JPWO2014168257A1 - 配向膜形成用組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
[1] 配向膜形成用材料と、N−メチル−2−ピロリドンと、沸点が100〜200℃の炭化水素とを含む配向膜形成用組成物。
[2] 沸点が100〜200℃の炭化水素が、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン及びプロピルシクロヘキサンからなる群から選ばれる少なくとも1種である[1]に記載の配向膜形成用組成物。
[3] 配向膜形成用組成物全量に対して、N−メチル−2−ピロリドンの含有量が60質量%〜99.9質量%であり、沸点が100〜200℃の炭化水素の含有量が0.1質量%〜40質量%である[1]又は[2]に記載の配向膜形成用組成物。
[4] 配向膜形成用材料がポリイミド、ポリアミド及びポリアミック酸から選ばれる少なくとも1種を含む、[1]〜[3]のいずれかに記載の配向膜形成用組成物。
[5] [1]〜[4]のいずれかに記載の配向膜形成用組成物から形成される配向膜を、樹脂基材の表面に有する配向膜付樹脂基材。
[6] 樹脂基材がポリオレフィン樹脂からなる[5]に記載の配向膜付樹脂基材。
[7] [1]〜[4]のいずれかに記載の配向膜形成用組成物を、樹脂基材に塗布して乾燥する配向膜付樹脂基材の製造方法。
[8] [5]又は[6]に記載の配向膜付樹脂基材と光学異方性フィルムとを、樹脂基材、配向膜、光学異方性フィルムの順に有する積層体。
[9] JIS−K5600に則った密着性試験において、面積基準で、配向膜の80%以上が基材から剥離しない[8]に記載の積層体。
[10] 光学異方性フィルムが位相差フィルムである[8]又は[9]に記載の積層体。
[11] IPS(in−plane switching)液晶表示装置用の[8]〜[10]のいずれかに記載の積層体。
[12] [1]〜[4]のいずれかに記載の組成物を、樹脂基材に塗布することで配向膜付樹脂基材を製造し、配向膜付樹脂基材の配向膜表面にさらに重合性液晶化合物と光重合開始剤とを含む組成物を塗布し、光照射することを特徴とする、樹脂基材、配向膜、光学異方性フィルムをこの順に有する積層体の製造方法。
[13] [8]〜[11]のいずれかに記載の積層体を有する偏光板。
[14] [8]〜[11]のいずれかに記載の積層体を備えた表示装置。
配向膜形成用材料は、後述する液晶化合物を含む組成物を塗布する際に用いられる溶剤に溶解しない溶剤耐性と、有機溶媒の除去や液晶化合物の配向性を調整するための加熱処理における耐熱性とを有する。
市販の配向性ポリマーとしては、サンエバー(登録商標、日産化学社製)、オプトマー(登録商標、JSR製)等が挙げられる。
配向性ポリマーから形成される配向膜は、液晶化合物の液晶配向を容易にする。また、配向性ポリマーの種類やラビング条件によって、水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の様々な液晶配向の制御が可能であり、各種液晶パネルの視野角改善等に利用できる。
本明細書における沸点は、1気圧での沸点を意味する。
沸点が100〜200℃の炭化水素としては、例えば、オクタン、ノナン、デカン、2,4−ジメチルヘキサン、2,5−ジメチルヘキサン、2−メチルヘプタン、3−メチルヘプタン、2−メチルオクタン、3−メチルオクタン等の鎖状脂肪族炭化水素、エチルベンゼン、n−プロピルベンゼン、m−エチルトルエン、p−エチルトルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素、及び、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロペンタン、エチルシクロヘキサン、プロピルシクロヘキサン等の環状脂肪族炭化水素が挙げられる。好ましくは環状脂肪族炭化水素であり、より好ましくはメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン及びプロピルシクロヘキサンであり、さらに好ましくは、エチルシクロヘキサンである。
溶剤としては、アルコール溶媒が好ましい。
大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に樹脂基材を設置し、コロナまたはプラズマを発生させて、樹脂基材の表面処理を行う方法、
対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを樹脂基材に吹付ける方法、および、
低圧条件下で、グロー放電プラズマを発生させて、樹脂基材の表面処理を行う方法が挙げられる。
中でも、配向膜上に形成される液晶化合物の液晶配向の均一性、製造時間及び製造コストの観点から、配向性ポリマーを含む配向膜形成用組成物を塗布し乾燥する方法、及び、塗布し乾燥しその表面をラビングする方法が好ましい。
前記液晶化合物としては、重合性液晶化合物が好ましい。重合性液晶化合物とは、重合性基を有する液晶化合物のことである。重合性液晶化合物は、通常、配向膜表面に液晶配向した後に重合することで光学異方性フィルムを形成する。
例えば、配向膜が配向規制力として水平配向を発現させる材料であれば、液晶化合物は水平配向またはハイブリッド配向を形成することができ、垂直配向を発現させる材料であれば、液晶化合物は垂直配向または傾斜配向を形成することができる。
配向規制力は、配向膜が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、液晶化合物の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。
P11−B11−E11−B12−A11−B13− (X)
[式(X)中、P11は、重合性基または水素原子を表わす。
A11は、2価の脂環式炭化水素基または2価の芳香族炭化水素基を表わす。該2価の脂環式炭化水素基および2価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数1〜6のアルキル基および該炭素数1〜6アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
B11は、−O−、−S−、−CO−O−、−O−CO−、−O−CO−O−、−CO−NR16−、−NR16−CO−、−CO−、−CS−または単結合を表わす。R16は、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表わす。
B12およびB13は、それぞれ独立に、−C≡C−、−CH=CH−、−CH2−CH2−、−O−、−S−、−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−、−O−C(=O)−O−、−CH=N−、−N=CH−、−N=N−、−C(=O)−NR16−、−NR16−C(=O)−、−OCH2−、−OCF2−、−CH2O−、−CF2O−、−CH=CH−C(=O)−O−、−O−C(=O)−CH=CH−または単結合を表わす。
E11は、炭素数1〜12のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数1〜5のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する−CH2−は、−O−または−CO−に置き換わっていてもよい。]
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基およびドデカン−1,12−ジイル基等の炭素数1〜12の直鎖状アルカンジイル基;−CH2−CH2−O−CH2−CH2−、−CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−CH2−CH2−および−CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−CH2−CH2−O−CH2−CH2−等が挙げられる。
B11としては、−O−、−S−、−CO−O−、−O−CO−が好ましく、中でも、−CO−O−がより好ましい。
B12およびB13としては、それぞれ独立に、−O−、−S−、−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−、−O−C(=O)−O−が好ましく、中でも、−O−または−O−C(=O)−O−がより好ましい。
[式(P−11)〜(P−13)中、
R17〜R21はそれぞれ独立に、炭素数1〜6のアルキル基または水素原子を表わす。]
P11−B11−で表わされる基が、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基であることがさらに好ましい。
P11−B11−E11−B12−A11−B13−A12−B14−A13−B15−A14−B16−E12−B17−P12 (I)
P11−B11−E11−B12−A11−B13−A12−B14−A13−B15−A14−F11 (II)
P11−B11−E11−B12−A11−B13−A12−B14−A13−B15−E12−B17−P12 (III)
P11−B11−E11−B12−A11−B13−A12−B14−A13−F11 (IV)
P11−B11−E11−B12−A11−B13−A12−B14−E12−B17−P12 (V)
P11−B11−E11−B12−A11−B13−A12−F11 (VI)
(式中、
A12〜A14はそれぞれ独立に、A11と同義であり、B14〜B16はそれぞれ独立に、B12と同義であり、B17は、B11と同義であり、E12は、E11と同義である。
F11は、水素原子、炭素数1〜13のアルキル基、炭素数1〜13のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基(−SO3H)、カルボキシ基、炭素数1〜10のアルコキシカルボニル基またはハロゲン原子を表わし、該アルキル基およびアルコキシ基を構成する−CH2−は、−O−に置き換っていてもよい。)
重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましく、光照射によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、α−アセトフェノン化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が挙げられる。具体的には、イルガキュア(Irgacure)907、イルガキュア184、イルガキュア651、イルガキュア819、イルガキュア250、イルガキュア369(以上、全てチバ・ジャパン株式会社製)、セイクオールBZ、セイクオールZ、セイクオールBEE(以上、全て精工化学株式会社製)、カヤキュアー(kayacure)BP100(日本化薬株式会社製)、カヤキュアーUVI−6992(ダウ社製)、アデカオプトマーSP−152、アデカオプトマーSP−170(以上、全て株式会社ADEKA製)、TAZ−A、TAZ−PP(以上、日本シイベルヘグナー社製)およびTAZ−104(三和ケミカル社製)等が挙げられる。中でも、α−アセトフェノン化合物が好ましく、α−アセトフェノン化合物としては、2−メチル−2−モルホリノ−1−(4−メチルスルファニルフェニル)プロパン−1−オン、2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−2−ベンジルブタン−1−オン及び2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−2−(4−メチルフェニルメチル)ブタン−1−オン等が挙げられ、より好ましくは2−メチル−2−モルホリノ−1−(4−メチルスルファニルフェニル)プロパン−1−オン及び2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−2−ベンジルブタン−1−オンが挙げられる。α−アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア369、379EG、907(以上、BASFジャパン(株)製)及びセイクオールBEE(精工化学社製)等が挙げられる。
重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類;ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類;ピロガロール類、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤;チオフェノール類;β−ナフチルアミン類およびβ−ナフトール類が挙げられる。
光学異方層形成用組成物における重合禁止剤の含有量は、液晶化合物100質量部に対して、通常0.1質量部〜30質量部であり、好ましくは0.5質量部〜10質量部である。上記範囲内であれば、液晶化合物の液晶配向を乱し難く、また、重合性液晶化合物の液晶配向を乱さずに重合することができるため好ましい。
光増感剤としては、キサントン、チオキサントン等のキサントン類;アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類;フェノチアジン;ルブレンが挙げられる。
光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤の含有量は、液晶化合物100質量部に対して、通常0.1質量部〜30質量部であり、好ましくは0.5質量部〜10質量部である。
レベリング剤としては、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、ST80PA、ST86PA、SH8400、SH8700、FZ2123(以上、全て東レ・ダウコーニング(株)製)、KP321、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341、X22−161A、KF6001(以上、全て信越化学工業(株)製)、TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF−4446、TSF4452、TSF4460(以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製)、フロリナート(fluorinert)(登録商標)FC−72、同FC−40、同FC−43、同FC−3283(以上、全て住友スリーエム(株)製)、メガファック(登録商標)R−08、同R−30、同R−90、同F−410、同F−411、同F−443、同F−445、同F−470、同F−477、同F−479、同F−482、同F−483(以上、いずれもDIC(株)製)、エフトップ(商品名)EF301、同EF303、同EF351、同EF352(以上、全て三菱マテリアル電子化成(株)製)、サーフロン(登録商標)S−381、同S−382、同S−383、同S−393、同SC−101、同SC−105、KH−40、SA−100(以上、全てAGCセイミケミカル(株)製)、商品名E1830、同E5844((株)ダイキンファインケミカル研究所製)、BM−1000、BM−1100、BYK−352、BYK−353、BYK−361N(いずれも商品名:BM Chemie社製)が挙げられる。2種以上のレベリング剤を組み合わせてもよい。
カイラル剤としては、公知のカイラル剤(例えば、液晶デバイスハンドブック、第3章4−3項、TN、STN用カイラル剤、199頁、日本学術振興会第142委員会編、1989に記載)が挙げられる。
カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物としては、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が挙げられる。
具体的には、特開2007−269640号公報、特開2007−269639号公報、特開2007−176870号公報、特開2003−137887号公報、特表2000−515496号公報、特開2007−169178号公報および特表平9−506088号公報に記載されているような化合物が挙げられ、好ましくはBASFジャパン(株)製のpaliocolor(登録商標)LC756である。
カイラル剤を用いる場合、その含有量は、液晶化合物100質量部に対して、通常0.1質量部〜30質量部であり、好ましくは1.0質量部〜25質量部である。上記範囲内であれば、液晶化合物の液晶配向を乱し難く、また、重合性液晶化合物の液晶配向を乱さずに重合することができるため好ましい。
反応性添加剤としては、その分子内に炭素−炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有することが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基(−COOH)、水酸基(−OH)、アミノ基(−NH2)等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアナト基、チオイソシアナト基、無水マレイン酸基等がその代表例である。
[式(Y)中、
nは1〜10までの整数を表わし、R1’は、炭素数2〜20の2価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数5〜20の2価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単位にある2つのR2’は、一方が−NH−であり、他方が>N−C(=O)−R3’で示される基である。R3’は、水酸基又は炭素−炭素不飽和結合を有する基を表す。
式(Y)中のR3’のうち、少なくとも1つのR3’は炭素−炭素不飽和結合を有する基である。]
化合物(YY)には、市販品をそのまま又は必要に応じて精製して用いることができる。市販品としては、Laromer(登録商標)LR−9000(BASF社製)等が挙げられる。
光学異方層形成用組成物は、光学異方層製造の操作性を良好にするために溶剤、特に有機溶剤を含むことが好ましい。有機溶剤としては、液晶化合物等の光学異方層形成用組成物の構成成分を溶解し得る有機溶剤が好ましく、また、光学異方層形成用組成物が重合性液晶化合物を含む場合には、さらに、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤が好ましい。具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤;トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤;アセトニトリル等のニトリル溶剤;テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤;およびクロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤;が挙げられる。二種以上の有機溶剤を組み合わせて用いてもよい。中でも、アルコール溶剤、エステル溶剤、ケトン溶剤、非塩素化脂肪族炭化水素溶剤および非塩素化芳香族炭化水素溶剤が好ましい。
nx>ny≒nzのポジティブAプレート、
nx≒ny>nzのネガティブCプレート、
nx≒ny<nzのポジティブCプレート、
nx≠ny≠nzのポジティブOプレートおよびネガティブOプレート
R0 =(nx−ny)×d (9)
R50=(nx−ny’)×d/cos(φ) (10)
(nx+ny+nz)/3=n0 (11)
ここで、
φ=sin−1 〔sin(50°)/n0〕
ny’=ny×nz/〔ny 2×sin2(φ)+nz 2×cos2(φ)〕1/2
位相差フィルム1及び1’に、光学異方性フィルムが位相差フィルムである本発明の積層体を用いることができ、偏光フィルム2に、光学異方性フィルムが偏光フィルムである本発明の積層体を用いることができる。
配向膜形成用組成物の組成を表1に示す。サンエバーSE−610(日産化学工業株式会社製)(配向性ポリマー)に、N−メチル−2−ピロリドン及びブチルセロソルブを加た溶液中に、メチルシクロヘキサン(沸点100℃)、エチルシクロヘキサン(沸点132℃)又はプロピルシクロヘキサン(沸点157℃)のいずれかを添加して配向膜形成用組成物(1)〜(5)を調整した。
光学異方層形成用組成物(1)の組成を表2に示す、各成分を混合し、得られた溶液を80℃で1時間攪拌した後、室温まで冷却して調製した。
表2におけるLR−9000は、BASFジャパン社製のLaromer(登録商標)LR−9000を、Irg907は、BASFジャパン社製のイルガキュア907を、BYK361Nは、ビックケミージャパン製のレベリング剤を、LC242は、下記式で示されるBASF社製の液晶化合物を、PGMEAは、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタートを表す。
シクロオレフィンポリマーフィルム(ZF−14、日本ゼオン株式会社製)の表面を、コロナ処理装置(AGF−B10、春日電機株式会社製)を用いて出力0.3kW、処理速度3m/分の条件で1回処理した。
コロナ処理を施した表面に、配向膜形成用組成物(1)を塗布し、乾燥して、厚さ50nmの配向膜が付いた配向膜付樹脂基材を作成した。配向膜付樹脂基材の配向膜表面に光異方性層形成用組成物(1)を、バーコーターを用いて塗布し、100℃に加熱して乾燥し、室温まで冷却した。その後、ユニキュア(VB―15201BY−A、ウシオ電機株式会社製)を用いて、紫外線(波長365nm、照度40mW/cm2)を30秒間照射し、樹脂基材と配向膜と光学異方性フィルムとをこの順に積層する、積層体(1)を得た。
実施例1における、配向膜形成用組成物(1)を配向膜形成用組成物(2)とした以外は、実施例1と同様の条件で実施し、積層体(2)を作製した。
実施例1における、配向膜形成用組成物(1)を配向膜形成用組成物(3)とした以外は、実施例1と同様の条件で実施し、積層体(3)を作製した。
実施例1における、配向膜形成用組成物(1)を配向膜形成用組成物(4)とした以外は、実施例1と同様の条件で実施し、積層体(4)を作製した。
実施例1において、配向膜形成用組成物(1)を配向膜形成用組成物(5)とした以外は、上記実施例1と同様の条件で実施し、積層体(5)を作製した。
JIS−K5600に則り、コーテック株式会社製クロスカットガイドIシリーズ(CCI−1、1mm間隔、25マス用)を用いて、上記で作製した積層体(1)〜(4)の剥離耐性を評価した。剥離試験後、樹脂基材から剥離せずに保持された配向膜の残存数をカウントした結果と残存率(面積基準での非剥離率)を表3に示す。なお、配向膜と光学異方性フィルムとは、全て剥離せずに保持された。
上記で作製した積層体(1)〜(5)の位相差値を測定機(KOBRA−WR、王子計測機器社製)により測定した。サンプルへの光の入射角を変えて測定し、液晶が垂直配向しているかどうか確認した。位相差値R0(λ)は入射角0度(正面)の位相差値、R50(λ)は入射角50度(進相軸まわりの傾斜)の位相差値であり、それぞれ波長(λ)549nmにおいて測定した。また、光学異方性フィルムの膜厚をレーザー顕微鏡(LEXT3000、オリンパス社製)を用いて測定した。結果を表3に示す。
得られた位相差値R0(549)及びR50(549)を用いて、上記式(9)〜(11)から光学異方性フィルムの屈折率nx、ny及びnzを算出した。ここで、平均屈折率n0は1.6とした。結果を表4に示す。
2、2’:偏光フィルム
3、3’:接着剤層
4a、4b、4c、4d、4e、4、4’:偏光板
5、5’:接着層
6:液晶パネル
10a、10b:液晶表示装置
Claims (14)
- 配向膜形成用材料と、N−メチル−2−ピロリドンと、沸点が100〜200℃の炭化水素とを含む配向膜形成用組成物。
- 沸点が100〜200℃の炭化水素が、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン及びプロピルシクロヘキサンからなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1に記載の配向膜形成用組成物。
- 配向膜形成用組成物全量に対して、N−メチル−2−ピロリドンの含有量が60質量%〜99.9質量%であり、沸点が100〜200℃の炭化水素の含有量が0.1質量%〜40質量%である請求項1又は請求項2に記載の配向膜形成用組成物。
- 配向膜形成用材料がポリイミド、ポリアミド及びポリアミック酸から選ばれる少なくとも1種を含む、請求項1〜3のいずれかに記載の配向膜形成用組成物。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の配向膜形成用組成物から形成される配向膜を、樹脂基材の表面に有する配向膜付樹脂基材。
- 樹脂基材がポリオレフィン樹脂からなる請求項5に記載の配向膜付樹脂基材。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の配向膜形成用組成物を、樹脂基材に塗布して乾燥する配向膜付樹脂基材の製造方法。
- 請求項5又は請求項6に記載の配向膜付樹脂基材と光学異方性フィルムとを、樹脂基材、配向膜、光学異方性フィルムの順に有する積層体。
- JIS−K5600に則った密着性試験において、面積基準で、配向膜の80%以上が樹脂基材から剥離しない請求項8に記載の積層体。
- 光学異方性フィルムが位相差フィルムである請求項8又は請求項9に記載の積層体。
- IPS(in−plane switching)液晶表示装置用の請求項8〜10のいずれかに記載の積層体。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の組成物を、樹脂基材に塗布することで配向膜付樹脂基材を製造し、配向膜付樹脂基材の配向膜表面にさらに重合性液晶化合物と光重合開始剤とを含む組成物を塗布し、光照射することを特徴とする、樹脂基材、配向膜、光学異方性フィルムをこの順に有する積層体の製造方法。
- 請求項8〜11のいずれかに記載の積層体を有する偏光板。
- 請求項8〜11のいずれかに記載の積層体を備えた表示装置。
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