガラスのしわや割れをさらに改善する観点から好ましい。ここで、圧力を保持した状態で降温するとは、加熱圧着時（好ましくは１５０℃）の装置内部圧力から、４０℃のときの装置内部圧力が加熱圧着時の７５〜１００％となるように降温することを意味する。

圧力を保持した状態で降温する方法としては、４０℃まで降温したときの圧力が上記範囲内であれば特に制限はないが、圧力装置内部圧力が温度減少に伴って自然と低下していくように装置内部から圧力を漏らさずに降温する態様や、装置内部圧力が温度減少に伴って減少しないように外部からさらに加圧しながら降温する態様が好ましい。圧力を保持した状態で降温する場合、１００〜１５０℃、好ましくは１２０〜１５０℃で加熱圧着した後、４０℃まで１〜５時間かけて放冷することが好ましい。

圧力を保持した状態で降温を行った後、次いで圧力を開放する工程を含むことが好ましい。具体的には、圧力を保持した状態で降温を行った後、オートクレーブ内の温度が４０℃以下になった後に圧力を開放して降温することが好ましい。

以上より、前記合わせガラスの製造方法は、合わせガラスの構成層を積層する工程と、その後１．０〜１．５ＭＰａの加圧下で１２０〜１５０℃の温度で加熱圧着し接合する工程と、圧力を保持した状態で降温を行う工程と、圧力を開放する工程を含むことが好ましい。

なお、他の構成の光学積層体、たとえば１枚の基体上に本発明の一形態に係る光学フィルムが配置された構成の光学積層体等の製造においても、基体と光学フィルムの加熱圧着を行うことが一般的である。これより、他の構成の光学積層体についても、本発明の一形態に係る光学フィルムを用いることにより、シワの発生が抑制され、優れた反射性能を有する光学積層体を得ることができる。

本発明の効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。なお、下記実施例において、また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％ＲＨの条件で行われた。さらに、特記しない限り、「％」および「部」は、それぞれ、「質量％」および「質量部」を意味する。

＜光学フィルムの作製＞
（実施例１）
（ポリエステルチップの作製）
ジメチルテレフタレート１００部、エチレングリコール７０部、および酢酸カルシウム一水塩０．０７部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノール留去させエステル交換反応を行い、反応開始後、約４時間半を要して２３０℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次に燐酸０．０４部および三酸化アンチモン０．０３５部を添加し、常法に従って重合した。すなわち、反応温度を徐々に上げて、最終的に２８０℃とし、一方、圧力は徐々に減じて、最終的に０．０５ｍｍＨｇとした。４時間後、反応を終了し、常法に従い、チップ化してポリエステルチップを得た。このポリエステルチップはポリエチレンテレフタレートチップであった。

（ポリエステルフィルム基材の作製）
上記ポリエステルチップを原料とし、溶融押出機により溶融押出して無定形シートを得た。ついで、冷却したキャスティングドラム上に、シートを共押出し冷却固化させて無配向シートを得た。次いで、得られた無配向シートを、９０℃にて縦方向に３．６倍延伸した。さらに、縦延伸後のシートの両面に、水系易接着塗布液（下引層塗布液）を、それぞれの面で５ｇ／ｍ^２の塗布量で塗布した。さらに、水系易接着塗布液塗布後のシートをテンター内で予熱工程を経て９０℃で横方向に４倍延伸し、その後１９０℃で１０秒間の熱処理を行いうことで、合計厚さ５０μｍの、両面に水系易接着樹脂塗布層（下引層）を有するポリエステルフィルム基材を得た。ここで、水系易接着塗布液に用いた水系易接着樹脂は、水溶性ポリエステル樹脂であった。

（高屈折率層用塗布液１の調製）
１５．０質量％の酸化チタンゾル（ＳＲＤ−Ｗ、体積平均粒径：５ｎｍ、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学工業株式会社製）０．５質量部に純水２質量部を加えた後、９０℃に加熱した。次いで、ケイ酸水溶液（ケイ酸ソーダ４号（日本化学工業株式会社製）をＳｉＯ_２濃度が０．５質量％となるように純水で希釈したもの）０．５質量部を徐々に添加し、ついでオートクレーブ中、１７５℃で１８時間加熱処理を行い、冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、固形分濃度が、６質量％のＳｉＯ_２を表面に付着させた二酸化チタンゾル（以下、シリカ付着二酸化チタンゾル）（体積平均粒径：９ｎｍ）を得た。

このようにして得られた２０質量％のシリカ付着二酸化チタンゾル１１３質量部に対して、１．９２質量％のクエン酸水溶液を４８質量部加え、８質量％のポリビニルアルコール水溶液（株式会社クラレ製、ＰＶＡ−１１７、重合度１７００、ケン化度：９７．５〜９９モル％）を１１３質量部加えて撹拌し、最後に５質量％の界面活性剤水溶液（ソフタゾリン（登録商標）ＬＳＢ−Ｒ、川研ファインケミカル株式会社製）０．４質量部を加えて、高屈折率層用塗布液１を調製した。

（低屈折率層用塗布液１の調製）
１０質量％の酸性コロイダルシリカ水分散液（スノーテックス（登録商標）ＯＸＳ、一次粒径：５．４ｎｍ、日産化学工業株式会社製）３１質量部を４０℃に加熱し、３質量％のホウ酸水溶液３質量部を加え、さらに６質量％のポリビニルアルコール水溶液（ＰＶＡ−２２４、重合度：２４００、ケン化度：８７モル％、クラレ株式会社製）２０質量部、６質量％の水分散性アクリル樹脂分散液１（ＡＥ１２０Ａ、粒子径＝５５ｎｍ、株式会社イーテック製）６質量部、および５質量％の界面活性剤水溶液（ソフタゾリン（登録商標）ＬＳＢ−Ｒ、川研ファインケミカル株式会社製）１質量部を４０℃でこの順に添加して、低屈折率層用塗布液１を調製した。

（反射層の形成方法）
６０層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用いて、高屈折率層用塗布液１および低屈折率層用塗布液２を４０℃に保温し、４０℃に加温した１６０ｍｍ幅のポリエステルフィルム基材上に、最下層と最上層は低屈折率層として、低屈折率層と高屈折率層とがそれぞれ交互に配置されるように、乾燥時の膜厚が、最下層の低屈折率層は２２０ｎｍとし、その他の層については、低屈折率層は各層１５０ｎｍ、高屈折率層は各層１３０ｎｍとなるように、計５３層の同時多層塗布を行った。塗布直後、１０℃の冷風を吹き付けてセット（増粘）させた。セット（増粘）完了後、６０℃の温風を吹き付けて乾燥させて、計５３層からなる誘電多層膜の反射層（７．５μｍ）を有する光学フィルム１を作製した。

（実施例２〜７、比較例１、２）
各基材として、ポリエステルフィルムの膜厚、および熱処理温度を適宜変更した以外は実施例１と同様にして、各基材を準備した。また、水分散性アクリル樹脂分散液の添加量を変更した以外は低屈折率層用塗布液１と同様にして調整した低屈折率層用塗布液２〜９を準備した。そして、各基材上に、低屈折率層用塗布液１の替わりに低屈折率層用塗布液２〜９を用いたこと、および反射層積層数を適宜変更したこと以外は実施例１と同様にして、各反射層を形成し、実施例２〜７に係る光学フィルム２〜７、ならびに比較例１および２に係る光学フィルム８および９を作製した。ここで、反射層の高温における貯蔵弾性率（Ｅ’）については、水分散性アクリル樹脂分散液の添加量により変更可能であり、添加量を減らすことにより、高温における貯蔵弾性率（Ｅ’）を増加させることができる。また、添加量を増やすことにより、高温における貯蔵弾性率（Ｅ’）を低下させることができる。水分散性アクリル樹脂分散液１の添加量、および各光学フィルムの特徴ならびに性能評価結果を下記表１に示す。

＜光学積層体の作製＞
室内側ガラスとなる曲面形状円形レンズガラス（円形レンズ直径φ１５０ｍｍ、ガラス曲率半径Ｒ２００ｍｍ）、室内側の中間層となる厚さ３８０μｍのポリビニルブチラールからなるシート、光学フィルム１、室外側の中間層となる厚さ３８０μｍのポリビニルブチラールからなるシート、室外側ガラスとなる曲面形状円形レンズガラス（円形レンズ直径φ１５０ｍｍ、ガラス曲率半径Ｒ２００ｍｍ）をこの順に積層し、ガラスのエッジ部からはみ出した余剰部分を除去した後、１５０℃で３０分間加熱し、加圧脱気して接合処理を行い、実施例１の光学フィルムを用いた光学積層体として合わせガラス１を作製した。ここで、前記積層は、室内側の中間層となるポリビニルブチラールからなるシート、光学フィルムおよび室外側の中間層となるポリビニルブチラールからなるシートを、ラミネータにより圧着して積層体を形成したのち、この積層体を室内側ガラスとなる曲面形状円形レンズガラス、および室外側ガラスとなる曲面形状円形レンズガラスで挟み込むことで行った。なお光学フィルムは基材が室内側となるように配置した。

また、合わせガラス１の作製と同様にして、光学フィルム１の代わりに実施例２〜７に係る光学フィルム２〜７、ならびに比較例１および２に係る光学フィルム８および９を用いて、合わせガラス２〜９を作製した。

＜評価＞
（反射層の膜厚測定）
反射層の膜厚は、前記作製した光学フィルムの断層を切削し、その断面を、電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ、Ｓ−５０００Ｈ型、株式会社日立製作所製）を用いて、加速電圧２．０ｋＶの条件で１ｃｍ長さが観察できるように視野数を選び観察した。次いで得られた画像を、デジタル化し、コントラストを調整する画像処理を施した。その後、膜厚を各層毎に測定して、反射層の膜厚を得た。なお、膜厚は、１０００箇所の測定結果の平均値とした。

（反射層測定用試料の作製）
反射層のみをエタノールと水の混合溶媒で溶解後、溶解液を回収した。次いで、その溶解液を離型フィルム上に、乾燥後の膜厚が４μｍとなるよう製膜し、離形フィルムを剥離して得られた単膜を反射層測定用試料とした。この反射層測定用試料の熱収縮率、および高温における貯蔵弾性率（Ｅ’）を測定した。なお、本測定では、各光学フィルムの反射層の膜厚範囲では、膜厚が変化しても反射層測定用試料の貯蔵弾性率（Ｅ’）および熱収縮率の値は変化しないことを確認しているため、すべての光学フィルムについての反射層測定用試料を、膜厚４μｍとして作製した。以下の高温における貯蔵弾性率（Ｅ’）および熱収縮率の測定においては、反射層測定試料を用いての測定結果を、反射層の測定結果として取り扱うこととした。

（光学フィルムおよび基材の損失係数（ｔａｎδ）の測定）
各光学フィルムを準備した。また、各光学フィルム作製に用いた基材と同様の基材をそれぞれ準備した。

光学フィルムおよび基材の貯蔵弾性率（Ｅ’）と損失弾性率（Ｅ”）を、ＪＩＳ Ｋ７２４４−１：１９９８に基づいて、動的粘弾性自動測定器（エーアンドディー株式会社製 ＤＤＶ−０１ＧＰ）を用い、引張りモード、周波数１０Ｈｚ、昇温速度５℃／ｍｉｎ、最小張力／圧縮比４９ｍＮ、張力／圧縮力ゲイン１．０、力振幅初期値４９ｍＮで、２５℃から２５０℃まで測定することにより評価した。次いで、得られた結果より、Ｅ”／Ｅ’を算出することにより損失係数（ｔａｎδ）を求めた。なお、測定は、フィルムの機械方向、すなわち光学フィルムおよび基材の長手方向とそれに直交する方向について行い、その平均値を評価結果とした。各実施例および比較例の１５０℃における損失係数（ｔａｎδ）の値を表１に示す。

（基材および反射層の高温における貯蔵弾性率（Ｅ’）の測定）
各光学フィルムの作製に用いた基材と同様の基材をそれぞれ準備した。また、各光学フィルムに用いられる反射層に対応する反射層測定用試料をそれぞれ準備した。

基材および反射層測定用試料の貯蔵弾性率（Ｅ’）を、上記損失係数（ｔａｎδ）の測定において貯蔵弾性率（Ｅ’）を評価した方法と同様の方法を用いて評価した。なお、基材の測定は、フィルムの機械方向、すなわち基材の長手方向とそれに直交する方向について行い、その平均値を評価結果とした。反射層測定用試料は、任意の互いに直交する２方向について測定を行い、その平均値を評価結果とした。得られた値より、基材と反射層の貯蔵弾性率（Ｅ’）の差の絶対値を算出した。各実施例および比較例の１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の値、および基材と反射層との貯蔵弾性率（Ｅ’）の差の絶対値を表１に示す。

（基材および反射層の熱収縮率の測定）
各光学フィルムの作製に用いた基材と同様の各基材をそれぞれ準備した。また、各光学フィルムに用いられる反射層に対応する各反射層測定用試料をそれぞれ準備した。

基材および反射層測定用試料を温度２３℃、相対湿度５５％ＲＨの環境にて、２４時間保存した後、幅方向に１００ｍｍ間隔で二つの印を付け、無荷重状態で二つの印の間の距離Ｌ１を、顕微鏡等を用いて測定した。続いて、１５０℃の環境のオーブン内に試料を吊るし、３０分間放置した。３０分間経過後、オーブンから当該試料を取り出し、再び温度２３℃、相対湿度５５％の環境で２４時間保存した。次いで、無荷重状態の試料の二つの印の間の距離Ｌ２を、顕微鏡等を用いて測定した。測定した距離Ｌ１およびＬ２から、下記式により試料の熱収縮率を算出した；
熱収縮率（％）＝（（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１）×１００
なお、基材の測定は、フィルムの機械方向、すなわち基材の長手方向とそれに直交する方向について行い、その平均値を評価結果とした。反射層測定用試料は、任意の互いに直交する２方向について測定を行い、その平均値を評価結果とした。各実施例および比較例の１５０℃３０分経時における熱収縮率の値を表１に示す。

＜シワの評価＞
各光学フィルムを用いて、各光学積層体の作製を１００回同様にして行い、１５０℃３０分間の加熱加工の際に発生するシワの頻度および発生位置を目視で、下記の基準に従って評価した。なお、評価は〇以上が実用的な特性であると判断した。この結果を表１に示す；
◎：シワが全く発生しない、
○：発生頻度は５回以内であり、発生位置は全て端部１０ｍｍ未満の位置に存在する、
△：発生頻度は５回以内であり、発生位置が端部１０ｍｍ以上の位置に達するものが存在する、
×：発生頻度は５回を越え、発生位置が端部１０ｍｍ以上の位置に達するものが存在する。

＜赤外反射率性能の評価＞
各光学フィルムを用いて製造した各光学積層体について、ガラスの中心部と端部を３０ｍｍ四方に切り出して、その熱線（赤外線）反射率を、分光光度計Ｖ７００（日本分光株式会社製）を用いて、８００〜２０００ｎｍまでの波長域を測定し、その領域の平均赤外反射率を算出した。得られた測定結果から中心部と端部との熱線透過率差を算出し、下記の基準に従って評価した。なお、評価は〇以上が実用的な特性であると判断した。この結果を表１に示す。；
◎：中心部と端部との熱線（赤外線）反射率差が１％以下である、
○：中心部と端部との熱線（赤外線）反射率差が１％超過２％以下である、
△：中心部と端部との熱線（赤外線）反射率差が２％超過３％以下である、
×：中心部と端部との熱線（赤外線）反射率差が３％超過である。

ここで、光学積層体における赤外反射性能が良好であることは、光学フィルムの赤外反射性能が良好であることを意味するものである。

表１の結果より、本発明の光学フィルムは、比較例の光学フィルムよりも、加熱加工の際のシワの発生が抑制され、かつ赤外反射性能に優れることが示された。

本出願は、２０１５年６月２５日に出願された日本特許出願番号２０１５−１２７７９９号に基づいており、その開示内容は、参照により全体として組み入れられている。

Claims (14)

1. 基材、および反射層を有し、
   前記基材および前記反射層は、１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’） （測定条件：ＪＩＳ Ｋ７２４４−１：１９９８準拠、引張モード、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１０Ｈｚ）の差の絶対値が０．０５ＧＰａ以上であり、
   １５０℃における損失係数（ｔａｎδ） （測定条件：ＪＩＳ Ｋ７２４４−１：１９９８準拠、引張モード、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１０Ｈｚ）の値が０．１２〜０．２０である、
   光学フィルム。
2. 前記基材は、１５０℃における損失係数（ｔａｎδ） （測定条件：ＪＩＳ Ｋ７２４４−１：１９９８準拠、引張モード、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１０Ｈｚ）の値が０．１２〜０．４５である、請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記基材は、１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’） （測定条件：ＪＩＳ Ｋ７２４４−１：１９９８準拠、引張モード、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１０Ｈｚ）の値が０．０１ＧＰａ以上であって、かつ前記反射層の１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）の値よりも小さい、請求項１または２に記載の光学フィルム。
4. 前記基材は、１５０℃の環境下、３０分放置した後の、熱収縮率が２．０〜１０．０％である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
5. 前記基材は、樹脂フィルムである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
6. 前記反射層は、１５０℃における貯蔵弾性率（Ｅ’） （測定条件：ＪＩＳ Ｋ７２４４−１：１９９８準拠、引張モード、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１０Ｈｚ）の値が２．００ＧＰａ〜１３．５０ＧＰａである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
7. 前記反射層は、１５０℃の環境下、３０分放置した後の、熱収縮率が０．５〜５．０％である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
8. 前記反射層は、高屈折率層および低屈折率層が交互に積層されてなる誘電多層膜である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム。
9. 前記高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも一方が、水溶性バインダー樹脂を含有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルム。
10. 前記基材の膜厚は、前記光学フィルム全体の膜厚のなかで、８６．５％以上の割合を占める、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルム。
11. 前記反射層が、赤外反射層であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルム。
12. 請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学フィルムおよび少なくとも１つの基体を含有する、光学積層体。
13. 前記基体が曲面を有する、請求項１２に記載の光学積層体。
14. 合わせガラスである、請求項１２または１３に記載の光学積層体。