JPWO2009001492A1 - 接着フィルムおよびこれを用いた半導体装置 - Google Patents
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Abstract
本発明の接着フィルムは、半導体素子と基板または半導体素子と半導体素子とを接合するために用いる接着フィルムであって、前記接着フィルムが、エポキシ樹脂と、アクリル系樹脂と、重量平均分子量6,000以下のアクリル系オリゴマーとを含む樹脂組成物で構成され、かつ前記アクリル系樹脂の含有量Waと、前記アクリル系オリゴマーの含有量Wbとの比(Wa/Wb)が0.5〜4であることを特徴とする。また、本発明の半導体装置は、上記に記載の接着フィルムを用いて半導体素子と基板または半導体素子と半導体素子とが接合されていることを特徴とする。
Description
本発明は、接着フィルムおよびこれを用いた半導体装置に関する。
近年の電子機器の小型化・薄型化に伴い、半導体素子を基板に高密度に実装した半導体パッケージが用いられるようになっている。通常、このような半導体パッケージは、半導体素子と基板とを接着フィルムで接合する接合工程と、半導体素子と基板とをボンディングワイヤーで電気的に導通するワイヤーボンディング工程と、半導体素子を封止樹脂で封止する封止工程とを経て生産される。(例えば、特許文献1:特開2003−60127号公報参照)。
ここで、用いられる接着フィルムには、半導体素子と基板とを接合する機能と、基板の凹凸を埋め込む機能等とが要求される。従来の接着フィルムでは、封止樹脂を封止する封止工程における加熱と圧力とにより接着フィルムが軟化し、基板の凹凸を埋め込むものであった。
しかし近年、半導体素子を多段に積層して基板に高密度で実装された半導体パッケージが用いられるようになり、半導体素子を多段に積層するために前記ワイヤーボンディング工程の時間が長くなってきた。そのため、接着フィルムが硬化しすぎて前記封止工程で十分に軟化せず、基板の凹凸を埋め込むことができない場合があった。
本発明の目的は、前記接合工程における加熱により接着フィルムが軟化し、基板の凹凸に対する埋め込み性(初期埋め込み性)が向上した接着フィルムおよびその接着フィルムを用いた半導体装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、下記(1)〜(16)に記載の本発明は、
(1)半導体素子と基板または半導体素子と半導体素子とを接合するために用いる接着フィルムであって、前記接着フィルムが、エポキシ樹脂と、アクリル系樹脂と、重量平均分子量6,000以下のアクリル系オリゴマーとを含む樹脂組成物で構成され、かつ前記アクリル系樹脂の含有量Waと、前記アクリル系オリゴマーの含有量Wbとの比(Wa/Wb)が0.5〜4であることを特徴とする接着フィルム。
(2)前記アクリル系オリゴマーのガラス転移温度が、−30℃以下である上記(1)に記載の接着フィルム。
(3)前記アクリル系オリゴマーの含有量は、前記樹脂組成物全体の5〜30重量%である上記(1)または(2)に記載の接着フィルム。
(4)前記アクリル系オリゴマーは、カルボキシル基およびグリシジル基の少なくとも一方を有するものである上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の接着フィルム。
(5)前記アクリル系オリゴマーは、常温で液状である上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の接着フィルム。
(6)前記樹脂組成物は、硬化剤を含むものである上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の接着フィルム。
(7)前記硬化剤は、液状フェノール化合物を含むものである上記(6)に記載の接着フィルム。
(8)前記樹脂組成物は、さらに硬化触媒を含むものである上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の接着フィルム。
(9)前記硬化触媒は、イミダゾール化合物を含むものである上記(8)に記載の接着フィルム。
(10)前記硬化触媒の融点が、150℃以上である上記(8)または(9)に記載の接着フィルム。
(11)前記接着フィルムの100℃での溶融粘度が、80Pa・s以下である上記(1)ないし(10)のいずれかに記載の接着フィルム。
(12)175℃で2時間熱処理した後の硬化物の175℃での弾性率が30MPa以上となるものである上記(1)ないし(11)のいずれかに記載の接着フィルム。
(13)基板の一方の面側に、第1半導体素子、接着層および第2半導体素子がこの順に積層されてなり、前記第1半導体素子の機能面に形成された端子と基板とをボンディングワイヤーにて電気的に接続してなり、前記ボンディングワイヤーの前記端子付近の部位が、前記接着層内を通過してなる半導体装置の前記接着層として用いる接着フィルムであって、前記接着フィルムは、エポキシ樹脂と、アクリル系樹脂と、重量平均分子量6,000以下のアクリル系オリゴマーとを含む樹脂組成物で構成され、かつ前記アクリル系樹脂の含有量Waと、前記アクリル系オリゴマーの含有量Wbとの比(Wa/Wb)が0.5〜4であることを特徴とする接着フィルム。
(14)前記第2半導体素子の平面視での面積が、前記第1半導体素子の平面視での面積とほぼ同じである上記(13)に記載の接着フィルム。
(15)前記第2半導体素子の平面視での面積が、前記第1半導体素子の平面視での面積よりも大きいものである上記(13)に記載の接着フィルム。
(16)上記(1)ないし(15)のいずれかに記載の接着フィルムを用いて半導体素子と基板または半導体素子と半導体素子とが接合されていることを特徴とする半導体装置。
(1)半導体素子と基板または半導体素子と半導体素子とを接合するために用いる接着フィルムであって、前記接着フィルムが、エポキシ樹脂と、アクリル系樹脂と、重量平均分子量6,000以下のアクリル系オリゴマーとを含む樹脂組成物で構成され、かつ前記アクリル系樹脂の含有量Waと、前記アクリル系オリゴマーの含有量Wbとの比(Wa/Wb)が0.5〜4であることを特徴とする接着フィルム。
(2)前記アクリル系オリゴマーのガラス転移温度が、−30℃以下である上記(1)に記載の接着フィルム。
(3)前記アクリル系オリゴマーの含有量は、前記樹脂組成物全体の5〜30重量%である上記(1)または(2)に記載の接着フィルム。
(4)前記アクリル系オリゴマーは、カルボキシル基およびグリシジル基の少なくとも一方を有するものである上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の接着フィルム。
(5)前記アクリル系オリゴマーは、常温で液状である上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の接着フィルム。
(6)前記樹脂組成物は、硬化剤を含むものである上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の接着フィルム。
(7)前記硬化剤は、液状フェノール化合物を含むものである上記(6)に記載の接着フィルム。
(8)前記樹脂組成物は、さらに硬化触媒を含むものである上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の接着フィルム。
(9)前記硬化触媒は、イミダゾール化合物を含むものである上記(8)に記載の接着フィルム。
(10)前記硬化触媒の融点が、150℃以上である上記(8)または(9)に記載の接着フィルム。
(11)前記接着フィルムの100℃での溶融粘度が、80Pa・s以下である上記(1)ないし(10)のいずれかに記載の接着フィルム。
(12)175℃で2時間熱処理した後の硬化物の175℃での弾性率が30MPa以上となるものである上記(1)ないし(11)のいずれかに記載の接着フィルム。
(13)基板の一方の面側に、第1半導体素子、接着層および第2半導体素子がこの順に積層されてなり、前記第1半導体素子の機能面に形成された端子と基板とをボンディングワイヤーにて電気的に接続してなり、前記ボンディングワイヤーの前記端子付近の部位が、前記接着層内を通過してなる半導体装置の前記接着層として用いる接着フィルムであって、前記接着フィルムは、エポキシ樹脂と、アクリル系樹脂と、重量平均分子量6,000以下のアクリル系オリゴマーとを含む樹脂組成物で構成され、かつ前記アクリル系樹脂の含有量Waと、前記アクリル系オリゴマーの含有量Wbとの比(Wa/Wb)が0.5〜4であることを特徴とする接着フィルム。
(14)前記第2半導体素子の平面視での面積が、前記第1半導体素子の平面視での面積とほぼ同じである上記(13)に記載の接着フィルム。
(15)前記第2半導体素子の平面視での面積が、前記第1半導体素子の平面視での面積よりも大きいものである上記(13)に記載の接着フィルム。
(16)上記(1)ないし(15)のいずれかに記載の接着フィルムを用いて半導体素子と基板または半導体素子と半導体素子とが接合されていることを特徴とする半導体装置。
以下、本発明の接着フィルムおよび半導体装置について詳細に説明する。
本発明の接着フィルムは、半導体素子と基板または半導体素子と半導体素子とを接合するために用いる接着フィルムであって、前記接着フィルムが、エポキシ樹脂と、アクリル系樹脂と、重量平均分子量6,000以下のアクリル系オリゴマーとを含む樹脂組成物で構成され、かつ前記アクリル系樹脂の含有量Waと、前記アクリル系オリゴマーの含有量Wbとの比(Wa/Wb)が0.5〜4であることを特徴とする。
また、本発明の半導体装置は、上記に記載の接着フィルムを用いて半導体素子と基板または半導体素子と半導体素子とが接合されていることを特徴とする。
本発明の接着フィルムは、半導体素子と基板または半導体素子と半導体素子とを接合するために用いる接着フィルムであって、前記接着フィルムが、エポキシ樹脂と、アクリル系樹脂と、重量平均分子量6,000以下のアクリル系オリゴマーとを含む樹脂組成物で構成され、かつ前記アクリル系樹脂の含有量Waと、前記アクリル系オリゴマーの含有量Wbとの比(Wa/Wb)が0.5〜4であることを特徴とする。
また、本発明の半導体装置は、上記に記載の接着フィルムを用いて半導体素子と基板または半導体素子と半導体素子とが接合されていることを特徴とする。
まず、接着フィルムについて説明する。
図1に示すように接着フィルム1は、半導体素子2と基板3との接続(a)または半導体素子2と半導体素子2を接続(b)するために用いる。
接着フィルム1は、エポキシ樹脂と、アクリル系樹脂と、重量平均分子量が6,000以下のアクリル系オリゴマーとを含む樹脂組成物で構成されている。これにより、基板の凹凸の埋め込み性と、耐熱性・密着性のバランスに優れる。
図1に示すように接着フィルム1は、半導体素子2と基板3との接続(a)または半導体素子2と半導体素子2を接続(b)するために用いる。
接着フィルム1は、エポキシ樹脂と、アクリル系樹脂と、重量平均分子量が6,000以下のアクリル系オリゴマーとを含む樹脂組成物で構成されている。これにより、基板の凹凸の埋め込み性と、耐熱性・密着性のバランスに優れる。
前記樹脂組成物は、エポキシ樹脂を含む。これにより、接着フィルム1に耐熱性と接着性を付与することができる。
前記エポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂等が挙げられ、これらは単独でも混合して用いても良い。これらの中でもノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。これにより、耐熱性および密着性をより向上することができる。
前記エポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂等が挙げられ、これらは単独でも混合して用いても良い。これらの中でもノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。これにより、耐熱性および密着性をより向上することができる。
前記エポキシ樹脂の含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の30〜60重量%が好ましく、特に40〜50重量%が好ましい。含有量が前記下限値未満であると前記接合工程における基板の凹凸の埋め込み性が低下する場合があり、前記上限値を超えるとフィルム形成能を向上する効果が低下する場合がある。
前記樹脂組成物は、アクリル系樹脂を含む。これにより、接着フィルム1のフィルム形成能を向上することができる。
前記アクリル系樹脂は、アクリル酸およびその誘導体を意味し、具体的にはアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エステル、アクリロニトリル、アクリルアミド等の重合体および他の単量体との共重合体等が挙げられる。
また、前記アクリル系樹脂の中でもエポキシ基、水酸基、カルボキシル基、ニトリル基等を持つ化合物(共重合モノマー成分)を有するアクリル系樹脂(特に、アクリル酸エステル共重合体)が好ましい。これにより、半導体素子等の被着体への密着性をより向上することができる。前記官能基を持つ化合物として、具体的にはグリシジルエーテル基を持つグリシジルメタクリレート、水酸基を持つヒドロキシメタクリレート、カルボキシル基を持つカルボキシメタクリレート、ニトリル基を持つアクリロニトリル等が挙げられる。
前記アクリル系樹脂は、アクリル酸およびその誘導体を意味し、具体的にはアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エステル、アクリロニトリル、アクリルアミド等の重合体および他の単量体との共重合体等が挙げられる。
また、前記アクリル系樹脂の中でもエポキシ基、水酸基、カルボキシル基、ニトリル基等を持つ化合物(共重合モノマー成分)を有するアクリル系樹脂(特に、アクリル酸エステル共重合体)が好ましい。これにより、半導体素子等の被着体への密着性をより向上することができる。前記官能基を持つ化合物として、具体的にはグリシジルエーテル基を持つグリシジルメタクリレート、水酸基を持つヒドロキシメタクリレート、カルボキシル基を持つカルボキシメタクリレート、ニトリル基を持つアクリロニトリル等が挙げられる。
前記アクリル系樹脂の重量平均分子量は、特に限定されないが、10万以上が好ましく、特に15万〜100万が好ましい。重量平均分子量が前記範囲内であると、フィルム形成能を特に向上することができる。さらに重量平均分子量が前記範囲内であると、前記アクリル系樹脂中に熱硬化性の官能基を含んでいる場合にも熱処理により樹脂単独で硬化挙動を示すことはない。
前記重量平均分子量は、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定することができ、測定条件例としては東ソー(株)製、高速GPC SC−8020装置でカラムはTSK−GEL GMHXL−L、温度40℃、溶媒テトラヒドロフラン等が挙げられる。
前記重量平均分子量は、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定することができ、測定条件例としては東ソー(株)製、高速GPC SC−8020装置でカラムはTSK−GEL GMHXL−L、温度40℃、溶媒テトラヒドロフラン等が挙げられる。
前記アクリル系樹脂の含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の5〜30重量%が好ましく、特に8〜20重量%が好ましい。含有量が前記下限値未満であるとフィルム形成能を向上する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えると前記接合工程における基板の凹凸に対する埋め込み性を向上する効果が低下する場合がある。
前記樹脂組成物は、アクリル系オリゴマーを含む。
前記アクリル系オリゴマーとしては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エステル、アクリロニトリル、アクリルアミド等の重合体オリゴマーおよび他の単量体との共重合体オリゴマー等が挙げられる。
また、前記アクリル系オリゴマーの中でもエポキシ基、水酸基、カルボキシル基、ニトリル基等を持つ化合物(共重合モノマー成分)を有するアクリル系オリゴマーが好ましく、特にカルボキシル基およびグリシジル基の少なくとも一方を有するアクリル系オリゴマーが好ましい。これにより、半導体素子等の被着体への密着性をより向上することができる。前記官能基を持つ化合物として、具体的にはグリシジルエーテル基を持つグリシジルメタクリレート、水酸基を持つヒドロキシメタクリレート、カルボキシル基を持つカルボキシメタクリレート、ニトリル基を持つアクリロニトリル等が挙げられる。
また、これらのアクリル系オリゴマーは、常温で液状であっても固形であっても構わない。
前記アクリル系オリゴマーとしては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エステル、アクリロニトリル、アクリルアミド等の重合体オリゴマーおよび他の単量体との共重合体オリゴマー等が挙げられる。
また、前記アクリル系オリゴマーの中でもエポキシ基、水酸基、カルボキシル基、ニトリル基等を持つ化合物(共重合モノマー成分)を有するアクリル系オリゴマーが好ましく、特にカルボキシル基およびグリシジル基の少なくとも一方を有するアクリル系オリゴマーが好ましい。これにより、半導体素子等の被着体への密着性をより向上することができる。前記官能基を持つ化合物として、具体的にはグリシジルエーテル基を持つグリシジルメタクリレート、水酸基を持つヒドロキシメタクリレート、カルボキシル基を持つカルボキシメタクリレート、ニトリル基を持つアクリロニトリル等が挙げられる。
また、これらのアクリル系オリゴマーは、常温で液状であっても固形であっても構わない。
前記アクリル系オリゴマーの重量平均分子量は、6,000以下である。これにより、接着フィルム1の初期埋め込み性を向上することができる。
さらに、具体的には前記アクリル系オリゴマーの重量平均分子量が4,500以下であることが好ましく、特に1,000〜3,000であることが好ましい。重量平均分子量が前記下限値未満であるとフィルム形成能を向上する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えると前記接合工程における基板の凹凸に対する埋め込み性を向上する効果が低下する場合がある。
前記重量平均分子量は、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定することができ、測定条件例としては東ソー(株)製、高速GPC SC−8020装置でカラムはTSK−GEL GMHXL−L、温度40℃、溶媒テトラヒドロフラン等が挙げられる。
さらに、具体的には前記アクリル系オリゴマーの重量平均分子量が4,500以下であることが好ましく、特に1,000〜3,000であることが好ましい。重量平均分子量が前記下限値未満であるとフィルム形成能を向上する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えると前記接合工程における基板の凹凸に対する埋め込み性を向上する効果が低下する場合がある。
前記重量平均分子量は、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定することができ、測定条件例としては東ソー(株)製、高速GPC SC−8020装置でカラムはTSK−GEL GMHXL−L、温度40℃、溶媒テトラヒドロフラン等が挙げられる。
前記アクリル系樹脂の重量平均分子量Mw1と、前記アクリル系オリゴマーの重量平均分子量Mw2の比率(Mw1/Mw2)は、特に限定されないが、20以上が好ましく、特に60以上が好ましい。重量平均分子量の比率が前記下限値未満であるとフィルム形成能を向上する効果が低下する場合があり、さらに耐熱性を向上する効果が低下する場合がある。
前記アクリル系オリゴマーのガラス転移温度は、特に限定されないが、−30℃以下であることが好ましく、特に−50〜−35℃であることが好ましい。ガラス転移温度が前記範囲内であると、前記接着フィルムのタック性が大きくなり被着体との初期密着性にも優れる。
前記ガラス転移温度は、例えば熱機械特性分析装置(セイコーインスツルメンツ(株)TMA/SS6100)を用いて、一定荷重(10mN)でー65℃から昇温速度5℃/分で温度を上昇させながら引っ張った際の変極点より測定することができる。
前記ガラス転移温度は、例えば熱機械特性分析装置(セイコーインスツルメンツ(株)TMA/SS6100)を用いて、一定荷重(10mN)でー65℃から昇温速度5℃/分で温度を上昇させながら引っ張った際の変極点より測定することができる。
前記アクリル系オリゴマーの含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の5〜30重量%が好ましく、特に10〜20重量%が好ましい。含有量が前記下限値未満であるとフィルム形成能を向上する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えると前記接合工程における基板の凹凸に対する埋め込み性を向上する効果が低下する場合がある。
前記樹脂組成物では、前記アクリル系樹脂の含有量Waと、前記アクリル系オリゴマーの含有量Wbとの比(Wa/Wb)が0.5〜4であることを特徴とする。これにより、基板に接着フィルム1を接合した際に初期埋め込み性に特に優れ、かつフィルム特性にも優れる。
さらに、具体的には、前記アクリル系樹脂の含有量Waと、前記アクリル系オリゴマーの含有量Wbとの比(Wa/Wb)が0.6〜2であることが好ましく、特に0.7〜1.5であることが好ましい。含有量の比率が前記下限値未満であるとフィルム形成能を向上する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えると前記接合工程における基板の凹凸に対する埋め込み性を向上する効果が低下する場合がある。
さらに、具体的には、前記アクリル系樹脂の含有量Waと、前記アクリル系オリゴマーの含有量Wbとの比(Wa/Wb)が0.6〜2であることが好ましく、特に0.7〜1.5であることが好ましい。含有量の比率が前記下限値未満であるとフィルム形成能を向上する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えると前記接合工程における基板の凹凸に対する埋め込み性を向上する効果が低下する場合がある。
前記樹脂組成物は、特に限定されないが、硬化剤を含むことが好ましい。
前記硬化剤としては、例えばジエチレントリアミン(DETA)、トリエチレンテトラミン(TETA)、メタキシレリレンジアミン(MXDA)等の脂肪族ポリアミン、ジアミノジフェニルメタン(DDM)、m−フェニレンジアミン(MPDA)、ジアミノジフェニルスルホン(DDS)等の芳香族ポリアミン、ジシアンジアミド(DICY)、有機酸ジヒドララジド等を含むポリアミン化合物等のアミン系硬化剤、ヘキサヒドロ無水フタル酸(HHPA)、メチルテトラヒドロ無水フタル酸(MTHPA)等の脂環族酸無水物(液状酸無水物)、無水トリメリット酸(TMA)、無水ピロメリット酸(PMDA)、ベンゾフェノンテトラカルボン酸(BTDA)等の芳香族酸無水物等の酸無水物系硬化剤、フェノール樹脂等のフェノール系硬化剤が挙げられる。これらの中でもフェノール系硬化剤(特に、常温で液状フェノール化合物)が好ましく、具体的にはビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メタン(通称テトラメチルビスフェノールF)、4,4’−スルホニルジフェノール、4,4’−イソプロピリデンジフェノール(通称ビスフェノールA)、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(2−ヒドロキシフェニル)メタン、(2−ヒドロキシフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタンおよびこれらの内ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(2−ヒドロキシフェニル)メタン、(2−ヒドロキシフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタンの3種の混合物(例えば、本州化学工業(株)製、ビスフェノールF−D)等のビスフェノール類、1,2−ベンゼンジオール、1,3−ベンゼンジオール、1,4−ベンゼンジオール等のジヒドロキシベンゼン類、1,2,4−ベンゼントリオール等のトリヒドロキシベンゼン類、1,6−ジヒドロキシナフタレン等のジヒドロキシナフタレン類の各種異性体、2,2’−ビフェノール、4,4’−ビフェノール等のビフェノール類の各種異性体等の化合物が挙げられる。
前記硬化剤としては、例えばジエチレントリアミン(DETA)、トリエチレンテトラミン(TETA)、メタキシレリレンジアミン(MXDA)等の脂肪族ポリアミン、ジアミノジフェニルメタン(DDM)、m−フェニレンジアミン(MPDA)、ジアミノジフェニルスルホン(DDS)等の芳香族ポリアミン、ジシアンジアミド(DICY)、有機酸ジヒドララジド等を含むポリアミン化合物等のアミン系硬化剤、ヘキサヒドロ無水フタル酸(HHPA)、メチルテトラヒドロ無水フタル酸(MTHPA)等の脂環族酸無水物(液状酸無水物)、無水トリメリット酸(TMA)、無水ピロメリット酸(PMDA)、ベンゾフェノンテトラカルボン酸(BTDA)等の芳香族酸無水物等の酸無水物系硬化剤、フェノール樹脂等のフェノール系硬化剤が挙げられる。これらの中でもフェノール系硬化剤(特に、常温で液状フェノール化合物)が好ましく、具体的にはビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メタン(通称テトラメチルビスフェノールF)、4,4’−スルホニルジフェノール、4,4’−イソプロピリデンジフェノール(通称ビスフェノールA)、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(2−ヒドロキシフェニル)メタン、(2−ヒドロキシフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタンおよびこれらの内ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(2−ヒドロキシフェニル)メタン、(2−ヒドロキシフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタンの3種の混合物(例えば、本州化学工業(株)製、ビスフェノールF−D)等のビスフェノール類、1,2−ベンゼンジオール、1,3−ベンゼンジオール、1,4−ベンゼンジオール等のジヒドロキシベンゼン類、1,2,4−ベンゼントリオール等のトリヒドロキシベンゼン類、1,6−ジヒドロキシナフタレン等のジヒドロキシナフタレン類の各種異性体、2,2’−ビフェノール、4,4’−ビフェノール等のビフェノール類の各種異性体等の化合物が挙げられる。
前記硬化剤の含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の15〜40重量%が好ましく、特に20〜35重量%が好ましい。含有量が前記下限値未満であると耐熱性を向上する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えると保存性が低下する場合がある。なお、フェノール系硬化剤としてフェノール樹脂を用いる場合には、該フェノール樹脂は熱硬化性樹脂とせずに含有量を評価する。
前記樹脂組成物は、特に限定されないが、硬化触媒を含むことが好ましい。これにより、前記接着フィルムの硬化性を向上することができる。
前記硬化触媒としては、例えばイミダゾール類、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン等アミン系触媒、トリフェニルホスフィン等リン系触媒等が挙げられる。これらの中でもイミダゾール類が好ましい。これにより、特に速硬化性と保存性を両立することができる。
前記イミダゾール類としては、例えば1−ベンジル−2メチルイミダゾール、1−ベンジル−2フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2'−メチルイミダゾリル−(1')]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2'−ウンデシルイミダゾリル−(1')]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2'−エチル−4'メチルイミダゾリル−(1')]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2'−メチルイミダゾリル−(1')]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物等が挙げられる。これらの中でも2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾールまたは2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾールが好ましい。これにより、保存性を特に向上することができる。
前記硬化触媒としては、例えばイミダゾール類、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン等アミン系触媒、トリフェニルホスフィン等リン系触媒等が挙げられる。これらの中でもイミダゾール類が好ましい。これにより、特に速硬化性と保存性を両立することができる。
前記イミダゾール類としては、例えば1−ベンジル−2メチルイミダゾール、1−ベンジル−2フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2'−メチルイミダゾリル−(1')]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2'−ウンデシルイミダゾリル−(1')]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2'−エチル−4'メチルイミダゾリル−(1')]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2'−メチルイミダゾリル−(1')]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物等が挙げられる。これらの中でも2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾールまたは2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾールが好ましい。これにより、保存性を特に向上することができる。
前記硬化触媒の融点は、特に限定されないが、150℃以上であることが好ましく、特に160〜230℃であることが好ましい。融点が前記範囲内であると、前記接合工程における基板の凹凸に対する埋め込み性と硬化性のバランスに優れる。
融点が150℃以上の硬化触媒としては、例えば2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。
融点が150℃以上の硬化触媒としては、例えば2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。
前記硬化触媒の含有量は、特に限定されないが、前記熱硬化性樹脂100重量部に対して0.01〜30重量部が好ましく、特に0.5〜10重量部が好ましい。含有量が前記下限値未満であると硬化性が不十分である場合があり、前記上限値を超えると保存性が低下する場合がある。
前記樹脂組成物は、特に限定されないが、カップリング剤を含むことが好ましい。これにより、樹脂と被着体および樹脂界面の密着性をより向上させることができる。
前記カップリング剤としてはシラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等が挙げられる。これらの中でもシラン系カップリング剤が好ましい。これにより、耐熱性をより向上することができる。
前記カップリング剤としてはシラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等が挙げられる。これらの中でもシラン系カップリング剤が好ましい。これにより、耐熱性をより向上することができる。
前記シラン系カップリング剤としては例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、β−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
前記カップリング剤の含有量は、特に限定されないが、前記熱硬化性樹脂100重量部に対して0.01〜10重量部が好ましく、特に0.5〜8重量部が好ましい。含有量が前記下限値未満であると密着性の効果が不十分である場合があり、前記上限値を超えるとアウトガスやボイドの原因になる場合がある。
前記樹脂組成物には、上述したエポキシ樹脂、アクリル系樹脂、アクリル系オリゴマー、硬化剤等以外にレベリング剤、消泡剤等の添加剤を配合しても良い。
このような樹脂組成物を、例えばメチルエチルケトン、アセトン、トルエン、ジメチルホルムアルデヒド等の溶剤に溶解して、ワニスの状態にした後、コンマコーター、ダイコーター、グラビアコーター等を用いてキャリアフィルムに塗工し、乾燥して接着フィルム1を得ることができる。
接着フィルム1の厚さは、特に限定されないが、3〜100μmが好ましく、特に5〜70μmが好ましい。厚さが前記範囲内であると、特に厚さ精度の制御を容易にできる。
接着フィルム1の厚さは、特に限定されないが、3〜100μmが好ましく、特に5〜70μmが好ましい。厚さが前記範囲内であると、特に厚さ精度の制御を容易にできる。
さて、このようにして得られた接着フィルム1の100℃での溶融粘度は、特に限定されないが、80Pa・s以下であることが好ましく、特に40〜75Pa・sであることが好ましい。溶融粘度が前記範囲内であると、特に基板の凹凸に対する埋め込み性を向上する効果に優れる。
前記溶融粘度は、例えば粘弾性測定装置であるレオメーターを用いて、フィルム状態のサンプルに10℃/分の昇温速度で、周波数1Hzのずりせん断を与えて測定することができる。
前記溶融粘度は、例えば粘弾性測定装置であるレオメーターを用いて、フィルム状態のサンプルに10℃/分の昇温速度で、周波数1Hzのずりせん断を与えて測定することができる。
また、接着フィルム1を175℃で2時間熱処理した後の弾性率は、特に限定されないが、30MPa以上であることが好ましく、特に40MPa以上であることが好ましい。弾性率が前記範囲内であると、封止工程において無機充填材等による半導体素子の割れ、欠け等を防止することができる。
前記弾性率は、例えば動的粘弾性測定装置(DMA)を用いて、昇温3℃/分、周波数10Hzの条件で測定することができる。
前記弾性率は、例えば動的粘弾性測定装置(DMA)を用いて、昇温3℃/分、周波数10Hzの条件で測定することができる。
次に、半導体装置について説明する。
図2は、半導体装置を製造する一方法のフロー図である。
図2に示すように、半導体装置は、接着フィルム1と半導体素子とを仮接合する仮接合工程と、仮接合している接着フィルム1を所定の硬化度まで硬化させる第1硬化工程と、半導体素子と基板とを電極的に接続するワイヤーボンディング工程と、半導体素子およびボンディングワイヤーを封止する封止工程と、最終的に接着フィルム1を硬化させる第2硬化工程とで製造される。
図2は、半導体装置を製造する一方法のフロー図である。
図2に示すように、半導体装置は、接着フィルム1と半導体素子とを仮接合する仮接合工程と、仮接合している接着フィルム1を所定の硬化度まで硬化させる第1硬化工程と、半導体素子と基板とを電極的に接続するワイヤーボンディング工程と、半導体素子およびボンディングワイヤーを封止する封止工程と、最終的に接着フィルム1を硬化させる第2硬化工程とで製造される。
以下、各工程について簡単に説明する。
(仮接合工程)
仮接合工程では、予め接着フィルムが貼付された半導体素子と、基板とを仮接合して仮接合体を得る。この仮接合工程では、接着フィルムを基板の凹凸への埋め込み(初期埋め込み)を行う。仮接合は、具体的には基板、接着フィルム、半導体素子を順次搭載し、熱プレスにて熱圧着して行う。ここで、接着フィルムは、予め半導体素子に接合していても良いし、基板に接合しても良い。
(仮接合工程)
仮接合工程では、予め接着フィルムが貼付された半導体素子と、基板とを仮接合して仮接合体を得る。この仮接合工程では、接着フィルムを基板の凹凸への埋め込み(初期埋め込み)を行う。仮接合は、具体的には基板、接着フィルム、半導体素子を順次搭載し、熱プレスにて熱圧着して行う。ここで、接着フィルムは、予め半導体素子に接合していても良いし、基板に接合しても良い。
(第1硬化工程)
第1硬化工程では、仮接合体を加熱処理等して接着フィルムを構成する樹脂組成物を所定の硬化度まで仮硬化する。これにより、後述するワイヤーボンディング工程でのワイヤー接着力を向上することができる。
具体的に所定の硬化度とは、例えば接着フィルムを示差熱量計で測定して得られる全硬化発熱量の50〜80%の発熱を終えた状態である場合をいう。
また、前記第1硬化工程を経た後の接着フィルムの175℃での弾性率は、特に限定されないが、5.0MPa以上とすることが好ましく、特に6.0〜8.0MPaとすることが好ましい。これにより、接着フィルムの初期埋め込み性を向上することができる。
第1硬化工程では、仮接合体を加熱処理等して接着フィルムを構成する樹脂組成物を所定の硬化度まで仮硬化する。これにより、後述するワイヤーボンディング工程でのワイヤー接着力を向上することができる。
具体的に所定の硬化度とは、例えば接着フィルムを示差熱量計で測定して得られる全硬化発熱量の50〜80%の発熱を終えた状態である場合をいう。
また、前記第1硬化工程を経た後の接着フィルムの175℃での弾性率は、特に限定されないが、5.0MPa以上とすることが好ましく、特に6.0〜8.0MPaとすることが好ましい。これにより、接着フィルムの初期埋め込み性を向上することができる。
(ワイヤーボンディング工程)
ワイヤーボンディング工程では、半導体素子の電極と、基板の電極とをボンディングワイヤーで電気的に接続する。このボンディングワイヤーの接続は、例えばEAGLE60(ASM製)等を用いて行うことができる。
ここで、ワイヤーボンディング工程は、通常150〜250℃の温度で行われる。そこで、初期埋め込み性に優れるような接着フィルムの場合、接着フィルムの弾性率が低い傾向があり、接着フィルムがクッションとなりワイヤーボンディング強度が低下し、不良の原因となる場合がある。そのため、前述の第1硬化工程により、接着フィルムの硬化度をある程度向上させることが好ましい。
ここで、ワイヤーボンディングする温度(例えば175℃)での接着フィルムの弾性率は、特に限定されないが、5MPa以上であることが好ましく、特に6.0〜8.0MPaとすることが好ましい。これにより、接着フィルムの初期埋め込み性を向上することができる。
ワイヤーボンディング工程では、半導体素子の電極と、基板の電極とをボンディングワイヤーで電気的に接続する。このボンディングワイヤーの接続は、例えばEAGLE60(ASM製)等を用いて行うことができる。
ここで、ワイヤーボンディング工程は、通常150〜250℃の温度で行われる。そこで、初期埋め込み性に優れるような接着フィルムの場合、接着フィルムの弾性率が低い傾向があり、接着フィルムがクッションとなりワイヤーボンディング強度が低下し、不良の原因となる場合がある。そのため、前述の第1硬化工程により、接着フィルムの硬化度をある程度向上させることが好ましい。
ここで、ワイヤーボンディングする温度(例えば175℃)での接着フィルムの弾性率は、特に限定されないが、5MPa以上であることが好ましく、特に6.0〜8.0MPaとすることが好ましい。これにより、接着フィルムの初期埋め込み性を向上することができる。
(封止工程)
封止工程では、半導体素子および半導体素子の電極と基板の電極とを接合しているボンディングワイヤーを覆うように封止樹脂で封止する。これにより、半導体素子を保護、絶縁性および防湿性を向上することができる。封止条件は、例えばトランスファー成形機を用いて、150〜200℃、50〜100kg/mm2の高温、高圧で行われる。
従来の接着剤では、封止工程で封止樹脂に含まれる充填材が半導体素子と基板の間(または半導体素子が複数積層される場合は、半導体素子間)の接着剤に混入してしまい、半導体素子の割れや欠け等の不良を発生する場合があった。
この原因について検討した結果、本発明者らは封止工程(封止温度)において接着剤(本実施の形態では、接着フィルムに相当)が軟化し、かつ圧力がかかるために充填材が混入しやすくなっていることを見出した。そこで、本発明は、半導体素子と基板とまたは半導体素子と半導体素子とを接合する接着剤の封止温度での弾性率を6MPa以上とすることが好ましい。これにより、封止する温度においても接着剤がある程度の硬さを有しているために、充填材が混入することを防止できるものである。
具体的に封止温度での弾性率は、12MPa以上が特に好ましく、8〜50MPaが好ましい。このような弾性率は、例えば動的粘弾性測定装置(DMA)で測定することができる。
前記弾性率は、例えばセイコーインスツルメント(株)製の動的粘弾性測定装置を用い、昇温3℃/min、周波数10Hzで動的粘弾性を測定し、貯蔵弾性率を測定した。
封止工程では、半導体素子および半導体素子の電極と基板の電極とを接合しているボンディングワイヤーを覆うように封止樹脂で封止する。これにより、半導体素子を保護、絶縁性および防湿性を向上することができる。封止条件は、例えばトランスファー成形機を用いて、150〜200℃、50〜100kg/mm2の高温、高圧で行われる。
従来の接着剤では、封止工程で封止樹脂に含まれる充填材が半導体素子と基板の間(または半導体素子が複数積層される場合は、半導体素子間)の接着剤に混入してしまい、半導体素子の割れや欠け等の不良を発生する場合があった。
この原因について検討した結果、本発明者らは封止工程(封止温度)において接着剤(本実施の形態では、接着フィルムに相当)が軟化し、かつ圧力がかかるために充填材が混入しやすくなっていることを見出した。そこで、本発明は、半導体素子と基板とまたは半導体素子と半導体素子とを接合する接着剤の封止温度での弾性率を6MPa以上とすることが好ましい。これにより、封止する温度においても接着剤がある程度の硬さを有しているために、充填材が混入することを防止できるものである。
具体的に封止温度での弾性率は、12MPa以上が特に好ましく、8〜50MPaが好ましい。このような弾性率は、例えば動的粘弾性測定装置(DMA)で測定することができる。
前記弾性率は、例えばセイコーインスツルメント(株)製の動的粘弾性測定装置を用い、昇温3℃/min、周波数10Hzで動的粘弾性を測定し、貯蔵弾性率を測定した。
(第2硬化工程)
第2硬化工程では、封止樹脂を硬化すると共に、接着フィルムを前記硬化度以上に本硬化する。これにより、最終的な半導体装置を得ることができる。
第2硬化条件は、封止樹脂が硬化し、かつ接着フィルムの硬化が促進される条件であれば特に限定されないが、例えば100〜160℃×5〜180分間が好ましく、特に120〜130℃×10〜100分間が好ましい。
第2硬化工程では、封止樹脂を硬化すると共に、接着フィルムを前記硬化度以上に本硬化する。これにより、最終的な半導体装置を得ることができる。
第2硬化条件は、封止樹脂が硬化し、かつ接着フィルムの硬化が促進される条件であれば特に限定されないが、例えば100〜160℃×5〜180分間が好ましく、特に120〜130℃×10〜100分間が好ましい。
このような工程を経て、最終的に図3に示すような半導体装置10を得ることができる。半導体装置10は、半導体素子2と基板3とが接着フィルム1を介して接合されている。半導体素子2と、基板3とはボンディングワイヤー4で電気的に接続されている。半導体素子2およびボンディングワイヤー4は、封止樹脂5で覆われている(封止されている)。
なお、本発明で得られる半導体装置10は、これに限定されず、例えば第1硬化工程を設けることなく半導体装置10を製造しても良い。
本発明の半導体装置10は、基板3の凹凸に対する埋め込み性に優れる接着フィルム1を用いているので接続信頼性に特に優れるものである。
なお、本発明で得られる半導体装置10は、これに限定されず、例えば第1硬化工程を設けることなく半導体装置10を製造しても良い。
本発明の半導体装置10は、基板3の凹凸に対する埋め込み性に優れる接着フィルム1を用いているので接続信頼性に特に優れるものである。
また、本発明の接着フィルムは、図4に示すような半導体素子が多段に積層され、かつ下側の半導体素子21の平面視での面積が上側の半導体素子22のそれとほぼ同じ場合、あるいは下側の半導体素子21の平面視での面積が上側の半導体素子22のそれよりも小さい場合にも好適に用いることができる。
図4の半導体装置は、下側の半導体素子21の平面視での面積と、上側の半導体素子22のそれとがほぼ同じ場合について示したものである。図4に示すように、半導体装置10は、基板3の一方の面側(図4中の上側)に、接着フィルム1aと、第1半導体素子21と、接着フィルム1bと、第2半導体素子22とが、この順に積層されている。第1半導体素子21の機能面(図4中の上側の面)に形成された端子6と、基板3とは、ボンディングワイヤー4にて電気的に接続されている。その際に、ボンディングワイヤー4の端子6付近の部位41が接着フィルム1b内を通過している。このような接着フィルム1bは、前述したようなエポキシ樹脂と、アクリル系樹脂と、重量平均分子量6,000以下のアクリル系オリゴマーとを含む樹脂組成物で構成され、かつ前記アクリル系樹脂の含有量Waと、前記アクリル系オリゴマーの含有量Wbとの比(Wa/Wb)が0.5〜4である。
また、フィルム1aについては、フィルム1bと同じものであっても異なるものを用いても良い。
図4の半導体装置は、下側の半導体素子21の平面視での面積と、上側の半導体素子22のそれとがほぼ同じ場合について示したものである。図4に示すように、半導体装置10は、基板3の一方の面側(図4中の上側)に、接着フィルム1aと、第1半導体素子21と、接着フィルム1bと、第2半導体素子22とが、この順に積層されている。第1半導体素子21の機能面(図4中の上側の面)に形成された端子6と、基板3とは、ボンディングワイヤー4にて電気的に接続されている。その際に、ボンディングワイヤー4の端子6付近の部位41が接着フィルム1b内を通過している。このような接着フィルム1bは、前述したようなエポキシ樹脂と、アクリル系樹脂と、重量平均分子量6,000以下のアクリル系オリゴマーとを含む樹脂組成物で構成され、かつ前記アクリル系樹脂の含有量Waと、前記アクリル系オリゴマーの含有量Wbとの比(Wa/Wb)が0.5〜4である。
また、フィルム1aについては、フィルム1bと同じものであっても異なるものを用いても良い。
接着フィルム1bは、上述のような組成で構成されているので、熱時フロー性に優れており、図4に示すようにボンディングワイヤー4の端子6付近の部位41が、接着フィルム1b内を通過してもボンディングワイヤー4が変形、切断することなく、電気的な接続が可能となるものである。
また接着フィルム1bは平均線膨張が小さいため、加熱硬化時にボンディングワイヤー4を損傷させることなく熱硬化させることができる。
また接着フィルム1bは平均線膨張が小さいため、加熱硬化時にボンディングワイヤー4を損傷させることなく熱硬化させることができる。
図4では、第1半導体素子21の平面視での面積と、第2半導体素子22の平面視での面積がほぼ同じであるものについて説明したが、これに限定されず、第1半導体素子21の平面視での面積が、第2半導体素子22の平面視での面積よりも小さいものであっても構わない。
また、基板3と第1半導体素子21との間を、上述した接着フィルム1bと同様の組成を有する接着フィルムを用いて接着しても良いし、ペースト状等の接着剤を用いて接着しても良い。
また、第1半導体素子21と、第2半導体素子22とは、封止材料等で封止されることが好ましい。
また、第1半導体素子21と、第2半導体素子22とは、封止材料等で封止されることが好ましい。
以下、本発明を実施例および比較例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
(実施例1)
<接着フィルムの製造>
エポキシ樹脂としてEOCN−1020−80(オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂)(エポキシ当量200g/eq、日本化薬(株)製)19.67重量%と、NC6000(三官能エポキシ樹脂)(エポキシ当量200g/eq、日本化薬(株)製)29.47重量%、アクリル系樹脂としてアクリル酸エステル共重合体(エチルアクリレート−ブチルアクリレート−アクリロニトリル−アクリル酸−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ナガセケムテックス(株)製、SG−708−6DR、ガラス転移温度:6℃、重量平均分子量:800,000)9.98重量%と、アクリル系オリゴマーとしてUG−4010(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:−57℃、重量平均分子量:2,900、常温で液状)9.98重量%と、硬化剤として液状フェノール化合物(MEH−8000H、水酸基当量141g/OH基、明和化成(株)製)18.43重量%と、固形フェノール樹脂(PR−HF−3、水酸基当量104g/OH基、住友ベークライト(株)製)12.31重量%、硬化触媒としてイミダゾール化合物(2P4MHZ−PW、四国化成工業(株)製、融点195℃)0.13重量%と、カップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(KBM403E、信越化学工業(株)製)0.03重量%をメチルエチルケトン(MEK)に溶解して樹脂固形分59%の樹脂ワニスを得た。
(実施例1)
<接着フィルムの製造>
エポキシ樹脂としてEOCN−1020−80(オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂)(エポキシ当量200g/eq、日本化薬(株)製)19.67重量%と、NC6000(三官能エポキシ樹脂)(エポキシ当量200g/eq、日本化薬(株)製)29.47重量%、アクリル系樹脂としてアクリル酸エステル共重合体(エチルアクリレート−ブチルアクリレート−アクリロニトリル−アクリル酸−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ナガセケムテックス(株)製、SG−708−6DR、ガラス転移温度:6℃、重量平均分子量:800,000)9.98重量%と、アクリル系オリゴマーとしてUG−4010(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:−57℃、重量平均分子量:2,900、常温で液状)9.98重量%と、硬化剤として液状フェノール化合物(MEH−8000H、水酸基当量141g/OH基、明和化成(株)製)18.43重量%と、固形フェノール樹脂(PR−HF−3、水酸基当量104g/OH基、住友ベークライト(株)製)12.31重量%、硬化触媒としてイミダゾール化合物(2P4MHZ−PW、四国化成工業(株)製、融点195℃)0.13重量%と、カップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(KBM403E、信越化学工業(株)製)0.03重量%をメチルエチルケトン(MEK)に溶解して樹脂固形分59%の樹脂ワニスを得た。
次に、コンマコーターを用いて上述の樹脂ワニスを、ポリエチレンテレフタレートフィルム(三菱化学ポリエステルフィルム(株)製、品番MRX50、厚さ50μm)に塗布した後、90℃、5分間乾燥して、厚さ25μmの接着フィルムを得た。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、54Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、32MPaであった。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、54Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、32MPaであった。
粘着フィルムとして、クリアテックCT−H717(クラレ(株)製)を、押し出し機で、厚み100μmの基材フィルムを形成し、表面をコロナ処理した。次に、アクリル酸2−エチルヘキシル50重量部、アクリル酸ブチル10重量部、酢酸ビニル37重量部、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル3重量部とを共重合して得られた重量平均分子量500,000の共重合体を、剥離処理した厚さ38μmのポリエステルフィルム(粘着フィルムのカバーフィルムに相当)に乾燥後の厚さが10μmになるように塗工し、80℃で5分間乾燥し、粘着剤層を得た。その後、この粘着剤層を基材フィルムのコロナ処理面にラミネートして粘着フィルムを得た。
次に、上述の半導体用接着フィルムのフィルム状接着剤層のみ(ウエハーと接合される部分のみ残す)をハーフカットし、上述の粘着フィルムからカバーフィルムを剥離して、半導体用接着フィルムの接着フィルム層と粘着層とが接合するように貼り付けた。これにより、ダイシングシート機能付きダイアタッチフィルムを得た。
次に、上述の半導体用接着フィルムのフィルム状接着剤層のみ(ウエハーと接合される部分のみ残す)をハーフカットし、上述の粘着フィルムからカバーフィルムを剥離して、半導体用接着フィルムの接着フィルム層と粘着層とが接合するように貼り付けた。これにより、ダイシングシート機能付きダイアタッチフィルムを得た。
<半導体装置の製造>
このダイシングシート機能付きダイアタッチフィルムの基材を剥離して、接着フィルム面を5インチ200μmウエハーの裏面に温度40℃、圧力0.3MPaで貼り付けし、ダイシングシート機能付きダイアタッチフィルムが付いたウエハーを得た。
その後、このウエハーを、ダイシングソーを用いて、スピンドル回転数30,000rpm、切断速度50mm/secで5mm×5mm角の半導体素子のサイズにダイシング(切断)した。次に、ダイシング機能付きダイアタッチフィルムの裏面から突上げて、基材フィルム(II)および粘着層間で剥離し接着剤層(接着フィルム)が接着した半導体素子を得た。この半導体素子を、ソルダーレジスト(太陽インキ製造(株)製:商品名:AUS308)をコーティングしたビスマレイミド−トリアジン樹脂基板(回路段差5〜10μm)に、130℃、5N、1.0秒間圧着して、ダイボンディングし、120℃、1時間熱処理を行い、接着フィルム部を半硬化させた後、封止樹脂EME−G760で封止し、175℃で2時間熱処理を行い、封止樹脂を硬化させて10個の半導体装置を得た。
このダイシングシート機能付きダイアタッチフィルムの基材を剥離して、接着フィルム面を5インチ200μmウエハーの裏面に温度40℃、圧力0.3MPaで貼り付けし、ダイシングシート機能付きダイアタッチフィルムが付いたウエハーを得た。
その後、このウエハーを、ダイシングソーを用いて、スピンドル回転数30,000rpm、切断速度50mm/secで5mm×5mm角の半導体素子のサイズにダイシング(切断)した。次に、ダイシング機能付きダイアタッチフィルムの裏面から突上げて、基材フィルム(II)および粘着層間で剥離し接着剤層(接着フィルム)が接着した半導体素子を得た。この半導体素子を、ソルダーレジスト(太陽インキ製造(株)製:商品名:AUS308)をコーティングしたビスマレイミド−トリアジン樹脂基板(回路段差5〜10μm)に、130℃、5N、1.0秒間圧着して、ダイボンディングし、120℃、1時間熱処理を行い、接着フィルム部を半硬化させた後、封止樹脂EME−G760で封止し、175℃で2時間熱処理を行い、封止樹脂を硬化させて10個の半導体装置を得た。
(実施例2)
アクリル系オリゴマーとして、以下のものを用いた以外は実施例1と同様にした。
アクリル系オリゴマーとしてUC−3900(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:60℃、重量平均分子量:4,600、常温で固形)を用いた。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、65Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、31MPaであった。
アクリル系オリゴマーとして、以下のものを用いた以外は実施例1と同様にした。
アクリル系オリゴマーとしてUC−3900(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:60℃、重量平均分子量:4,600、常温で固形)を用いた。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、65Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、31MPaであった。
(実施例3)
アクリル系樹脂と、アクリル系オリゴマーの配合比を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
アクリル系樹脂としてアクリル酸エステル共重合体(エチルアクリレート−ブチルアクリレート−アクリロニトリル−アクリル酸−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ナガセケムテックス(株)製、SG−708−6DR、ガラス転移温度:6℃、重量平均分子量:800,000)7.48重量%と、アクリル系オリゴマーとしてUG−4010(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:−57℃、重量平均分子量:2,900、常温で液状)12.48重量%とした。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、36Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、30MPaであった。
アクリル系樹脂と、アクリル系オリゴマーの配合比を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
アクリル系樹脂としてアクリル酸エステル共重合体(エチルアクリレート−ブチルアクリレート−アクリロニトリル−アクリル酸−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ナガセケムテックス(株)製、SG−708−6DR、ガラス転移温度:6℃、重量平均分子量:800,000)7.48重量%と、アクリル系オリゴマーとしてUG−4010(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:−57℃、重量平均分子量:2,900、常温で液状)12.48重量%とした。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、36Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、30MPaであった。
(実施例4)
アクリル系樹脂と、アクリル系オリゴマーの配合比を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
アクリル系樹脂としてアクリル酸エステル共重合体(エチルアクリレート−ブチルアクリレート−アクリロニトリル−アクリル酸−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ナガセケムテックス(株)製、SG−708−6DR、ガラス転移温度:6℃、重量平均分子量:800,000)13.31重量%と、アクリル系オリゴマーとしてUG−4010(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:−57℃、重量平均分子量:2,900、常温で液状)6.65重量%とした。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、102Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、21MPaであった。
アクリル系樹脂と、アクリル系オリゴマーの配合比を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
アクリル系樹脂としてアクリル酸エステル共重合体(エチルアクリレート−ブチルアクリレート−アクリロニトリル−アクリル酸−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ナガセケムテックス(株)製、SG−708−6DR、ガラス転移温度:6℃、重量平均分子量:800,000)13.31重量%と、アクリル系オリゴマーとしてUG−4010(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:−57℃、重量平均分子量:2,900、常温で液状)6.65重量%とした。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、102Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、21MPaであった。
(実施例5)
アクリル系オリゴマーとして、以下のものを用いた以外は、実施例1と同様にした。
アクリル系オリゴマーとしてUP−1000(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:−77℃、重量平均分子量:3,000)を用いた。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、52Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、12MPaであった。
アクリル系オリゴマーとして、以下のものを用いた以外は、実施例1と同様にした。
アクリル系オリゴマーとしてUP−1000(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:−77℃、重量平均分子量:3,000)を用いた。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、52Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、12MPaであった。
(実施例6)
アクリル系樹脂として、以下のものを用いた以外は、実施例1と同様にした。
アクリル系樹脂としてアクリル酸エステル共重合体(ブチルアクリレート−アクリロニトリル−エチルアクリレート共重合体、ナガセケムテックス(株)製、SG−PZ−DR、ガラス転移温度:15℃、重量平均分子量:850,000)を用いた。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、58Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、27MPaであった。
アクリル系樹脂として、以下のものを用いた以外は、実施例1と同様にした。
アクリル系樹脂としてアクリル酸エステル共重合体(ブチルアクリレート−アクリロニトリル−エチルアクリレート共重合体、ナガセケムテックス(株)製、SG−PZ−DR、ガラス転移温度:15℃、重量平均分子量:850,000)を用いた。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、58Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、27MPaであった。
(比較例1)
アクリル系オリゴマーとして、以下のものを用いた以外は実施例1と同様にした。
アクリル系オリゴマーUC−3910(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:85℃、重量平均分子量:8,500)を用いた。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、143Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、26MPaであった。
アクリル系オリゴマーとして、以下のものを用いた以外は実施例1と同様にした。
アクリル系オリゴマーUC−3910(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:85℃、重量平均分子量:8,500)を用いた。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、143Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、26MPaであった。
(比較例2)
アクリル系樹脂と、アクリル系オリゴマーの配合比を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
アクリル系樹脂としてアクリル酸エステル共重合体(エチルアクリレート−ブチルアクリレート−アクリロニトリル−アクリル酸−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ナガセケムテックス(株)製、SG−708−6DR、ガラス転移温度:6℃、重量平均分子量:800,000)2.00重量%と、アクリル系オリゴマーとしてUG−4010(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:−57℃、重量平均分子量:2,900、常温で液状)17.96重量%とした。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、10Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、4.7MPaであった。
アクリル系樹脂と、アクリル系オリゴマーの配合比を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
アクリル系樹脂としてアクリル酸エステル共重合体(エチルアクリレート−ブチルアクリレート−アクリロニトリル−アクリル酸−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ナガセケムテックス(株)製、SG−708−6DR、ガラス転移温度:6℃、重量平均分子量:800,000)2.00重量%と、アクリル系オリゴマーとしてUG−4010(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:−57℃、重量平均分子量:2,900、常温で液状)17.96重量%とした。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、10Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、4.7MPaであった。
(比較例3)
アクリル系樹脂と、アクリル系オリゴマーの配合比を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
アクリル系樹脂としてアクリル酸エステル共重合体(エチルアクリレート−ブチルアクリレート−アクリロニトリル−アクリル酸−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ナガセケムテックス(株)製、SG−708−6DR、ガラス転移温度:6℃、重量平均分子量:800,000)18.96重量%と、アクリル系オリゴマーとしてUG−4010(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:−57℃、重量平均分子量:2,900、常温で液状)1.00重量%とした。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、192Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、17MPaであった。
アクリル系樹脂と、アクリル系オリゴマーの配合比を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
アクリル系樹脂としてアクリル酸エステル共重合体(エチルアクリレート−ブチルアクリレート−アクリロニトリル−アクリル酸−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ナガセケムテックス(株)製、SG−708−6DR、ガラス転移温度:6℃、重量平均分子量:800,000)18.96重量%と、アクリル系オリゴマーとしてUG−4010(東亞合成(株)製、ガラス転移温度:−57℃、重量平均分子量:2,900、常温で液状)1.00重量%とした。
なお、得られた接着フィルムの100℃での溶融粘度が、192Pa・sであった。
また、得られた接着フィルムを硬化した後(175℃×2時間熱処理後)の175℃での弾性率は、17MPaであった。
各実施例および比較例で得られた接着フィルムについて、以下の評価を行った。評価項目を内容と共に示す。得られた結果を表1に示す。
1.初期埋め込み性
初期埋め込み性(回路充填性)は、各実施例および比較例で得られる樹脂封止前の半導体装置を、走査型超音波探傷機(SAT)により、有機基板上の回路段差内に半導体用接着フィルムが充填されている率を評価した。各符号は、以下の通りである。
◎:充填率が、90%以上、100%であった。
○:充填率が、80%以上、90%未満であった。
△:充填率が、40%以上、80%未満であった。
×:充填率が、40%未満であった。
1.初期埋め込み性
初期埋め込み性(回路充填性)は、各実施例および比較例で得られる樹脂封止前の半導体装置を、走査型超音波探傷機(SAT)により、有機基板上の回路段差内に半導体用接着フィルムが充填されている率を評価した。各符号は、以下の通りである。
◎:充填率が、90%以上、100%であった。
○:充填率が、80%以上、90%未満であった。
△:充填率が、40%以上、80%未満であった。
×:充填率が、40%未満であった。
2.保存性
得られた接着フィルムの保存性は、加速試験として接着フィルムを50℃で1日間処理した後の硬化発熱量を測定し、初期硬化発熱量(mJ/mg)に対する保存処理後の硬化発熱量(mJ/mg)の百分率で評価した。単位は%。この値が100%に近いほど保存性が高いことを示す。硬化発熱量の評価は、示差走査熱量計(DSC)を用いた。
◎:硬化発熱量の比の百分率が、90%以上であった。
○:硬化発熱量の比の百分率が、70%以上〜90%未満であった。
△:硬化発熱量の比の百分率が、50%以上〜70%未満であった。
×:硬化発熱量の比の百分率が、50%未満であった。
得られた接着フィルムの保存性は、加速試験として接着フィルムを50℃で1日間処理した後の硬化発熱量を測定し、初期硬化発熱量(mJ/mg)に対する保存処理後の硬化発熱量(mJ/mg)の百分率で評価した。単位は%。この値が100%に近いほど保存性が高いことを示す。硬化発熱量の評価は、示差走査熱量計(DSC)を用いた。
◎:硬化発熱量の比の百分率が、90%以上であった。
○:硬化発熱量の比の百分率が、70%以上〜90%未満であった。
△:硬化発熱量の比の百分率が、50%以上〜70%未満であった。
×:硬化発熱量の比の百分率が、50%未満であった。
3.耐熱性
得られた接着フィルムの耐熱性は、熱機械分析(TMA)により硬化後の接着フィルムのガラス転移温度(Tg)で評価した。
得られた接着フィルムの耐熱性は、熱機械分析(TMA)により硬化後の接着フィルムのガラス転移温度(Tg)で評価した。
4.低温貼り付け性
各実施例および比較例での、接着フィルムを厚み550μmのウエハー裏面に温度40℃ 圧力0.3MPaで貼り付け後の180°ピール強度を評価した。
◎:ピール強度が、100N/m以上であった。
○:ピール強度が、50N/m以上、100N/m未満であった。
△:ピール強度が、30N/m以上、50N/m未満であった。
×:ピール強度が、30N/m未満であった。
各実施例および比較例での、接着フィルムを厚み550μmのウエハー裏面に温度40℃ 圧力0.3MPaで貼り付け後の180°ピール強度を評価した。
◎:ピール強度が、100N/m以上であった。
○:ピール強度が、50N/m以上、100N/m未満であった。
△:ピール強度が、30N/m以上、50N/m未満であった。
×:ピール強度が、30N/m未満であった。
5.充填材の混入等の有無
封止樹脂で半導体素子とボンディングワイヤーを封止後、半導体装置の断面観察により接着フィルムに充填材が入り混んでいないかを顕微鏡により観察した。各符号は、以下の通りである。
◎:接着フィルム中への充填材の混入が、ほとんど無かった。
×:接着フィルム中へ充填材が混入し、一部の半導体素子で割れ等があった。
封止樹脂で半導体素子とボンディングワイヤーを封止後、半導体装置の断面観察により接着フィルムに充填材が入り混んでいないかを顕微鏡により観察した。各符号は、以下の通りである。
◎:接着フィルム中への充填材の混入が、ほとんど無かった。
×:接着フィルム中へ充填材が混入し、一部の半導体素子で割れ等があった。
表1から明らかなように、実施例1〜6で得られる接着フィルムは初期埋め込み性に優れていた。
また、実施例1〜6で得られる接着フィルムは、耐熱性にも優れ、かつ低温での貼り付け性にも優れていた。
また、実施例1〜6で得られる半導体装置では、充填材の接着フィルム中への混入がほとんど無かった。
また、実施例1〜6で得られる接着フィルムは、耐熱性にも優れ、かつ低温での貼り付け性にも優れていた。
また、実施例1〜6で得られる半導体装置では、充填材の接着フィルム中への混入がほとんど無かった。
本発明によれば、前記接合工程における加熱により接着フィルムが軟化し、基板の凹凸に対する埋め込み性が向上した接着フィルムおよびその接着フィルムを用いた半導体装置を提供することができる。したがって、産業上の利用可能性を有する。
Claims (16)
- 半導体素子と基板または半導体素子と半導体素子とを接合するために用いる接着フィルムであって、
前記接着フィルムが、エポキシ樹脂と、アクリル系樹脂と、重量平均分子量6,000以下のアクリル系オリゴマーとを含む樹脂組成物で構成され、かつ前記アクリル系樹脂の含有量Waと、前記アクリル系オリゴマーの含有量Wbとの比(Wa/Wb)が0.5〜4であることを特徴とする接着フィルム。 - 前記アクリル系オリゴマーのガラス転移温度が、−30℃以下である請求の範囲第1項に記載の接着フィルム。
- 前記アクリル系オリゴマーの含有量は、前記樹脂組成物全体の5〜30重量%である請求の範囲第1項に記載の接着フィルム。
- 前記アクリル系オリゴマーは、カルボキシル基およびグリシジル基の少なくとも一方を有するものである請求の範囲第1項に記載の接着フィルム。
- 前記アクリル系オリゴマーは、常温で液状である請求の範囲第1項に記載の接着フィルム。
- 前記樹脂組成物は、硬化剤を含むものである請求の範囲第1項に記載の接着フィルム。
- 前記硬化剤は、液状フェノール化合物を含むものである請求の範囲第6項に記載の接着フィルム。
- 前記樹脂組成物は、さらに硬化触媒を含むものである請求の範囲第1項に記載の接着フィルム。
- 前記硬化触媒は、イミダゾール化合物を含むものである請求の範囲第8項に記載の接着フィルム。
- 前記硬化触媒の融点が、150℃以上である請求の範囲第8項に記載の接着フィルム。
- 前記接着フィルムの100℃での溶融粘度が、80Pa・s以下である請求の範囲第1項に記載の接着フィルム。
- 請求の範囲第1項に記載の接着フィルムを175℃で2時間熱処理した後の硬化物の175℃での弾性率が30MPa以上となるものである接着フィルム。
- 基板の一方の面側に、第1半導体素子、接着層および第2半導体素子がこの順に積層されてなり、
前記第1半導体素子の機能面に形成された端子と基板とをボンディングワイヤーにて電気的に接続してなり、
前記ボンディングワイヤーの前記端子付近の部位が、前記接着層内を通過してなる半導体装置の前記接着層として用いる接着フィルムであって、
前記接着フィルムは、エポキシ樹脂と、アクリル系樹脂と、重量平均分子量6,000以下のアクリル系オリゴマーとを含む樹脂組成物で構成され、かつ前記アクリル系樹脂の含有量Waと、前記アクリル系オリゴマーの含有量Wbとの比(Wa/Wb)が0.5〜4であることを特徴とする接着フィルム。 - 前記第2半導体素子の平面視での面積が、前記第1半導体素子の平面視での面積とほぼ同じである請求の範囲第13項に記載の接着フィルム。
- 前記第2半導体素子の平面視での面積が、前記第1半導体素子の平面視での面積よりも大きいものである請求の範囲第13項に記載の接着フィルム。
- 請求の範囲第1項に記載の接着フィルムを用いて半導体素子と基板または半導体素子と半導体素子とが接合されていることを特徴とする半導体装置。
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