JPWO2006098308A1 - 新規なアントラニル酸誘導体またはその塩 - Google Patents

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Abstract

一般式
Figure 2006098308

「式中、Ｒ１およびＲ２は、水素原子などを；Ｒ３は、置換されていてもよいフェニル、シクロアルキルまたは二環式の複素環式基などを；Ｒ４は、置換されていてもよいフェニル、シクロアルキルまたはピリジル基などを；Ｘ１は、置換されていてもよいアルキレンもしくはアルケニレン基または結合手を；Ｘ２は、一般式−Ｘ３−Ｘ４−または−Ｘ４−Ｘ３−「式中、Ｘ３は、硫黄原子、イミノ基または結合手などを；Ｘ４は、置換されていてもよいアルキレンもしくはアルケニレン基または結合手を意味する。」などの基を示す。」で表されるアントラニル酸誘導体またはその塩は、ＭＭＰ−１３産生阻害作用を有することから、関節リウマチ、変形性関節症および癌などの治療薬として有用である。

Description

本発明は、マトリックスメタロプロテアーゼ１３（ＭＭＰ−１３）産生阻害作用を有する新規なアントラニル酸誘導体またはその塩に関する。
マトリックスメタロプロテアーゼは、細胞外マトリックスの成分を基質とする亜鉛依存性のプロテアーゼからなるファミリーであり、分泌後にプロペプチドを除かれて活性化される。ヒトにおいては、２０種以上のマトリックスメタロプロテアーゼが同定されており、そのドメイン構造と基質特異性から、コラゲナーゼ（ＭＭＰ−１、８、１３）、ゼラチナーゼ（ＭＭＰ−２、９）、ストロムライシン（ＭＭＰ−３、１０）、マトリライシン（ＭＭＰ−７、２６）、膜型ＭＭＰ（ＭＭＰ−１４、１５、１６、１７、２４、２５）およびその他に分類されている。このマトリックスメタロプロテアーゼの過剰発現が、様々な癌細胞において観察され、その増殖と転移に関与すると考えられている。これまでに、マトリックスメタロプロテアーゼを阻害する抗癌剤の開発が行われている（非特許文献１）。
関節リウマチや変形性関節症の治療剤として、マトリックスメタロプロテアーゼ阻害薬の開発が行われている。関節軟骨は、軟骨に特異的なII型コラーゲンの網目構造の中に、軟骨型のプロテオグリカン、すなわちアグリカンやヒアルロン酸などが埋め込まれるようにして成り立っている。これらの細胞外マトリックスの維持に、マトリックスメタロプロテアーゼが関与している。マトリックスメタロプロテアーゼとその内因性インヒビターであるＴＩＭＰ（tissue inhibitor of metalloproteinases）の不均衡が起きてマトリックスメタロプロテアーゼが過剰になると、軟骨および骨の破壊が進行する。特にコラーゲン繊維が損傷を受けると、関節リウマチや変形性関節症に見られるような進行性の関節破壊に陥る。過剰なマトリックスメタロプロテアーゼを阻害することにより、関節リウマチや変形性関節症における長期的な関節破壊の進行の抑制が期待できる（非特許文献２）。
変形性関節症では、インターロイキン−１（ＩＬ−１）および腫瘍壊死因子（ＴＮＦ）αの産生も亢進し、細胞外マトリックスが破壊される。II型コラーゲンやフィブロネクチンの分解物によって、このマトリックスメタロプロテアーゼ産生はさらに亢進し、関節内のマトリックス分解が進行する。このマトリックスの障害がある閾値を越えると、軟骨細胞の形質が病的に変化し、関節破壊が進行し続ける。このII型コラーゲンの分解において中心的役割を果たしているのが、ＭＭＰ−１３である（非特許文献３）。
カレント・オンコロジー・レポーツ（Current Oncology Reports）、第6巻、第96〜102頁、2004年 アナルス・オブ・ザ・リウマティック・ディジィーズ（Annals of the Rheumatic Diseases）、第60巻、第62〜67頁、2001年 バイオケミカル・ソサイエティー・シンポジア（Biochemical Society Symposia）、第70巻、第115〜123頁、2003年
マトリックスメタロプロテアーゼ、特にＭＭＰ−１３産生を阻害する薬剤が強く望まれている。
このような状況下において、本発明者らは鋭意検討を行った結果、一般式［１］
Figure 2006098308
 「式中、Ｒ１は、水素原子またはカルボキシル保護基を；Ｒ２は、水素原子またはイミノ保護基を；Ｒ３は、置換されていてもよいフェニル基で置換されている単環の複素環式基；または下記置換基群（１）から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニル、シクロアルキルもしくは二環式の複素環式基を；Ｒ４は、下記置換基群（２）および（３）から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニル、チエニル、シクロアルキル、シクロアルケニルもしくは二環式の複素環式基；または下記置換基群（２）および（４）から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいピリジル基を；Ｘ１は、置換されていてもよいアルキレンもしくはアルケニレン基または結合手を；Ｘ２は、カルボニル基または一般式−Ｘ３−Ｘ４−、−Ｘ４−Ｘ３−、−Ｏ−Ｘ４−もしくは−Ｘ４−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（但し、各一般式の左側の結合手が、Ｒ４に結合するものとする。）「式中、Ｘ３は、硫黄原子、保護されていてもよいイミノ基、スルフィニル基、スルホニル基または結合手を；Ｘ４は、置換されていてもよいアルキレンもしくはアルケニレン基または結合手を意味する。」で表される基を意味する。
［置換基群（１）］
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシル基、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよい環状アミノ基、置換されていてもよいアルアルキル基または置換されていてもよい複素環式基
［置換基群（２）］
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、環状アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、低級アルキル基、アルコキシ基およびアリール基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリール、環状アミノ、アルアルキルまたは複素環式基
［置換基群（３）］
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノ基または保護されていてもよいヒドロキシル基
［置換基群（４）］
シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノ基または保護されていてもよいヒドロキシル基
」で表されるアントラニル酸誘導体またはその塩が、ＭＭＰ−１３産生阻害作用を有することを見出し、本発明を完成させた。
本発明の新規なアントラニル酸誘導体またはその塩は、ＭＭＰ−１３産生阻害作用を有し、たとえば、関節リウマチ、変形性関節症および癌などＭＭＰ−１３が関与する疾患の治療剤として有用である。
以下、本発明化合物について詳述する。
本明細書において、特にことわらない限り、ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子を；アルキル基とは、たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオクチルなどの直鎖状または分枝鎖状のＣ１−１２アルキル基を；低級アルキル基とは、たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチルおよびイソペンチルなどの直鎖状または分枝鎖状のＣ１−６アルキル基を；アルケニル基とは、たとえば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニルおよびオクテニルなどの直鎖状または分枝鎖状のＣ２−１２アルケニル基を；アルキニル基とは、たとえば、エチニル、２−プロピニルおよび２−ブチニルなどの直鎖状または分枝鎖状のＣ２−１２アルキニル基を；シクロアルキル基とは、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルなどのＣ３−８シクロアルキル基を；シクロアルケニル基とは、たとえば、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニルおよびシクロヘキセニルなどのＣ３−８シクロアルケニル基を；
アルキレン基とは、たとえば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレンおよびヘキシレンなどの直鎖状または分枝鎖状のＣ１−６アルキレン基を；アルケニレン基とは、たとえば、ビニレン、プロペニレン、１−ブテニレンおよび２−ブテニレンなどの直鎖状または分枝鎖状のＣ２−６アルケニレン基を；アリール基とは、たとえば、フェニルおよびナフチルなどの基を；アルアルキル基とは、たとえば、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル、フェネチルおよびナフチルメチルなどのアルＣ１−６アルキル基を；アルコキシ基とは、たとえば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシおよびイソペンチルオキシなどの直鎖状または分枝鎖状のＣ１−６アルキルオキシ基を；アルコキシアルキル基とは、たとえば、メトキシメチルおよび１−エトキシエチルなどのＣ１−６アルキルオキシＣ１−６アルキル基を；アルアルキルオキシアルキル基とは、たとえば、ベンジルオキシメチルおよびフェネチルオキシメチルなどのアルＣ１−６アルキルオキシＣ１−６アルキル基を；
アシル基とは、たとえば、ホルミル基、アセチル、プロピオニルおよびイソバレリルなどの直鎖状または分枝鎖状のＣ２−１２アルカノイル基、ベンジルカルボニルなどのアルＣ１−６アルキルカルボニル基、ベンゾイルおよびナフトイルなどの環式炭化水素カルボニル基、ニコチノイル、テノイル、ピロリジノカルボニルおよびフロイルなどの複素環式カルボニル基、スクシニル基、グルタリル基、マレオイル基、フタロイル基ならびにアミノ酸（アミノ酸としては、たとえば、グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、システイン、メチオニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、アスパラギン、グルタミン、アルギニン、リジン、ヒスチジン、ヒドロキシリジン、フェニルアラニン、チロシン、トリプトファン、プロリンおよびヒドロキシプロリンなどが挙げられる。）から誘導されるＮ末端が保護されていてもよい直鎖状または分枝鎖状のα−アミノアルカノイル基を；
アルキルオキシカルボニル基とは、たとえば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、１，１−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルおよびｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニルなどの直鎖状または分枝鎖状のＣ１−１２アルキルオキシカルボニル基を；アルアルキルオキシカルボニル基とは、たとえば、ベンジルオキシカルボニルおよびフェネチルオキシカルボニル基などのアルＣ１−６アルキルオキシカルボニル基を；アリールオキシカルボニル基とは、たとえば、フェニルオキシカルボニルなどの基を；
アシルオキシ基とは、たとえば、アセチルオキシおよびプロピオニルオキシなどの直鎖状または分枝鎖状のＣ２−６アルカノイルオキシ基ならびにベンゾイルオキシなどのアロイルオキシ基を；アシルアルキル基とは、たとえば、アセチルメチル、ベンゾイルメチル、ｐ−ニトロベンゾイルメチル、ｐ−ブロモベンゾイルメチル、ｐ−メトキシベンゾイルメチルおよび１−ベンゾイルエチルなどの基を；アシルオキシアルキル基とは、たとえば、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチルおよびピバロイルオキシメチルなどの基を；
アリールチオ基とは、たとえば、フェニルチオなどの基を；アルカンスルホニル基とは、たとえば、メタンスルホニル、エタンスルホニルおよびプロパンスルホニルなどのＣ１−６アルカンスルホニル基を；アリールスルホニル基とは、たとえば、ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニルおよびナフタレンスルホニルなどの基を；アルキルチオアルキル基とは、たとえば、メチルチオメチル、エチルチオメチルおよびプロピルチオメチルなどのＣ１−６アルキルチオＣ１−６アルキル基を；アリールチオアルキル基とは、たとえば、フェニルスルフェニルメチルおよび２−（ｐ−ニトロフェニルスルフェニル）エチルなどの基を；アルカンスルホニルオキシ基とは、たとえば、メタンスルホニルオキシおよびエタンスルホニルオキシなどのＣ１−６アルカンスルホニルオキシ基を；アリールスルホニルオキシ基とは、たとえば、ベンゼンスルホニルオキシおよびトルエンスルホニルオキシなどの基を；アリールスルホニルアルキル基とは、たとえば、ｐ−トルエンスルホニルエチルなどの基を；アルカンスルホンアミド基とは、たとえば、メタンスルホンアミドおよびエタンスルホンアミドなどのＣ１−６アルカンスルホンアミド基を；
単環の複素環式基とは、たとえば、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、テトラヒドロピリジル、ピリダジニル、ピラジニル、ピリミジニル、テトラゾリル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリニルおよびピラゾリジニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子のみを含む単環の含窒素複素環式基；フリル、ピラニル、テトラヒドロピラニル、１，３−ジオキソリル、１，３−ジオキサニルおよび１，４−ジオキサニル基などの該環を形成する異項原子として酸素原子のみを含む単環の含酸素複素環式基；チエニル基などの該環を形成する異項原子として硫黄原子のみを含む単環の含硫黄複素環式基；オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソオキサゾリルおよびモルホリニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および酸素原子のみを含む単環の含窒素・酸素複素環式基；チアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリルおよびチオモルホリニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子のみを含む単環の含窒素・硫黄複素環式基；ならびにチオキサニル基などの該環を形成する異項原子として酸素原子および硫黄原子のみを含む単環の含酸素・硫黄複素環式基を；
二環式の複素環式基とは、たとえば、インドリル、インドリニル、イソインドリル、インドリジニル、ベンズイミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、インダゾリル、キノリル、テトラヒドロキノリニル、テトラヒドロイソキノリニル、キノリジニル、イソキノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、ジヒドロキノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、キヌクリジニルおよび２，３−ジヒドロベンゾピロリル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子のみを含む縮合環または架橋環で示される二環式の含窒素複素環式基；ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、クロメニル、イソクロマニル、ベンゾ−１，３−ジオキソリル、ベンゾ−１，４−ジオキサニルおよび２，３−ジヒドロベンゾフラニル基などの該環を形成する異項原子として酸素原子のみを含む縮合環または架橋環で示される二環式の含酸素複素環式基；ベンゾチエニルおよび２，３−ジヒドロベンゾチエニル基などの該環を形成する異項原子として硫黄原子のみを含む縮合環または架橋環で示される二環式の含硫黄複素環式基；ベンゾモルホリニルおよびベンゾモルホロニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および酸素原子を含む縮合環または架橋環で示される二環式の含窒素・酸素複素環式基；ならびにベンゾチアゾリル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子を含む縮合環または架橋環で示される二環式の含窒素・硫黄複素環式基を；
含酸素複素環式基とは、たとえば、２−テトラヒドロピラニルおよび２−テトラヒドロフラニルなどの基を；含硫黄複素環式基とは、たとえば、テトラヒドロチオピラニルなどの基を；複素環オキシカルボニル基とは、たとえば、２−フルフリルオキシカルボニル、８−キノリルオキシカルボニルなどの基を；含窒素複素環式アルキル基とは、たとえば、フタルイミドメチルおよびスクシンイミドメチルなどの基を；
複素環式基とは、たとえば、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、テトラヒドロピリジル、ピリダジニル、ピラジニル、ピリミジニル、テトラゾリル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリニルおよびピラゾリジニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子のみを含む単環の含窒素複素環式基；フリル、ピラニル、テトラヒドロピラニル、１，３−ジオキソリル、１，３−ジオキサニルおよび１，４−ジオキサニル基などの該環を形成する異項原子として酸素原子のみを含む単環の含酸素複素環式基；チエニル基などの該環を形成する異項原子として硫黄原子のみを含む単環の含硫黄複素環式基；オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソオキサゾリルおよびモルホリニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および酸素原子のみを含む単環の含窒素・酸素複素環式基；チアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリルおよびチオモルホリニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子のみを含む単環の含窒素・硫黄複素環式基；チオキサニル基などの該環を形成する異項原子として酸素原子および硫黄原子のみを含む単環の含酸素・硫黄複素環式基；インドリル、インドリニル、イソインドリル、インドリジニル、ベンズイミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、インダゾリル、キノリル、テトラヒドロキノリニル、テトラヒドロイソキノリニル、キノリジニル、イソキノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、ジヒドロキノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プリニル、キヌクリジニルおよび２，３−ジヒドロベンゾピロリル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子のみを含む縮合環または架橋環で示される二環式の含窒素複素環式基；ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、クロメニル、クロマニル、イソクロマニル、ベンゾ−１，３−ジオキソリル、ベンゾ−１，４−ジオキサニルおよび２，３−ジヒドロベンゾフラニル基などの該環を形成する異項原子として酸素原子のみを含む縮合環または架橋環で示される二環式の含酸素複素環式基；ベンゾチエニルおよび２，３−ジヒドロベンゾチエニル基などの該環を形成する異項原子として硫黄原子のみを含む縮合環または架橋環で示される二環式の含硫黄複素環式基；ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾモルホリニルおよびベンゾモルホロニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および酸素原子のみを含む縮合環または架橋環で示される二環式の含窒素・酸素複素環式基；ならびにベンゾチアゾリル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子のみを含む縮合環または架橋環で示される二環式の含窒素・硫黄複素環式基などの酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１つの異項原子を含有する単環、架橋環または縮合環の複素環式基を；
低級アルキルアミノ基とは、たとえば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノおよびペンチルアミノなどのモノＣ１−６アルキルアミノ基；シクロプロピルアミノ、シクロブチルアミノおよびシクロペンチルアミノなどのＣ３−６シクロアルキルアミノ基；ならびにジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノおよびジブチルアミノなどのジＣ１−６アルキルアミノ基を；
環状アミノ基とは、たとえば、飽和の環状アミノおよび不飽和の環状アミノ基のいずれでもよく、また当該環内にさらに１つまたはそれ以上の窒素原子、酸素原子、硫黄原子などの異種原子およびカルボニル炭素を含んでいてもよく、さらに単環であっても２〜３環性であってもよく、さらに具体的には、アジリジン−１−イル、アゼチジン−１−イル、ピロリジン−１−イル、ピロリン−１−イル、ピロール−１−イル、ジヒドロピリジン−１−イル、ピペリジン−１−イル、ジヒドロアゼピン−１−イルおよびペルヒドロアゼピン−１−イルなどの窒素原子１個を有する飽和または不飽和の単環式３〜７員の環状アミノ基；イミダゾール−１−イル、イミダゾリジン−１−イル、イミダゾリン−１−イル、ピラゾリジン−１−イル、ピペラジン−１−イル、１，４−ジヒドロピラジン−１−イル、１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、ペルヒドロピラジン−１−イルおよびホモピペラジン−１−イルなどの窒素原子２個を有する飽和または不飽和の単環式３〜７員の環状アミノ基；１，２，４−トリアゾール−１−イル、１，２，３−トリアゾール−１−イル、１，２−ジヒドロ−１，２，４−トリアジン−１−イルおよびペルヒドロ−Ｓ−トリアジン−１−イルなどの窒素原子３個以上を有する飽和または不飽和の単環式３〜７員の環状アミノ基；オキサゾリジン−３−イル、イソオキサゾリジン−２−イル、モルホリン−４−イル、チアゾリジン−３−イル、イソチアゾリジン−２−イル、チオモルホリン−４−イル、ホモチオモルホリン−４−イルおよび１，２，４−チアジアゾリン−２−イルなどの窒素原子以外に酸素原子および硫黄原子から選ばれるヘテロ原子１〜４個を有する飽和または不飽和の単環式３〜７員の環状アミノ基；イソインドリン−２−イル、インドリン−１−イル、１Ｈ−インダゾール−１−イル、プリン−７−イルおよびテトラヒドロキノリン−１−イルなどの飽和または不飽和の２〜３環性の環状アミノ基；ならびに５−アザスピロ［２.４］ヘプタン−５−イル、２，８−ジアザビシクロ［４.３.０］ノナン−８−イル、３−アザビシクロ［３.１.０］ヘキサン−３−イル、２−オキサ−５，８−ジアザビシクロ［４.３.０］ノナン−８−イル、２，８−ジアザスピロ［４.４］ノナン−２−イルおよび７−アザビシクロ［２.２.１］ヘプタン−７−イルなどのスピロ式または架橋式の飽和または不飽和の５〜１２員の環状アミノ基を；置換シリル基とは、たとえば、トリメチルシリル、トリエチルシリルおよびトリブチルシリルなどの基を；アルキルシリルアルキル基とは、たとえば、２−（トリメチルシリル）エチルなどの基を意味する。
アミノ保護基としては、通常のアミノ基の保護基として使用しうるすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第3版、第494〜615頁、1999年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載されている基が挙げられる。具体的には、たとえば、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アルアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルアルキル基、アルコキシアルキル基、アルアルキルオキシアルキル基、アリールチオ基、アルカンスルホニル基、アリールスルホニル基および置換シリル基などが挙げられる。
イミノ保護基としては、通常のイミノ基の保護基として使用しうるすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第3版、第494〜615頁、1999年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載されている基が挙げられる。具体的には、たとえば、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アルアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルアルキル基、アルコキシアルキル基、アリールチオ基、アルカンスルホニル基、アリールスルホニル基および置換シリル基などが挙げられる。
ヒドロキシル保護基としては、通常のヒドロキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第3版、第17〜245頁、1999年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載されている基が挙げられる。具体的には、たとえば、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アルアルキルオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、アルキル基、アルケニル基、アルアルキル基、含酸素複素環式基、含硫黄複素環式基、アルコキシアルキル基、アルアルキルオキシアルキル基、アルカンスルホニル基、アリールスルホニル基および置換シリル基などが挙げられる。
カルボキシル保護基としては、通常のカルボキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第3版、第369〜453頁、1999年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載されている基が挙げられる。具体的には、たとえば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルアルキル基、アシルアルキル基、アリールチオアルキル基、アリールスルホニルアルキル基、含酸素複素環式基、アルキルシリルアルキル基、アシルオキシアルキル基、含窒素複素環式アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシアルキル基、アルアルキルオキシアルキル基、アルキルチオアルキル基および置換シリル基などが挙げられる。
フェノール性ヒドロキシル保護基としては、通常のフェノール性ヒドロキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第3版、第246〜287頁、1999年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載されている基が挙げられる。具体的には、たとえば、アシル基、アルキル基、アルケニル基、アルアルキル基、含酸素複素環式基、含硫黄複素環式基、アルコキシアルキル基、アルカンスルホニル基、アリールスルホニル基および置換シリル基などが挙げられる。
チオール保護基としては、通常のチオール基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第3版、第454〜493頁、1999年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載されている基が挙げられる。具体的には、たとえば、アシル基、アルキル基、アルケニル基、アルアルキル基、アルコキシアルキル基および置換シリル基などが挙げられる。
脱離基としては、たとえば、ハロゲン原子、アルカンスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基およびアシルオキシ基などが挙げられる。
一般式［１］の化合物の塩としては、通常知られているアミノ基などの塩基性基またはフェノール性ヒドロキシル基もしくはカルボキシル基などの酸性基における塩が挙げられる。
塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸、臭化水素および硫酸などの鉱酸との塩；酒石酸、ギ酸、酢酸、クエン酸、トリクロロ酢酸およびトリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸との塩；ならびにメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸およびナフタレンスルホン酸などのスルホン酸との塩などが挙げられる。
酸性基における塩としては、たとえば、ナトリウムおよびカリウムなどのアルカリ金属との塩；カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩；アンモニウム塩；ならびにトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、プロカイン、ジベンジルアミン、Ｎ−ベンジル−β−フェネチルアミンおよびＮ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミンなどの含窒素有機塩基との塩などが挙げられる。
さらに、上記、塩の中で一般式［１］の化合物の好ましい塩としては、薬理学的に許容される塩が挙げられる。
本発明におけるＲ３のフェニル基、シクロアルキル基または二環式の複素環式基に置換していてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリール、環状アミノ、アルアルキルおよび複素環式基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、環状アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、低級アルキル基、アルコキシ基およびアリール基などから選ばれる１つ以上の基で置換されてもよい。
本発明におけるＲ３の単環の複素環式基に置換されているフェニル基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、環状アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、低級アルキル基、アルコキシ基およびアリール基などから選ばれる１つ以上の基で置換されてもよい。
本発明におけるＸ１およびＸ４のアルキレン基またはアルケニレン基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、環状アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、低級アルキル基、アルコキシ基およびアリール基などから選ばれる１つ以上の基で置換されてもよい。
本発明化合物において、好ましい化合物としては、以下の化合物が挙げられる。
Ｒ１が、水素原子である化合物が好ましい。
Ｒ２が、水素原子である化合物が好ましい。
Ｒ３が、置換されていてもよいフェニル基で置換されている単環の複素環式基；またはハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシル基、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよい環状アミノ基、置換されていてもよいアルアルキル基および置換されていてもよい複素環式基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニルもしくは二環式の複素環式基である化合物が好ましく、置換されていてもよいフェニル基で置換されている単環の複素環式基；またはハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよい環状アミノ基、置換されていてもよいアルアルキル基および置換されていてもよい複素環式基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニルもしくは二環式の複素環式基である化合物がより好ましく、フェニル基で置換されている単環の複素環式基；またはハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいアリール基および置換されていてもよい複素環式基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニルもしくは二環式の複素環式基である化合物がさらに好ましく、フェニル基で置換されているピラゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリルもしくはチアジアゾリル基；またはハロゲン原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基およびハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニル基である化合物がよりさらに好ましい。
Ｒ４が、下記置換基群（２ａ）および（３ａ）から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニルまたは二環式の複素環式基である化合物が好ましく、下記置換基群（２ｂ）および（３ｂ）から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニルまたは二環式の複素環式基である化合物がより好ましく、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基、ハロゲン原子およびヒドロキシル基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニルである化合物がさらに好ましい。
［置換基群（２ａ）］
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、環状アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、低級アルキル基、アルコキシ基およびアリール基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリール、環状アミノ、アルアルキルまたは複素環式基
［置換基群（２ｂ）］
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、環状アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、低級アルキル基、アルコキシ基およびアリール基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アリール、環状アミノまたは複素環式基
［置換基群（３ａ）］
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノ基または保護されていてもよいヒドロキシル基
［置換基群（３ｂ）］
ハロゲン原子、シアノ基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノ基または保護されていてもよいヒドロキシル基
Ｘ１が、置換されていてもよいアルキルおよびフェニル基から選ばれる基で置換されていてもよいアルキレンもしくはアルケニレン基または結合手である化合物が好ましく、アルキレン基、アルケニレン基または結合手である化合物がより好ましく、アルケニレン基または結合手である化合物がさらに好ましく、結合手である化合物がよりさらに好ましい。
Ｘ２が、カルボニル基または一般式−Ｏ−Ｘ４ａ−もしくは−Ｘ４ａ−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（但し、各一般式の左側の結合手が、Ｒ４に結合するものとする。）「式中、Ｘ４ａは、置換されていてもよいアルキレン基または結合手を意味する。」である化合物が好ましい。
Ｘ２が、一般式−Ｘ３ａ−Ｘ４ｂ−または−Ｘ４ｂ−Ｘ３ａ−（但し、各一般式の左側の結合手が、Ｒ４に結合するものとする。）「式中、Ｘ３ａは、硫黄原子、保護されていてもよいイミノ基または結合手を；Ｘ４ｂは、置換されていてもよいアルキルおよびフェニル基から選ばれる基で置換されていてもよいアルキレンもしくはアルケニレン基または結合手を意味する。」である化合物が好ましく、アルキレン基、アルケニレン基または結合手である化合物がより好ましく、アルキレン基または結合手である化合物がさらに好ましい。
本発明化合物中、代表的化合物としては、たとえば、以下の表１〜５に記載の化合物が挙げられる。
Figure 2006098308
Figure 2006098308
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Figure 2006098308
Figure 2006098308
Figure 2006098308
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また、一般式［１］の化合物またはその塩において、異性体（たとえば、光学異性体、幾何異性体および互変異性体など）が存在する場合、本発明は、それらの異性体を包含し、また、溶媒和物、水和物および種々の形状の結晶を包含するものである。
次に、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、自体公知の方法を組み合わせることにより製造されるが、たとえば、次に示す製造法にしたがって製造することができる。
［製造法１］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１ａは、カルボキシル保護基を；Ｒ５は、水素原子または低級アルキル基を；Ｘ５は、置換されていてもよいアルキレン基を；Ｌ１は、脱離基を；Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１およびＸ４は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［３ａ］の化合物として、たとえば、ピリジン−３−ボロン酸、４−（メタンスルホンアミド）フェニルボロン酸、チオフェン−２−ボロン酸、ベンゾフラン−２−ボロン酸および３−メトキシフェニルボロン酸などが知られている。一般式［３ｂ］の化合物として、たとえば、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）イソキノリンなどが知られている。また、一般式［３ａ］および［３ｂ］の化合物は、たとえば、特開２００３−２０６２９０号公報などに記載された方法に準じ、対応するハロゲノ体から製造することができる。
一般式［１ａ］の化合物は、塩基の存在下または不存在下、パラジウム触媒の存在下、リガンドの存在下または不存在下、一般式［２］の化合物を一般式［３ａ］または［３ｂ］の化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；メタノール、エタノール、２−プロパノールおよび２−メチル−２−プロパノールなどのアルコール類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；アセトニトリルなどのニトリル類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応において所望により用いられる塩基としては、たとえば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸セシウムなどの無機塩基ならびにトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミンおよびＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミンなどの有機塩基が挙げられる。塩基の使用量は、一般式［２］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、2〜5倍モルであればよい。
この反応に用いられるパラジウム触媒としては、たとえば、パラジウム−炭素、パラジウム黒などの金属パラジウム；塩化パラジウムなどの無機パラジウム塩；酢酸パラジウムなどの有機パラジウム塩；テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）クロリド、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンパラジウム（II）ジクロリドおよびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）などの有機パラジウム錯体；ならびにポリマー担持ビス（アセタート）トリフェニルホスフィンパラジウム（II）およびポリマー担持ジ（アセタート）ジシクロヘキシルフェニルホスフィンパラジウム（II）などのポリマー固定化有機パラジウム錯体などが挙げられ、これらは組み合わせて使用してもよい。パラジウム触媒の使用量は、一般式［２］の化合物に対して、0.00001〜1倍モル、好ましくは、0.001〜0.1倍モルであればよい。
この反応において所望により用いられるリガンドとしては、トリメチルホスフィンおよびトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンなどのトリアルキルホスフィン類；トリシクロヘキシルホスフィンなどのトリシクロアルキルホスフィン類；トリフェニルホスフィンおよびトリトリルホスフィンなどのトリアリールホスフィン類；トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイトおよびトリブチルホスファイトなどのトリアルキルホスファイト類；トリシクロヘキシルホスファイトなどのトリシクロアルキルホスファイト類；トリフェニルホスファイトなどのトリアリールホスファイト類；１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾリウムクロリドなどのイミダゾリウム塩；アセチルアセトンおよびオクタフルオロアセチルアセトンなどのジケトン類；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミンおよびトリイソプロピルアミンなどのアミン類；ならびに１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル、２−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニルおよび２−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）ビフェニルなどが挙げられ、これらは組み合わせて使用してもよい。リガンドの使用量は、一般式［２］の化合物に対して0.00001〜1倍モル、好ましくは、0.001〜0.1倍モルであればよい。
一般式［３ａ］または［３ｂ］の化合物の使用量は、一般式［２］の化合物に対して、1〜50倍モル、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。
この反応は、好ましくは、不活性気体（たとえば、窒素、アルゴン）雰囲気下、40〜220℃で、1分間〜96時間実施すればよい。
［製造法２］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ４ａは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノおよびヒドロキシル基ならびに置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリール、環状アミノ、アルアルキルおよび複素環式基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいシクロアルケニル基を；Ｒ４ｂは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノおよびヒドロキシル基ならびに置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリール、環状アミノ、アルアルキルおよび複素環式基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいシクロアルキル基を；Ｘ１ａは、置換されていてもよいアルキレン基または結合手を；Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｘ１およびＬ１は、前記と同様の意味を示す。」
（２−１）
一般式［４］の化合物として、たとえば、シクロペンテンおよびシクロヘキセンなどが知られている。また、一般式［４］の化合物は、たとえば、実験化学講座、第4版、第19巻、第53〜298頁、1992年、丸善に記載の方法またはそれに準じた方法で製造することができる。
一般式［１ｂ］の化合物は、塩基の存在下または不存在下、相間移動触媒の存在下または不存在下、リガンドの存在下または不存在下、パラジウム触媒の存在下、一般式［２］の化合物を一般式［４］の化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；メタノール、エタノール、２−プロパノールおよび２−メチル−２−プロパノールなどのアルコール類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；アセトニトリルなどのニトリル類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応において所望により用いられる塩基としては、たとえば、水素化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムおよびリン酸三カリウムなどの無機塩基ならびに酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、ナトリウム＝ｔｅｒｔ−ブトキシド、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミンおよびＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミンなどの有機塩基が挙げられる。塩基の使用量は、一般式［２］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、2〜5倍モルであればよい。
この反応において所望により用いられる相間移動触媒としては、たとえば、テトラメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、硫酸水素テトラブチルアンモニウムおよびトリオクチルメチルアンモニウムクロリドなどの４級アンモニウム塩；Ｎ−ラウリルピリジニウムクロリド、Ｎ−ラウリル−４−ピコリニウムクロリド、Ｎ−ラウリルピコリニウムクロリド；ならびにＮ−ベンジルピコリニウムクロリドなどが挙げられる。相間移動触媒の使用量は、一般式［２］の化合物またはその塩に対して0.01〜50倍モル、好ましくは、0.1〜5倍モルであればよい。
この反応において所望により用いられるリガンドとしては、たとえば、トリメチルホスフィンおよびトリ−ｔｅｒｔ−ブチル−ホスフィンなどのトリアルキルホスフィン類；トリシクロヘキシルホスフィンなどのトリシクロアルキルホスフィン類；トリフェニルホスフィンおよびトリトリルホスフィンなどのトリアリールホスフィン類；トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイトおよびトリブチルホスファイトなどのトリアルキルホスファイト類；トリシクロヘキシルホスファイトなどのトリシクロアルキルホスファイト類；トリフェニルホスファイトなどのトリアリールホスファイト類；１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾリウムクロリドなどのイミダゾリウム塩；アセチルアセトンおよびオクタフルオロアセチルアセトンなどのジケトン類；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミンおよびトリイソプロピルアミンなどのアミン類；ならびに１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル、２−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニルおよび２−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）ビフェニルなどが挙げられ、これらは組み合わせて使用してもよい。リガンドの使用量は、一般式［２］の化合物に対して0.00001〜1倍モル、好ましくは、0.001〜0.1倍モルであればよい。
この反応に用いられるパラジウム触媒としては、たとえば、パラジウム−炭素およびパラジウム黒などの金属パラジウム；塩化パラジウムなどの無機パラジウム塩；酢酸パラジウムなどの有機パラジウム塩；テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）クロリド、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンパラジウム（II）ジクロリド、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）および（Ｅ）−ジ（μ−アセタート）ビス（ｏ−（ジ−ｏ−トリルホスフィノ）ベンジル）ジパラジウム（II）などの有機パラジウム錯体；ならびにポリマー担持ビス（アセタート）トリフェニルホスフィンパラジウム（II）およびポリマー担持ジ（アセタート）ジシクロヘキシルフェニルホスフィンパラジウム（II）などのポリマー固定化有機パラジウム錯体などが挙げられ、これらは組み合わせて使用してもよい。パラジウム触媒の使用量は、一般式［２］の化合物に対して、0.00001〜1倍モル、好ましくは、0.001〜0.5倍モルであればよい。
一般式［４］の化合物の使用量は、一般式［２］の化合物に対して、1〜50倍モル、好ましくは、1〜2倍モルであればよい。
この反応は、好ましくは、不活性気体（たとえば、窒素、アルゴン）雰囲気下、40〜170℃で、1分間〜48時間実施すればよい。
（２−２）
一般式［１ｃ］の化合物は、一般式［１ｂ］の化合物を還元することにより製造することができる。
還元反応としては、たとえば、金属触媒を用いる接触水素添加反応が挙げられる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；メタノール、エタノール、２−プロパノールおよび２−メチル−２−プロパノールなどのアルコール類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトニトリルなどのニトリル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；酢酸などのカルボン酸類；ならびにピリジンなどのヘテロ芳香族類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応に使用される金属触媒としては、たとえば、パラジウム−炭素およびパラジウム黒などの金属パラジウム；酸化パラジウムおよび水酸化パラジウムなどのパラジウム塩；ラネーニッケルなどのニッケル金属；ならびに酸化白金などの白金塩などが挙げられる。金属触媒の使用量は、一般式［１ｂ］の化合物に対して0.001〜1倍量（Ｗ/Ｗ）、好ましくは、0.01〜1倍量（Ｗ/Ｗ）であればよい。
還元剤としては、たとえば、水素；ギ酸；ギ酸ナトリウム、ギ酸アンモニウムおよびギ酸トリエチルアンモニウムなどのギ酸塩；ならびにシクロヘキセンおよびシクロヘキサジエンなどが挙げられる。還元剤の使用量は、一般式［１ｂ］の化合物に対して2〜100倍モル、好ましくは、2〜10倍モルであればよい。
この反応は、0〜200℃、好ましくは、0〜100℃で1分間〜24時間実施すればよい。
［製造法３］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ４ｃは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノおよびヒドロキシル基ならびに置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリール、環状アミノ、アルアルキルおよび複素環式基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニル、チエニル、シクロアルキルもしくは二環式の複素環式基；またはシアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノおよびヒドロキシル基ならびに置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリール、環状アミノ、アルアルキルおよび複素環式基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいピリジル基を；Ｘ３ｂは、酸素原子、硫黄原子、保護されていてもよいイミノ基、スルフィニル基、スルホニル基または結合手を；Ｘ４ｃは、置換されていてもよいアルケニレン基を；Ｘ４ｄは、置換されていてもよいアルキレン基を；Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１、Ｘ１ａおよびＬ１は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［５］の化合物として、たとえば、スチレン、アリルベンゼン、４−フェニル−１−ブテン、ビニルシクロヘキサンおよびアリルシクロヘキサンなどが知られている。また、一般式［５］の化合物は、たとえば、実験化学講座、第4版、第19巻、第298〜361頁、1992年、丸善に記載の方法またはそれに準じた方法で製造することができる。
（３−１）
一般式［１ｄ］の化合物は、製造法（２−１）に準じて、一般式［２］の化合物を一般式［５］の化合物と反応させることにより製造することができる。
（３−２）
一般式［１ｅ］の化合物は、製造法（２−２）に準じて、一般式［１ｄ］の化合物を還元することにより製造することができる。
［製造法４］
Figure 2006098308
「式中、Ｘ２ａは、酸素原子または一般式−Ｘ４−Ｘ３ａ−（但し、各一般式の左側の結合手が、Ｒ４に結合するものとする。）「式中、Ｘ３ａおよびＸ４は、前記と同様の意味を示す。」で表される基を；Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１およびＬ１は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［６］の化合物として、たとえば、アニリン、ベンジルアミン、ベンゼンチオールおよびフェニルメタンチオールなどが知られている。また、一般式［６］の化合物は、たとえば、対応するハロゲノ化合物から、常法により製造することができる。
（４−１）
一般式［１ｆ］の化合物は、製造法（２−１）に準じて、一般式［２］の化合物を一般式［６］の化合物と反応させることにより製造することができる。
（４−２）
Ｘ２ａが、酸素原子の場合、一般式［１ｆ］の化合物は、塩基の存在下または不存在下、銅触媒の存在下、一般式［２］の化合物を一般式［６］の化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；アセトニトリルなどのニトリル類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応に所望により用いられる塩基としては、たとえば、水素化ナトリウムおよびナトリウムなどが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［２］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応に用いられる銅触媒としては、たとえば、銅粉およびヨウ化銅などが挙げられる。銅触媒の使用量は、一般式［２］の化合物に対して、0.00001〜1倍モル、好ましくは、0.01〜1倍モルであればよい。
一般式［６］の化合物の使用量は、一般式［２］の化合物に対して、1〜50倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応は、40〜200℃で、30分間〜72時間実施すればよい。
［製造法５］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ４ｄは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノおよびヒドロキシル基ならびに置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリール、環状アミノ、アルアルキルおよび複素環式基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニル、チエニルもしくは二環式の複素環式基；またはシアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノおよびヒドロキシル基ならびに置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリール、環状アミノ、アルアルキルおよび複素環式基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいピリジル基を；Ｌ２は、脱離基を；Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｘ１およびＸ４ｃは、前記と同様の意味を示す。」
一般式［８］の化合物として、たとえば、２−ヨードトルエン、３−ヨードアニソール、１−ヨード−３−ニトロベンゼンおよび６−ヨード−２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシンなどが知られている。また、一般式［８］の化合物は、たとえば、実験化学講座、第4版、第19巻、第460〜482頁、1992年、丸善に記載の方法またはそれに準じた方法で製造することができる。
一般式［１ｇ］の化合物は、製造法（２−１）に準じて、一般式［７］の化合物を一般式［８］の化合物と反応させることにより製造することができる。
［製造法６］
Figure 2006098308
「式中、Ｘ２ｂは、一般式−Ｘ４−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−または一般式−Ｘ４−ＳＯ２ＮＨ−（但し、各一般式の左側の結合手が、Ｒ４に結合するものとする。）「式中、Ｘ４は、前記と同様の意味を示す。」で表される基を；Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｒ４およびＸ１は、前記と同様の意味を示す。」
（６−１）
Ｘ２ｂが、一般式−Ｘ４−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（但し、各一般式の左側の結合手が、Ｒ４に結合するものとする。）「式中、Ｘ４は、前記と同様の意味を示す。」で表される基の場合、一般式［１ｈ］の化合物は、一般式［９］の化合物をアミド化することにより製造することができる。具体的には、塩基の存在下または不存在下、酸ハロゲン化物を用いる方法および塩基の存在下または不存在下、酸無水物を用いる方法などが挙げられる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトニトリルなどのニトリル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；スルホランなどのスルホン類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応に用いられる酸ハロゲン化物としては、たとえば、ベンゾイルクロリド、ベンゾイルブロミド、２，４−ジフルオロベンゾイルクロリド、ジフェニルアセチルクロリド、２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシン−６−カルボニルクロリド、シクロヘキサンカルボニルクロリド、シクロペンタンカルボニルクロリド、（トランス）−３−フェニルアクリロイルクロリド、フェノキシアセチルクロリド、１−ベンゾフラン−２−カルボニルクロリド、２−テノイルクロリド、ニコチノイルクロリドおよびピコリノイルクロリドなどが挙げられる。また、酸ハロゲン化物は、対応するカルボン酸をチオニルクロリドまたはオキサリルクロリドなどと反応させることにより製造することができる。酸ハロゲン化物の使用量は、一般式［９］の化合物に対して、1〜50倍モル、好ましくは、１〜5倍モルであればよい。
この反応に用いられる酸無水物としては、たとえば、無水安息香酸などが挙げられる。また、酸無水物は、対応するカルボン酸から、たとえば、新実験化学講座、第14巻、第1120〜1133頁、1977年、丸善に記載の方法またはそれに準じた方法で製造することができる。酸無水物の使用量は、一般式［９］の化合物に対して、1〜50倍モル、好ましくは、１〜5倍モルであればよい。
この反応において所望により用いられる塩基としては、たとえば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸セシウムなどの無機塩基ならびにトリエチルアミンおよびジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基が挙げられる。塩基の使用量は、一般式［９］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応は、通常、−78〜100℃、好ましくは、0〜80℃で、10分間〜24時間実施すればよい。
（６−２）
Ｘ２ｂが、一般式−Ｘ４−ＳＯ２ＮＨ−（但し、各一般式の左側の結合手が、Ｒ４に結合するものとする。）「式中、Ｘ４は、前記と同様の意味を示す。」で表される基の場合、一般式［１ｈ］の化合物は、一般式［９］の化合物をスルホンアミド化することにより製造することができる。具体的には、塩基の存在下または不存在下、ハロゲン化スルホニルを用いる方法が挙げられる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトニトリルなどのニトリル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；スルホランなどのスルホン類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応に用いられるハロゲン化スルホニルとしては、たとえば、ベンゼンスルホニルクロリドおよびα−トルエンスルホニルクロリドなどが挙げられる。また、ハロゲン化スルホニルは、対応するスルホン酸から、たとえば、新実験化学講座、第14巻、第1784〜1792頁、1978年、丸善に記載の方法またはそれに準じた方法で製造することができる。ハロゲン化スルホニルの使用量は、一般式［９］の化合物に対して、1〜50倍モル、好ましくは、１〜5倍モルであればよい。
この反応において所望により用いられる塩基としては、たとえば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸セシウムなどの無機塩基ならびにトリエチルアミンおよびジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基が挙げられる。塩基の使用量は、一般式［９］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応は、通常、−78〜100℃、好ましくは、0〜80℃で、10分間〜24時間実施すればよい。
［製造法７］
Figure 2006098308
「式中、Ｘ３ｃは、酸素原子、硫黄原子または保護されていてもよいイミノ基を；Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１、Ｘ４ａ、Ｘ４ｄおよびＬ２は、前記と同様の意味を示す。但し、Ｘ４ａが、結合手の場合、Ｒ４は、置換されていてもよいシクロアルキル基を示す。」
一般式［１１ａ］の化合物として、たとえば、ベンジルブロミドおよび（２−ブロモエチル）ベンゼンなどが知られている。一般式［１１ｂ］の化合物として、たとえば、３−フェニル−１−プロパノールおよびシクロヘキサノールなどが知られている。
（７−１）
一般式［１ｉ］の化合物は、塩基の存在下、一般式［１０］の化合物を一般式［１１ａ］の化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応で用いられる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトニトリルなどのニトリル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；スルホランなどのスルホン類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応に用いられる一般式［１１ａ］の化合物の使用量は、一般式［１０］の化合物に対して、1〜20倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応に用いられる塩基としては、たとえば、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミンおよびピリジンなどの有機アミン類；水素化ナトリウムなどのアルカリ金属水素化物；ならびに炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［１０］の化合物に対して1〜20倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応は、通常、0〜200℃、好ましくは、25〜150℃で10分間〜24時間実施すればよい。
（７−２）
Ｘ３ｃが、酸素原子または硫黄原子の場合、一般式［１ｉ］の化合物は、アゾジカルボニル化合物およびホスフィン類の存在下、一般式［１０］の化合物および一般式［１１ｂ］の化合物を光延反応に付すことにより製造することができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルおよびエチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；アセトニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ならびにクロロホルムおよび塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応に用いられるアゾジカルボニル化合物としては、たとえば、ジエチル＝アゾジカルボキシラート、ジイソプロピル＝アゾジカルボキシラートおよびアゾジカルボニルジピペリジンなどが挙げられる。アゾジカルボニル化合物の使用量は、一般式［１０］の化合物に対して、1〜5倍モル、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。
この反応に用いられるホスフィン類としては、たとえば、トリフェニルホスフィンなどのトリアリールホスフィン類およびトリブチルホスフィンなどのトリアルキルホスフィン類が挙げられる。ホスフィン類の使用量は、一般式［１０］の化合物に対して、1〜5倍モル、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。
一般式［１１ｂ］の化合物の使用量は、一般式［１０］の化合物に対して、1〜5倍モル、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。
この反応は、通常、-20〜120℃、好ましくは、0〜50℃で、30分間〜24時間実施すればよい。
［製造法８］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ３ａは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノおよびヒドロキシル基ならびに置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリール、環状アミノ、アルアルキルおよび複素環式基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニルもしくは二環式の複素環式基；または置換されていてもよいフェニル基のみで置換されている単環の複素環式基を；Ｒ１ａ、Ｒ４、Ｘ２およびＬ２は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［１３］の化合物として、たとえば、ヨードベンゼン、１−フルオロ−４−ヨードベンゼン、１−ヨード−３−ニトロベンゼンおよび６−ヨード−２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシンなどが知られている。
（８−１）
一般式［１ｊ］の化合物は、たとえば、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ（Journal of American Chemical Society）、第125巻、第6653〜6655頁、2003年などに記載の方法などにより製造することができる。具体的には、塩基の存在下または不存在下、相間移動触媒の存在下または不存在下、リガンドの存在下または不存在下、パラジウム触媒の存在下、一般式［１２］の化合物を一般式［１３］の化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；メタノール、エタノール、２−プロパノールおよび２−メチル−２−プロパノールなどのアルコール類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；アセトニトリルなどのニトリル類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応において所望により用いられる塩基としては、たとえば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸セシウムなどの無機塩基ならびに酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、ナトリウム＝ｔｅｒｔ−ブトキシド、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンおよびトリブチルアミンなどの有機塩基が挙げられる。塩基の使用量は、一般式［１２］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、2〜5倍モルであればよい。
この反応において所望により用いられる相間移動触媒としては、たとえば、テトラメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムハイドロゲンサルフェートおよびトリオクチルメチルアンモニウムクロリドなどの４級アンモニウム塩；Ｎ−ラウリルピリジニウムクロリド、Ｎ−ラウリル−４−ピコリニウムクロリド、Ｎ−ラウリルピコリニウムクロリド；ならびにＮ−ベンジルピコリニウムクロリドなどが挙げられる。相間移動触媒の使用量は、一般式［１２］の化合物またはその塩に対して0.01〜50倍モル、好ましくは、0.1〜5倍モルであればよい。
この反応において所望により用いられるリガンドとしては、たとえば、トリメチルホスフィンおよびトリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィンなどのトリアルキルホスフィン類；トリシクロヘキシルホスフィンなどのトリシクロアルキルホスフィン類；トリフェニルホスフィンおよびトリトリルホスフィンなどのトリアリールホスフィン類；トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイトおよびトリブチルホスファイトなどのトリアルキルホスファイト類；トリシクロヘキシルホスファイトなどのトリシクロアルキルホスファイト類；トリフェニルホスファイトなどのトリアリールホスファイト類；１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾリウムクロリドなどのイミダゾリウム塩；アセチルアセトンおよびオクタフルオロアセチルアセトンなどのジケトン類；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミンおよびトリイソプロピルアミンなどのアミン類；ならびに１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニルなどが挙げられ、これらは組み合わせて使用してもよい。リガンドの使用量は、一般式［１２］の化合物に対して0.00001〜1倍モル、好ましくは、0.001〜0.2倍モルであればよい。
この反応に用いられるパラジウム触媒としては、たとえば、パラジウム−炭素およびパラジウム黒などの金属パラジウム；塩化パラジウムなどの無機パラジウム塩；酢酸パラジウムなどの有機パラジウム塩；テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）クロリド、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンパラジウム（II）ジクロリドおよびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）などの有機パラジウム錯体；ならびにポリマー担持ビス（アセタート）トリフェニルホスフィンパラジウム（II）およびポリマー担持ジ（アセタート）ジシクロヘキシルフェニルホスフィンパラジウム（II）などのポリマー固定化有機パラジウム錯体などが挙げられ、これらは組み合わせて使用してもよい。パラジウム触媒の使用量は、一般式［１２］の化合物に対して、0.00001〜1倍モル、好ましくは、0.001〜0.1倍モルであればよい。
一般式［１３］の化合物の使用量は、一般式［１２］の化合物に対して、1〜50倍モル、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。
この反応は、好ましくは、不活性気体（たとえば、窒素、アルゴン）雰囲気下、40〜170℃で、1分間〜72時間実施すればよい。
（８−２）
また、Ｌ２が塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子の場合、一般式［１ｊ］の化合物は、塩基の存在下または不存在下、リガンドの存在下または不存在下、銅触媒の存在下、一般式［１２］の化合物を一般式［１３］の化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；メタノール、エタノール、２−プロパノールおよび２−メチル−２−プロパノールなどのアルコール類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；アセトニトリルなどのニトリル類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応において所望により用いられる塩基としては、たとえば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸セシウムなどの無機塩基ならびにトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンおよびＮ−メチルモルホリンなどの有機塩基が挙げられる。塩基の使用量は、一般式［１２］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、2〜5倍モルであればよい。
この反応において所望により用いられるリガンドとしては、たとえば、プロリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルグリシンおよびアラニンなどのアミノ酸が挙げられる。リガンドの使用量は、一般式［１２］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、2〜5倍モルであればよい。
この反応において用いられる銅触媒としては、たとえば、銅、臭化銅およびヨウ化銅などが挙げられ、これらは、組み合わせて使用してもよい。銅触媒の使用量は、一般式［１２］の化合物またはその塩に対して0.01〜50倍モル、好ましくは、0.1〜5倍モルであればよい。
一般式［１３］の化合物の使用量は、一般式［１２］の化合物に対して、1〜50倍モル、好ましくは、1〜2倍モルであればよい。
この反応は、好ましくは、不活性気体（たとえば、窒素、アルゴン）雰囲気下、10〜180℃で、1分間〜24時間実施すればよい。
［製造法９］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１ｂ、Ｘ２およびＬ２は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［１４］の化合物として、たとえば、ベンジルブロミドおよび（２−ブロモエチル）ベンゼンなどが知られている。
一般式［１ｋ］の化合物は、塩基の存在下、一般式［１２］の化合物を一般式［１４］の化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応で用いられる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトニトリルなどのニトリル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；スルホランなどのスルホン類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応に用いられる一般式［１４］の化合物の使用量は、一般式［１２］の化合物に対して、1〜5倍モル、好ましくは、1〜1.5倍モルであればよい。
この反応に用いられる塩基としては、たとえば、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミンおよびピリジンなどの有機アミン類；水素化ナトリウムなどのアルカリ金属水素化物ならびに炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩などが挙げられる。
塩基の使用量は、一般式［１２］の化合物に対して1〜20倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応は、通常、0〜200℃、好ましくは、25〜150℃で10分間〜24時間実施すればよい。
［製造法１０］
Figure 2006098308
「式中、Ｌ３は、脱離基を；Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１およびＸ２は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［１６］の化合物として、たとえば、アニリン、シクロヘキシルアミンおよびベンジルアミンなどが知られている。
一般式［１ｌ］の化合物は、製造法（８−１）または製造法（８−２）に準じて、一般式［１５］の化合物を一般式［１６］の化合物と反応させることにより製造することができる。
［製造法１１］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ２ａは、イミノ保護基を；Ｘ２ｃは、酸素原子、カルボニル基または結合手を；Ｒ３およびＲ４は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［１ｍ］の化合物は、酸または塩基の存在下または不存在下、塩の存在下または不存在下、一般式［１７］の化合物を酸化剤と反応させることにより製造することができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；ならびにピリジンなどが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応において所望により用いられる酸としては、たとえば、硫酸および硝酸などの鉱酸が挙げられる。酸の使用量は、一般式［１７］の化合物に対して1〜100倍モルであればよい。
この反応において所望により用いられる塩基としては、たとえば、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなどの無機塩基ならびにピリジンなどの有機塩基が挙げられる。塩基の使用量は、一般式［１７］の化合物に対して1〜100倍モルであればよい。
この反応において所望により用いられる塩としては、たとえば、硫酸マグネシウム、硫酸アンモニウムおよび塩化マグネシウムなどが挙げられる。塩の使用量は、一般式［１７］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであればよい。
この反応に用いられる酸化剤としては、たとえば、酸化クロム（VI）および二クロム酸ナトリウムなどのクロム酸塩ならびに過マンガン酸カリウム、過マンガン酸バリウム、過マンガン酸カルシウムおよび過マンガン酸マグネシウムなどの過マンガン酸塩が挙げられる。酸化剤の使用量は、一般式［１７］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであればよい。
この反応は、通常、0〜150℃、好ましくは、40〜130℃で、30分間〜48時間実施すればよい。
［製造法１２］
Figure 2006098308
「式中、Ｘ１ｂは、置換されていてもよいアルキレンまたはアルケニレン基を；Ｒ２、Ｒ３ａ、Ｒ４、Ｘ２およびＬ２は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［１９］の化合物として、たとえば、ベンジルブロミドおよび（２−ブロモエチル）ベンゼンなどが知られている。
一般式［１ｎ］の化合物は、製造法（７−１）に準じて、一般式［１８］の化合物を一般式［１９］の化合物と反応させることにより製造することができる。
［製造法１３］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１、Ｘ２およびＬ３は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［１ｏ］の化合物は、製造法（８−１）または製造法（８−２）に準じて、一般式［２０］の化合物を一般式［１６］の化合物と反応させることにより製造することができる。
［製造法１４］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ２ａ、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１およびＸ２は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［１ｏ］の化合物は、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第3版、第494〜615頁、1999年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載の方法などにより一般式［１ｐ］の化合物を脱保護することにより、製造することができる。
脱保護反応としては、たとえば、酸または塩基を用いる加水分解反応、塩を用いた脱アルキル化反応、金属触媒水素添加反応を含む還元的脱アルキル化反応およびヒドラジン分解反応などが挙げられる。
（１４−１）
酸を用いる加水分解反応において、使用される酸としては、たとえば、ギ酸、塩酸、硫酸、臭化水素、トリフルオロ酢酸、塩化アルミニウムおよびヨウ化トリメチルシランなどが挙げられる。酸の使用量は、一般式［１ｐ］の化合物に対して1〜10000倍モル、好ましくは、1〜5000倍モルであればよい。
塩基を用いる加水分解反応において、使用される塩基としては、たとえば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなどの無機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどの有機塩基；ならびにフッ化テトラブチルアンモニウムなどが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［１ｐ］の化合物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜50倍モルであればよい。
塩を用いた脱アルキル化反応において、使用される塩としては、たとえば、ヨウ化リチウムおよび塩化ナトリウムなどが挙げられる。塩の使用量は、一般式［１ｐ］の化合物に対して、1〜100倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであればよい。
金属触媒水素添加反応を含む還元的脱アルキル化反応は、製造法（２−２）に準じて行えばよい。
これらの反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；メタノール、エタノール、２−プロパノールおよび２−メチル−２−プロパノールなどのアルコール類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；アセトニトリルなどのニトリル類；ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ニトロメタン；ならびにピリジンなどが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応は、通常、−78〜130℃、好ましくは、0〜120℃で、10分間〜24時間実施すればよい。
（１４−２）
ヒドラジン分解反応において、使用されるヒドラジンの使用量は、一般式［１ｐ］の化合物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍モルであればよい。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；メタノール、エタノール、２−プロパノールおよび２−メチル−２−プロパノールなどのアルコール類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；アセトニトリルなどのニトリル類；ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ニトロメタン；ならびにピリジンなどが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応は、通常、−78〜170℃、好ましくは、0〜130℃で、10分間〜24時間実施すればよい。
［製造法１５］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１およびＸ１ａは、前記と同様の意味を示す。」
一般式［１ｒ］の化合物は、製造法（２−２）に準じて、一般式［１ｑ］の化合物を還元することにより製造することができる。
［製造法１６］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４ｃ、Ｘ１、Ｘ１ａ、Ｘ４ｃおよびＸ４ｄは、前記と同様の意味を示す。」
一般式［１ｔ］の化合物は、製造法（２−２）に準じて、一般式［１ｓ］の化合物を還元することにより製造することができる。
［製造法１７］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１およびＸ２は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［１ｏ］の化合物は、製造法（１４−１）に準じて、一般式［１ｌ］の化合物を脱保護することにより製造することができる。
［製造法１８］
Figure 2006098308
「式中、Ｘ３ｄは、スルフィニル基またはスルホニル基を；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１およびＸ４は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［１ｖ］の化合物は、一般式［１ｕ］の化合物を酸化することにより製造することができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；ならびにピリジンなどが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応に用いられる酸化剤としては、たとえば、過酸化水素；過酢酸、過安息香酸およびｍ−クロロ過安息香酸などの過酸類；ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシドなどのペルオキシド類；ならびにメタ過ヨウ素酸ナトリウムなどが挙げられる。酸化剤の使用量は、一般式［１ｕ］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであればよい。
この反応は、通常、0〜150℃、好ましくは、10〜100℃で、30分間〜48時間実施すればよい。
［製造法１９］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１、Ｘ３ｄおよびＸ４は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［１ｘ］の化合物は、製造法１８に準じて、一般式［１ｗ］の化合物を酸化することにより製造することができる。
［製造法２０］
Figure 2006098308
「式中、Ｌ４は、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を；Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｒ４ｄ、Ｘ１およびＸ５は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［４１］の化合物として、たとえば、２−ヨードトルエン、３−ヨードアニソール、３−ヨードニトロベンゼンおよび６−ヨード−２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシンなどが知られている。
一般式［１ｙ］の化合物は、製造法１に準じて、一般式［４０］の化合物を一般式［４１］の化合物と反応させることにより製造することができる。
［製造法２１］
Figure 2006098308
「Ｒ４ｅは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノおよびヒドロキシル基ならびに置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリール、環状アミノ、アルアルキルおよび複素環式基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよい、該環を形成する窒素原子を介して結合する二環式の複素環式基を；Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｘ１およびＬ１は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［４２］の化合物として、たとえば、インドリン、ベンズイミダゾールおよびインドールなどが知られている。
一般式［１ｚ］の化合物は、製造法（８−１）に準じて、一般式［２］の化合物を一般式［４２］の化合物と反応させることにより製造することができる。
このようにして得られた一般式［１ａ］、［１ｂ］、［１ｃ］、［１ｄ］、［１ｅ］、［１ｆ］、［１ｇ］、［１ｈ］、［１ｉ］、［１ｊ］、［１ｋ］、［１ｌ］、［１ｍ］、［１ｎ］、［１ｏ］、［１ｐ］、［１ｑ］、［１ｒ］、［１ｓ］、［１ｔ］、［１ｕ］、［１ｖ］、［１ｗ］、［１ｘ］、［１ｙ］および［１ｚ］の化合物またはそれらの塩は、たとえば、縮合、付加、酸化、還元、転位、置換、ハロゲン化、脱水もしくは加水分解などの自体公知の反応に付すことによって、またはそれらの反応を適宜組み合わせることによって、他の一般式［１］の化合物またはその塩に誘導することができる。
また、上記した製造法における化合物において、異性体（たとえば、光学異性体、幾何異性体および互変異性体など）が存在する場合、これらの異性体も使用することができ、また、溶媒和物、水和物および種々の形状の結晶も使用することができる。
次に、本発明化合物の製造の原料である一般式［２］、［７］、［９］、［１０］、［１２］、［１５］、［１７］、［１８］、［２０］および［４０］の化合物の製造法について説明する。
［製造法Ａ］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｒ３ａ、Ｒ５、Ｘ１、Ｘ５、Ｌ１およびＬ２は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［２１］の化合物として、たとえば、４−ブロモ−２−ニトロ安息香酸などが知られている。
（Ａ−１）
一般式［２２］の化合物は、一般式［２１］の化合物をエステル化することにより製造することができる。この反応は、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）、第3版、第369〜453頁、1999年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載された方法またはそれに準じた方法で行えばよい。具体的には、相間移動触媒の存在下または不存在下、塩基の存在下、アルキル化剤を用いる方法および一般式［２１］の化合物の酸ハロゲン化物を経由する方法などが挙げられる。
アルキル化剤を用いる方法において、使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；アセトニトリルなどのニトリル類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応において所望により用いられる相間移動触媒としては、たとえば、テトラメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロリドおよびテトラブチルアンモニウムブロミドなどの４級アンモニウム塩が挙げられる。相間移動触媒の使用量は、一般式［２１］の化合物に対して0.01モル以上、好ましくは、0.1〜5倍モルであればよい。
この反応に用いられる塩基としては、たとえば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸セシウムなどの無機塩基ならびにトリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジンおよびＮ−メチルモルホリンなどの有機塩基などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［２１］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応に用いられるアルキル化剤としては、たとえば、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、硫酸ジメチル、２−ブロモ−２−メチルプロパン、ベンジルクロリドおよびベンジルブロミドなどが挙げられる。アルキル化剤の使用量は、一般式［２１］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応は、通常、0〜170℃で、1分間〜24時間実施すればよい。
酸ハロゲン化物を経由する方法において、一般式［２１］の化合物をたとえば、チオニルクロリドまたはオキサリルクロリドなどと反応させて、酸ハロゲン化物とした後、塩基の存在下または不存在下、メタノール、エタノールおよびベンジルアルコールなどのアルコール類と反応させればよい。
この反応において、使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；アセトニトリルなどのニトリル類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応において所望により用いられる塩基としては、たとえば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸セシウムなどの無機塩基ならびにトリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジンおよびＮ−メチルモルホリンなどの有機塩基などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［２１］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応は、通常、0〜170℃で、1分間〜24時間実施すればよい。
一般式［２３］の化合物として、たとえば、メチル＝２−アミノ−４−ヨードベンゾアートなどが知られている。
（Ａ−２）
一般式［２３］の化合物は、一般式［２２］の化合物を還元することにより製造することができる。この反応は、リチャード・Ｃ．・ラロック（Richard C. Larock）ら、コンプレヘンシブ・オーガニック・トランスフォーメーションズ（Comprehensive Organic Transformations）、第2版、第823〜827頁、1999年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載された方法またはそれに準じた方法で行えばよい。具体的には、鉄または亜鉛などの金属を用いる還元反応などが挙げられる。
この反応において、使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；メタノール、エタノール、２−プロパノールおよび２−メチル−２−プロパノールなどのアルコール類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトニトリルなどのニトリル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；ならびに酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応に用いられる金属としては、たとえば、鉄、亜鉛、スズおよび塩化スズ（II）などが挙げられる。金属の使用量は、一般式［２２］の化合物に対して、1〜50倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであればよい。
この反応において所望により用いられる酸としては、たとえば、塩化水素、臭化水素および酢酸などが挙げられる。酸の使用量は、一般式［２２］の化合物に対して0.001〜100倍量（Ｗ/Ｖ）、好ましくは、0.01〜20倍量（Ｗ/Ｖ）であればよい。
この反応は、0〜200℃、好ましくは、0〜100℃で1分間〜24時間実施すればよい。
（Ａ−３）
一般式［２３］の化合物は、製造法（２−２）に準じて、一般式［２２］の化合物を還元することにより製造することができる。
（Ａ−４）
一般式［２］の化合物は、製造法（８−１）または（８−２）に準じて、一般式［２３］の化合物を一般式［１３］の化合物と反応させることにより製造することができる。
（Ａ−５）
一般式［２４ａ］の化合物として、たとえば、４−（メタンスルホンアミド）フェニルボロン酸、ベンゾフラン−２−ボロン酸および３−メトキシフェニルボロン酸などが知られている。一般式［２４ｂ］の化合物として、たとえば、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）イソキノリンなどが知られている。また、一般式［２４ａ］および［２４ｂ］の化合物は、たとえば、特開２００３−２０６２９０号公報などに記載された方法に準じ、対応するハロゲノ体から製造することができる。
一般式［２］の化合物は、たとえば、オーガニック・レターズ（Organic Letters）、第3巻、第2077〜2079頁、2001年に記載の方法などにより製造することができる。具体的には、塩基の存在下または不存在下、ミリスチン酸の存在下または不存在下、金属触媒の存在下、一般式［２３］の化合物を一般式［２４ａ］または［２４ｂ］の化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；メタノール、エタノール、２−プロパノールおよび２−メチル−２−プロパノールなどのアルコール類；ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；アセトニトリルなどのニトリル類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応において所望により用いられる塩基としては、たとえば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸セシウムなどの無機塩基；ならびにトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミンおよび２、６−ルチジンなどの有機塩基が挙げられる。塩基の使用量は、一般式［２３］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応に用いられる金属触媒としては、たとえば、酢酸銅（II）または酢酸水銀（II）などが挙げられる。金属触媒の使用量は、一般式［２３］の化合物に対して、0.00001〜1倍モル、好ましくは、0.001〜1倍モルであればよい。
この反応において所望により用いられるミリスチン酸の使用量は、一般式［２３］の化合物に対して、0.001〜50倍モル、好ましくは、0.1〜2倍モルであればよい。
一般式［２４ａ］および［２４ｂ］の化合物の使用量は、一般式［２３］の化合物に対して、1〜50倍モル、好ましくは、1〜2倍モルであればよい。
この反応は、好ましくは、不活性気体（たとえば、窒素、アルゴン）雰囲気下、10〜170℃で、1分間〜96時間実施すればよい。
［製造法Ｂ］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｒ５、Ｘ１、Ｘ４ｃ、Ｘ５およびＬ１は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［７］の化合物は、製造法１に準じて、一般式［２］の化合物を一般式［２５ａ］または一般式［２５ｂ］の化合物と反応させることによって製造することができる。
［製造法Ｃ］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｘ１およびＬ３は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［２６］の化合物として、たとえば、２−クロロ−４−ニトロ安息香酸などが知られている。
（Ｃ−１）
一般式［２７］の化合物は、製造法（８−１）または（８−２）に準じて、一般式［２６］の化合物を一般式［１６］の化合物と反応させることにより製造することができる。
（Ｃ−２）
一般式［２８］の化合物は、製造法（Ａ−１）に準じて、一般式［２７］の化合物をエステル化することにより製造することができる。
（Ｃ−３）
一般式［９］の化合物は、製造法（２−２）または（Ａ−２）に準じて、一般式［２８］の化合物を還元することにより製造することができる。
［製造法Ｄ］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ６は、フェノール性ヒロドキシル保護基またはチオール保護基を；Ｘ３ｅは、酸素原子または硫黄原子を；Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｘ１およびＬ３は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［２９］の化合物として、たとえば、メチル＝２−ヨード−４−メトキシベンゾアートなどが知られている。
（Ｄ−１）
一般式［３０］の化合物は、製造法（８−１）または（８−２）に準じて、一般式［２９］の化合物を一般式［１６］の化合物と反応させることにより製造することができる。
（Ｄ−２）
一般式［１０ａ］の化合物は、一般式［３０］の化合物を脱保護することによって製造することができる。
Ｒ６が、フェノール性ヒドロキシル保護基の場合、一般式［１０ａ］の化合物は、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第3版、第249〜287頁、1999年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載の方法などによって製造することができる。
Ｒ６が、チオール保護基の場合、一般式［１０ａ］の化合物は、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第3版、第454〜493頁、1999年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載の方法などによって製造することができる。
［製造法Ｅ］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１ａ、Ｒ４、Ｒ５、Ｘ４、Ｘ５およびＬ１は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［３１ａ］の化合物は、製造法１に準じて、一般式［２２］の化合物を一般式［３ａ］または一般式［３ｂ］の化合物と反応させることによって製造することができる。
［製造法Ｆ］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１ａ、Ｒ４ａおよびＬ１は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［３１ｂ］の化合物は、製造法（２−１）に準じて、一般式［２２］の化合物を一般式［４］の化合物と反応させることによって製造することができる。
［製造法Ｇ］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１ａ、Ｒ４、Ｘ３ｂ、Ｘ４ｃおよびＬ１は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［３１ｃ］の化合物は、製造法（２−１）に準じて、一般式［２２］の化合物を一般式［５］の化合物と反応させることによって製造することができる。
［製造法Ｈ］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１ａ、Ｒ４、Ｘ２ａおよびＬ１は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［３１ｄ］の化合物は、製造法（２−１）または（４−２）に準じて、一般式［２２］の化合物を一般式［６］の化合物と反応させることによって製造することができる。
［製造法Ｉ］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１ａ、Ｒ４およびＸ２は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［１２］の化合物は、製造法（２−２）または（Ａ−２）に準じて、一般式［３１］の化合物を還元することによって製造することができる。
［製造法Ｊ］
Figure 2006098308
「式中、Ｌ４は、脱離基を；Ｒ１ａ、Ｒ４、Ｘ３ｃおよびＸ４ｄは、前記と同様の意味を示す。」
一般式［３２］の化合物として、たとえば、メチル＝４−（ブロモメチル）−２−ニトロベンゾアートなどが知られている。また、メチル＝４−（ブロモメチル）−２−ニトロベンゾアートは、ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー（Journal of Medicinal Chemistry）、第29巻、第589〜591頁、1986年に記載されている４−（ブロモメチル）−２−ニトロ安息香酸を常法に従ってエステル化することによって製造することができる。
一般式［３３］の化合物として、たとえば、アニリン、フェノールおよびベンゼンチオールなどが知られている。
（Ｊ−１）
一般式［３４］の化合物は、製造法（７−１）に準じて、一般式［３２］の化合物を一般式［３３］の化合物と反応させることによって製造することができる。
（Ｊ−２）
一般式［１５ａ］の化合物は、製造法（２−２）または（Ａ−２）に準じて、一般式［３４］の化合物を還元することによって製造することができる。
［製造法Ｋ］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ４、Ｘ２ｃおよびＬ２は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［３５］の化合物として、たとえば、１−メチル−２−ニトロ−４−フェノキシベンゼンなどが知られている。
一般式［３６］の化合物として、たとえば、３−アミノ−４−メチルベンゾフェノンなどが知られている。
（Ｋ−１）
一般式［３６］の化合物は、製造法（Ａ−２）に準じて、一般式［３５］の化合物を還元することにより製造することができる。
（Ｋ−２）
一般式［３７］の化合物は、製造法（８−１）または（８−２）に準じて、一般式［３６］の化合物を一般式［１３］の化合物と反応させることにより製造することができる。
（Ｋ−３）
一般式［１７ａ］の化合物は、一般式［３７］の化合物のアミノ基を保護することにより製造することができる。この反応は、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第3版、第494〜615頁、1999年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載された方法またはそれに準じた方法で行えばよい。たとえば、アミド型またはウレタン型保護基の場合、具体的には、酸ハロゲン化物を用いる方法または酸無水物を用いる方法などが挙げられる。
酸ハロゲン化物を用いる方法において、塩基の存在下または不存在下、所望の酸ハロゲン化物と一般式［３７］の化合物を反応させればよい。
この反応において、使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；アセトニトリルなどのニトリル類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応において所望により用いられる塩基としては、たとえば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸セシウムなどの無機塩基ならびにトリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジンおよびＮ−メチルモルホリンなどの有機塩基などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［３７］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応において使用される酸ハロゲン化物としては、たとえば、アセチルクロリド、ベンゾイルクロリド、トリメチルアセチルクロリド、メトキシメチルクロリド、ベンジルオキシメチルクロリドまたはベンジルオキシメチルカルボニルクロリドなどが挙げられる。酸ハロゲン化物の使用量は、一般式［３７］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応は、通常、0〜170℃で、1分間〜24時間実施すればよい。
酸無水物を用いる方法において、塩基の存在下または不存在下、所望の酸無水物と一般式［３７］の化合物を反応させればよい。
この反応において、使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類；塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン類；アセトニトリルなどのニトリル類；酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエステル類；ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応において所望により用いられる塩基としては、たとえば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸セシウムなどの無機塩基ならびにトリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジンおよびＮ−メチルモルホリンなどの有機塩基などが挙げられる。塩基の使用量は、一般式［３７］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応において使用される酸無水物としては、たとえば、無水酢酸、無水トリクロロ酢酸またはジ−ｔｅｒｔ−ブチル＝ジカーボナートなどが挙げられる。酸無水物の使用量は、一般式［３７］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。
この反応は、通常、0〜170℃で、1分間〜24時間実施すればよい。
（Ｋ−４）
一般式［３８］の化合物は、製造法（Ｋ−３）に準じて、一般式［３６］の化合物のアミノ基を保護することにより製造することができる。
（Ｋ−５）
一般式［１８ａ］の化合物は、製造法１１に準じて、一般式［３８］の化合物を酸化することにより製造することができる。
［製造法Ｌ］
Figure 2006098308
「式中、Ｌ３ａは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を；Ｒ１ａ、Ｒ２、Ｒ４およびＸ２は、前記と同様の意味を示す。」
（Ｌ−１）
一般式［３９］の化合物は、製造法（１４−１）に準じて、一般式［１２］の化合物を脱保護することにより製造することができる。
（Ｌ−２）
一般式［３９］の化合物は、製造法（１４−１）または（１４−２）に準じて、一般式［１８］の化合物を脱保護することにより製造することができる。
（Ｌ−３）
一般式［２０ａ］の化合物は、亜硝酸塩類を用いて一般式［３９］の化合物をジアゾ化後、所望の金属ハロゲン化物と反応させることにより製造することができる。
一般式［３９］の化合物のジアゾニウム塩は、酸の存在下、一般式［３９］の化合物を亜硝酸塩類と反応させることにより製造することができる。
この反応において、使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸などの有機酸類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応において所望により用いられる酸としては、たとえば、塩酸、硫酸、硝酸または臭化水素酸などが挙げられる。酸の使用量は、一般式［３９］の化合物に対して1〜50倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであればよい。
この反応において使用される亜硝酸塩類としては、たとえば、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウムなどが挙げられる。亜硝酸塩類の使用量は、一般式［３９］の化合物に対して1〜2倍モル、好ましくは、1〜1.5倍モルであればよい。
この反応は、通常、-10〜15℃で、1分間〜24時間実施すればよい。
一般式［２０ａ］の化合物は、一般式［３９］の化合物のジアゾニウム塩と金属ハロゲン化物と反応させることにより製造することができる。
この反応において、使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、水；ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸などの有機酸類などが挙げられ、これらは混合して使用してもよい。
この反応において使用される金属ハロゲン化物としては、たとえば、塩化銅（I）、臭化銅（I）、ヨウ化銅（I）またはヨウ化カリウムなどが挙げられる。金属ハロゲン化物の使用量は、一般式［３９］の化合物ジアゾニウム塩に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。
この反応は、通常、-10〜80℃で、1分間〜24時間実施すればよい。
［製造法Ｍ］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１ａ、Ｒ４およびＸ２は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［１２］の化合物は、製造法（Ａ−１）に準じて、一般式［３９］の化合物をエステル化することにより製造することができる。
［製造法Ｎ］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１ａ、Ｒ３、Ｘ１、Ｘ５およびＬ１は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［４３］の化合物として、たとえば、ビス（ピナコラート）ジボロン、ビス（ネオペンチルグリラート）ジボロンおよびビス（ヘキシレングリコラート）ジボロンなどが知られている。
一般式［４０］の化合物は、製造法１に準じて、一般式［２］の化合物を一般式［４３］の化合物と反応させることにより製造することができる。
［製造法Ｏ］
Figure 2006098308
「式中、Ｒ１ａ、Ｒ４ｅおよびＬ１は、前記と同様の意味を示す。」
一般式［３１ｅ］の化合物は、製造法（８−１）に準じて、一般式［２２］の化合物を一般式［４２］の化合物と反応させることにより製造することができる。
上記した製造法で使用される化合物において、塩の形態を取りうる化合物は、塩として使用することもできる。それらの塩としては、たとえば、一般式［１］の化合物の塩と同様の塩が挙げられる。
上記した製造法で使用される化合物において、異性体（たとえば、光学異性体、幾何異性体および互変異性体など）が存在する場合、これらの異性体も使用することができる。また、溶媒和物、水和物および種々の形状の結晶が存在する場合、これらの溶媒和物、水和物および種々の形状の結晶も使用することができる。また、上記した製造法で使用される化合物において、保護しうる置換基、たとえば、アミノ基、ヒドロキシル基またはカルボキシル基などを有している化合物は、予めこれらの基を通常の保護基で保護しておき、反応後、自体公知の方法でこれらの保護基を脱離することもできる。
本発明化合物を医薬として用いる場合、通常、製剤化に使用される賦形剤、担体および希釈剤などの製剤補助剤を適宜混合してもよい。これらは常法にしたがって、錠剤、カプセル剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、丸剤、懸濁剤、乳剤、液剤、粉体製剤、坐剤、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、貼付剤、軟膏剤または注射剤などの形態で経口または非経口で投与することができる。また投与方法、投与量および投与回数は、患者の年齢、体重および症状に応じて適宜選択することができる。通常、成人に対しては、経口または非経口（たとえば、注射、点滴および直腸部位への投与など）投与により、１日、0.01〜1000mg/kgを１回から数回に分割して投与すればよい。
次に、本発明の代表的化合物の有用性を以下の試験例で説明する。
試験例１ ＭＭＰ−１３産生阻害試験
ヒト軟骨由来細胞株SW1353細胞6.8×103個を10％牛胎児血清含有ダルベッコ改変イーグル培地100μLに懸濁し、96ウェルプレートに播種して3日間培養した。培地を0.2％ラクトアルブミン水解物含有ダルベッコ改変イーグル培地に交換して6時間培養した後、試験化合物を添加し、その1時間後にＩＬ−１βを終濃度10ng/mLになるように添加した。刺激16時間後に上清を回収し、ELISAキット（アマシャム）を用いて培養上清中のＭＭＰ−１３産生量を求めた。試験化合物不存在下で得られる産生量を100％として、試験化合物存在下で得られる産生量から阻害率を算出した。
結果を表６に示す。
Figure 2006098308
試験例２ マウスII型コラーゲン関節炎
8週齢の雄性DBA/1Jマウス（日本チャールス・リバー）を使用した。0.01mol/L酢酸水溶液に溶解した4mg/mLウシII型コラーゲン（コラーゲン技術研修会）および結核死菌1mg/mLを含むフロイント完全アジュバント（コンドレックス）を等量加えてエマルジョンを作製し、0.1mLを尾根部に皮内注射した。21日後に同様の処置を行い、関節炎を誘発した。試験化合物を0.5％メチルセルロース水溶液に懸濁し、10mg/kgを21日後から35日後まで1日1回経口投与した。なお、対照群には、0.5％メチルセルロース水溶液を同様に投与した。関節炎の強さは変化なしを0点、1、2指関節の腫脹もしくは手根部、足根部関節のみの軽い腫脹を1点、手根部、足根部関節の明らかな腫脹または３指以上の関節の腫脹が認められるものを2点、前肢または後肢全体にわたって明らかな腫脹が認められるものを3点とし、四肢の合計の満点を12点とする関節炎スコアとして評価した。骨破壊の程度は36日後に四肢のＸ線写真を撮影し、第2〜5指節間関節、第1〜5中手指および中足指節関節、手根部、足根部、踵骨について、関節および関節近傍の骨粗鬆像の有無により0または0.5点、骨びらん像について、変化なしを0点、部分的骨破壊像を1点、完全な骨破壊像を2点で評価し、四肢で最高105点の骨破壊スコアとした。抑制率は、以下の式で求めた。
抑制率（％）＝100−（試験化合物投与群のスコア/対照群のスコア）×100
実施例３８で表される化合物は、関節炎および骨破壊抑制作用を示した。
次に、本発明を参考例および実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
溶離液における混合比は、容量比である。特に記載のない場合、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにおける担体は、富士シリシア化学株式会社、Ｂ．Ｗ．シリカゲル、ＢＷ−１２７ＺＨ；逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィーにおける担体は、株式会社ワイエムシイ、ＯＤＳ−ＡＭ１２Ｓ０５−２５２０ＷＴである。
各実施例において、各略号は、以下の意味を有する。
Ａｃ：アセチル、Ｂｏｃ：ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ｔＢｕ：ｔｅｒｔ−ブチル、Ｂｚ：ベンゾイル、Ｅｔ：エチル、Ｍｅ：メチル
DMSO-d6：重ジメチルスルホキシド
参考例１
Figure 2006098308
４−ブロモ−２−ニトロ安息香酸4.0gのアセトン40mL溶液に、室温で炭酸カリウム3.4gおよび硫酸ジメチル2.3mLを加え、50℃で1時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、水および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、1.0mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去し、白色固体のメチル＝４−ブロモ−２−ニトロベンゾアート4.1gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.97(3H,s),7.85(1H,d,J=8.3Hz),8.07(1H,dd,J=8.3,2.0Hz),8.47(1H,d,J=2.0Hz).
参考例２
Figure 2006098308
４−ブロモ−２−ニトロ安息香酸5.0gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド50mL溶液に、室温で炭酸カリウム41g、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド4.6gおよび２−ブロモ−２−メチルプロパン69mLを加え、55℃で10時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、２−ブロモ−２−メチルプロパン12mLを加え、55℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にメタノールを加え、固形物をろ取し、白色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−ニトロベンゾアート3.0gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.55(9H,s),7.63(1H,d,J=8.3Hz),7.77(1H,dd,J=8.3,1.9Hz),7.95(1H,d,J=1.9Hz).
参考例３
Figure 2006098308
メチル＝４−ブロモ−２−ニトロベンゾアート4.0gのメタノール20mLおよび酢酸20mL混液に、鉄粉2.6gを加え、3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にヘキサンを加え、固形物をろ取し、白色固体のメチル＝２−アミノ−４−ブロモベンゾアート2.0gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.89(3H,s),4.20(2H,s),7.26(1H,dd,J=8.3,2.1Hz),7.43(1H,d,J=2.1Hz),7.47(1H,d,J=8.3Hz).
参考例４
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−ニトロベンゾアート5.5gのメタノール28mLおよび酢酸28mL混液に、鉄粉3.0gを加え、1時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去し、淡黄色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−ブロモベンゾアート4.3gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.52(9H,s),6.65(1H,dd,J=8.5,2.0Hz),6.78(2H,s),6.98(1H,d,J=2.0Hz),7.55(1H,d,J=8.5Hz).
参考例５
Figure 2006098308
メチル＝２−アミノ−４−ブロモベンゾアート1.2gのトルエン12mL溶液に、室温で１−フルオロ−４−ヨードベンゼン1.5mL、炭酸セシウム3.4g、酢酸パラジウム12mgおよびｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル32mgを加え、窒素雰囲気下、12時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム12mgおよびｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル32mgを加え、窒素雰囲気下、12時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、水を加えた。有機層を分取し、1.0mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、淡黄色固体のメチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.20gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.86(3H,s),6.94(1H,dd,J=8.6,1.7Hz),7.04(1H,d,J=1.7Hz),7.24-7.35(4H,m),7.80(1H,d,J=8.6Hz),9.27(1H,s).
参考例６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−ブロモベンゾアート1.0gのトルエン15mL溶液に、室温で１−フルオロ−４−ヨードベンゼン0.85mL、炭酸セシウム3.6g、酢酸パラジウム8mgおよびｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル23mgを加え、窒素雰囲気下、6時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム8mgおよびｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル23mgを加え、窒素雰囲気下、8時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、水を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１］で精製し、淡黄色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.55gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.56(9H,s),6.93(1H,dd,J=8.6,1.6Hz),7.04(1H,d,J=1.6Hz),7.23-7.35(4H,m),7.75(1H,d,J=8.6Hz),9.34(1H,s).
参考例７
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート5.0gのエチレングリコールジメチルエーテル50mLおよび水15mL混液に、室温でビニルボロン酸ピナコールエステル2.7mL、炭酸カリウム2.3gおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）0.80gを順次加え、窒素雰囲気下、4時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、トルエンおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１］で精製し、黄色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ビニルベンゾアート3.4gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.56(9H,s),5.34(1H,d,J=11.0Hz),5.81(1H,d,J=17.7Hz),6.65(1H,dd,J=17.7,11.0,Hz),6.94-6.96(1H,m),7.06-7.07(1H,m),7.18-7.23(2H,m),7.27-7.32(2H,m),7.82(1H,d,J=8.3Hz),9.31(1H,s).
参考例８
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−ニトロベンゾアート8.8gのトルエン70mL溶液に、室温でフェニルボロン酸4.3g、炭酸水素ナトリウム6.1g、エタノール26mL、水13mLおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）1.7gを順次加え、3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、水を加えた。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にヘキサンを加え、固形物をろ取し、白色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−ニトロ−４−フェニルベンゾアート7.8gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.52(9H,s),7.47-7.56(3H,m),7.81-7.83(2H,m),7.91(1H,d,J=8.1Hz),8.11(1H,dd,J=8.1,2.0Hz),8.27(1H,d,J=2.0Hz).
参考例９
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−ニトロベンゾアート6.0gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド48mL溶液に、スチレン2.7mL、酢酸ナトリウム2.5g、テトラブチルアンモニウムブロミド3.2gおよび酢酸パラジウム0.22gを順次加え、窒素雰囲気下、90℃で3時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、スチレン0.45mLおよび酢酸パラジウム0.22gを加え、110℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１］で精製し、白色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−ニトロ−４−（（Ｅ）−２−フェニルビニル）ベンゾアート3.8gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.51(9H,s),7.33-7.45(4H,m),7.59(1H,d,J=16.6Hz),7.66(2H,d,J=7.4Hz),7.84(1H,d,J=8.1Hz),7.98(1H,dd,J=8.1,1.5Hz),8.23(1H,d,J=1.5Hz).
参考例１０
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−ニトロ−４−フェニルベンゾアート7.5gのメタノール38mLおよび酢酸38mL懸濁液に、室温で鉄粉4.2gを加え、１時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にヘキサンを加え、固形物をろ取し、白色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート3.3gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.55(9H,s),6.64-6.68(2H,broad),6.81(1H,dd,J=8.4,1.7Hz),7.03(1H,d,J=1.7Hz),7.39-7.49(3H,m),7.60(2H,d,J=7.6Hz),7.72(1H,d,J=8.4Hz).
参考例１１
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−ニトロ−４−（（Ｅ）−２−フェニルビニル）ベンゾアート3.7gのメタノール56mLおよび酢酸エチル56mL混液に、5％パラジウム−炭素0.74gを加え、水素雰囲気下、室温で2時間攪拌した。不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去し、白色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート3.4gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.58(9H,s),2.79-2.91(4H,m),5.63(2H,s),6.44(1H,s),6.47(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),7.17-7.21(3H,m),7.26-7.30(2H,m),7.72(1H,d,J=8.3Hz).
参考例１２
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート50mgのトリフルオロ酢酸1.0mL溶液を室温で16時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸エチルおよび水を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH6.4に調整した。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去し、白色固体の２−アミノ−４−フェネチル安息香酸30mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.73-2.86(4H,m),6.41(1H,d,J=8.2Hz),6.58(1H,s),7.15-7.29(5H,m),7.59(1H,d,J=8.2Hz).
参考例１３
Figure 2006098308
２−アミノ−４−フェネチル安息香酸1.7gの酢酸17mL、水17mLおよび塩酸2.1mL懸濁液に、4℃で亜硝酸ナトリウム0.58gの水3.0mL溶液を加え、同温度で15分間攪拌した。反応混合物を4℃でヨウ化カリウム2.3gの水20mL溶液に加え、室温で30分間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、5%チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル：酢酸＝６６：３３：１］で精製し、黄色固体の２−ヨード−４−フェネチル安息香酸1.5gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.88(4H,s),7.16-7.30(5H,s),7.33(1H,dd,J=8.0,1.3Hz),7.66(1H,d,J=8.0Hz),7.86(1H,d,J=1.3Hz),13.01-13.29(1H,broad).
参考例１４
Figure 2006098308
２−クロロ−４−ニトロ安息香酸30gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド150mL溶液に、室温で４−フルオロアニリン29mL、銅粉2.8g、塩化銅（I）5.3gおよびＮ−メチルモルホリン33mLを加え、110〜120℃で10時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、1.0mol/L塩酸700mLおよび酢酸エチル700mLを加えた。有機層を分取し、1.0mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、赤色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−ニトロ安息香酸9.7gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.26-7.33(2H,m),7.37-7.42(2H,m),7.50(1H,dd,J=8.6,2.3Hz),7.66(1H,d,J=2.3Hz),8.11(1H,d,J=8.6Hz),9.69(1H,s).
参考例１５
Figure 2006098308
２−（４−フルオロアニリノ）−４−ニトロ安息香酸1.0gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド15mL溶液に、室温で炭酸カリウム9.9g、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド0.82gおよび２−ブロモ−２−メチルプロパン21mLを加え、55℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、２−ブロモ−２−メチルプロパン21mLを加え、55℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、水および10％クエン酸水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝８：１］で精製し、赤色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ニトロベンゾアート1.1gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.59(9H,s),7.26-7.31(2H,m),7.38-7.41(2H,m),7.51(1H,dd,J=8.8,2.3Hz),7.66(1H,d,J=2.3Hz),8.06(1H,d,J=8.8Hz),9.44(1H,s).
参考例１６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ニトロベンゾアート1.0gのメタノール5.0mLおよび酢酸エチル5.0mL混液に、5％パラジウム−炭素0.20gを加え、水素雰囲気下、室温で6時間攪拌した。不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去し、白色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝４−アミノ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.90gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.51(9H,s),5.78-5.82(2H,broad),5.97(1H,dd,J=8.8,2.1Hz),6.19(1H,d,J=2.1Hz),7.16-7.26(4H,m),7.54(1H,d,J=8.8Hz),9.43(1H,s).
参考例１７
Figure 2006098308
３−アミノ−４−メチルベンゾフェノン0.50g、１−フルオロ−４−ヨードベンゼン0.30mLおよび１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン0.16gのトルエン5mL溶液に、室温でナトリウム＝ｔｅｒｔ−ブトキシド0.25gおよび（１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン）パラジウム（II）ジクロリド＝塩化メチレンコンプレックス0.077gを加え、窒素雰囲気下、100℃で1時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１］で精製し、茶褐色油状物の３−（４−フルオロアニリノ）−４−メチルベンゾフェノン0.59gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.33(3H,s),6.98-7.00(4H,m),7.25-7.30(2H,m),7.43-7.47(2H,m),7.53-7.56(2H,m),7.76-7.78(2H,m).
参考例１８
Figure 2006098308
３−（４−フルオロアニリノ）−４−メチルベンゾフェノン0.50gのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド5.0mL溶液に、氷冷下で60％水素化ナトリウム79mgおよびアセチルクロリド0.14mLを順次加え、室温で4時間攪拌した。反応混合物を氷冷下まで冷却した後、60％水素化ナトリウム79mgおよびアセチルクロリド0.14mLを順次加え、室温で5時間30分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、1.0mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製し、橙色油状のＮ−（５−ベンゾイル−２−メチルフェニル）−Ｎ−（４−フルオロフェニル）アセトアミド82mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.01-2.14(3H,m),2.31-2.42(3H,m),7.00-7.10(2H,m),7.24-7.28(2H,m),7.44-7.80(8H,m).
参考例１９
Figure 2006098308
フェノール0.18gのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド5.0mL溶液に、室温で炭酸カリウム0.50gおよびメチル＝４−（ブロモメチル）−２−ニトロベンゾアート0.50gを加え、同温度で10時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝６：１］で精製し、無色油状物のメチル＝２−ニトロ−４−（フェノキシメチル）ベンゾアート0.53gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.93(3H,s),5.17(2H,s),6.95-7.03(3H,m),7.30-7.34(2H,m),7.72-7.79(2H,m),7.99(1H,s).
参考例２０
Figure 2006098308
メチル＝４−（ブロモメチル）−２−ニトロベンゾアート1.0gのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド10mL溶液に、室温で炭酸カリウム1.0gおよびベンゼンチオール0.39mLを加え、同温度で7時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、不溶物をろ去し、水を加えた。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、淡黄色油状物のメチル＝２−ニトロ−４−（（フェニルチオ）メチル）ベンゾアート0.70gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.86(3H,s),4.27(2H,s),6.60-6.74(5H,m),7.15-7.19(2H,m),7.82(1H,d,J=8.3Hz).
参考例２１
Figure 2006098308
メチル＝２−ニトロ−４−（フェノキシメチル）ベンゾアート0.66gのメタノール6.6mLおよび酢酸2.0mL混液に、鉄粉0.38gを加え、3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をジエチルエーテル6.6mLに溶解し、氷冷下で塩酸0.2mLを加え、固形物をろ取し、白色固体のメチル＝２−アミノ−４−（フェノキシメチル）ベンゾアート塩酸塩0.58gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.78(3H,s),4.40-4.80(2H,broad),5.03(2H,s),6.61(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),6.86(1H,s),6.92-7.00(3H,m),7.27-7.32(2H,m),7.71(1H,d,J=8.3Hz).
参考例２２
Figure 2006098308
メチル＝２−ニトロ−４−（（フェニルチオ）メチル）ベンゾアート0.70gのメタノール7.0mLおよび酢酸2.1mL混液に、鉄粉0.39gを加え、3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をジエチルエーテル10mLに溶解し、氷冷下で、1.9mol/L塩化水素/酢酸エチル1.2mLを加え、固形物をろ取し、白色固体のメチル＝２−アミノ−４−（（フェニルチオ）メチル）ベンゾアート塩酸塩0.39gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.76(3H,s),4.13(2H,s),4.30-4.70(2H,broad),6.55(1H,dd,J=8.2,1.7Hz),6.79(1H,d,1.7Hz),7.15-7.19(1H,m),7.26-7.33(4H,m),7.62(1H,d,J=8.2Hz).
参考例２３
Figure 2006098308
１−メチル−２−ニトロ−４−フェノキシベンゼン5.7gのメタノール57mLおよび酢酸17mL混液に、鉄粉4.2gを加え、5時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をジエチルエーテル60mLに溶解し、氷冷下で塩酸2.1mLを加えた。固形物をろ取し、白色固体の２−メチル−５−フェノキシアニリン塩酸塩4.7gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.27(3H,s),6.82(1H,dd,J=8.3,2.4Hz),6.96(1H,d,J=2.4Hz),7.03(2H,d,J=7.5Hz),7.17(1H,t,J=7.5Hz),7.26(1H,d,J=8.3Hz),7.39-7.43(2H,m).
参考例２４
Figure 2006098308
２−メチル−５−フェノキシアニリン塩酸塩0.50gの塩化メチレン5.0mL溶液に、氷冷下、ピリジン0.34mLおよび無水酢酸0.24mLを加え、室温で6時間30分間攪拌した。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製し、白色固体のＮ−（２−メチル−５−フェノキシフェニル）アセトアミド0.44gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.18(3H,s),2.23(3H,s),6.74(1H,d,J=7.6Hz),6.92-6.98(1H,broad),7.00(2H,d,J=7.8Hz),7.06-7.13(2H,m),7.32(2H,t,J=7.8Hz),7.60(1H,s).
参考例２５
Figure 2006098308
Ｎ−（２−メチル−５−フェノキシフェニル）アセトアミド1.1gの２−メチル−２−プロパノール10mLおよび水20mL懸濁液に、室温で過マンガン酸カリウム1.4gおよび無水硫酸マグネシウム2.7gを加え、1時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、過マンガン酸カリウム0.72gを加え、1時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、過マンガン酸カリウム0.72gを加え、1時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、過マンガン酸カリウム0.36gを加え、1時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、エタノール5mLを加え、不溶物をろ去し、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルおよびヘキサンを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（アセトアミド）−４−フェノキシ安息香酸0.88gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.11(3H,s),6.68(1H,dd,J=8.9,2.4Hz),7.11-7.14(2H,m),7.23-7.27(1H,m),7.43-7.49(2H,m),7.99(1H,d,J=8.9Hz),8.20(1H,d,J=2.4Hz),11.29(1H,s),13.40-13.58(1H,broad).
参考例２６
Figure 2006098308
２−（アセトアミド）−４−フェノキシ安息香酸1.5gのヒドラジン一水和物5.0mL懸濁液を4時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸10mL、酢酸エチルおよび飽和塩化ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、ジイソプロピルエーテルおよびヘキサンを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−アミノ−４−フェノキシ安息香酸1.2gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.11(1H,dd,J=8.8,2.5Hz),6.20(1H,d,J=2.5Hz),7.06-7.09(2H,m),7.17-7.22(1H,m),7.40-7.45(2H,m),7.70(1H,d,J=8.8Hz).
参考例２７
Figure 2006098308
２−アミノ−４−フェノキシ安息香酸0.40gのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド5.0mL溶液に、炭酸カリウム0.29gおよび硫酸ジメチル0.20mLを加え、室温で2時間攪拌した。反応混合物に、酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、無色油状物のメチル＝２−アミノ−４−フェノキシベンゾアート0.33gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.76(3H,s),6.16(1H,dd,J=8.9,2.4Hz),6.23(1H,d,J=2.4Hz),6.76(2H,s),7.08-7.12(2H,m),7.20-7.24(1H,m),7.42-7.47(2H,m),7.70(1H,d,J=8.9Hz).
参考例２８
Figure 2006098308
２−アミノ−４−フェノキシ安息香酸2.0gの水6.0mL、酢酸10mLおよび濃硫酸0.95mL懸濁液に、4℃で亜硝酸ナトリウム0.66gの水2.0mL溶液を加え、同温度で30分間攪拌した。反応混合物を同温度でヨウ化カリウム3.2gの水30mL溶液に滴下し、室温で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル：酢酸＝８０：２０：１］で精製し、赤色固体の２−ヨード−４−フェノキシ安息香酸1.6gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：6.98(1H,dd,J=8.7,2.4Hz),7.07-7.09(2H,m),7.22-7.26(1H,m),7.40-7.45(2H,m),7.64(1H,d,J=2.4Hz),8.04(1H,d,J=8.7Hz).
参考例２９
Figure 2006098308
４−フルオロフェニルボロン酸1.4g、無水酢酸銅（II）0.35gおよびミリスチン酸0.89gのトルエン20mL懸濁液に、２，６−ルチジン0.76mLを加え、室温で5分間攪拌した。反応混合物に、メチル＝２−アミノ−４−ヨードベンゾアート1.8gを加え、室温で3時間攪拌した。反応混合物に、４−フルオロフェニルボロン酸0.45gおよび無水酢酸銅（II）0.35gを加え、室温で8時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、淡黄色固体のメチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ヨードベンゾアート0.63gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.89(3H,s),7.03-7.11(3H,m),7.17-7.20(2H,m),7.34(1H,d,J=1.7Hz),7.61(1H,d,J=8.5Hz)9.32(1H,s).
参考例３０
Figure 2006098308
メチル＝２−ヨード−４−メトキシベンゾアート2.7g、ｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル58mg、酢酸パラジウム20mgおよび炭酸セシウム6.0gのトルエン30mL懸濁液に、４−フルオロアニリン1.3mLを加え、窒素雰囲気下で5時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、白色固体のメチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−メトキシベンゾアート2.2gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.73(3H,s),3.87(3H,s),6.29(1H,dd,J=8.9,2.4Hz),6.48(1H,d,J=2.4Hz),7.02-7.08(2H,m),7.19-7.23(2H,m),7.90(1H,d,J=8.9Hz),9.47(1H,s).
参考例３１
Figure 2006098308
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−メトキシベンゾアート2.2gを1.0mol/L三臭化ホウ素/塩化メチレン24mLに加え、室温で5時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１］で精製し、紫色固体のメチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ヒドロキシベンゾアート0.60gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.87(3H,s),5.04-5.18(1H,broad),6.19(1H,dd,J=8.8,2.3Hz),6.40(1H,d,J=2.3Hz),7.02-7.08(2H,m),7.18-7.23(2H,m),7.87(1H,d,J=8.8Hz),9.46(1H,s).
参考例３２
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−ニトロベンゾアート2.0gのトルエン20mL溶液に、エタノール6.0mL、水3.0mL、３−クロロフェニルボロン酸1.2g、炭酸ナトリウム1.7gおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）0.23gを順次加え、窒素雰囲気下、3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、白色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝４−（３−クロロフェニル）−２−ニトロベンゾアート0.70gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.52(9H,s),7.53-7.59(2H,m),7.77-7.82(1H,m),7.89-7.95(2H,m),8.15(1H,dd,J=8.1,1.6Hz),8.34(1H,d,J=1.6Hz).
参考例３３
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−ニトロベンゾアート3.0gのトルエン24mL溶液に、エタノール9.0mL、水4.5mL、４−Ｎ−（メタンスルホンアミド）フェニルボロン酸2.6g、炭酸水素ナトリウム2.1gおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）0.57gを加え、窒素雰囲気下、4時間30分間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加えた。不溶物をろ去後、有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、ヘキサンおよびジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、白色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝４−（４−Ｎ−（メタンスルホンアミド）フェニル）−２−ニトロベンゾアート3.9gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.51(9H,s),3.06(3H,s),7.32-7.37(2H,m),7.79-7.84(2H,m),7.89(1H,d,J=8.2Hz),8.07(1H,dd,J=8.2,1.8Hz),8.23(1H,d,J=1.8Hz),10.02-10.08(1H,broad).
参考例３４
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−ニトロベンゾアート3.0gのトルエン24mL溶液に、エタノール9.0mL、水4.5mL、ｔｅｒｔ−ブチル＝３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニルカルボナート3.8g、炭酸水素ナトリウム2.1gおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）0.57gを順次加え、窒素雰囲気下、6時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加えた。不溶物をろ去後、有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１］で精製し、黄色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝４−（３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）オキシフェニル）−２−ニトロベンゾアート3.6gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.51(9H,s),1.52(9H,s),7.29-7.34(1H,m),7.55-7.60(1H,m),7.70-7.76(2H,m),7.91(1H,d,J=8.0Hz),8.14(1H,dd,J=8.0,1.7Hz),8.32(1H,d,J=1.7Hz).
参考例３５
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−ニトロベンゾアート3.0gのトルエン30mL溶液に、室温で、インドリン2.1mL、炭酸セシウム8.0g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル0.29g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）0.11gおよび酢酸パラジウム55mgを加え、窒素雰囲気下、3時間30分間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル0.29g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）0.11gおよび酢酸パラジウム55mgを加え、窒素雰囲気下、3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にトルエンを加え、1.0mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、黄色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝４−（インドリン−１−イル）−２−ニトロベンゾアート2.0gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.48(9H,s),3.15(2H,t,J=8.4Hz),4.04(2H,t,J=8.4Hz),6.91(1H,t,J=7.4Hz),7.17(1H,t,J=7.4Hz),7.25-7.30(1H,m),7.35(1H,d,J=8.0Hz),7.50-7.55(2H,m),7.81(1H,d,J=8.6Hz).
参考例３６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−ニトロベンゾアート0.50gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド5mL溶液に、室温で、３−ビニルアニソール0.37mL、トリエチルアミン0.47mLおよび酢酸パラジウム0.11gを加え、窒素雰囲気下、110℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、淡黄色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（３−メトキシフェニル）ビニル）−２−ニトロベンゾアート0.20gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.51(9H,s),3.81(3H,s),6.90-6.94(1H,m),7.20-7.27(2H,m),7.34(1H,t,J=7.9Hz),7.43(1H,d,J=16.6Hz),7.55(1H,d,J=16.6Hz),7.84(1H,d,J=8.0Hz),7.97(1H,d,J=7.8Hz),8.21(1H,s).
参考例３７
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−ニトロベンゾアート3.0gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド24mL溶液に、室温で、２，３−ジヒドロ−６−ビニルベンゾ［１，４］ジオキシン2.4g、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミン4.0mLおよび酢酸パラジウム0.11gを加え、窒素雰囲気下、120℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、黄色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシン−６−イル）ビニル）−２−ニトロベンゾアート1.5gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.50(9H,s),4.27(4H,s),6.90(1H,d,J=8.3Hz),7.11-7.16(1H,m),7.17-7.20(1H,m),7.23(1H,d,J=16.5Hz),7.45(1H,d,J=16.5Hz),7.81(1H,d,J=8.0Hz),7.89-7.93(1H,m),8.14(1H,s).
参考例３８
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（３−クロロフェニル）−２−ニトロベンゾアート1.1gのメタノール11mLおよび酢酸エチル11mL混液に、10％パラジウム−炭素0.33gを加え、水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、酢酸11mL、メタノール11mLおよび10％パラジウム−炭素0.33gを順次加え、水素雰囲気下、室温で2時間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去し、白色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（３−クロロフェニル）ベンゾアート0.70gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.55(9H,s),6.63-6.69(2H,broad),6.83(1H,dd,J=8.5,1.9Hz),7.06(1H,d,J=1.9Hz),7.46(1H,dt,J=7.8,1.6Hz),7.50(1H,t,J=7.8Hz),7.57(1H,dt,J=7.8,1.6Hz),7.63(1H,t,J=1.6Hz),7.73(1H,d,J=8.5Hz).
参考例３９
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（４−Ｎ−（メタンスルホンアミド）フェニル）−２−ニトロベンゾアート3.8gのメタノール19mL懸濁液に、酢酸19mLおよび鉄粉1.6gを順次加え、1時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、減圧下で溶媒を留去し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、黄色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（４−Ｎ−（メタンスルホンアミド）フェニル）ベンゾアート2.8gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.54(9H,s),3.03(3H,s),6.61-6.68(2H,broad),6.79(1H,dd,J=8.5,1.9Hz),6.99(1H,d,J=1.9Hz),7.27-7.32(2H,m),7.56-7.61(2H,m),7.70(1H,d,J=8.5Hz),9.86-9.94(1H,broad).
参考例４０
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）オキシフェニル）−２−ニトロベンゾアート3.5gのメタノール18mLおよび酢酸エチル18mL混液に、5％パラジウム−炭素0.70gを加え、水素雰囲気下、室温で3時間30分間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去し、黄色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）オキシフェニル）ベンゾアート3.2gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.51(9H,s),1.55(9H,s),6.64-6.69(2H,broad),6.82(1H,dd,J=8.4,1.8Hz),7.05(1H,d,J=1.8Hz),7.20-7.24(1H,m),7.38-7.42(1H,m),7.49-7.53(2H,m),7.73(1H,d,J=8.4Hz).
参考例４１
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（インドリン−１−イル）−２−ニトロベンゾアート1.9gのメタノール29mLおよび酢酸エチル29mL混液に、5％パラジウム−炭素0.58gを加え、水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝８：１］で精製し、淡黄色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（インドリン−１−イル）ベンゾアート1.20gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.52(9H,s),3.08(2H,t,J=8.3Hz),3.91(2H,t,J=8.3Hz),6.45(1H,dd,J=8.9,2.3Hz),6.52(1H,d,J=2.3Hz),6.56-6.63(2H,broad),6.78(1H,t,J=7.6Hz),7.08(1H,t,J=7.6Hz),7.18-7.26(2H,m),7.61(1H,d,J=8.9Hz).
参考例４２
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（３−メトキシフェニル）ビニル）−２−ニトロベンゾアート2.2gのメタノール22mLおよび酢酸エチル22mL混液に、10％パラジウム−炭素0.66gを加え、水素雰囲気下、室温で2時間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝８：１］で精製し、無色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）ベンゾアート1.6gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.52(9H,s),2.72-2.84(4H,m),3.72(3H,s),6.41(1H,dd,J=8.2,1.5Hz),6.46-6.54(2H,broad),6.56-6.59(1H,m),6.72-6.80(3H,m),7.15-7.20(1H,m),7.55(1H,d,J=8.2Hz).
参考例４３
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシン−６−イル）ビニル）−２−ニトロベンゾアート1.5gのメタノール15mLおよび酢酸エチル15mL混液に、10％パラジウム−炭素0.44gを加え、水素雰囲気下、室温で2時間30分間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、無色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（（Ｅ）−２−（２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシン−６−イル）エチル）ベンゾアート1.3gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.52(9H,s),2.68-2.72(4H,m),4.17-4.21(4H,m),6.39(1H,dd,J=8.2,1.6Hz),6.47-6.53(2H,broad),6.56(1H,d,J=1.2Hz),6.63-6.66(1H,m),6.69-6.74(2H,m),7.54(1H,d,J=8.3Hz).
参考例４４
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート1.2gのジオキサン12mL溶液に、室温で、酢酸カリウム0.97g、ビス（ピナコラート）ジボロン1.8gおよび（１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン）パラジウム（II）ジクロリド塩化メチレンコンプレックス0.14gを順次加え、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルを加え、不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１］で精製し、白色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾアート0.86gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.25(12H,s),1.56(9H,s),7.04(1H,d,J=7.9Hz),7.19-7.30(4H,m),7.34(1H,s),7.82(1H,d,J=7.9Hz),9.18(1H,s).
実施例１
Figure 2006098308
メチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート70mgのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド2.5mL溶液に、室温で３−メトキシフェニルボロン酸49mg、炭酸ナトリウム57mgおよびポリマー担持ビス（アセタート）トリフェニルホスフィンパラジウム（II）31mgを加え、90℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、1.0mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液1.0mLおよびエタノール6.0mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に0.5mol/L塩酸を加え、固形物をろ取し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−メトキシフェニル）安息香酸10mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.79(3H,s),6.96(1H,dd,J=8.1,2.4Hz),7.05(1H,dd,J=8.4,1.6Hz),7.08(1H,t,J=1.9Hz),7.12(1H,d,J=7.8Hz),7.20-7.25(3H,m),7.34-7.39(3H,m),7.97(1H,d,J=8.3Hz).
実施例２
Figure 2006098308
メチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート70mgのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド2.5mL溶液に、室温で４−フルオロフェニルボロン酸45mg、炭酸ナトリウム57mgおよびポリマー担持ビス（アセタート）トリフェニルホスフィンパラジウム（II）31mgを加え、90℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、1.0mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、1.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液1.0mLおよびエタノール3.0mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に6.0mol/L塩酸を加え、固形物をろ取し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル：酢酸＝２０：１０：１］で精製し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−フルオロフェニル）安息香酸7.8mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.03(1H,d,J=8.5Hz),7.20-7.32(5H,m),7.36-7.39(2H,m),7.60-7.64(2H,m),7.97(1H,d,J=8.5Hz),9.60-9.75(1H,broad),13.00-13.30(1H,broad).
実施例３
Figure 2006098308
実施例２と同様にして、以下の化合物を得た。
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−メトキシフェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.78(3H,s),6.85-6.90(1H,m),7.01(1H,t,J=7.6Hz),7.10(1H,d,J=8.3Hz),7.19-7.37(7H,m),7.91(1H,d,J=8.3Hz),9.52-9.63(1H,broad),12.98-13.10(1H,broad).
実施例４
Figure 2006098308
メチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート70mgのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド2.5mL溶液に、室温で４−（トリフルオロメチル）フェニルボロン酸62mg、炭酸ナトリウム57mgおよびポリマー担持ビス（アセタート）トリフェニルホスフィンパラジウム（II）31mgを加え、90℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、1.0mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液1.0mLおよびエタノール6.0mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に0.5mol/L塩酸を加えた。固形物をろ取し、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；50-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−（トリフルオロメチル）フェニル）安息香酸18mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.10(1H,dd,J=8.3,1.8Hz),7.20-7.24(2H,m),7.29(1H,d,J=1.8Hz),7.37-7.40(2H,m),7.80(4H,s),8.02(1H,d,J=8.3Hz),9.64(1H,s).
実施例５〜８
実施例４と同様にして、表７に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
４−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.92(1H,dt,J=8.6,1.6Hz),7.16-7.23(4H,m),7.32-7.36(3H,m),7.56(1H,td,J=8.6,6.7Hz),7.98(1H,d,J=8.2Hz),9.60(1H,s),13.06-13.29(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−（トリフルオロメチル）フェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.12(1H,dd,J=8.2,1.8Hz),7.20-7.24(2H,m),7.30(1H,d,J=1.8Hz),7.37-7.41(2H,m),7.69(1H,t,J=7.6Hz),7.76(1H,d,J=7.7Hz),7.87-7.88(2H,m),8.01(1H,d,J=8.2Hz),9.64(1H,s).
４−（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.05(2H,s),6.97-7.00(2H,m),7.06(1H,dd,J=8.2,1.9Hz),7.15(1H,d,J=1.8Hz),7.19(1H,d,J=1.7Hz),7.20-7.24(2H,m),7.34-7.38(2H,m),7.93(1H,d,J=8.2Hz),9.60(1H,s).
４−（ベンゾフラン−２−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.25-7.30(3H,m),7.32-7.35(2H,m),7.37-7.40(2H,m),7.48(1H,d,J=0.9Hz),7.53(1H,d,J=1.7Hz),7.61(1H,dd,J=8.2,0.7Hz),7.66-7.67(1H,m),8.00(1H,d,J=8.2Hz),9.67(1H,s).
実施例９
Figure 2006098308
メチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート70mgのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド3.0mL溶液に、室温で４−メトキシフェニルボロン酸66mg、炭酸ナトリウム69mgおよびポリマー担持ビス（アセタート）トリフェニルホスフィンパラジウム（II）31mgを加え、加圧下で160℃、5分間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、加圧下で180℃、5分間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、加圧下で200℃、5分間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、加圧下で220℃、5分間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび0.5mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、1.0mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液1.0mLおよびエタノール4.0mLを加え、室温で1時間30分間攪拌した。反応混合物に0.7mol/L塩酸および酢酸エチルを加え、有機層を分取し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；50-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−メトキシフェニル）安息香酸19mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.78(3H,s),6.98-7.03(3H,m),7.19-7.25(3H,m),7.34-7.38(2H,m),7.50-7.55(2H,m),7.94(1H,d,J=8.3Hz),9.62(1H,s),12.86-13.25(1H,broad).
実施例１０
Figure 2006098308
実施例９と同様にして、以下の化合物を得た。
４−（２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシン−６−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：4.26(4H,s),6.92(1H,dd,J=7.3,1.5Hz),6.98(1H,dd,J=8.4,1.8Hz),7.03-7.05(2H,m),7.17(1H,d,J=1.8Hz),7.21-7.26(2H,m),7.33-7.38(2H,m),7.92(1H,d,J=8.4Hz),9.60(1H,s),12.93-13.18(1H,broad).
実施例１１
Figure 2006098308
メチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート70mgのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド2.5mL溶液に、室温で４−（メタンスルホニル）フェニルボロン酸86mg、炭酸ナトリウム69mgおよびポリマー担持ビス（アセタート）トリフェニルホスフィンパラジウム（II）31mgを加え、90℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、1.0mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液1.0mLおよびエタノール6.0mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に0.5mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；40-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−（メタンスルホニル）フェニル）安息香酸28mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.24(3H,s),7.11(1H,d,J=8.1Hz),7.22(2H,t,J=8.8Hz),7.31(1H,s),7.37-7.40(2H,m),7.84(2H,d,J=8.3Hz),7.97-8.03(3H,m),9.66(1H,s),13.11-13.38(1H,broad).
実施例１２、１３
実施例１１と同様にして、表８に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.02(3H,s),7.02(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),7.16-7.28(5H,m),7.34-7.38(2H,m),7.56(2H,d,J=8.8Hz),7.95(1H,d,J=8.3Hz),9.91(1H,s).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（１Ｈ−インドール−５−イル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.48(1H,s),7.09(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.20-7.26(2H,m),7.29-7.31(2H,m),7.36-7.40(3H,m),7.45(1H,d,J=8.5Hz),7.76(1H,s),7.96(1H,d,J=8.3Hz),9.62(1H,s),11.20(1H,s),12.87-13.10(1H,broad).
実施例１４
Figure 2006098308
メチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート70mgのトルエン2.0mL、エタノール0.6mLおよび水0.4mL混液に、室温でチオフェン−２−ボロン酸42mg、炭酸ナトリウム64mgおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）13mgを加え、加圧下で160℃、5分間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび0.5mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、1.0mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン］で精製し、メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（チオフェン−２−イル）ベンゾアートを得た。
得られたメチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（チオフェン−２−イル）ベンゾアートのエタノール7.0mL溶液に、2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液1.0mLを加え、室温で1時間30分間攪拌した。反応混合物に0.5mol/L塩酸および酢酸エチルを加え、有機層を分取し、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；50-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（チオフェン−２−イル）安息香酸3.5mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.08(1H,dd,J=8.3,1.4Hz),7.13(1H,dd,J=5.0,3.6Hz),7.22-7.27(3H,m),7.34-7.37(2H,m),7.49(1H,d,J=3.6Hz),7.60(1H,d,J=5.0Hz),7.92(1H,d,J=8.3Hz),9.57-9.69(1H,broad).
実施例１５
Figure 2006098308
実施例１４と同様にして、以下の化合物を得た。
４−（４−アセチルフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.60(3H,s),7.11(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),7.21-7.25(2H,m),7.31(1H,d,J=1.5Hz),7.37-7.40(2H,m),7.72(2H,d,J=8.3Hz),8.00-8.03(3H,m),9.59-9.74(1H,broad).
実施例１６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート80mgのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド2.5mL溶液に、３−シアノフェニルボロン酸48mg、炭酸ナトリウム58mgおよびポリマー担持ジ（アセタート）ジシクロヘキシルフェニルホスフィンパラジウム（II）7mgを加え、110℃で19時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、ポリマー担持ジ（アセタート）ジシクロヘキシルフェニルホスフィンパラジウム（II）7mgを加え、110℃で30時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（３−シアノフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（３−シアノフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にメタノールを加え、固形物をろ取し、淡黄色固体の４−（３−シアノフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸13mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.11(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.18-7.26(2H,m),7.31(1H,d,J=1.7Hz),7.36-7.42(2H,m),7.66(1H,dd,J=7.8,7.7Hz),7.86(1H,d,J=7.7Hz),7.91(1H,d,J=7.8Hz),8.00(1H,d,J=8.3Hz),8.09(1H,s),9.66(1H,s),13.10-13.35(1H,broad).
実施例１７
Figure 2006098308
実施例１６と同様にして、以下の化合物を得た。
４−（４−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.29(9H,s),7.03(1H,dd,J=8.3,1.2Hz),7.19-7.26(3H,m),7.34-7.40(2H,m),7.44-7.52(4H,m),7.96(1H,d,J=8.3Hz),9.61(1H,s),13.07(1H,s).
実施例１８
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート80mgのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド2.5mL溶液に、３−クロロフェニルボロン酸51mg、炭酸ナトリウム58mgおよびポリマー担持ジ（アセタート）ジシクロヘキシルフェニルホスフィンパラジウム（II）7mgを加え、110℃で19時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、ポリマー担持ジ（アセタート）ジシクロヘキシルフェニルホスフィンパラジウム（II）7mgを加え、110℃で30時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（３−クロロフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（３−クロロフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；70-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、淡黄色固体の４−（３−クロロフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸19mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.07(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.19-7.28(2H,m),7.25(1H,d,J=1.7Hz),7.34-7.42(2H,m),7.43-7.51(2H,m),7.53(1H,dt,J=6.7,1.9Hz),7.63(1H,s),7.98(1H,d,J=8.3Hz),9.64(1H,s),13.05-13.30(1H,broad).
実施例１９〜２２
実施例１８と同様にして、表９に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−メチルフェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.21(3H,s),6.73(1H,dd,J=8.1,1.6Hz),6.88(1H,d,J=1.6Hz),7.14-7.35(8H,m),7.94(1H,d,J=8.1Hz),9.59(1H,s),13.00-13.15(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−メチルフェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.33(3H,s),7.03(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.19-7.29(5H,m),7.33-7.40(2H,m),7.46(2H,d,J=8.3Hz),7.96(1H,d,J=8.3Hz),9.61(1H,s),12.90-13.25(1H,broad).
４−（４−シアノフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.11(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),7.18-7.27(2H,m),7.29(1H,d,J=1.6Hz),7.34-7.42(2H,m),7.78(2H,d,J=8.3Hz),7.91(2H,d,J=8.3Hz),8.01(1H,d,J=8.3Hz),9.65(1H,s),13.00-13.50(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−ヒドロキシフェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.78(1H,dd,J=8.3,2.3Hz),6.91(1H,t,J=1.9Hz),6.95-7.02(2H,m),7.18-7.28(4H,m),7.32-7.40(2H,m),7.95(1H,d,J=8.3Hz),9.56(1H,s),9.59(1H,s),12.95-13.20(1H,broad).
実施例２３
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.10gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド2.5mL溶液に、２−メトキシ−５−ピリジンボロン酸63mg、炭酸ナトリウム72mgおよびポリマー担持ジ（アセタート）ジシクロヘキシルフェニルホスフィンパラジウム（II）8mgを加え、110℃で15時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、２−メトキシ−５−ピリジンボロン酸21mgおよびポリマー担持ジ（アセタート）ジシクロヘキシルフェニルホスフィンパラジウム（II）8mgを加え、110℃で36時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−メトキシピリジン−５−イル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−メトキシピリジン−５−イル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；55-90％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−メトキシピリジン−５−イル）安息香酸トリフルオロ酢酸塩を得た。
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−メトキシピリジン−５−イル）安息香酸トリフルオロ酢酸塩に、酢酸エチルおよび水を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH6.0に調整した。有機層を分取し，水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後，無水硫酸マグネシウムで乾燥させ，減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にヘキサンを加え、固形物をろ取し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−メトキシピリジン−５−イル）安息香酸15mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.88(3H,s),6.89(1H,d,J=8.7Hz),7.05(1H,dd,J=8.3,1.0Hz),7.18-7.26(3H,m),7.34-7.41(2H,m),7.92(1H,dd,J=8.7,2.5Hz),7.97(1H,d,J=8.3Hz),8.41(1H,d,J=2.5Hz),9.66(1H,s),12.90-13.30(1H,broad).
実施例２４
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.10gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド2.5mL溶液に、３−（アセトアミド）フェニルボロン酸98mg、炭酸ナトリウム72mgおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）3.2mgを加え、110℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（３−（アセトアミド）フェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（３−（アセトアミド）フェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にメタノールを加え、固形物をろ取し、淡黄色固体の４−（３−（アセトアミド）フェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸32mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.05(3H,s),6.99(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.19-7.28(4H,m),7.32-7.41(3H,m),7.61(1H,d,J=8.0Hz),7.77(1H,s),7.98(1H,d,J=8.3Hz),9.62(1H,s),10.02(1H,s),12.95-13.30(1H,broad).
実施例２５
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.10gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド2.5mL溶液に、４−ヒドロキシフェニルボロン酸75mg、炭酸ナトリウム72mgおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）3.2mgを加え、110℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−ヒドロキシフェニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−ヒドロキシフェニル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；55-90％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸14mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.82(2H,d,J=8.3Hz),6.98(1H,dd,J=8.3,1.2Hz),7.18-7.27(3H,m),7.32-7.38(2H,m),7.41(2H,d,J=8.3Hz),7.92(1H,d,J=8.3Hz),9.60(1H,s),9.68(1H,s),12.85-13.10(1H,broad).
実施例２６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.20gのトルエン4.0mL、エタノール1.2mLおよび水0.6mL混液に、４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）イソキノリン0.17g、炭酸水素ナトリウム0.12gおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）35mgを加え、窒素雰囲気下、4時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）35mgを加え、窒素雰囲気下、4時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、水を加えた。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製し、淡赤色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（イソキノリン−４−イル）ベンゾアート0.11gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.61(9H,s),6.96(1H,dd,J=8.1,1.2Hz),7.11(1H,d,J=1.2Hz),7.17(2H,t,J=8.8Hz),7.36-7.40(2H,m),7.74(1H,t,J=7.5Hz),7.82(1H,t,J=7.5Hz),7.88(1H,d,J=8.0Hz),8.02(1H,d,J=8.0Hz),8.21(1H,d,J=8.3Hz),8.43(1H,s),9.34(1H,s),9.42(1H,s).
実施例２７
Figure 2006098308
実施例２６と同様にして、以下の化合物を得た。
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（ベンゾチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.63(9H,s),7.05(1H,dd,J=8.4,1.8Hz),7.07-7.13(2H,m),7.24-7.37(4H,m),7.40(1H,d,J=1.8Hz),7.50(1H,s),7.73-7.81(2H,m),7.95(1H,d,J=8.4Hz),9.54(1H,s).
実施例２８
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（イソキノリン−４−イル）ベンゾアート110mgのトリフルオロ酢酸3.0mL溶液を室温で1時間攪拌した。反応混合物に、水および酢酸エチルを加え、1.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液でpH6.0に調整した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にヘキサンおよびジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、淡緑色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（イソキノリン−４−イル）安息香酸50mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.95(1H,dd,J=8.0,1.5Hz),7.11(1H,d,J=1.5Hz),7.17(2H,t,J=8.7Hz),7.37-7.40(2H,m),7.74(1H,t,J=7.4Hz),7.83(1H,t,J=7.4Hz),7.90(1H,d,J=8.6Hz),8.07(1H,d,J=8.3Hz),8.22(1H,d,J=7.6Hz),8.44(1H,s),9.35(1H,s),9.67(1H,s),13.20-13.26(1H,broad).
実施例２９
Figure 2006098308
実施例２８と同様にして、以下の化合物を得た。
４−（ベンゾチオフェン−２−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.22(1H,d,J=8.3Hz),7.24-7.32(2H,m),7.33-7.44(5H,m),7.84-7.90(2H,m),7.95-8.02(2H,m),9.64(1H,s),13.05-13.35(1H,broad).
実施例３０
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.20gのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド1mL溶液に、酢酸カリウム0.16g、テトラブチルアンモニウムクロリド0.15g、シクロペンテン0.24mL、酢酸パラジウム3.1mgおよびトリフェニルホスフィン3.6mgを加え、窒素雰囲気下、室温で17時間攪拌した
。反応混合物に酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：トルエン＝５：１］で精製し、黄色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝４−（２−シクロペンテン−１−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート73mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.59(9H,s),1.61-1.72(1H,m),2.28-2.48(3H,m),3.70-3.80(1H,m),5.66-5.70(1H,m),5.88-5.92(1H,m),6.54(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),6.92(1H,d,J=1.6Hz),6.99-7.06(2H,m),7.16-7.22(2H,m),7.83(1H,d,J=8.3Hz),9.44(1H,s).
実施例３１
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（２−シクロペンテン−１−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート27mgに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にメタノールを加え、固形物をろ取し、白色固体の４−（２−シクロペンテン−１−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸22mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.52-1.65(1H,m),2.24-2.44(3H,m),3.73-3.83(1H,m),5.66-5.76(1H,m),5.88-5.96(1H,m),6.58(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),6.90(1H,d,J=1.5Hz),7.16-7.31(4H,m),7.82(1H,d,J=8.3Hz),9.55(1H,s),12.75-13.05(1H,broad).
実施例３２
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（２−シクロペンテン−１−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート45mgのメタノール2.0mL溶液に、5％パラジウム−炭素9mgを加え、水素雰囲気下、室温で6時間攪拌した。不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にメタノールを加え、固形物をろ取し、白色固体の４−シクロペンチル−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸24mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.38-1.52(2H,m),1.54-1.76(4H,m),1.89-2.00(2H,m),2.82-2.93(1H,m),6.67(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),6.94(1H,d,J=1.5Hz),7.16-7.32(4H,m),7.81(1H,d,J=8.3Hz),9.53(1H,s),12.87(1H,s).
実施例３３
Figure 2006098308
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ヒドロキシベンゾアート0.30gのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド3.0mL溶液に、室温で炭酸カリウム0.16gおよびシクロヘキシルブロミド0.42mLを加え、80℃で8時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝８：１］で精製し、無色油状物のメチル＝４−（シクロヘキシルオキシ）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート40mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.22-1.38(3H,m),1.41-1.64(3H,m),1.70-1.82(2H,m),1.86-1.99(2H,m),3.86(3H,s),4.15-4.20(1H,m),6.27(1H,dd,J=8.9,2.4Hz),6.48(1H,d,J=2.4Hz),7.02-7.07(2H,m),7.18-7.22(2H,m),7.88(1H,d,J=8.9Hz),9.44(1H,s).
実施例３４
Figure 2006098308
メチル＝４−（シクロヘキシルオキシ）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート40mgの２−プロパノール2.0mL懸濁液に、室温で10％水酸化ナトリウム水溶液0.25mLを加え、5時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルおよびヘキサンを加え、固形物をろ取し、白色固体の４−（シクロヘキシルオキシ）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸8mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.17-1.54(6H,m),1.62-1.71(2H,m),1.83-1.91(2H,m),4.25-4.29(1H,m),6.37(1H,dd,J=8.9,2.3Hz),6.40(1H,d,J=2.3Hz),7.18-7.25(2H,m),7.26-7.30(2H,m),7.81(1H,d,J=8.9Hz),9.57-9.66(1H,broad).
実施例３５
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート0.50gのトルエン7.5mL溶液に、室温で１−フルオロ−４−ヨードベンゼン0.22mL、炭酸セシウム1.3g、酢酸パラジウム4.3mgおよびｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル12mgを加え、4時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム4.3mgおよびｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル12mgを加え、13時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、水および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、褐色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−フェニルベンゾアート0.44gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.63(9H,s),6.93(1H,dd,J=8.3,1.9Hz),7.03-7.07(2H,m),7.24-7.28(3H,m),7.32-7.43(3H,m),7.48-7.52(2H,m),7.97(1H,d,J=8.3Hz),9.52(1H,s).
実施例３６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート1.0gのトルエン10mL溶液に、室温で１−フルオロ−４−ヨードベンゼン0.98mL、炭酸セシウム2.2g、酢酸パラジウム8mgおよびｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル21mgを加え、窒素雰囲気下、6時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム8mgおよびｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル21mgを加え、窒素雰囲気下、10時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、水を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１］で精製し、淡黄色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−フェネチルベンゾアート0.80gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.55(9H,s),2.78-2.84(4H,m),6.67(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),6.77(1H,d,J=1.5Hz),7.04-7.22(7H,m),7.25-7.29(2H,m),7.75(1H,d,J=8.3Hz),9.25(1H,s).
実施例３７
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−フェニルベンゾアート0.44gのトリフルオロ酢酸9.0mL溶液を室温で1時間攪拌した。反応混合物の溶媒を減圧下で留去し、酢酸エチルおよび水を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH5.0に調整した。有機層を分取し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−フェニル安息香酸0.11gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.05(1H,dd,J=8.1,1.8Hz),7.20-7.25(2H,m),7.26(1H,d,J=1.8Hz),7.36-7.47(5H,m),7.56-7.58(2H,m),7.98(1H,d,J=8.1Hz),9.63(1H,s),13.08-13.14(1H,broad).
実施例３８
Figure 2006098308
実施例３７と同様にして、以下の化合物を得た。
２−（４−フルオロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.77-2.86(4H,m),6.67(1H,dd,J=8.3,1.3Hz),6.79(1H,d,J=1.3Hz),7.06-7.22(7H,m),7.25-7.29(2H,m),7.80(1H,d,J=8.3Hz),9.51(1H,s),12.88-12.93(1H,broad).
実施例３９
Figure 2006098308
Ｎ−（５−ベンゾイル−２−メチルフェニル）−Ｎ−（４−フルオロフェニル）アセトアミド0.52gのピリジン5.0mLおよび水5.0mL混液に、室温で過マンガン酸カリウム0.24gを加え、30分間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、過マンガン酸カリウム0.24gを加え、30分間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、過マンガン酸カリウム0.24gを加え、30分間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、さらに過マンガン酸カリウム0.24gを加え、30分間加熱還流した。反応混合物を冷却した後、酢酸エチルを加え、6.0mol/L塩酸でpH2.3に調整し、不溶物をろ去した。有機層を分取し、1.0mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１：２］で精製し、白色固体の４−ベンゾイル−２−（Ｎ−（４−フルオロフェニル）アセトアミド）安息香酸0.39gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.92(3H,s),7.15-7.19(1H,m),7.31(2H,t,J=8.4Hz),7.47-7.82(8H,m),7.93(1H,t,J=8.8Hz),13.33-13.39(1H,broad).
実施例４０
Figure 2006098308
４−ベンゾイル−２−（Ｎ−（４−フルオロフェニル）アセトアミド）安息香酸0.39gのジオキサン2.0mL溶液に、6.0mol/L塩酸2.0mLを加え、2時間30分間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、6.0mol/L塩酸1.0mLを加え、4時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、減圧下で溶媒を留去し、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；クロロホルム：メタノール：酢酸＝２０：１：１］で精製し、黄色固体の４−ベンゾイル−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸0.27gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.06(1H,d,J=8.1Hz),7.18-7.22(2H,m),7.30(1H,s),7.34-7.37(2H,m),7.56(2H,t,J=7.6Hz),7.67(1H,t,J=7.6Hz),7.75(2H,d,J=7.6Hz),8.04(1H,d,J=8.1Hz),9.56(1H,s),13.42-13.52(1H,broad).
実施例４１
Figure 2006098308
４−ベンゾイル−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸0.13gのメタノール1.3mLおよび酢酸エチル1.3mL混液に、5％パラジウム−炭素26mgを加え、水素雰囲気下、室温で6時間攪拌した。不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にヘキサンおよびジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、白色固体の４−ベンジル−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸85mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.86(2H,s),6.60(1H,d,J=8.1Hz),6.95(1H,s),7.14-7.24(7H,m),7.28(2H,t,J=7.5Hz),7.80(1H,d,J=8.1Hz).
実施例４２
Figure 2006098308
２−ヨード−４−フェノキシ安息香酸45mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド0.9mL溶液に、４−クロロアニリン27mg、銅粉5mgおよびＮ−メチルモルホリン0.036mLを加え、加圧下、180℃で15分間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；65-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、白色固体の２−（４−クロロアニリノ）−４−フェノキシ安息香酸9mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.37(1H,dd,J=8.9,2.4Hz),6.64(1H,d,J=2.4Hz),7.12-7.14(2H,m),7.20-7.25(3H,m),7.32-7.36(2H,m),7.41-7.46(2H,m),7.91(1H,d,J=8.9Hz),9.77(1H,s),12.84-13.18(1H,broad).
実施例４３〜４７
実施例４２と同様にして、表１０に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−フェノキシ安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.00(2H,s),6.25(1H,dd,J=8.8,2.4Hz),6.45(1H,d,J=2.4Hz),6.67(1H,dd,J=8.3,2.2Hz),6.84(1H,d,J=2.2Hz),6.86(1H,d,J=8.3Hz),7.08-7.10(2H,m),7.19(1H,t,J=7.4Hz),7.38-7.43(2H,m),7.86(1H,d,J=8.8Hz),9.49-9.67(1H,broad).
２−（４−イソプロピルアニリノ）−４−フェノキシ安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.18(6H,d,J=6.8Hz),2.79-2.90(1H,m),6.29(1H,dd,J=8.8,2.3Hz),6.58(1H,d,J=2.3Hz),7.09-7.13(4H,m),7.17-7.21(3H,m),7.39-7.44(2H,m),7.89(1H,d,J=8.8Hz),9.71(1H,s),12.75-13.03(1H,broad).
２−（２，４−ジメトキシアニリノ）−４−フェノキシ安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.74(3H,s),3.75(3H,s),6.23(1H,dd,J=8.8,2.3Hz),6.26(1H,d,J=2.3Hz),6.47(1H,dd,J=8.7,2.7Hz),6.63(1H,d,J=2.7Hz),7.06(2H,d,J=7.8Hz),7.14(1H,d,J=8.8Hz),7.18(1H,t,J=7.4Hz),7.38-7.42(2H,m),7.85(1H,d,J=8.7Hz),9.37(1H,s).
２−アニリノ−４−フェノキシ安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.34(1H,dd,J=8.9,2.3Hz),6.64(1H,d,J=2.3Hz),7.05(1H,t,J=7.5Hz),7.11-7.13(2H,m),7.18-7.22(3H,m),7.31(2H,t,J=7.7Hz),7.42(2H,t,J=7.8Hz),7.91(1H,d,J=8.9Hz),9.78(1H,s),12.82-13.07(1H,broad).
２−（４−メトキシ−２−メチルアニリノ）−４−フェノキシ安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.13(3H,s),3.73(3H,s),6.03(1H,d,J=2.3Hz),6.19(1H,dd,J=8.8,2.3Hz),6.75(1H,dd,J=8.6,2.8Hz),6.87(1H,d,J=2.8Hz),7.04(2H,d,J=7.7Hz),7.12(1H,d,J=8.6Hz),7.17(1H,t,J=7.7Hz),7.38(2H,t,J=7.7Hz),7.86(1H,d,J=8.8Hz),9.39(1H,s),12.63-12.95(1H,broad).
実施例４８
Figure 2006098308
２−ヨード−４−フェノキシ安息香酸40mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド1.0mL溶液に、シクロヘキシルアミン0.027mL、ヨウ化銅（I）3mg、銅粉3mgおよびＮ−メチルモルホリン0.040mLを加え、加圧下、180℃で15分間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、10%クエン酸水溶液および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル：酢酸＝２０：１０：１］で精製し、白色固体の２−（シクロヘキシルアミノ）−４−フェノキシ安息香酸5mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.14-1.38(5H,m),1.48-1.57(1H,m),1.59-1.67(2H,m),1.81-1.91(2H,m),3.20-3.40(1H,broad),6.04(1H,dd,J=9.0,2.0Hz),6.25(1H,d,J=2.0Hz),7.09(2H,d,J=7.7Hz),7.21(1H,t,J=7.7Hz),7.43(2H,t,J=7.7Hz),7.76(1H,d,J=9.0Hz),7.95-8.06(1H,broad),12.35-12.49(1H,broad).
実施例４９
Figure 2006098308
実施例４８と同様にして以下の化合物を得た。
２−（４−フルオロベンジルアミノ）−４−フェノキシ安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：4.34(2H,s),6.09-6.12(2H,m),6.98(2H,d,J=8.0Hz),7.11-7.28(5H,m),7.38(2H,t,J=7.7Hz),7.79(1H,d,J=8.6Hz),8.38-8.48(1H,broad),12.48-12.60(1H,broad).
実施例５０
Figure 2006098308
２−ヨード−４−フェノキシ安息香酸0.88gのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド8.8mL溶液に、キノリン−８−アミン0.75g、Ｎ−メチルモルホリン0.85mL、ヨウ化銅（I）0.15gおよび銅粉49mgを加え、90℃で6時間30分間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加え、10％クエン酸水溶液でpH6.5に調整し、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製することにより、淡黄色固体の４−フェノキシ−２−（キノリン−８−イルアミノ）安息香酸0.15gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.49(1H,dd,J=8.8,2.2Hz),7.16-7.20(3H,m),7.23(1H,t,J=7.3Hz),7.42-7.51(4H,m),7.59-7.63(2H,m),8.00(1H,d,J=8.8Hz),8.35(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),8.89(1H,dd,J=4.2,1.7Hz),11.07(1H,s),12.89-12.96(1H,broad).
実施例５１
Figure 2006098308
２−（アセトアミド）−４−フェノキシ安息香酸0.10gのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド2.0mL溶液に、室温で60%水素化ナトリウム30mgを加え、同温度で30分間攪拌した。反応混合物に、室温でベンジルブロミド0.092mLを加え、同温度で2時間30分間攪拌した。反応混合物に、室温で60%水素化ナトリウム15mgを加え、同温度で30分間攪拌した。反応混合物に、室温でベンジルブロミド0.022mLを加え、同温度で1時間30分間攪拌した。反応混合物に、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル：酢酸＝４０：１０：１］で精製し、無色油状物の２−（Ｎ−ベンジルアセトアミド）−４−フェノキシ安息香酸0.10gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.72(3H,s),3.93(1H,d,J=14.8Hz),5.42(1H,d,J=14.8Hz),6.42(1H,d,J=2.5Hz),6.90(2H,d,J=8.6Hz),7.03(1H,dd,J=8.6,2.5Hz),7.11-7.14(2H,m),7.18-7.25(4H,m),7.38(2H,t,J=7.7Hz),7.98(1H,d,J=8.6Hz).
実施例５２
Figure 2006098308
２−（Ｎ−ベンジルアセトアミド）−４−フェノキシ安息香酸0.10gのヒドラジン一水和物2.0mL懸濁液を3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸5.0mLを加え、酢酸エチルおよび飽和塩化ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル：酢酸＝８０：２０：１］で精製し、白色固体の２−（ベンジルアミノ）−４−フェノキシ安息香酸20mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：4.35(2H,s),6.09(1H,dd,J=8.8,2.4Hz),6.16(1H,d,J=2.4Hz),6.98-7.00(2H,m),7.17-7.27(4H,m),7.30-7.40(4H,m),7.79(1H,d,J=8.8Hz),8.36-8.49(1H,broad),12.32-12.70(1H,broad).
実施例５３
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.20gのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド2.0mL溶液に、室温で炭酸カリウム0.093gおよびベンジルブロミド0.080mLを加え、同温度で24時間攪拌した。反応混合物に、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１］で精製し、無色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（ベンジルアミノ）−４−フェネチルベンゾアート0.16gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.56(9H,s),2.76-2.85(4H,m),4.38(2H,d,J=5.4Hz),6.39-6.42(2H,m),7.11-7.34(10H,m),7.78(1H,d,J=8.0Hz),8.10-8.17(1H,broad).
実施例５４，５５
実施例５３と同様にして、表１１に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロベンジルアミノ）−４−フェネチルベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.56(9H,s),2.78-2.85(4H,m),4.34(2H,s),6.34(1H,d,J=1.4Hz),6.43(1H,dd,J=8.1,1.4Hz),6.98-7.05(2H,m),7.11-7.13(2H,m),7.16-7.20(2H,m),7.24-7.31(3H,m),7.79(1H,d,J=8.1Hz),7.98-8.26(1H,broad).
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（シンナミルアミノ）−４−フェネチルベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.57(9H,s),2.83-2.92(4H,m),3.97(2H,s),6.29(1H,dt,J=16.0,5.7Hz),6.44(1H,d,J=8.2Hz),6.47(1H,s),6.60(1H,d,J=16.0Hz),7.15-7.38(10H,m),7.79(1H,d,J=8.2Hz),7.93(1H,s).
実施例５６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（ベンジルアミノ）−４−フェネチルベンゾアート0.16gにトリフルオロ酢酸2.0mLを加え、室温で4時間攪拌し、減圧下で溶媒を留去した。トルエンを加え、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルおよびヘキサンを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（ベンジルアミノ）−４−フェネチル安息香酸0.11gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.74-2.81(4H,m),4.41(2H,s),6.44(1H,d,J=8.1Hz),6.57(1H,s),7.14-7.18(3H,m),7.23-7.28(3H,m),7.34-7.36(4H,m),7.69(1H,d,J=8.1Hz).
実施例５７，５８
実施例５６と同様にして、表１２に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（４−フルオロベンジルアミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.73-2.82(4H,m),4.40(2H,s),6.44(1H,dd,J=8.2,1.2Hz),6.54(1H,s),7.13-7.19(5H,m),7.22-7.26(2H,m),7.36-7.39(2H,m),7.68(1H,d,J=8.2Hz).
２−（シンナミルアミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.80-2.87(4H,m),4.00(2H,d,J=5.5Hz),6.38(1H,dt,J=15.9,5.5Hz),6.46(1H,d,J=8.0Hz),6.59-6.63(2H,m),7.13-7.27(6H,m),7.33(2H,t,J=7.6Hz),7.43(2H,d,J=7.6Hz),7.69(1H,d,J=8.0Hz).
実施例５９
Figure 2006098308
メチル＝２−アミノ−４−フェノキシベンゾアート0.34gのジオキサン5.0mL溶液に、室温で１−フルオロ−４−ヨードベンゼン0.18mL、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン93mg、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン＝パラジウム（II）ジクロリド＝塩化メチレンコンプレックス46mgおよびナトリウム＝ｔｅｒｔ−ブトキシド0.15gを加え、窒素雰囲気下、3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、10%クエン酸水溶液および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１］で精製し、無色油状物のメチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−フェノキシベンゾアート0.036gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.88(3H,s),6.26(1H,dd,J=8.9,2.3Hz),6.62(1H,d,J=2.3Hz),6.97-7.04(4H,m),7.12-7.17(3H,m),7.31-7.38(2H,m),7.90(1H,d,J=8.9Hz),9.49(1H,s).
実施例６０
Figure 2006098308
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−フェノキシベンゾアート36mgのエタノール3.0mL懸濁液に、室温で10%水酸化ナトリウム1.0mLを加え、60℃で1時間30分間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、10%水酸化ナトリウム水溶液1.0mLを加え、30分間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、10%クエン酸水溶液および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルおよびヘキサンを加え、不溶物をろ去した。ろ液の溶媒を減圧下で留去し、残留物にヘキサンを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−フェノキシ安息香酸10mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.31(1H,dd,J=8.9,2.3Hz),6.49(1H,d,J=2.3Hz),7.09-7.27(7H,m),7.39-7.44(2H,m),7.89(1H,d,J=8.9Hz),9.66(1H,s),12.79-13.03(1H,broad).
実施例６１
Figure 2006098308
２−ヨード−４−フェノキシ安息香酸1.5gのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド15mL溶液に、２，４−ジフルオロアニリン0.67mL、銅粉0.084gおよびＮ−メチルモルホリン1.2mLを加え、100℃で5時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製し、白色固体の２−（２，４−ジフルオロアニリノ）−４−フェノキシ安息香酸0.60gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.29-6.30(1H,m),6.33(1H,dd,J=8.7,2.2Hz),7.04-7.10(3H,m),7.20(1H,t,J=7.4Hz),7.33-7.50(4H,m),7.90(1H,d,J=8.7Hz),9.59(1H,s),12.85-13.19(1H,broad).
実施例６２
Figure 2006098308
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ヨードベンゾアート0.20g、ｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル10mg、酢酸パラジウム4mgおよび炭酸セシウム0.35gのトルエン2.0mL懸濁液に、アニリン0.074mLを加え、窒素雰囲気下、3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却し、ｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル10mgおよび酢酸パラジウム4mgを加え、窒素雰囲気下、3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却し、不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、淡黄色固体のメチル＝４−アニリノ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.13gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.78(3H,s),6.42(1H,dd,J=8.9,2.2Hz),6.63(1H,d,J=2.2Hz),6.95(1H,t,J=7.4Hz),7.10(2H,d,J=7.6Hz),7.19-7.32(6H,m),7.74(1H,d,J=8.9Hz),8.65(1H,s),9.36(1H,s).
実施例６３
Figure 2006098308
メチル＝４−アニリノ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.25gのエタノール2.0mL懸濁液に、室温で水酸化ナトリウム0.060gの水1.0mL溶液を加え、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルおよびヘキサンを加え、固形物をろ取し、白色固体の４−アニリノ−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸0.24gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.40(1H,dd,J=8.9,2.2Hz),6.64(1H,d,J=2.2Hz),6.91-6.95(1H,m),7.09-7.12(2H,m),7.17-7.23(2H,m),7.26-7.32(4H,m),7.73(1H,d,J=8.9Hz),8.60(1H,s),9.64(1H,s).
実施例６４
Figure 2006098308
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ヨードベンゾアート0.30gのトルエン3.0mL溶液に、室温でベンジルアミン0.13mL、ｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル0.050g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）0.022gおよびナトリウム＝ｔｅｒｔ−ブトキシド0.093gを加え、窒素雰囲気下、80℃で1時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸1.0mLを加え、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１］で精製し、褐色油状物のメチル＝４−（ベンジルアミノ）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.24gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.82(3H,s),4.27(2H,s),6.03(1H,dd,J=8.9,2.1Hz),6.09(1H,d,J=2.1Hz),6.90-6.95(2H,m),7.01-7.04(2H,m),7.25-7.35(5H,m),7.77(1H,d,J=8.9Hz),9.47(1H,s).
実施例６５，６６
実施例６４と同様にして、表１３に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（フェネチルアミノ）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.84(2H,t,7.1Hz),3.32(2H,t,7.1Hz),3.83(3H,s),3.98-4.08(1H,broad),5.97(1H,dd,J=8.8,2.2Hz),6.13(1H,d,J=2.2Hz),7.02-7.07(2H,m),7.13-7.31(7H,m),7.77(1H,d,J=8.8Hz),9.48(1H,s).
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（３−フェニルプロピル）アミノ）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.85-1.93(2H,m),2.67(2H,t,7.6Hz),3.07(2H,t,6.9Hz),3.83(3H,s),3.91-3.98(1H,broad),5.93(1H,dd,J=8.8,2.2Hz),6.07(1H,d,J=2.2Hz),7.00-7.05(2H,m),7.14-7.30(7H,m),7.76(1H,d,J=8.8Hz),9.47(1H,s).
実施例６７
Figure 2006098308
メチル＝４−（ベンジルアミノ）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.24gのエタノール3.0mL懸濁液に、室温で10％水酸化ナトリウム水溶液0.82mLを加え、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、10％水酸化ナトリウム水溶液0.82mLを加え、3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸2.0mL、飽和塩化ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルおよびヘキサンを加え、固形物をろ取し、白色固体の４−（ベンジルアミノ）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸0.17gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：4.22(2H,d,J=5.6Hz),6.07-6.09(2H,m),6.99-7.08(5H,m),7.24-7.27(3H,m),7.32-7.35(2H,m),7.60(1H,d,J=8.8Hz),9.55-9.90(1H,broad).
実施例６８、６９
実施例６７と同様にして、表１４に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（フェネチルアミノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.75(2H,t,7.6Hz),3.15-3.20(2H,m),6.04(1H,dd,J=8.9,2.1Hz),6.16(1H,d,J=2.1Hz),6.50(1H,t,5.5Hz),7.16-7.29(9H,m),7.62(1H,d,J=8.9Hz),9.68(1H,s),12.02(1H,s).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（３−フェニルプロピル）アミノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.74-1.81(2H,m),2.62(2H,t,7.7Hz),2.93-2.98(2H,m),6.00(1H,dd,J=9.0,2.1Hz),6.14(1H,d,J=2.1Hz),6.41(1H,t,5.3Hz),7.15-7.28(9H,m),7.61(1H,d,J=9.0Hz),9.67(1H,s),12.00(1H,s).
実施例７０
Figure 2006098308
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ヨードベンゾアート0.20gの２−メチル−２−プロパノール4.0mL溶液に、ベンゼンチオール0.067mL、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）0.03gおよびナトリウム＝ｔｅｒｔ−ブトキシド0.10gを加え、窒素雰囲気下、30分間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学社製、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１］で精製し、無色油状物のメチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（フェニルチオ）ベンゾアート30mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.87(3H,s),6.49(1H,dd,J=8.5,1.8Hz),6.71(1H,d,J=1.8Hz),6.91-6.96(2H,m),7.00-7.04(2H,m),7.34-7.37(3H,m),7.44-7.47(2H,m),7.80(1H,d,J=8.5Hz),9.37(1H,s).
実施例７１
Figure 2006098308
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（フェニルチオ）ベンゾアート0.21gの２−プロパノール2.0mL懸濁液に、室温で10％水酸化ナトリウム水溶液1.0mLを加え、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（フェニルチオ）安息香酸0.16gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.54-6.59(2H,m),7.06-7.13(4H,m),7.42-7.51(5H,m),7.80(1H,d,J=8.3Hz),9.55(1H,s).
実施例７２
Figure 2006098308
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ヨードベンゾアート0.40g、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン0.072gおよびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）0.050gのトルエン4.0mL懸濁液に、トリエチルアミン0.30mLおよびフェニルメタンチオール0.15mLを加え、アルゴン雰囲気下、80℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、白色固体のメチル＝４−（ベンジルチオ）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.36gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.87(3H,s),4.06(2H,s),6.61(1H,dd,J=8.5,1.5Hz),6.79(1H,d,J=1.5Hz),6.98-7.08(4H,m),7.23-7.28(5H,m),7.81(1H,d,J=8.5Hz),9.36(1H,s).
実施例７３
Figure 2006098308
メチル＝４−（ベンジルチオ）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.36gの２−プロパノール4.0mL懸濁液に、室温で10％水酸化ナトリウム水溶液1.0mLを加え、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルおよびヘキサンを加え、固形物をろ取し、白色固体の４−（ベンジルチオ）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸0.30gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：4.20(2H,s),6.69(1H,dd,J=8.5,1.7Hz),6.78(1H,dd,J=3.9,1.7Hz),7.18-7.29(9H,m),7.76(1H,d,J=8.5Hz),9.56(1H,s).
実施例７４
Figure 2006098308
メチル＝２−アミノ−４−（（フェニルチオ）メチル）ベンゾアート塩酸塩0.96g、ｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル19mg、酢酸パラジウム7mgおよび炭酸セシウム3.0gのトルエン9.5mL懸濁液に、１−フルオロ−４−ヨードベンゼン1.1mLを加え、窒素雰囲気下、3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム7.0mgを加え、14時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１］で精製し、淡黄色油状物のメチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（フェニルチオ）メチル）ベンゾアート0.48gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.88(3H,s),3.94(2H,s),6.67(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),6.84(1H,d,J=1.5Hz),6.95-7.02(4H,m),7.20-7.28(5H,m),7.88(1H,d,J=8.3Hz),9.33(1H,s).
実施例７５
Figure 2006098308
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（フェニルチオ）メチル）ベンゾアート0.48gのメタノール2.4mLおよびテトラヒドロフラン2.4mL混液に、2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液2.0mLを加え、室温で17時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、酢酸エチルおよび水を加え、1.0mol/L塩酸でpH4.0に調整した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、ヘキサンおよびジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（フェニルチオ）メチル）安息香酸0.40gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：4.14(2H,s),6.76(1H,d,J=8.2Hz),6.97-6.98(1H,m),7.06-7.10(2H,m),7.12-7.18(2H,m),7.20-7.25(1H,m),7.30-7.31(4H,m),7.81(1H,d,J=8.2Hz),9.51(1H,s),12.94-13.03(1H,broad).
実施例７６
Figure 2006098308
メチル＝２−アミノ−４−（フェノキシメチル）ベンゾアート塩酸塩0.40g、ｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル8mg、酢酸パラジウム3mgおよび炭酸セシウム0.89gのトルエン4.0mL懸濁液に、１−フルオロ−４−ヨードベンゼン0.47mLを加え、窒素雰囲気下、16時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１］で精製し、淡黄色油状物のメチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（フェノキシメチル）ベンゾアート0.22gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.90(3H,s),4.98(2H,s),6.76(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),6.88-7.03(5H,m),7.09-7.14(3H,m),7.25-7.30(6H,m),7.96(1H,d,J=8.3Hz),9.40(1H,s).
実施例７７
Figure 2006098308
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（フェノキシメチル）ベンゾアート0.22gのメタノール2.0mLおよびテトラヒドロフラン2.0mL混液に、2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液0.92mLを加え、室温で24時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、水を加え、1.0mol/L塩酸でpH4.0に調整した。固形物をろ取し、白色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（フェノキシメチル）安息香酸0.14gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：5.07(2H,s),6.81(1H,dd,J=8.2,1.3Hz),6.92-6.96(3H,m),7.12-7.22(5H,m),7.26-7.31(2H,m),7.90(1H,d,J=8.2Hz).
実施例７８
Figure 2006098308
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ヨードベンゾアート0.30g、アリルベンゼン0.16mLおよびトリエチルアミン0.11mLのトルエン3.0mL溶液に、酢酸パラジウム9mgを加え、窒素雰囲気下、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム18mgを加え、窒素雰囲気下、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム18mgを加え、窒素雰囲気下、1時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム18mgを加え、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１］で精製し、メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−フェニル−１−プロペニル）ベンゾアートを得た。
得られたメチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−フェニル−１−プロペニル）ベンゾアートのメタノール8mLおよび酢酸エチル2mL混液に、5％パラジウム−炭素0.060gを加え、水素雰囲気下、室温で1時間攪拌した。反応混合物の不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、無色油状物のメチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−フェニルプロピル）ベンゾアート0.10gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.85-1.93(2H,m),2.53(2H,t,J=7.6Hz),2.61(2H,t,J=7.6Hz),3.88(3H,s),6.56(1H,d,J=8.3Hz),6.86(1H,s),7.03-7.07(2H,m),7.13-7.28(7H,m),7.87(1H,d,J=8.3Hz),9.34(1H,s).
実施例７９，８０
実施例７８と同様にして、表１５に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−フェニルブチル）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.58-1.64(4H,m),2.51(2H,t,J=6.9Hz),2.60(2H,t,J=7.2Hz),3.88(3H,s),6.54(1H,dd,J=8.2,1.5Hz),6.84(1H,d,1.5Hz),7.00-7.05(2H,m),7.12-7.28(7H,m),7.85(1H,d,J=8.2Hz),9.33(1H,s).
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（５−フェニルペンチル）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.30-1.38(2H,m),1.51-1.65(4H,m),2.48(2H,t,J=7.8Hz),2.58(2H,t,J=7.7Hz),3.88(3H,s),6.54(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),6.85(1H,d,J=1.6Hz),7.01-7.07(2H,m),7.13-7.28(7H,m),7.86(1H,d,J=8.3Hz),9.34(1H,s).
実施例８１
Figure 2006098308
メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−フェニルプロピル）ベンゾアート0.10gのエタノール2.0mL懸濁液に、室温で10％水酸化ナトリウム水溶液0.2mLを加え、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にヘキサンを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−フェニルプロピル）安息香酸70mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.78-1.86(2H,m),2.48-2.58(4H,m),6.62(1H,d,J=8.1Hz),6.87(1H,s),7.15-7.30(9H,m),7.81(1H,d,J=8.1Hz),9.53(1H,s),12.74-13.01(1H,broad).
実施例８２，８３
実施例８１と同様にして、表１６に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−フェニルブチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.52-1.56(4H,m),2.49-2.56(4H,m),6.60(1H,d,J=8.3Hz),6.87(1H,s),7.13-7.20(5H,m),7.23-7.28(4H,m),7.79(1H,d,J=8.3Hz),9.51(1H,s),12.75-13.02(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（５−フェニルペンチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.23-1.31(2H,m),1.49-1.59(4H,m),2.45-2.55(4H,m),6.60(1H,d,J=8.3Hz),6.88(1H,d,J=2.7Hz),7.10-7.28(9H,m),7.79(1H,d,J=8.3Hz),9.52(1H,s),12.77-12.98(1H,broad).
実施例８４
Figure 2006098308
２−ヨード−４−フェネチル安息香酸0.20gのジメチルスルホキシド2.0mL溶液に、フェネチルアミン0.11mL、ヨウ化銅（I）0.010g、プロリン0.013gおよび炭酸カリウム0.16gを加え、60℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、1.0mol/L塩酸および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル：酢酸＝９０：１０：１］で精製し、白色固体の４−フェネチル−２−（フェネチルアミノ）安息香酸0.12gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.80-2.90(6H,m),3.37(2H,t,J=7.1Hz),6.45(1H,dd,J=8.1,1.3Hz),6.57(1H,s),7.14-7.33(10H,m),7.67(1H,d,J=8.1Hz).
実施例８５
Figure 2006098308
実施例８４と同様にして以下の化合物を得た。
２−（シクロヘキシルアミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.10-1.44(5H,m),1.52-1.72(3H,m),1.79-1.90(2H,m),2.81-2.88(4H,m),3.26-3.36(1H,m),6.41(1H,d,J=8.2Hz),6.49(1H,s),7.15-7.28(5H,m),7.67(1H,d,J=8.2Hz),7.70-7.90(1H,broad),12.21-12.48(1H,broad).
実施例８６
Figure 2006098308
メチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.20gのトルエン2.0mL、エタノール0.6mLおよび水0.2mL混液に、（Ｅ）−２−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）スチレン0.21g、炭酸水素ナトリウム0.18gおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）40mgを加え、窒素雰囲気下、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）40mgを加え、窒素雰囲気下、6時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、1.0mol/L塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１］で精製し、メチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−フェニルビニル）ベンゾアートを得た。
得られたメチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−フェニルビニル）ベンゾアートのメタノール2mLおよびテトラヒドロフラン2mL混液に、室温で2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液2.5mLを加え、室温で4時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、水を加え、1.0mol/L塩酸でpH4.0に調整した。固形物をろ取し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製し、２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−フェニルビニル）安息香酸58mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.11(1H,dd,J=8.4,1.3Hz),7.18-7.38(10H,m),7.61-7.63(2H,m),7.89(1H,d,J=8.4Hz),9.60(1H,s),12.97-13.05(1H,broad).
実施例８７
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−アミノ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート40mgの塩化メチレン3.0mL溶液に、室温でトリエチルアミン0.064mL、ベンゾチオフェン−３−カルボニルクロリド55mgおよび塩化メチレン1.5mLを加え、同温度で2時間攪拌した。反応混合物に、アミノメチレイティッドポリスチレン250mgを加え、室温で4時間攪拌した。反応混合物に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝4：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（ベンゾチオフェン−３−カルボキサミド）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（ベンゾチオフェン−３−カルボキサミド）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5mLを加え、室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、白色固体の４−（ベンゾチオフェン−３−カルボキサミド）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸24mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.21-7.36(5H,m),7.44-7.48(2H,m),7.65(1H,d,J=2.0Hz),7.89(1H,d,J=8.8Hz),8.07(1H,dd,J=6.7,1.8Hz),8.34-8.36(1H,m),8.56(1H,s),9.66(1H,s),10.42(1H,s),12.80-12.90(1H,broad).
実施例８８〜９１
実施例８７と同様にして、表１７に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
４−（２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシン−６−カルボキサミド）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：4.28-4.32(4H,m),6.97(1H,d,J=8.3Hz),7.20-7.33(5H,m),7.44-7.48(2H,m),7.69(1H,d,J=2.0Hz),7.85(1H,d,J=8.8Hz),9.65(1H,s),10.12(1H,s),12.78-12.85(1H,broad).
４−（２，２−ジフェニルアセトアミド）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：5.18(1H,s),7.08(1H,dd,J=8.8,2.0Hz),7.20-7.35(14H,m),7.43(1H,d,J=2.0Hz),7.82(1H,d,J=8.8Hz),9.61(1H,s),10.48(1H,s),12.79-12.85(1H,broad).
４−（シンナムアミド）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.79(1H,d,J=15.6Hz),7.07(1H,dd,J=8.8,2.0Hz),7.22-7.26(2H,m),7.30-7.34(2H,m),7.39-7.47(3H,m),7.56-7.63(4H,m),7.86(1H,d,J=8.8Hz),9.64(1H,s),10.30(1H,s),12.76-12.84(1H,broad).
４−（ベンゼンスルホンアミド）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.48(1H,dd,J=8.6,2.0Hz),6.76(1H,d,J=2.0Hz),7.07-7.11(2H,m),7.21-7.25(2H,m),7.57-7.61(2H,m),7.64-7.68(1H,m),7.71-7.73(3H,m),10.57-10.66(1H,broad).
実施例９２
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.10gのトルエン3.0mL溶液に、２，４−ジフルオロ−１−ヨードベンゼン0.10mL、炭酸セシウム0.22g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル：酢酸＝２０：１：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（２，４−ジフルオロアニリノ）−４−フェネチルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（２，４−ジフルオロアニリノ）−４−フェネチルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にメタノールを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（２，４−ジフルオロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸59mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.82(4H,s),6.65(1H,s),6.70(1H,dd,J=8.1,1.5Hz),7.05(1H,tdd,J=8.6,2.8,1.3Hz),7.14-7.21(3H,m),7.23-7.30(3H,m),7.37(1H,ddd,J=11.1,8.9,2.8Hz),7.81(1H,d,J=8.1Hz),9.46(1H,s),12.85-13.20(1H,broad).
実施例９３〜１００
実施例９２と同様にして、表１８に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（（２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシン−６−イル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.74-2.86(4H,m),4.21-4.28(4H,m),6.54(1H,dd,J=8.7,2.5Hz),6.60(1H,dd,J=8.3,1.4Hz),6.67(1H,d,J=2.5Hz),6.78-6.83(2H,m),7.14-7.20(3H,m),7.22-7.29(2H,m),7.76(1H,d,J=8.3Hz),9.39(1H,s),12.81(1H,s).
２−（３−フルオロ−４−メチルアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.19(3H,d,J=1.0Hz),2.84(4H,s),6.71(1H,dd,J=8.2,1.2Hz),6.79(1H,dd,J=8.2,2.1Hz),6.91(1H,dd,J=11.6,2.1Hz),6.96(1H,d,J=1.2Hz),7.14-7.22(4H,m),7.23-7.30(2H,m),7.81(1H,d,J=8.3Hz),9.56(1H,s),12.95(1H,s).
２−（３−ニトロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.88(4H,s),6.83(1H,dd,J=8.0,1.5Hz),7.16-7.22(4H,m),7.23-7.30(2H,m),7.45(1H,ddd,J=8.2,2.2,1.0Hz),7.53(1H,t,J=8.1Hz),7.79(1H,ddd,J=8.1,2.2,1.0Hz),7.85(1H,d,J=8.0Hz),7.99(1H,t,J=2.2Hz),9.69(1H,s),13.10(1H,s).
２−（２−ニトロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.89(4H,s),6.99(1H,dd,J=8.2,1.5Hz),7.04-7.08(1H,m),7.15-7.31(7H,m),7.51-7.55(1H,m),7.89(1H,d,J=8.2Hz),8.11(1H,dd,J=8.4,1.6Hz),11.06(1H,s),13.26(1H,s).
２−（２−メチルアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.16(3H,s),2.74-2.86(4H,m),6.62-6.70(2H,m),7.00-7.10(2H,m),7.12-7.21(4H,m),7.22-7.30(3H,m),7.80(1H,d,J=8.0Hz),9.48(1H,s),12.75-13.00(1H,broad).
２−（４−メトキシアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.72-2.86(4H,m),3.76(3H,s),6.59(1H,dd,J=8.2,1.3Hz),6.69(1H,d,J=1.3Hz),6.88-6.94(2H,m),6.99-7.05(2H,m),7.12-7.30(5H,m),7.77(1H,d,J=8.2Hz),9.41(1H,s),12.60-13.00(1H,broad).
２−（３−メトキシアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.84(4H,s),3.74(3H,s),6.59-6.76(4H,m),7.06(1H,s),7.15-7.30(6H,m),7.81(1H,d,J=8.3Hz),9.58(1H,s),12.93(1H,s).
２−アニリノ−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.78-2.89(4H,m),6.69(1H,dd,J=8.2,1.3Hz),6.95(1H,s),7.00-7.08(3H,m),7.14-7.34(7H,m),7.81(1H,d,J=8.2Hz),9.60(1H,s),12.80-13.05(1H,broad).
実施例１０１
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.10gのトルエン3.0mL溶液に、１−ヨード−３，４−メチレンジオキシベンゼン0.14g、炭酸セシウム0.22g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；80-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、白色固体の２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸12mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.74-2.86(4H,m),6.03(2H,s),6.54(1H,dd,J=8.1,2.1Hz),6.61(1H,dd,J=8.1,1.5Hz),6.74(2H,d,J=2.1Hz),6.86(1H,d,J=8.1Hz),7.13-7.20(3H,m),7.22-7.29(2H,m),7.77(1H,d,J=8.1Hz),9.40(1H,s),12.70-12.95(1H,broad).
実施例１０２、１０３
実施例１０１と同様にして、表１９に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.78-2.89(4H,m),6.45(1H,dd,J=8.1,1.7Hz),6.47-6.52(1H,m),6.57-6.60(1H,m),6.66(1H,dd,J=8.3,1.2Hz),7.06(1H,s),7.09(1H,t,J=7.9Hz),7.15-7.28(5H,m),7.79(1H,d,J=8.2Hz),9.43(1H,s),9.55(1H,s),12.80-13.05(1H,broad).
２−（（４−アセチルフェニル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.52(3H,s),2.90(4H,s),6.86(1H,d,J=8.1Hz),7.09(2H,d,J=8.6Hz),7.16-7.25(4H,m),7.26-7.32(2H,m),7.82-7.90(3H,m),9.79(1H,s),12.95-13.30(1H,broad).
実施例１０４
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.10g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3mgおよび炭酸セシウム0.22gのトルエン3.0mL懸濁液に、５−ブロモベンゾフラン0.19gを加え、24時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8mgおよびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3mgを加え、24時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.0mgおよびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3mgを加え、24時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾフラン−５−イル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾフラン−５−イル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸3.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル：酢酸＝３０：1０：１］で精製し、白色固体の２−（（ベンゾフラン−５−イル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸21mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.73-2.85(4H,m),6.63(1H,dd,J=8.2,1.2Hz),6.78(1H,s),6.92(1H,dd,J=2.2,0.8Hz),7.03(1H,dd,J=8.7,2.2Hz),7.11-7.22(3H,m),7.22-7.28(2H,m),7.38(1H,d,J=2.0Hz),7.55(1H,d,J=8.7Hz),7.80(1H,d,J=8.2Hz),8.00(1H,d,J=2.0Hz),9.53-9.63(1H,broad),12.76-12.92(1H,broad).
実施例１０５
Figure 2006098308
実施例１０４と同様にして、以下の化合物を得た。
２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.76-2.88(4H,m),6.67(1H,d,J=7.3Hz),6.95(1H,s),7.10(1H,dd,J=8.7,2.0Hz),7.13-7.29(5H,m),7.38(1H,d,J=5.4Hz),7.63(1H,d,J=2.0Hz),7.77(1H,d,J=5.4Hz),7.82(1H,d,J=8.1Hz),7.92(1H,d,J=8.7Hz),9.67-9.74(1H,broad).
実施例１０６
Figure 2006098308
２−（２−ニトロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸20mgのメタノール2.0mLおよび酢酸エチル1.0mL混液に、5％パラジウム−炭素8mgを加え、水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にメタノールを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（（２−アミノフェニル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸13mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.70-2.82(4H,m),4.60-5.00(2H,broad),6.48(1H,s),6.54-6.60(2H,m),6.79(1H,dd,J=8.1,1.5Hz),6.88-6.95(2H,m),7.12-7.19(3H,m),7.21-7.27(2H,m),7.77(1H,d,J=8.1Hz),9.02(1H,s).
実施例１０７
Figure 2006098308
２−（３−ニトロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸40mgのメタノール4.0mLおよび酢酸エチル2.0mL混液に、5％パラジウム−炭素20mgを加え、水素雰囲気下、室温で6時間攪拌した。不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物の酢酸エチル5mL溶液に、氷冷下で4.0mol/L塩化水素ジオキサン溶液0.028mLを加えた。固形物をろ取し、褐色固体の２−（（３−アミノフェニル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸塩酸塩26mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.87(4H,s),6.75(1H,dd,J=8.1,1.2Hz),6.88(1H,d,J=7.6Hz),6.95(1H,d,J=8.1Hz),7.10-7.35(8H,m),7.83(1H,d,J=8.1Hz),9.68(1H,s).
実施例１０８
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート0.10g、ｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル2.3mg、酢酸パラジウム0.8mgおよび炭酸セシウム0.24gのトルエン3.0mL懸濁液に、ヨードベンゼン0.10mLを加え、24時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、ｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル2.3mgおよび酢酸パラジウム0.8mgを加え、24時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アニリノ−４−フェニルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−アニリノ−４−フェニルベンゾアートのトリフルオロ酢酸3.0mL溶液を室温で3時間攪拌した。反応混合物の溶媒を減圧下で留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル：酢酸＝３０：1０：１］で精製し、淡黄色固体の２−アニリノ−４−フェニル安息香酸8mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.06-7.12(2H,m),7.32-7.48(8H,m),7.58-7.60(2H,m),7.99(1H,d,J=8.3Hz),9.71(1H,s),13.10-13.14(1H,broad).
実施例１０９〜１１５
実施例１０８と同様にして、表２０に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（２，４−ジフルオロアニリノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.05-7.16(3H,m),7.38-7.47(4H,m),7.56-7.66(3H,m),7.99(1H,d,J=8.1Hz),9.56(1H,s),13.19-13.25(1H,broad).
２−（３−フルオロ−４−メチルアニリノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.21(3H,s),7.08-7.15(3H,m),7.26(1H,t,J=8.5Hz),7.38-7.48(4H,m),7.60(2H,d,J=7.3Hz),7.99(1H,d,J=8.3Hz),9.66(1H,s),13.11-13.19(1H,broad).
２−（３−ニトロアニリノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.25(1H,d,J=8.3Hz),7.40-7.50(3H,m),7.59-7.67(4H,m),7.77(1H,dd,J=7.9,1.8Hz),7.83(1H,dd,J=8.0,2.0Hz),8.04(1H,d,J=8.3Hz),8.11(1H,s),9.79(1H,s),13.23-13.35(1H,broad).
２−（２−ニトロアニリノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.11(1H,t,J=7.6Hz),7.38(1H,dd,J=8.5,1.5Hz),7.40-7.44(1H,m),7.48(2H,t,J=7.4Hz),7.64-7.69(3H,m),7.73(1H,s),7.79(1H,d,J=8.6Hz),8.06(1H,d,J=8.3Hz),8.15(1H,dd,J=8.4,1.3Hz),11.14(1H,s),13.37-13.51(1H,broad).
２−（（４−アセチルフェニル）アミノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.52(3H,s),7.26(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),7.37-7.44(3H,m),7.49(2H,t,J=7.5Hz),7.67-7.69(3H,m),7.94(2H,d,J=8.5Hz),8.04(1H,d,J=8.3Hz),9.89(1H,s),13.27-13.36(1H,broad).
２−（２−メチルアニリノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.24(3H,s),7.01-7.11(3H,m),7.25(1H,t,J=7.1Hz),7.32-7.46(5H,m),7.52-7.54(2H,m),7.99(1H,d,J=8.3Hz),9.59(1H,s),13.05-13.13(1H,broad).
２−（３−メトキシアニリノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.32(3H,s),6.67(1H,dd,J=8.3,2.3Hz),6.85-6.87(1H,m),6.91-6.93(1H,m),7.07-7.09(1H,m),7.28(1H,t,J=8.2Hz),7.38-7.48(4H,m),7.59(2H,d,J=7.8Hz),7.99(1H,d,J=8.3Hz),9.68(1H,s),13.08-13.18(1H,broad).
実施例１１６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート0.10g、ｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル2.3mg、酢酸パラジウム0.8mgおよび炭酸セシウム0.24gのトルエン3.0mL懸濁液に、２，３−ジヒドロ−６−ヨードベンゾ［１，４］ジオキシン0.24gを加え、24時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、ｒａｃ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル2.3mgおよび酢酸パラジウム0.8mgを加え、24時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシン−６−イル）アミノ）−４−フェニルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシン−６−イル）アミノ）−４−フェニルベンゾアートのトリフルオロ酢酸3.0mL溶液を室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；70-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、黄色固体の２−（（２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシン−６−イル）アミノ）−４−フェニル安息香酸5mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：4.24(4H,s),6.79-6.82(2H,m),6.88(1H,d,J=8.6Hz),6.99(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.21(1H,s),7.37-7.41(1H,m),7.43-7.47(2H,m),7.53-7.55(2H,m),7.95(1H,d,J=8.3Hz),9.46-9.54(1H,broad),12.94-13.07(1H,broad).
実施例１１７、１１８
実施例１１６と同様にして、表２１に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
４−フェニル−２−（４−（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）アニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.53(1H,t,J=2.1Hz),7.10(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.38-7.48(6H,m),7.60-7.63(2H,m),7.73(1H,d,J=1.7Hz),7.83-7.85(2H,m),8.00(1H,d,J=8.3Hz),8.46(1H,d,J=2.4Hz),9.75(1H,s),13.12-13.20(1H,s).
２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.04(2H,s),6.79(1H,dd,J=8.3,2.1Hz),6.93(1H,d,J=8.3Hz),6.96(1H,d,J=2.1Hz),6.99(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),7.17(1H,s),7.37-7.40(1H,m),7.45(2H,t,J=7.3Hz),7.53-7.55(2H,m),7.95(1H,d,J=8.3Hz),9.48-9.56(1H,broad).
実施例１１９
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート0.10g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3mgおよび炭酸セシウム0.24gのトルエン3.0mL懸濁液に、５−ブロモベンゾフラン0.18gを加え、24時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9mgおよびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3mgを加え、24時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9mgおよびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3mgを加え、24時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾフラン−５−イル）アミノ）−４−フェニルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾフラン−５−イル）アミノ）−４−フェニルベンゾアートのトリフルオロ酢酸3.0mL溶液を室温で3時間攪拌した。反応混合物の溶媒を減圧下で留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル：酢酸＝３０：1０：１］で精製し、２−（（ベンゾフラン−５−イル）アミノ）−４−フェニル安息香酸42mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.95(1H,dd,J=2.2,0.7Hz),7.01(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.23(1H,d,J=1.4Hz),7.28(1H,dd,J=8.8,2.2Hz),7.34-7.46(3H,m),7.52-7.54(2H,m),7.61-7.64(2H,m),7.98(1H,d,J=8.3Hz),8.01(1H,d,J=2.2Hz),9.64-9.76(1H,broad),12.88-13.20(1H,broad).
実施例１２０
Figure 2006098308
実施例１１９と同様にして、以下の化合物を得た。
２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.06(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.35-7.45(6H,m),7.57(2H,d,J=7.3Hz),7.78(1H,d,J=5.4Hz),7.84(1H,d,J=1.9Hz),8.00(2H,d,J=8.3Hz),9.77-9.95(1H, broad).
実施例１２１
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート0.20g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル17mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）7mg、酢酸パラジウム2mgおよび炭酸セシウム0.48gのトルエン3.0mL懸濁液に、ｔｅｒｔ−ブチル＝５−ブロモインドール−１−カルボキシラート0.55gを加え、8時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−１Ｈ−インドール−５−イル）アミノ）−４−フェニルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−１Ｈ−インドール−５−イル）アミノ）−４−フェニルベンゾアートのトリフルオロ酢酸5mL溶液を室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；50-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、黄色固体の２−（（１Ｈ−インドール−５−イル）アミノ）−４−フェニル安息香酸8mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.42(1H,s),6.93(1H,dd,J=8.4,1.3Hz),7.05(1H,dd,J=8.6,1.7Hz),7.12(1H,s),7.32-7.48(8H,m),7.95(1H,d,J=8.3Hz),9.60(1H,s),11.18(1H,s),12.77-13.01(1H,broad).
実施例１２２
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート0.20g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル17mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）7mg、酢酸パラジウム2mgおよび炭酸セシウム0.48gのトルエン3.0mL懸濁液に、３−ヨードフェノール0.41gを加え、12時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝６：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）−４−フェニルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）−４−フェニルベンゾアートのトリフルオロ酢酸5.0mL溶液を室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物に、ヘキサンおよびジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）−４−フェニル安息香酸15mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.49(1H,dd,J=8.2,1.6Hz),6.71-6.74(2H,m),7.07(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),7.16(1H,t,J=7.9Hz),7.39-7.42(1H,m),7.45-7.49(3H,m),7.61(2H,d,J=7.3Hz),7.98(1H,d,J=8.3Hz),9.45-9.52(1H,broad),9.65(1H,s),13.05-13.17(1H,broad).
実施例１２３
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.20gのトルエン4.0mL溶液に、室温でｔｅｒｔ−ブチル＝５−ブロモ−１Ｈ−インドール−１−カルボキシラート0.29g、炭酸セシウム0.55g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）6mg、酢酸パラジウム3mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル16mgを加え、窒素雰囲気下、8時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）6mg、酢酸パラジウム3mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル16mgを加え、窒素雰囲気下、10時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、水を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−１Ｈ−インドール−５−イル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−１Ｈ−インドール−５−イル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアートのトリフルオロ酢酸3.0mL溶液を室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；60-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、淡黄色固体の２−（（１Ｈ−インドール−５−イル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸25mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.72-2.80(4H,m),6.40(1H,s),6.55(1H,d,J=8.0Hz),6.70(1H,s),6.85(1H,dd,J=8.4,2.0Hz),7.12-7.29(6H,m),7.35-7.39(2H,m),7.77(1H,d,J=8.4Hz),9.46-9.54(1H,broad),11.10(1H,s),12.60-12.80(1H,broad).
実施例１２４
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.20gのトルエン3.0mL溶液に、室温でビニルシクロヘキサン0.15mL、炭酸セシウム0.36g、テトラブチルアンモニウムブロミド53mgおよびポリマー担持ビス（アセタート）トリフェニルホスフィンパラジウム（II）86mgを加え、110℃で22時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−シクロヘキシルビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−シクロヘキシルビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートのトリフルオロ酢酸15mL溶液を室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、淡黄色固体の４−（（Ｅ）−２−シクロヘキシルビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸34mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.08-1.31(5H,m),1.59-1.78(5H,m),2.05-2.14(1H,m),6.26(2H,d,J=2.4Hz),6.87(1H,dd,J=8.4,0.7Hz),6.97(1H,s),7.17-7.31(4H,m),7.81(1H,d,J=8.4Hz),9.49-9.61(1H,broad),12.86-13.02(1H,broad).
実施例１２５
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.20gのトルエン3.0mL溶液に、室温でアリルシクロヘキサン0.17mL、炭酸セシウム0.36g、テトラブチルアンモニウムブロミド53mgおよびポリマー担持ビス（アセタート）トリフェニルホスフィンパラジウム（II）86mgを加え、110℃で22時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−３−シクロヘキシル−１−プロペニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−３−シクロヘキシル−１−プロペニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートのトリフルオロ酢酸15mL溶液を室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；70-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、淡黄色固体の４−（（Ｅ）−３−シクロヘキシル−１−プロペニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸23mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：0.82-0.96(2H,m),1.04-1.25(3H,m),1.30-1.41(1H,m),1.55-1.71(5H,m),1.99-2.09(2H,m),6.22-6.35(2H,m),6.87(1H,d,J=8.3Hz),6.96(1H,s),7.17-7.33(4H,m),7.82(1H,d,J=8.3Hz),9.56(1H,s),12.94(1H,s).
実施例１２６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ビニルベンゾアート0.12gのトルエン3.0mL溶液に、室温で３−ヨードフェノール0.17g、炭酸セシウム0.25g、テトラブチルアンモニウムブロミド37mgおよびポリマー担持ビス（アセタート）トリフェニルホスフィンパラジウム（II）58mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（３−ヒドロキシフェニル）ビニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（３−ヒドロキシフェニル）ビニル）ベンゾアートのトリフルオロ酢酸10mL溶液を室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；40-90％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（３−ヒドロキシフェニル）ビニル）安息香酸27mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.69(1H,d,J=8.0Hz),6.97(1H,s),7.02-7.26(8H,m),7.30-7.36(2H,m),7.88(1H,d,J=8.3Hz),9.41(1H,s),9.60(1H,s),12.98(1H,s).
実施例１２７〜１３０
実施例１２６と同様にして、表２２に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（４−ヒドロキシフェニル）ビニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.75(2H,d,J=8.6Hz),6.95(1H,d,J=16.1Hz),7.04(1H,d,J=8.3Hz),7.12-7.37(6H,m),7.44(2H,d,J=8.6Hz),7.86(1H,d,J=8.3Hz),9.54-9.75(2H,m).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（４−メトキシフェニル）ビニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.77(3H,s),6.93(2H,d,J=8.8Hz),7.01-7.10(2H,m),7.14-7.27(4H,m),7.30-7.38(2H,m),7.56(2H,d,J=8.8Hz),7.87(1H,d,J=8.5Hz),9.60(1H,s),12.87-13.08(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（２−ヒドロキシフェニル）ビニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.79(1H,t,J=7.6Hz),6.85(1H,d,J=7.8Hz),7.03(1H,d,J=8.3Hz),7.07-7.17(3H,m),7.20-7.27(2H,m),7.31-7.37(2H,m),7.41(1H,d,J=16.6Hz),7.58(1H,d,J=7.6Hz),7.88(1H,d,J=8.5Hz),9.58(1H,s),9.80(1H,s),12.97(1H,s).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（４−（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）フェニル）ビニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.56(1H,t,J=2.1Hz),7.12(1H,dd,J=8.7,1.1Hz),7.21-7.28(5H,m),7.32-7.36(2H,m),7.73-7.76(3H,m),7.85(2H,d,J=8.8Hz),7.90(1H,d,J=8.3Hz),8.54(1H,d,J=2.4Hz),9.52-9.78(1H,broad).
実施例１３１
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ビニルベンゾアート0.12gのトルエン3.0mL溶液に、室温で２，３−ジヒドロ−６−ヨードベンゾ［１，４］ジオキシン0.20g、炭酸セシウム0.25g、テトラブチルアンモニウムブロミド37mgおよびポリマー担持ビス（アセタート）トリフェニルホスフィンパラジウム（II）58mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシン−６−イル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシン−６−イル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートのトリフルオロ酢酸10mL溶液を室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、淡黄色固体の４−（（Ｅ）−２−（２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシン−６−イル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸17mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：4.24(4H,s),6.83(1H,d,J=8.3Hz),7.00-7.15(6H,m),7.20-7.26(2H,m),7.29-7.36(2H,m),7.86(1H,d,J=8.3Hz),9.60(1H,s),12.83-13.08(1H,broad).
実施例１３２〜１３６
実施例１３１と同様にして、表２３に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（４−フルオロフェニル）ビニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.10(1H,dd,J=8.4,1.3Hz),7.13-7.28(7H,m),7.31-7.36(2H,m),7.65-7.70(2H,m),7.89(1H,d,J=8.4Hz),9.60(1H,s),12.88-13.14(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（３−フルオロ−４−メチルフェニル）ビニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.23(3H,s),7.09(1H,dd,J=8.4,1.5Hz),7.17-7.28(6H,m),7.31-7.35(3H,m),7.44(1H,d,J=11.7Hz),7.89(1H,d,J=8.4Hz),9.59(1H,s),12.92-13.11(1H,broad).
４−（（Ｅ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.10-7.36(10H,m),7.84-7.91(2H,m),9.60(1H,s).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（２−メチルフェニル）ビニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.38(3H,s),7.07(1H,d,J=16.1Hz),7.14-7.26(7H,m),7.31-7.37(2H,m),7.41(1H,d,J=16.1Hz),7.67(1H,t,J=3.0Hz),7.89(1H,d,J=8.3Hz),9.61(1H,s),12.85-13.19(1H,broad).
４−（（Ｅ）−２−（ベンゾチオフェン−３−イル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.20-7.51(9H,m),7.62(1H,d,J=16.4Hz),7.91(1H,d,J=8.3Hz),8.03(1H,d,J=7.6Hz),8.11(1H,s),8.23(1H,d,J=8.0Hz),9.53-9.74(1H,broad),12.87-13.20(1H,broad).
実施例１３７
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ビニルベンゾアート0.12gのトルエン3.0mL溶液に、室温で３−ヨードアニソール0.18g、炭酸セシウム0.25g、テトラブチルアンモニウムブロミド37mgおよびポリマー担持ビス（アセタート）トリフェニルホスフィンパラジウム（II）58mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（３−メトキシフェニル）ビニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（３−メトキシフェニル）ビニル）ベンゾアートのトリフルオロ酢酸10mL溶液を室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物に、酢酸エチルおよび飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（３−メトキシフェニル）ビニル）安息香酸28mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.78(3H,s),6.85(1H,ddd,J=8.2,2.4,0.8Hz),7.11(1H,dd,J=8.5,1.5Hz),7.16-7.37(10H,m),7.89(1H,d,J=8.5Hz),9.61(1H,s),12.83-13.21(1H,broad).
実施例１３８〜１４０
実施例１３７と同様にして、表２４に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
４−（（Ｅ）−２−（４−アセチルフェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.58(3H,s),7.15(1H,dd,J=8.5,1.2Hz),7.21-7.27(3H,m),7.31-7.42(4H,m),7.76(2H,d,J=8.3Hz),7.91(1H,d,J=8.5Hz),7.94(2H,d,J=8.3Hz),9.61(1H,s),12.97-13.17(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（３−ニトロフェニル）ビニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.66(1H,t,J=7.9Hz),7.15(1H,dd,J=8.3,1.2Hz),7.21-7.30(3H,m),7.31-7.37(2H,m),7.42(1H,d,J=16.6Hz),7.48(1H,d,J=16.6Hz),7.92(1H,d,J=8.3Hz),8.07-8.14(2H,m),8.47(1H,s),9.54-9.79(1H,broad).
４−（（Ｅ）−２−（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.03(2H,s),6.90(1H,d,J=8.0Hz),7.03-7.09(3H,m),7.13-7.26(4H,m),7.30-7.36(3H,m),7.87(1H,d,J=8.3Hz),9.44-9.76(1H,broad),12.76-13.14(1H,broad).
実施例１４１
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ビニルベンゾアート0.15gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド3.0mL溶液に、室温で３−ブロモチオフェン90μL、炭酸セシウム0.31gおよび酢酸パラジウム11mgを加え、120℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（チオフェン−３−イル）ビニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（チオフェン−３−イル）ビニル）ベンゾアートのトリフルオロ酢酸15mL溶液を室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；70-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（チオフェン−３−イル）ビニル）安息香酸9mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.00-7.09(2H,m),7.13(1H,s),7.20-7.36(5H,m),7.50(1H,d,J=4.9Hz),7.56(1H,dd,J=4.9,2.8Hz),7.64(1H,d,J=2.8Hz),7.87(1H,d,J=8.3Hz),9.53-9.67(1H,broad),12.85-13.10(1H,broad).
実施例１４２、１４３
実施例１４１と同様にして、表２５に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（１Ｈ−インドール−４−イル）ビニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.85(1H,s),7.09(1H,t,J=7.7Hz),7.20-7.28(5H,m),7.32-7.39(4H,m),7.43(1H,t,J=2.8Hz),7.59(1H,d,J=16.6Hz),7.90(1H,d,J=8.3Hz),9.62(1H,s),11.23(1H,s),12.89-13.07(1H,broad).
４−（（Ｅ）−２−（ベンゾチオフェン−５−イル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.13(1H,dd,J=8.3,1.1Hz),7.21-7.41(7H,m),7.44(1H,d,J=5.4Hz),7.68(1H,dd,J=8.7,0.9Hz),7.78(1H,d,J=5.4Hz),7.90(1H,d,J=8.3Hz),7.98(1H,d,J=8.7Hz),8.08(1H,s).
実施例１４４
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ビニルベンゾアート0.15gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド3.0mL溶液に、室温で１−ブロモ−４−（トリフルオロメチル）ベンゼン0.14mL、炭酸セシウム0.31gおよび酢酸パラジウム11mgを加え、120℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（４−トリフルオロメチルフェニル）ビニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（４−トリフルオロメチルフェニル）ビニル）ベンゾアートのトリフルオロ酢酸15mL溶液を室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（４−トリフルオロメチルフェニル）ビニル）安息香酸50mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.16(1H,d,J=8.4Hz),7.21-7.27(3H,m),7.32-7.43(4H,m),7.72(2H,d,J=8.2Hz),7.84(2H,d,J=8.2Hz),7.91(1H,d,J=8.4Hz),9.61(1H,s),12.99-13.16(1H,broad).
実施例１４５
Figure 2006098308
実施例１４４と同様にして、以下の化合物を得た。
４−（（Ｅ）−２−（ベンゾフラン−５−イル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.95(1H,d,J=2.2Hz),7.12(1H,d,J=8.0Hz),7.16-7.27(4H,m),7.31-7.39(3H,m),7.57-7.64(2H,m),7.88-7.90(2H,m),8.00(1H,d,J=2.2Hz),9.60(1H,s),12.92-13.06(1H,broad).
実施例１４６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ビニルベンゾアート0.15gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド3.0mL溶液に、室温で３−ブロモピリジン70μL、トリブチルアミン0.23mLおよび酢酸パラジウム11mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム11mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８，溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（ピリジン−３−イル）ビニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（ピリジン−３−イル）ビニル）ベンゾアートのトリフルオロ酢酸15mL溶液を室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、酢酸エチルおよび水を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH6.0に調整した。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（ピリジン−３−イル）ビニル）安息香酸46mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.13(1H,dd,J=8.2,1.2Hz),7.20-7.41(8H,m),7.91(1H,d,J=8.2Hz),8.06(1H,dt,J=8.0,1.9Hz),8.46(1H,dd,J=4.8,1.3Hz),8.77(1H,d,J=2.2Hz),9.61(1H,s),12.95-13.14(1H,broad).
実施例１４７
Figure 2006098308
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（４−（トリフルオロメチル）フェニル）ビニル）安息香酸15mgのメタノール4.0mLおよび酢酸エチル4.0mLの混液に、室温で5％パラジウム−炭素8.0mgを加え、水素雰囲気下、室温で10時間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去し、白色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（４−（トリフルオロメチル）フェニル）エチル）安息香酸14mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.82(2H,t,J=7.2Hz),2.94(2H,t,J=7.2Hz),6.61(1H,dd,J=8.0,1.2Hz),6.80(1H,d,J=1.2Hz),7.00-7.12(4H,m),7.40(2H,d,J=8.1Hz),7.63(2H,d,J=8.1Hz),7.81(1H,d,J=7.9Hz).
実施例１４８〜１６８
実施例１４７と同様にして、表２６に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（チオフェン−３−イル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.74-2.88(4H,m),6.50(1H,dd,J=7.8,1.2Hz),6.87(1H,d,J=1.2Hz),6.96-7.10(5H,m),7.13(1H,d,J=2.2Hz),7.45(1H,dd,J=4.9,3.0Hz),7.79(1H,d,J=7.8Hz),12.08(1H,s).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（１Ｈ−インドール−４−イル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.84-2.91(2H,m),3.04-3.11(2H,m),6.43(1H,s),6.64(1H,d,J=8.0Hz),6.70-6.76(2H,m),6.85-7.06(5H,m),7.26(1H,d,J=8.0Hz),7.29(1H,t,J=2.7Hz),7.81(1H,d,J=8.0Hz),11.07(1H,s).
４−（２−（ベンゾチオフェン−５−イル）エチル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.83(2H,t,J=7.2Hz),2.97(2H,t,J=7.2Hz),6.58(1H,dd,J=7.9,1.2Hz),6.75(1H,d,J=1.2Hz),6.82-6.91(3H,m),6.97-7.08(1H,m),7.19(1H,dd,J=8.3,1.3Hz),7.38(1H,d,J=5.5Hz),7.66(1H,s),7.72(1H,d,J=5.5Hz),7.81(1H,d,J=7.9Hz),7.90(1H,d,J=8.3Hz).
４−（２−（ベンゾフラン−５−イル）エチル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.78-2.82(2H,m),2.91-2.97(2H,m),6.51-6.56(1H,m),6.74(1H,s),6.80-6.91(5H,m),7.12(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.41(1H,d,J=1.5Hz),7.49(1H,d,J=8.3Hz),7.79(1H,d,J=7.8Hz),7.95(1H,d,J=2.2Hz).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（４−ヒドロキシフェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.66-2.76(4H,m),6.50(1H,dd,J=8.0,1.4Hz),6.66(2H,d,J=8.3Hz),6.74(1H,d,J=1.4Hz),6.88-6.95(4H,m),7.00-7.07(2H,m),7.79(1H,d,J=8.0Hz),7.95(1H,s),9.19(1H,s).
４−（２−シクロヘキシルエチル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：0.80-0.93(2H,m),1.05-1.25(4H,m),1.35-1.43(2H,m),1.55-1.73(5H,m),2.45-2.50(2H,m),6.57(1H,dd,J=8.1,1.3Hz),6.88(1H,d,J=1.3Hz),7.14-7.26(4H,m),7.79(1H,d,J=8.1Hz).
４−（３−シクロヘキシルプロピル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：0.75-0.87(2H,m),1.05-1.24(6H,m),1.46-1.67(7H,m),2.42-2.48(2H,m),6.60(1H,dd,J=8.1,1.2Hz),6.87(1H,d,J=1.2Hz),7.16-7.22(2H,m),7.24-7.29(2H,m),7.79(1H,d,J=8.1Hz),9.42-9.72(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（３−ヒドロキシフェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.73-2.77(4H,m),6.53-6.62(3H,m),6.64(1H,dd,J=8.1,1.4Hz),6.78(1H,d,J=1.4Hz),7.01-7.15(5H,m),7.80(1H,d,J=8.1Hz),9.04-9.43(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（２−メチルフェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.18(3H,s),2.71-2.85(4H,m),6.67(1H,dd,J=8.1,1.4Hz),6.78(1H,d,J=1.4Hz),7.04-7.15(8H,m),7.81(1H,d,J=8.1Hz).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（４−フルオロフェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.74-2.86(4H,m),6.64(1H,dd,J=8.1,0.9Hz),6.78(1H,d,J=0.9Hz),7.04-7.22(8H,m),7.80(1H,d,J=8.1Hz).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（３−フルオロ−４−メチルフェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.19(3H,s),2.77-2.83(4H,m),6.64(1H,dd,J=8.2,1.5Hz),6.81(1H,d,J=1.5Hz),6.88(1H,dd,J=7.8,1.2Hz),6.96(1H,dd,J=11.2,1.2Hz),7.08-7.18(5H,m),7.80(1H,d,J=8.2Hz).
４−（２−（２，４−ジフルオロフェニル）エチル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.72-2.87(4H,m),6.61(1H,dd,J=8.1,1.2Hz),6.75(1H,d,J=1.2Hz),6.99(1H,td,J=8.5,2.7Hz),7.05-7.29(6H,m),7.80(1H,d,J=8.1Hz).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（４−メトキシフェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.73-2.79(4H,m),3.71(3H,s),6.63(1H,dd,J=8.0,1.1Hz),6.76(1H,s),6.83(2H,d,J=8.5Hz),7.02-7.14(6H,m),7.80(1H,d,J=8.0Hz).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（２−ヒドロキシフェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.70-2.79(4H,m),6.59(1H,dd,J=8.1,1.5Hz),6.67(1H,td,J=7.4,1.1Hz),6.78-6.83(2H,m),6.93(1H,dd,J=7.4,1.6Hz),6.99-7.13(5H,m),7.80(1H,d,J=8.1Hz),9.29(1H,s).
４−（２−（ベンゾチオフェン−３−イル）エチル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.93(2H,t,J=7.4Hz),3.09(2H,t,J=7.4Hz),6.70(1H,d,J=8.3Hz),6.82(1H,s),6.99-7.08(4H,m),7.34-7.41(3H,m),7.76-7.85(2H,m),7.97-8.02(1H,m).
４−（２−（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）エチル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.72-2.77(4H,m),5.95(2H,s),6.59-6.65(2H,m),6.76-6.83(3H,m),7.10-7.15(4H,m),7.80(1H,d,J=8.0Hz).
４−（２−（３−アミノフェニル）エチル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.62-2.76(4H,m),6.28(1H,d,J=7.7Hz),6.37(1H,s),6.41(1H,dd,J=7.7,1.3Hz),6.63(1H,dd,J=8.2,1.4Hz),6.79(1H,d,J=1.4Hz),6.90(1H,t,J=7.7Hz),7.04-7.16(4H,m),7.80(1H,d,J=8.2Hz).
４−（２−（２，３−ジヒドロベンゾ［１，４］ジオキシン−６−イル）エチル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.67-2.78(4H,m),4.18(4H,s),6.60-6.66(3H,m),6.74(1H,d,J=8.0Hz),6.81(1H,s),7.07-7.16(4H,m),7.79(1H,d,J=8.0Hz).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.77-2.83(4H,m),3.70(3H,s),6.65(1H,dd,J=8.1,1.5Hz),6.71-6.78(3H,m),6.81(1H,d,J=1.5Hz),7.04-7.20(5H,m),7.80(1H,d,J=8.1Hz).
４−（２−（４−エチルフェニル）エチル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.15(3H,t,J=7.6Hz),2.56(2H,q,J=7.6Hz),2.76-2.81(4H,m),6.64(1H,dd,J=8.0,1.5Hz),6.82(1H,d,J=1.5Hz),7.05-7.15(8H,m),7.80(1H,d,J=8.0Hz).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（４−（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）フェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.79(2H,t,J=7.4Hz),2.88(2H,t,J=7.4Hz),6.50-6.55(2H,m),6.77(1H,s),6.86-6.96(4H,m),7.27(2H,d,J=8.5Hz),7.72(1H,d,J=2.4Hz),7.74(2H,d,J=8.5Hz),7.81(1H,d,J=7.8Hz),8.46(1H,d,J=2.4Hz),11.89-12.02(1H,broad).
実施例１６９
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.10gのトルエン3.0mL溶液に、室温で２−ブロモベンゾトリフルオリド0.11mL、炭酸セシウム0.22g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.0mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム1.5mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.0mgを加え、110℃で20時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェネチル−２−（２−（トリフルオロメチル）アニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェネチル−２−（２−（トリフルオロメチル）アニリノ）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、白色固体の４−フェネチル−２−（２−（トリフルオロメチル）アニリノ）安息香酸17mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.84(4H,s),6.79(1H,d,J=8.3Hz),6.86-6.90(1H,m),7.13-7.32(7H,m),7.55(1H,t,J=7.7Hz),7.71(1H,d,J=7.8Hz),7.85(1H,d,J=8.3Hz),9.95(1H,s),13.13(1H,s).
実施例１７０〜１７５
実施例１６９と同様にして、表２７に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
４−フェネチル−２−（４−（トリフルオロメチル）アニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.89(4H,s),6.85(1H,dd,J=8.1,1.2Hz),7.13-7.31(8H,m),7.57(2H,d,J=8.5Hz),7.86(1H,d,J=8.3Hz),9.72(1H,s),13.11(1H,s).
２−（２，５−ジフルオロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.88(4H,s),6.79-6.90(2H,m),7.03-7.07(1H,m),7.12-7.37(7H,m),7.85(1H,d,J=8.0Hz),9.78(1H,s),13.17(1H,s).
２−（２，４−ジメチルアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.10(3H,s),2.27(3H,s),2.72-2.84(4H,m),6.52-6.55(1H,m),6.60(1H,dd,J=8.2,1.3Hz),6.95-7.01(2H,m),7.08-7.27(6H,m),7.78(1H,d,J=8.3Hz),9.36(1H,s),12.80(1H,s).
２−（２，３−ジメチルアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.05(3H,s),2.27(3H,s),2.71-2.83(4H,m),6.49(1H,dd,J=6.2,1.3Hz),6.60(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),6.93(1H,d,J=7.8Hz),6.99(1H,d,J=7.3Hz),7.06(1H,t,J=7.7Hz),7.11-7.20(3H,m),7.21-7.27(2H,m),7.79(1H,d,J=8.0Hz),9.43(1H,s),12.83(1H,s).
２−（３−フルオロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.86(4H,s),6.74-6.89(3H,m),6.95(1H,dt,J=11.2,2.2Hz),7.05(1H,d,J=1.4Hz),7.15-7.22(3H,m),7.23-7.34(3H,m),7.83(1H,d,J=8.0Hz),9.63(1H,s),13.03(1H,s).
２−（３，４−ジフルオロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.84(4H,s),6.74(1H,d,J=8.3Hz),6.84-6.95(2H,m),7.15-7.38(7H,m),7.82(1H,d,J=8.0Hz),9.53(1H,s),13.00(1H,s).
実施例１７６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.10gのトルエン3.0mL溶液に、室温で３−ブロモトルエン0.10mL、炭酸セシウム0.22g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.0mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム1.5mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.0mgを加え、110℃で20時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（３−メチルアニリノ）−４−フェネチルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（３−メチルアニリノ）−４−フェネチルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；77-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、白色固体の２−（３−メチルアニリノ）−４−フェネチル安息香酸15mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.28(3H,s),2.77-2.88(4H,m),6.67(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),6.83-6.89(2H,m),6.93-7.00(2H,m),7.14-7.22(4H,m),7.23-7.29(2H,m),7.81(1H,d,J=8.0Hz),9.58(1H,s),12.91(1H,s).
実施例１７７〜１８１
実施例１７６と同様にして、表２８に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（４−メチルアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.28(3H,s),2.75-2.89(4H,m),6.64(1H,d,J=7.8Hz),6.85(1H,s),6.95(2H,d,J=8.0Hz),7.08-7.32(7H,m),7.79(1H,d,J=8.3Hz),9.52(1H,s),12.86(1H,s).
２−（３，４−ジメチルアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.19(6H,s),2.72-2.88(4H,m),6.60-6.66(1H,m),6.80(1H,dd,J=8.0,2.2Hz),6.86-6.95(2H,m),7.07(1H,d,J=8.1Hz),7.12-7.30(5H,m),7.78(1H,d,J=8.0Hz),9.50(1H,s),12.84(1H,s).
２−（２−エチルアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.12(3H,t,J=7.6Hz),2.54(2H,q,J=7.6Hz),2.73-2.85(4H,m),6.60-6.70(2H,m),7.04-7.31(9H,m),7.80(1H,d,J=8.0Hz),9.54(1H,s),12.88(1H,s).
２−（４−クロロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.82-2.87(4H,m),6.73(1H,dd,J=8.2,1.6Hz),6.93(1H,d,J=1.2Hz),7.03-7.09(2H,m),7.15-7.34(7H,m),7.82(1H,d,J=8.3Hz),9.50-9.70(1H,broad),12.80-13.20(1H,broad).
２−（２−メトキシアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.78-2.89(4H,m),3.81(3H,s),6.67(1H,dd,J=8.2,1.3Hz),6.87(1H,td,J=7.6,1.6Hz),6.94-7.12(4H,m),7.15-7.30(5H,m),7.80(1H,d,J=8.0Hz),9.56(1H,s),12.70-13.00(1H,broad).
実施例１８２
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.10gのトルエン3.0mL溶液に、室温で１，３−ジクロロ−２−ヨードベンゼン0.23g、炭酸セシウム0.22g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.0mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム1.5mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.0mgを加え、110℃で20時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（２，６−ジクロロアニリノ）−４−フェネチルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（２，６−ジクロロアニリノ）−４−フェネチルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；75-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、白色固体の２−（２，６−ジクロロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸9.4mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.76(4H,m),6.04(1H,d,J=1.2Hz),6.66(1H,dd,J=8.1,1.2Hz),7.08-7.24(5H,m),7.36(1H,t,J=8.2Hz),7.61(2H,d,J=8.3Hz),7.80(1H,d,J=8.0Hz),9.52(1H,s),13.00(1H,s).
実施例１８３
Figure 2006098308
実施例１８２と同様にして、以下の化合物を得た。
２−（４−フルオロ−３−メチルアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.21(1H,d,J=1.7Hz),2.76-2.87(4H,m),6.65(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),6.82(1H,s),6.87-6.93(1H,m),7.03-7.11(2H,m),7.13-7.22(3H,m),7.23-7.29(2H,m),7.79(1H,d,J=8.0Hz),9.48(1H,s),12.75-13.05(1H,broad).
実施例１８４
Figure 2006098308
２−（４−アセチルアニリノ）−４−フェネチル安息香酸10mgのメタノール1.0mLおよび酢酸エチル1.0mLの混液に、室温で5％パラジウム−炭素2.0mgを加え、水素雰囲気下、40℃で7時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去させ、白色固体の２−（４−エチルアニリノ）−４−フェネチル安息香酸9.7mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.17(3H,t,J=7.6Hz),2.53(2H,q,J=7.6Hz),2.72-2.88(4H,m),6.49(1H,dd,J=7.8,1.5Hz),6.86-6.92(3H,m),7.02-7.08(2H,m),7.16-7.30(5H,m),7.80(1H,d,J=7.8Hz),11.70-11.85(1H,broad).
実施例１８５
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート94mgのトルエン3.0mL溶液に、室温で４−ヨードアニソール0.20g、炭酸セシウム0.23g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で6時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム1.6mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、４−ヨードアニソール0.20g、炭酸セシウム0.23g、酢酸パラジウム1.6mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−メトキシアニリノ）−４−フェニルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−メトキシアニリノ）−４−フェニルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の２−（４−メトキシアニリノ）−４−フェニル安息香酸44mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.77(3H,s),6.95-7.01(3H,m),7.14(1H,d,J=1.7Hz),7.24-7.30(2H,m),7.35-7.48(3H,m),7.50-7.55(2H,m),7.95(1H,d,J=8.3Hz),9.51(1H,s),13.00(1H,s).
実施例１８６、１８７
実施例１８５と同様にして、表２９に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（２−メトキシアニリノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.84(3H,s),6.95-7.20(4H,m),7.36-7.53(5H,m),7.56-7.63(2H,m),7.98(1H,d,J=8.3Hz),9.65(1H,s),12.85-13.15(1H,broad).
２−（３−クロロアニリノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.07-7.11(1H,m),7.16(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.31-7.51(7H,m),7.59-7.64(2H,m),8.00(1H,d,J=8.3Hz),9.68(1H,s),13.21(1H,s).
実施例１８８
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート94mgのトルエン3.0mL溶液に、室温で４−ブロモトルエン0.11mL、炭酸セシウム0.23g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で6時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム1.6mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−メチルアニリノ）−４−フェニルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−メチルアニリノ）−４−フェニルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（４−メチルアニリノ）−４−フェニル安息香酸8.7mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.30(3H,s),7.02(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.12-7.28(4H,m),7.31-7.34(1H,m),7.36-7.48(3H,m),7.53-7.58(2H,m),7.97(1H,d,J=8.3Hz),9.62(1H,s),13.06(1H,s).
実施例１８９〜１９４
実施例１８８と同様にして、表３０に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（３−メチルアニリノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.31(3H,s),6.92(1H,d,J=7.6Hz),7.06(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.11(1H,s),7.15(1H,d,J=8.0Hz),7.27(1H,t,J=7.8Hz),7.37-7.49(4H,m),7.55-7.61(2H,m),7.98(1H,d,J=8.3Hz),9.67(1H,s),13.10(1H,s).
４−フェニル−２−（４−（トリフルオロメトキシ）アニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.13(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.33-7.50(8H,m),7.60-7.65(2H,m),8.01(1H,d,J=8.3Hz),9.74(1H,s),13.20(1H,s).
４−フェニル−２−（３−（トリフルオロメトキシ）アニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.01(1H,d,J=8.3Hz),7.18(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),7.31-7.54(7H,m),7.60-7.65(2H,m),8.02(1H,d,J=8.3Hz),9.74(1H,s),13.24(1H,s).
２−（４−ニトロアニリノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.35-7.53(6H,m),7.70-7.76(3H,m),8.05(1H,d,J=8.3Hz),8.17(2H,d,J=9.0Hz),9.92(1H,s),13.37(1H,s).
２−（４−メトキシ−２−メチルアニリノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.18(3H,s),3.76(3H,s),6.71-6.75(1H,m),6.84(1H,dd,J=8.5,2.9Hz),6.91-6.96(2H,m),7.25(1H,d,J=8.5Hz),7.34-7.50(5H,m),7.94(1H,d,J=8.3Hz),9.34(1H,s),12.95(1H,s).
４−フェニル−２−（２−（トリフルオロメトキシ）アニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.14-7.22(2H,m),7.38-7.51(6H,m),7.61-7.66(2H,m),7.78(1H,dd,J=8.0,1.5Hz),8.03(1H,d,J=8.3Hz),10.07(1H,s),13.33(1H,s).
実施例１９５
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.10gのトルエン3.0mL溶液に、室温で１−ブロモ−４−（トリフルオロメトキシ）ベンゼン0.13mL、炭酸セシウム0.23g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で6時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、室温で酢酸パラジウム1.6mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェネチル−２−（４−（トリフルオロメトキシ）アニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェネチル−２−（４−（トリフルオロメトキシ）アニリノ）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、白色固体の４−フェネチル−２−（４−（トリフルオロメトキシ）アニリノ）安息香酸20mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.85(4H,s),6.72-6.78(1H,m),6.97(1H,s),7.11-7.30(9H,m),7.83(1H,d,J=8.0Hz),9.62(1H,s),13.00(1H,s).
実施例１９６〜１９９
実施例１９５と同様にして、表３１に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（４−ニトロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.92(4H,s),7.00(1H,dd,J=8.1,1.5Hz),7.06-7.12(2H,m),7.18-7.32(6H,m),7.88(1H,d,J=8.0Hz),8.05-8.11(2H,m),9.82(1H,s),13.10-13.35(1H,broad).
４−フェネチル−２−（３−（トリフルオロメトキシ）アニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.86(4H,s),6.79(1H,dd,J=8.2,1.3Hz),6.93-6.98(1H,m),7.03-7.09(2H,m),7.12(1H,s),7.15-7.21(3H,m),7.23-7.30(2H,m),7.38(1H,t,J=8.2Hz),7.84(1H,d,J=8.1Hz),9.62(1H,s),13.05(1H,s).
２−（４−メトキシ−２−メチルアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.09(3H,s),2.69-2.81(4H,m),3.76(3H,s),6.33(1H,d,J=1.2Hz),6.55(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),6.77(1H,dd,J=8.5,2.9Hz),6.89(1H,d,J=3.0Hz),7.00(1H,d,J=8.6Hz),7.09-7.27(5H,m),7.76(1H,d,J=8.0Hz),9.22(1H,s),12.74(1H,s).
４−フェネチル−２−（２−（トリフルオロメトキシ）アニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.87(4H,m),6.76-6.81(1H,m),6.98-7.02(1H,m),7.08-7.15(1H,m),7.15-7.23(3H,m),7.24-7.34(4H,m),7.40-7.44(1H,m),7.85(1H,d,J=8.3Hz),9.98(1H,s),13.14(1H,s).
実施例２００
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.10gのトルエン3.0mL溶液に、室温で１−クロロ−３−ヨードベンゼン0.11mL、炭酸セシウム0.23g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で6時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム1.6mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（３−クロロアニリノ）−４−フェネチルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（３−クロロアニリノ）−４−フェネチルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（３−クロロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸21mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.86(4H,s),6.76(1H,dd,J=8.2,1.3Hz),6.97-7.06(3H,m),7.15-7.21(4H,m),7.24-7.32(3H,m),7.83(1H,d,J=8.1Hz),9.58(1H,s),13.02(1H,s).
実施例２０１
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.10gのトルエン3.0mL溶液に、室温で４−（４−ブロモフェニル）モルホリン0.21g、炭酸セシウム0.23g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で6時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム1.6mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、４−（４−ブロモフェニル）モルホリン0.21g、炭酸セシウム0.23g、酢酸パラジウム1.6mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−モルホリノアニリノ）−４−フェネチルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−モルホリノアニリノ）−４−フェネチルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；45-80％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、白色固体の２−（４−モルホリノアニリノ）−４−フェネチル安息香酸11mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.72-2.85(4H,m),3.09(4H,t,J=4.8Hz),3.75(4H,t,J=4.8Hz),6.58(1H,d,J=8.3Hz),6.72(1H,s),6.92(2H,d,J=9.0Hz),6.97(2H,d,J=9.0Hz),7.12-7.22(3H,m),7.22-7.30(2H,m),7.76(1H,d,J=8.0Hz),9.40(1H,s),12.76(1H,s).
実施例２０２
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート94mgのトルエン3.0mL溶液に、室温で４−（４−ブロモフェニル）モルホリン0.21g、炭酸セシウム0.23g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で6時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸パラジウム1.6mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、４−（４−ブロモフェニル）モルホリン0.21g、炭酸セシウム0.23g、酢酸パラジウム1.6mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.2mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル8.3mgを加え、110℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−モルホリノアニリノ）−４−フェニルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−モルホリノアニリノ）−４−フェニルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；50-80％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、黄色固体の２−（４−モルホリノアニリノ）−４−フェニル安息香酸31mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.10(4H,t,J=4.8Hz),3.74(4H,t,J=4.8Hz),6.93-6.99(1H,m),6.99(2H,d,J=8.8Hz),7.15-7.19(1H,m),7.21(2H,d,J=8.8Hz),7.35-7.47(3H,m),7.50-7.55(2H,m),7.94(1H,d,J=8.3Hz),9.50(1H,s),12.96(1H,s).
実施例２０３
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.10gのトルエン2.1mL溶液に、室温でエタノール0.6mL、水0.3mL、３−フルオロフェニルボロン酸46mg、炭酸水素ナトリウム69mgおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）16mgを加え、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）16mgを加え、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、トルエンおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−フルオロフェニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−フルオロフェニル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にヘキサンを加え、固形物をろ取し、黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−フルオロフェニル）安息香酸56mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.07(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.19-7.29(4H,m),7.35-7.45(4H,m),7.49(1H,td,J=8.1,6.2Hz),7.98(1H,d,J=8.3Hz),9.63(1H,s),13.12-13.21(1H,broad).
実施例２０４〜２２３
実施例２０３と同様にして、表３２に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−フルオロフェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.95(1H,d,J=8.3Hz),7.17-7.38(7H,m),7.40-7.47(1H,m),7.50(1H,td,J=7.9,1.5Hz),7.99(1H,d,J=8.3Hz),9.60(1H,s),13.18(1H,s).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−フルオロ−４−メチルフェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.25(3H,s),7.05(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.18-7.27(3H,m),7.29-7.40(5H,m),7.96(1H,d,J=8.3Hz),9.58-9.70(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−フルオロ−２−メチルフェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.21(3H,s),6.72(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),6.80-6.90(1H,m),7.05(1H,td,J=8.6,2.6Hz),7.14(1H,dd,J=10.2,2.4Hz),7.16-7.24(3H,m),7.28-7.35(2H,m),7.94(1H,d,J=8.0Hz),9.59(1H,s),13.00-13.20(1H,broad).
４−（４−クロロフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.05(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.18-7.26(3H,m),7.34-7.40(2H,m),7.48-7.53(2H,m),7.57-7.63(2H,m),7.98(1H,d,J=8.3Hz),9.50-9.70(1H,broad),13.00-13.30(1H,broad).
４−（２−クロロフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.81(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.04(1H,d,J=1.5Hz),7.17-7.23(2H,m),7.30-7.35(2H,m),7.38-7.42(3H,m),7.52-7.57(1H,m),7.97(1H,d,J=8.3Hz),9.60(1H,s).
４−（３，４−ジメトキシフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.78(3H,s),3.80(3H,s),6.99-7.27(7H,m),7.33-7.40(2H,m),7.94(1H,d,J=8.3Hz),9.61(1H,s),13.04(1H,s).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−イソプロポキシフェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.27(6H,d,J=6.1Hz),4.64(1H,sep,J=6.1Hz),6.95-7.00(2H,m),7.01(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.19-7.26(3H,m),7.34-7.39(2H,m),7.46-7.51(2H,m),7.94(1H,d,J=8.6Hz),9.60(1H,s),13.01(1H,s).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−ニトロフェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.15(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.19-7.26(2H,m),7.33(1H,d,J=1.4Hz),7.35-7.42(2H,m),7.75(1H,t,J=8.0Hz),8.00-8.07(2H,m),8.21-8.26(1H,m),8.33(1H,t,J=1.9Hz),9.60-9.80(1H,broad),13.00-13.04(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−ニトロフェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.14(1H,dd,J=8.2,1.6Hz),7.19-7.26(2H,m),7.33(1H,d,J=1.4Hz),7.36-7.42(2H,m),7.86(2H,d,J=9.0Hz),8.03(1H,d,J=8.3Hz),8.28(2H,d,J=9.0Hz),9.65(1H,s),13.10-13.40(1H,broad).
４−（２，３−ジメチルフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.09(3H,s),2.26(3H,s),6.68(1H,dd,J=8.1,1.5Hz),6.86(1H,d,J=1.5H),6.99(1H,d,J=6.8Hz),7.10(1H,t,J=7.6Hz),7.12-7.22(3H,m),7.27-7.34(2H,m),7.94(1H,d,J=8.3Hz),9.59(1H,s),13.07(1H,s).
４−（３，４−ジメチルフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.23(3H,s),2.26(3H,s),7.02(1H,d,J=8.3Hz),7.17-7.29(5H,m),7.32-7.39(3H,m),7.95(1H,d,J=8.3Hz),9.57-9.65(1H,broad),12.90-13.20(1H,broad).
４−（２，６−ジメチルフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.99(6H,s),6.54(1H,dd,J=8.0,1.5Hz),6.71(1H,d,J=1.2Hz),7.05-7.10(2H,m),7.11-7.22(3H,m),7.23-7.29(2H,m),7.97(1H,d,J=8.1Hz),9.59(1H,s),13.08(1H,s).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−ヒドロキシフェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.85(1H,t,J=7.4Hz),6.91(1H,d,J=7.8Hz),6.94(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),7.14-7.21(3H,m),7.24(1H,dd,J=7.6,1.4Hz),7.29-7.37(3H,m),7.91(1H,d,J=8.3Hz),9.56(1H,s),9.63(1H,s),12.99(1H,s).
４−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.19(6H,s),6.97(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.13(2H,s),7.19-7.25(3H,m),7.31-7.37(2H,m),7.91(1H,d,J=8.3Hz),8.48(1H,s),9.59(1H,s),12.96(1H,s).
４−（３−クロロ−４−メトキシフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.88(3H,s),7.04(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.19-7.25(4H,m),7.34-7.40(2H,m),7.52(1H,dd,J=8.6,2.3Hz),7.64(1H,d,J=2.2Hz),7.95(1H,d,J=8.3Hz),9.62(1H,s),13.09(1H,s).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−メチルフェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.35(3H,s),7.03(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.18-7.26(4H,m),7.31-7.40(5H,m),7.97(1H,d,J=8.3Hz),9.50-9.70(1H,broad),12.90-13.20(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（トリフルオロメトキシ）フェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.85(1H,dd,J=8.2,1.5Hz),7.06-7.11(1H,m),7.16-7.24(2H,m),7.27-7.35(2H,m),7.42-7.56(4H,m),7.98(1H,d,J=8.2Hz),9.57(1H,s),13.10-13.30(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−（トリフルオロメトキシ）フェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.08(1H,dd,J=8.4,1.6Hz),7.18-7.30(3H,m),7.34-7.44(3H,m),7.52-7.64(3H,m),7.99(1H,d,J=8.4Hz),9.66(1H,s),12.90-13.30(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−（トリフルオロメトキシ）フェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.06(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.18-7.28(3H,m),7.33-7.47(4H,m),7.67-7.74(2H,m),7.99(1H,d,J=8.3Hz),9.63(1H,s),13.15(1H,s).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−オキソ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インドール−５−イル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.51(2H,s),6.87(1H,d,J=8.0Hz),6.99(1H,dd,J=8.5,1.6Hz),7.18-7.26(3H,m),7.32-7.44(4H,m),7.94(1H,d,J=8.5Hz),9.60(1H,s),10.48(1H,s),13.01(1H,s).
実施例２２４
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾアート79mgのトルエン1.6mL溶液に、室温でエタノール0.60mL、水0.30mL、５−ブロモベンゾチオフェン61mg、炭酸水素ナトリウム48mgおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）11mgを加え、6時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（ベンゾチオフェン−５−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（ベンゾチオフェン−５−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；80-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、黄色固体の４−（ベンゾチオフェン−５−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸16mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.13(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.19-7.27(2H,m),7.34-7.43(3H,m),7.52(1H,d,J=5.6Hz),7.56(1H,dd,J=8.5,1.6Hz),7.81(1H,d,J=5.6Hz),8.00(1H,d,J=8.3Hz),8.07(1H,d,J=8.5Hz),8.10(1H,d,J=1.6Hz),9.66(1H,s),13.10(1H,s).
実施例２２５〜２３１
実施例２２４と同様にして、表３３に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
４−（ベンゾフラン−５−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.00(1H,dd,J=2.2,0.7Hz),7.09(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.19-7.27(2H,m),7.28-7.32(1H,m),7.35-7.42(2H,m),7.51(1H,dd,J=8.7,1.8Hz),7.66(1H,d,J=8.7Hz),7.86(1H,d,J=1.4Hz),7.98(1H,d,J=8.3Hz),8.04(1H,d,J=2.2Hz),9.64(1H,s),12.95-13.20(1H,broad).
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（キノキサリン−６−イル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.21-7.30(3H,m),7.39-7.47(3H,m),8.06(1H,d,J=8.0Hz),8.09(1H,dd,J=8.8,2.0Hz),8.18(1H,d,J=8.8Hz),8.26(1H,d,J=2.0Hz),8.94-9.01(2H,m),9.67(1H,s).
４−（５−クロロ−２−メチルフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.17(3H,s),6.73(1H,dd,J=8.1,1.6Hz),6.86-6.90(1H,m),7.16-7.24(3H,m),7.28-7.36(4H,m),7.95(1H,d,J=8.1Hz),9.60(1H,s),13.14(1H,s).
４−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.78(3H,s),6.87(1H,dd,J=8.2,1.7Hz),7.13(1H,d,J=8.8Hz),7.17-7.26(3H,m),7.29-7.36(3H,m),7.40(1H,dd,J=8.8,2.7Hz),7.92(1H,d,J=8.2Hz),9.54(1H,s),13.10(1H,s).
４−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.98-7.06(2H,m),7.17-7.27(3H,m),7.32-7.41(3H,m),7.54(1H,d,J=2.2Hz),7.93(1H,d,J=8.3Hz),9.60(1H,s),10.44(1H,s),13.05(1H,s).
４−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.35(3H,s),7.05(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.18-7.26(3H,m),7.33-7.47(4H,m),7.60(1H,s),7.97(1H,d,J=8.3Hz),9.62(1H,s),13.14(1H,s).
４−（３−クロロ−２−メチルフェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.22(3H,s),6.72(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),6.86-6.91(1H,m),7.13-7.36(6H,m),7.45(1H,dd,J=8.1,1.0Hz),7.96(1H,d,J=8.3Hz),9.62(1H,s),13.05-13.25(1H,broad).
実施例２３２
Figure 2006098308
メチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート70mgのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド2.5mL溶液に、４−（アセトアミド）フェニルボロン酸77mg、炭酸ナトリウム69mgおよびポリマー担持ジ（アセタート）ジシクロヘキシルフェニルホスフィンパラジウム（II）31mgを加え、90℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、４−（アセトアミド）フェニルボロン酸39mgおよび炭酸ナトリウム22mgを加え、95℃で14時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、1.0mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、エタノール2.0mLおよび2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液1.0mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に6.0mol/L塩酸0.50mL、水3.0mLおよび酢酸エチル4.0mLを加えた。有機層を分取し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；40-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、淡黄色固体の４−（４−（アセトアミド）フェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸14mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.05(3H,s),7.04(1H,d,J=8.1Hz),7.18-7.28(3H,m),7.33-7.41(2H,m),7.49-7.56(2H,m),7.61-7.70(2H,m),7.95(1H,d,J=8.3Hz),9.62(1H,s),10.07(1H,s).
実施例２３３
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.10gのトルエン2.1mL溶液に、室温でエタノール0.60mL、水0.30mL、１−メチル−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−１Ｈ−インドール84mg、炭酸水素ナトリウム69mgおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）16mgを加え、4時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、トルエンおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（１−メチル−１H−インドール−５−イル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（１−メチル−１H−インドール−５−イル）ベンゾアートに、ジオキサン1.5mL、メタノール1.5mLおよび2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液0.29mLを加え、50℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液0.20mLを加え、55℃で1時間30分間攪拌した。次いで、2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液0.29mLを加え、55℃で1時間20分間攪拌し、2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液0.29mLを加え、55℃で1時間攪拌し、2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液0.29mLを加え、55℃で1時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、トルエンおよび水を加えた。水層を分取し、トルエンで洗浄後、1.0mol/L塩酸でpH3.4に調整し、酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（１−メチル−１H−インドール−５−イル）安息香酸37mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.80(3H,m),6.46-6.49(1H,m),7.08(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.18-7.25(2H,m),7.32(1H,d,J=1.4Hz),7.33-7.40(4H,m),7.49(1H,d,J=8.6Hz),7.75(1H,d,J=1.2Hz),7.96(1H,d,J=8.3Hz).
実施例２３４
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾアート60mgのトルエン1.6mL溶液に、室温でエタノール0.60mL、水0.30mL、４−ブロモインドール0.034mL、炭酸水素ナトリウム30mgおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）8.4mgを加え、窒素雰囲気下、5時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（１Ｈ−インドール−４−イル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（１Ｈ−インドール−４−イル）ベンゾアートに、メタノール1.0mL、ジオキサン1.0mLおよび2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液0.23mLを加え、50℃で2時間30分間、次いで、2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液0.23mLを加え、50℃で4時間攪拌し、さらに、2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液0.23mLを加え、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、トルエンおよび水を加えた。水層を分取し、トルエンで洗浄後、1.0mol/L塩酸でpH3.0に調整し、酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（１Ｈ−インドール−４−イル）安息香酸23mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.44-6.48(1H,m),7.03-7.09(2H,m),7.12-7.26(3H,m),7.28(1H,d,J=1.2Hz),7.34-7.44(4H,m),8.00(1H,d,J=8.3Hz),9.59(1H,s),11.29(1H,s),12.90-13.15(1H,broad).
実施例２３５
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート80mgのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド2.5mL溶液に、３−（ヒドロキシメチル）フェニルボロン酸50mg、炭酸ナトリウム58mgおよびポリマー担持ジ（アセタート）ジシクロヘキシルフェニルホスフィンパラジウム（II）7.0mgを加え、110℃で19時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、ポリマー担持ジ（アセタート）ジシクロヘキシルフェニルホスフィンパラジウム（II）7.0mgを加え、110℃で30時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−（ヒドロキシメチル）フェニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−（ヒドロキシメチル）フェニル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；70-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（３−（ヒドロキシメチル）フェニル）安息香酸7.7mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：4.53(2H,d,J=5.6Hz),5.23(1H,t,J=5.6Hz),7.04(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),7.19-7.28(3H,m),7.31-7.45(5H,m),7.51(1H,s),7.98(1H,d,J=8.3Hz),9.62(1H,s).
実施例２３６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート70mgのトルエン1.6mL溶液に、室温でエタノール0.60mL、水0.30mL、２−イソプロポキシフェニルボロン酸0.048mL、炭酸水素ナトリウム48mgおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）11mgを加え、6時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−イソプロポキシフェニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−イソプロポキシフェニル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；80-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、白色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−イソプロポキシフェニル）安息香酸16mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.11(6H,d,J=6.0Hz),4.57(1H,sep,J=6.0Hz),6.86(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),6.94-7.01(1H,m),7.07(1H,d,J=8.0Hz),7.16-7.36(7H,m),7.91(1H,d,J=8.3Hz),9.53(1H,s),13.00(1H,s).
実施例２３７
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート70mgのトルエン1.6mL溶液に、室温でエタノール0.60mL、水0.30mL、４−（ジメチルアミノ）フェニルボロン酸47mg、炭酸水素ナトリウム48mgおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）11mgを加え、6時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（４−(ジメチルアミノ）フェニル)−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（４−(ジメチルアミノ）フェニル)−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、酢酸エチルおよび水を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH6.5に調整した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の４−（４−（ジメチルアミノ）フェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸33mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.93(6H,s),6.73-6.80(2H,m),7.00(1H,dd,J=8.4,1.7Hz),7.18-7.26(3H,m),7.32-7.39(2H,m),7.40-7.46(2H,m),7.90(1H,d,J=8.4Hz),9.59(1H,s),12.92(1H,s).
実施例２３８
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.20gのトルエン4.0mL溶液に、室温でエタノール1.2mL、水0.60mL、４−（ヒドロキシメチル）フェニルボロン酸91mg、炭酸水素ナトリウム0.12gおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）35mgを加え、窒素雰囲気下、6時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製し、淡黄色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−（ヒドロキシメチル）フェニル）ベンゾアート64mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.58(9H,s),4.50-4.54(2H,m),5.22(1H,t,J=5.6Hz),7.06(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.18-7.25(2H,m),7.26(1H,d,J=1.7Hz),7.34-7.41(4H,m),7.50-7.54(2H,m),7.92(1H,d,J=8.3Hz),9.37(1H,s).
実施例２３９
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−（ヒドロキシメチル）フェニル）ベンゾアート64mgのトリフルオロ酢酸5.0mL溶液を室温で1時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物に、ジイソプロピルエーテルおよびヘキサンを加え、固形物をろ取し、淡黄色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４−（ヒドロキシメチル）フェニル）安息香酸2.0mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：4.52(2H,d,J=4.4Hz),5.20-5.26(1H,m),7.05(1H,d,J=8.3Hz),7.15-7.30(3H,m),7.32-7.42(4H,m),7.53(2H,d,J=7.8Hz),7.97(1H,d,J=8.3Hz),9.56-9.74(1H,broad).
実施例２４０
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾアート0.15gのトルエン3.0mL溶液に、室温でエタノール0.90mL、水0.45mL、４−ブロモベンゼンスルホンアミド85mg、炭酸水素ナトリウム0.10gおよびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）21mgを加え、窒素雰囲気下、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（４−（アミノスルホニル）フェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（４−（アミノスルホニル）フェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートのトリフルオロ酢酸3.0mL溶液を室温で30分間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、淡黄色固体の４−（４−（アミノスルホニル）フェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸20mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.10(1H,d,J=7.8Hz),7.18-7.26(2H,m),7.30-7.40(5H,m),7.74-7.81(2H,m),7.84-7.90(2H,m),8.01(1H,d,J=8.0Hz),9.63-9.68(1H,broad),13.16-13.24(1H,broad).
実施例２４１
Figure 2006098308
実施例２４０と同様にして、以下の化合物を得た。
４−（３−（アミノカルボニル）フェニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.12(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.18-7.25(2H,m),7.32(1H,d,J=1.7Hz),7.34-7.46(3H,m),7.53(1H,t,J=7.7Hz),7.68-7.74(1H,m),7.85-7.90(1H,m),8.00(1H,d,J=8.3Hz),8.04-8.12(2H,m),9.64(1H,s),13.12-13.17(1H,broad).
実施例２４２
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.10gのトルエン3.0mL溶液に、室温で１Ｈ−インドール48mg、リン酸三カリウム0.12g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）8.0mg、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンテトラフルオロボラート2.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.0mgを加え、2時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）8.0mg、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンテトラフルオロボラート2.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.0mgを加え、3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）8.0mg、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンテトラフルオロボラート2.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.0mgを加え、7時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、トルエンおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（１Ｈ−インドール−１−イル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（１Ｈ−インドール−１−イル）ベンゾアートに、ジオキサン1.5mL、メタノール1.5mLおよび2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液0.41mLを加え、40℃で5時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液0.41mLを加え、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水を加え、1.0mol/L塩酸でpH3.6に調整し、酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；60-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、白色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（１Ｈ−インドール−１−イル）安息香酸6.0mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.70(1H,d,J=3.2Hz),7.00(1H,dd,J=8.6,2.2Hz),7.08(1H,d,J=2.2Hz),7.10-7.16(1H,m),7.18-7.27(3H,m),7.40-7.46(2H,m),7.57(1H,d,J=8.3Hz),7.61-7.66(2H,m),8.07(1H,d,J=8.6Hz),9.73(1H,s).
実施例２４３
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.10gのトルエン3.0mL溶液に、インドリン0.046mL、炭酸セシウム0.18g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.0mg、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.0mgおよび酢酸パラジウム1.0mgを加え、2時間加熱還流した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.0mg、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.0mgおよび酢酸パラジウム1.0mgを加え、3時間加熱還流した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.0mg、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.0mgおよび酢酸パラジウム1.0mgを加え、7時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、トルエンおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（インドリン−１−イル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（インドリン−１−イル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間10分間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物に、酢酸エチルおよび水を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH6.5に調整した。有機層を分取し、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（インドリン−１−イル）安息香酸22mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.06(2H,t,J=8.4Hz),3.91(2H,t,J=8.4Hz),6.62(1H,dd,J=8.9,2.0Hz),6.73(1H,d,J=2.0Hz),6.78(1H,t,J=7.1Hz),7.03-7.13(2H,m),7.17-7.27(3H,m),7.32-7.40(2H,m),7.85(1H,d,J=8.9Hz),9.66(1H,s).
実施例２４４
Figure 2006098308
実施例２４３と同様にして、以下の化合物を得た。
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−２−イル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.88(2H,t,J=6.0Hz),3.51(2H,t,J=6.0Hz),4.42(2H,s),6.45(1H,dd,J=9.0,2.2Hz),6.48(1H,d,J=2.2Hz),7.16-7.23(6H,m),7.27-7.33(2H,m),7.75(1H,d,J=9.0Hz),9.70(1H,s).
実施例２４５
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.30gのトルエン3.0mL溶液に、室温で２−ニトロアニリン0.17g、炭酸セシウム0.53g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）8.0mg、酢酸パラジウム4.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル20mgを加え、窒素雰囲気下、2時間加熱還流した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）8.0mg、酢酸パラジウム4.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル20mgを加え、3時間加熱還流した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）8.0mg、酢酸パラジウム4.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル20mgを加え、7時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、トルエン、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、黄色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−ニトロアニリノ）ベンゾアート0.35gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.62(9H,s),6.57(1H,dd,J=8.8,2.2Hz),6.80(1H,d,J=2.2Hz),6.81-6.87(1H,m),7.02-7.08(2H,m),7.17-7.24(2H,m),7.37-7.41(2H,m),7.91(1H,d,J=8.8Hz),8.14-8.19(1H,m),9.29(1H,s),9.57(1H,s).
実施例２４６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−ニトロアニリノ）ベンゾアート0.35gのテトラヒドロフラン10mLおよび酢酸エチル5.0mL混液に、10％パラジウム−炭素74mgを加え、水素雰囲気下、室温で4時間30分間攪拌後、34℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にヘキサンを加え、固形物をろ取し、白色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（２−アミノフェニル）アミノ）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.15gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.57(9H,s),5.34(1H,s),6.06(1H,dd,J=8.8,2.3Hz),6.31(1H,d,J=2.3Hz),6.70-6.79(2H,m),6.94-7.10(4H,m),7.14-7.20(2H,m),7.77(1H,d,J=8.8Hz),9.57(1H,s).
実施例２４７
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（２−アミノフェニル）アミノ）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.15gのエチレングリコールモノメチルエーテル3.0mL溶液に、室温でホルムアミジン酢酸塩0.10gを加え、80℃で6時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製し、淡赤色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝４−（１Ｈ−ベンズイミダゾール−１−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.16gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.65(9H,s),6.83(1H,dd,J=8.6,2.2Hz),7.04-7.11(3H,m),7.23-7.28(2H,m),7.30-7.34(2H,m),7.47-7.51(1H,m),7.82-7.86(1H,m),8.05(1H,s),8.10(1H,d,J=8.6Hz),9.68(1H,s).
実施例２４８
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（１Ｈ−ベンズイミダゾール−１−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.16gのトリフルオロ酢酸7.5mL溶液を室温で1時間30分間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸エチルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の４−（１Ｈ−ベンズイミダゾール−１−イル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸トリフルオロ酢酸塩99mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.10(1H,dd,J=8.5,2.2Hz),7.20-7.26(3H,m),7.36-7.48(4H,m),7.63-7.68(1H,m),7.78-7.83(1H,m),8.14(1H,d,J=8.5Hz),8.91(1H,s),9.79(1H,s).
実施例２４９
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.15gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド3.0mL溶液に、室温で２−クロロスチレン0.15mL、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミン0.35mLおよび酢酸パラジウム4.6mgを加え、130℃で4時間攪拌した。２−クロロスチレン0.052mL、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミン0.087mLおよび酢酸パラジウム9.2mgを加え、130℃で2時間攪拌した。酢酸パラジウム4.6mgおよびトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンテトラフルオロボラート5.9mgを加え、130℃で8時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（２−クロロフェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（２−クロロフェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートのトリフルオロ酢酸10mL溶液を室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；85-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、黄色固体の４−（（Ｅ）−２−（２−クロロフェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸4.6mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.08-7.14(1H,m),7.20-7.51(10H,m),7.86-7.95(2H,m),9.59(1H,s),13.06(1H,s).
実施例２５０
Figure 2006098308
実施例２４９と同様にして、以下の化合物を得た。
４−（（Ｅ）−２−（３−クロロフェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.11(1H,dd,J=8.4,1.2Hz),7.18-7.42(9H,m),7.57(1H,d,J=7.8Hz),7.74(1H,s),7.90(1H,d,J=8.4Hz),9.60(1H,s),13.03(1H,s).
実施例２５１
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ビニルベンゾアート0.10gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド3.0mL溶液に、室温で３−ブロモトルエン0.058mL、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミン0.17mLおよび（Ｅ）−ジ（μ−アセタート）ビス（ｏ−（ジ−ｏ−トリルホスフィノ）ベンジル）ジパラジウム（II）6.0mgを加え、90℃で2時間攪拌した。（Ｅ）−ジ（μ−アセタート）ビス（ｏ−（ジ−ｏ−トリルホスフィノ）ベンジル）ジパラジウム（II）6.0mgを加え、110℃で2時間攪拌した。３−ブロモトルエン0.040mL、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミン0.068mLおよび（Ｅ）−ジ（μ−アセタート）ビス（ｏ−（ジ−ｏ−トリルホスフィノ）ベンジル）ジパラジウム（II）6.0mgを加え、110℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（３−メチルフェニル）ビニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（３−メチルフェニル）ビニル）ベンゾアートのトリフルオロ酢酸10mL溶液を室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；60-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（３−メチルフェニル）ビニル）安息香酸を得た。
得られた２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（３−メチルフェニル）ビニル）安息香酸に、酢酸エチル1.0mL、メタノール1.0mLおよび10％パラジウム−炭素2.0mgを順次加え、水素雰囲気下、室温で3時間30分間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去し、白色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（３−メチルフェニル）エチル）安息香酸3.0mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.26(3H,s),2.70-2.84(4H,m),6.56(1H,d,J=7.6Hz),6.83(1H,s),6.93-7.10(7H,m),7.12-7.18(1H,m),7.81(1H,d,J=8.0Hz).
実施例２５２
Figure 2006098308
実施例２５１と同様にして、下記の化合物を得た。
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（４−メチルフェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.26(3H,s),2.69-2.83(4H,m),6.49(1H,dd,J=7.8,1.5Hz),6.81(1H,d,J=1.2Hz),6.91-7.11(8H,m),7.78(1H,d,J=7.8Hz),12.04(1H,s).
実施例２５３
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.15gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド3.0mL溶液に、室温で２−フルオロスチレン0.15g、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミン0.35mLおよび酢酸パラジウム4.6mgを加え、130℃で4時間攪拌した。２−フルオロスチレン0.05g、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミン0.087mLおよび（Ｅ）−ジ（μ−アセタート）ビス（ｏ−（ジ−ｏ−トリルホスフィノ）ベンジル）ジパラジウム（II）4.8mgを加え、130℃で2時間攪拌した。（Ｅ）−ジ（μ−アセタート）ビス（ｏ−（ジ−ｏ−トリルホスフィノ）ベンジル）ジパラジウム（II）9.6mgおよびトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンテトラフルオロボラート5.9mgを加え、130℃で8時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（２−フルオロフェニル）ビニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（２−フルオロフェニル）ビニル）ベンゾアートのトリフルオロ酢酸10mL溶液を室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸2.0mL、ジオキサン2.0mLおよび10％パラジウム−炭素22mgを順次加え、水素雰囲気下、室温で2時間30分間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、ジイソプロピルエーテルおよびヘキサンを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（２−フルオロフェニル）エチル）安息香酸44mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.73-2.91(4H,m),6.57-6.63(1H,m),6.75-6.78(1H,m),7.01-7.30(8H,m),7.80(1H,d,J=8.0Hz).
実施例２５４
Figure 2006098308
実施例２５３と同様にして、以下の化合物を得た。
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（３−フルオロフェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.76-2.89(4H,m),6.65(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),6.81(1H,d,J=1.2Hz),6.97-7.20(7H,m),7.26-7.34(1H,m),7.80(1H,d,J=8.3Hz).
実施例２５５
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ビニルベンゾアート0.15gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド3.0mL溶液に、室温でＮ−（４−ヨードフェニル）アセトアミド0.37g、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミン0.41mLおよび酢酸パラジウム5.4mgを加え、130℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（４−（アセトアミド）フェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（４−（アセトアミド）フェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートに、酢酸2.0mL、ジオキサン2.0mLおよび10％パラジウム−炭素30mgを順次加え、水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にトリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、白色固体の４−（２−（４−（アセトアミド）フェニル）エチル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸60mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.02(3H,s),2.77(4H,s),6.65(1H,d,J=8.3Hz),6.71-6.75(1H,m),7.01-7.07(4H,m),7.09-7.16(2H,m),7.47(2H,d,J=8.3Hz),7.79(1H,d,J=8.1Hz),9.48(1H,s),9.87(1H,s),12.89(1H,s).
実施例２５６
Figure 2006098308
実施例２５５と同様にして、以下の化合物を得た。
２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（２−（メタンスルホンアミド）フェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.76-2.82(2H,m),2.91-3.00(5H,m),6.71(1H,d,J=8.3Hz),6.91-6.96(1H,m),7.13-7.26(7H,m),7.29-7.33(1H,m),7.82(1H,d,J=8.0Hz),9.07(1H,s),9.55(1H,s),12.80-13.00(1H,broad).
実施例２５７
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ビニルベンゾアート0.15gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド3.0mL溶液に、室温でＮ−（３−ブロモフェニル）メタンスルホンアミド0.36g、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミン0.41mLおよび酢酸パラジウム5.4mgを加え、130℃で4時間攪拌した。Ｎ−（３−ブロモフェニル）メタンスルホンアミド0.12g、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミン0.10mLおよび（Ｅ）−ジ（μ−アセタート）ビス（ｏ−（ジ−ｏ−トリルホスフィノ）ベンジル）ジパラジウム（II）5.4mgを加え、130℃で2時間攪拌した。（Ｅ）−ジ（μ−アセタート）ビス（ｏ−（ジ−ｏ−トリルホスフィノ）ベンジル）ジパラジウム（II）11mgおよびトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンテトラフルオロボラート6.9mgを加え、130℃で8時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（３−（メタンスルホンアミド）フェニル）ビニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（３−（メタンスルホンアミド）フェニル）ビニル）ベンゾアートに酢酸2.0mL、ジオキサン2.0mLおよび10％パラジウム−炭素37mgを順次加え、水素雰囲気下、室温で5時間30分間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にトリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（３−（メタンスルホンアミド）フェニル）エチル）安息香酸75mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.75-2.84(4H,m),2.88(3H,s),6.63-6.68(1H,m),6.75-6.79(1H,m),6.91(1H,d,J=7.8Hz),6.96(1H,s),7.02-7.18(5H,m),7.23(1H,t,J=7.8Hz),7.80(1H,d,J=8.3Hz),9.50(1H,s),9.63(1H,s),12.90(1H,s).
実施例２５８
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ビニルベンゾアート0.15gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド3.0mL溶液に、室温で４−ブロモ−ｏ−キシレン0.19mL、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミン0.41mLおよび酢酸パラジウム5.4mgを加え、130℃で4時間攪拌した。４−ブロモ−ｏ−キシレン0.063mL、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルメチルアミン0.10mLおよび（Ｅ）−ジ（μ−アセタート）ビス（ｏ−（ジ−ｏ−トリルホスフィノ）ベンジル）ジパラジウム（II）5.4mgを加え、130℃で2時間攪拌した。（Ｅ）−ジ（μ−アセタート）ビス（ｏ−（ジ−ｏ−トリルホスフィノ）ベンジル）ジパラジウム（II）11mgおよびトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンテトラフルオロボラート6.9mgを加え、130℃で8時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（３，４−ジメチルフェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（３，４−ジメチルフェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートのトリフルオロ酢酸10mL溶液を室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；85-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、４−（（Ｅ）−２−（３，４−ジメチルフェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸を得た。
得られた４−（（Ｅ）−２−（３，４−ジメチルフェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸に、酢酸エチル1.0mL、メタノール1.0mLおよび10％パラジウム−炭素10mgを順次加え、水素雰囲気下、室温で2時間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去し、白色固体の４−（２−（３，４−ジメチルフェニル）エチル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸2.5mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.16(3H,s),2.17(3H,s),2.68-2.81(4H,m),6.66(1H,d,J=8.1Hz),6.80-7.04(4H,m),7.08-7.17(4H,m),7.80(1H,d,J=7.8Hz),9.51(1H,s),12.90(1H,s).
実施例２５９
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ビニルベンゾアート0.10gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド3.0mL溶液に、室温で１−ブロモ−４−（トリフルオロメトキシ）ベンゼン0.12g、トリブチルアミン0.15 mLおよび酢酸パラジウム3.6mgを加え、110℃で6時間攪拌した。酢酸パラジウム3.6mgを加え、130℃で6時間攪拌した。１−ブロモ−４−（トリフルオロメトキシ）ベンゼン0.12g、トリブチルアミン0.076mLおよび（Ｅ）−ジ（μ−アセタート）ビス（ｏ−（ジ−ｏ−トリルホスフィノ）ベンジル）ジパラジウム（II）6.3mgを加え、80℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（４−（トリフルオロメトキシ）フェニル）ビニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（４−（トリフルオロメトキシ）フェニル）ビニル）ベンゾアートのトリフルオロ酢酸10mL溶液を室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；60-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（４−（トリフルオロメトキシ）フェニル）ビニル）安息香酸を得た。
得られた２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（４−（トリフルオロメトキシ）フェニル）ビニル）安息香酸に、酢酸エチル1.0mL、メタノール1.0mLおよび10％パラジウム−炭素2.0mgを順次加え、水素雰囲気下、室温で2時間30分間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去し、白色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（４−（トリフルオロメトキシ）フェニル）エチル）安息香酸3.4mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.74-2.82(2H,m),2.84-2.93(2H,m),6.52(1H,d,J=8.0Hz),6.83(1H,s),6.95-7.08(4H,m),7.25(2H,d,J=8.7Hz),7.31(2H,d,J=8.7Hz),7.80(1H,d,J=7.8Hz).
実施例２６０
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ビニルベンゾアート0.10gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド2.0mL溶液に、室温で３−ブロモ−ｏ−キシレン0.064mL、トリブチルアミン0.15mL、酢酸パラジウム4.0mgおよびトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンテトラフルオロボラート3.0mgを加え、窒素雰囲気下、120℃で2時間攪拌した。酢酸パラジウム4.0mgおよびトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンテトラフルオロボラート3.0mgを加え、窒素雰囲気下、120℃で2時間攪拌した。３−ブロモ−ｏ−キシレン0.064mL、トリブチルアミン0.11mL、酢酸パラジウム4.0mgおよびトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンテトラフルオロボラート3.0mgを加え、窒素雰囲気下、120℃で5時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（２，３−ジメチルフェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートに、酢酸エチル1.5mL、メタノール1.5mLおよび10％パラジウム−炭素27mgを順次加え、水素雰囲気下、室温で3時間20分間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、塩化メチレン1.0mLおよびトリフルオロ酢酸7.5mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、白色固体の４−（２−（２，３−ジメチルフェニル）エチル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸17mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.09(3H,s),2.22(3H,s),2.70(2H,t,J=7.5Hz),2.83(2H,t,J=7.5Hz),6.68(1H,d,J=8.3Hz),6.77(1H,s),6.87-6.92(1H,m),6.96(1H,t,J=7.3Hz),7.01(1H,d,J=7.3Hz),7.07-7.15(4H,m),7.81(1H,d,J=8.0Hz),9.47-9.57(1H,broad),12.85-12.96(1H,broad).
実施例２６１〜２６２
実施例２６０と同様にして、表３４に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−(４−フルオロアニリノ）−４−（２−（３−（トリフルオロメトキシ）フェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.78-2.92(4H,m),6.66(1H,d,J=8.0Hz),6.80(1H,s),7.07-7.23(7H,m),7.40(1H,t,J=7.9Hz),7.80(1H,d,J=8.1Hz),9.47-9.55(1H,broad),12.85-12.96(1H,broad).
４−（２−（３−アセトアミドフェニル）エチル）−２−(４−フルオロアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.01(3H,s),2.78(4H,s),6.66(1H,d,J=8.3Hz),6.75(1H,s),6.81(1H,d,J=7.8Hz),7.04-7.20(5H,m),7.36(1H,s),7.45(1H,d,J=8.0Hz),7.80(1H,d,J=8.3Hz),9.50(1H,s),9.85(1H,s),12.84-12.94(1H,broad).
実施例２６３
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−ブロモ−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアート0.10gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド2.0mL溶液に、室温で３，４−ジメトキシスチレン0.081mL、トリブチルアミン0.13mL、酢酸パラジウム3.0mgおよびトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンテトラフルオロボラート2.0mgを加え、窒素雰囲気下、120℃で2時間攪拌した。酢酸パラジウム3.0mgおよびトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンテトラフルオロボラート2.0mgを加え、120℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（３，４−ジメトキシフェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（（Ｅ）−２−（３，４−ジメトキシフェニル）ビニル）−２−（４−フルオロアニリノ）ベンゾアートに、酢酸エチル1.5mL、メタノール1.5mLおよび10％パラジウム−炭素28mgを順次加え、水素雰囲気下、室温で3時間30分間攪拌した。不溶物をろ去後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にトリフルオロ酢酸7.5mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の４−（２−（３，４−ジメトキシフェニル）エチル）−２−（４−フルオロアニリノ）安息香酸56mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.73-2.81(4H,m),3.68(3H,s),3.71(3H,s),6.61(1H,dd,J=8.0,2.0Hz),6.67(1H,dd,J=8.0,1.2Hz),6.77(2H,s),6.82(1H,d,J=8.3Hz),7.02-7.15(4H,m),7.80(1H,d,J=8.0Hz),9.49(1H,s),12.89(1H,s).
実施例２６４
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−ビニルベンゾアート0.10gのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド2.0mL溶液に、室温で２−ヨードアニソール0.046mL、トリブチルアミン0.15mL、酢酸パラジウム4.0mgおよびトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィンテトラフルオロボラート3.0mgを加え、窒素雰囲気下、110℃で1時間30分間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、10％クエン酸水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（２−メトキシフェニル）ビニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（（Ｅ）−２−（２−メトキシフェニル）ビニル）ベンゾアートに、酢酸4.0mLおよび10％パラジウム−炭素26mgを順次加え、水素雰囲気下、室温で7時間攪拌した。次いで、10％パラジウム−炭素39mgを加え、水素雰囲気下、同温度で3時間攪拌後、40℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、10％パラジウム−炭素64mgを加え、水素雰囲気下、40℃で3時間30分間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、水、酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去し、淡赤色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（２−メトキシフェニル）エチル）ベンゾアート0.11gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.55(9H,s),2.69-2.82(4H,m),3.73(3H,s),6.64(1H,dd,J=8.3,1.2Hz),6.75(1H,s),6.81(1H,t,J=7.4Hz),6.94-7.00(2H,m),7.05-7.23(5H,m),7.75(1H,d,J=8.3Hz),9.25(1H,s).
実施例２６５
Figure 2006098308
実施例２６４と同様にして、以下の化合物を得た。
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）エチル）ベンゾアート
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.55(9H,s),2.78(4H,s),2.92(3H,s),6.66(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),6.77(1H,d,J=1.5Hz),7.05-7.18(8H,m),7.75(1H,d,J=8.0Hz),9.25(1H,s),9.60-9.70(1H,broad).
実施例２６６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（２−メトキシフェニル）エチル）ベンゾアート0.11gのトリフルオロ酢酸7.5mL溶液を室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（４−フルオロアニリノ）−４−（２−（２−メトキシフェニル）エチル）安息香酸12mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.70-2.82(4H,m),3.73(3H,s),6.64(1H,dd,J=8.3,1.3Hz),6.76(1H,s),6.82(1H,td,J=7.4,0.9Hz),6.96(1H,d,J=8.3Hz),7.00(1H,dd,J=7.3,1.7Hz),7.07-7.23(5H,m),7.80(1H,d,J=8.3Hz),9.51(1H,s),12.82-12.93(1H,broad).
実施例２６７
Figure 2006098308
実施例２６６と同様にして、以下の化合物を得た。
２−(４−フルオロアニリノ）−４−（２−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.78(4H,s),2.92(3H,s),6.66(1H,dd,J=8.2,1.2Hz),6.78(1H,s),7.05-7.19(8H,m),7.80(1H,d,J=8.2Hz),9.40-9.60(1H,broad),9.62(1H,s),12.70-13.00(1H,broad).
実施例２６８
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（３−クロロフェニル）ベンゾアート0.12gおよび炭酸セシウム0.32gのトルエン3.0mL懸濁液に、室温で１−ヨード−３，４−メチレンジオキシベンゼン0.20g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.4mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.6mgおよび酢酸パラジウム1.8mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.4mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.6mgおよび酢酸パラジウム1.8mgを加え、110℃で21時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−（３−クロロフェニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−（３−クロロフェニル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−（３−クロロフェニル）安息香酸52mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.04(2H,s),6.79(1H,dd,J=8.2,2.1Hz),6.93(1H,d,J=8.2Hz),6.98(1H,d,J=2.1Hz),7.01(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.14-7.19(1H,m),7.43-7.53(3H,m),7.60(1H,s),7.95(1H,d,J=8.3Hz),9.51(1H,s),13.00-13.15(1H,broad).
実施例２６９、２７０
実施例２６８と同様にして、表３５に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−アニリノ−４−（３−クロロフェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.06-7.14(2H,m),7.30-7.58(8H,m),7.64(1H,s),7.99(1H,d,J=8.3Hz),9.71(1H,s),13.10-13.30(1H,broad).
４−（３−クロロフェニル）−２−（２−メチルアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.24(3H,s),7.01-7.13(3H,m),7.22-7.29(1H,m),7.33(1H,d,J=7.3Hz),7.40-7.51(4H,m),7.57(1H,d,J=1.5Hz),7.99(1H,d,J=8.3Hz),9.60(1H,s),13.05-13.25(1H,broad).
実施例２７１
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（３−クロロフェニル）ベンゾアート0.12gおよび炭酸セシウム0.32gのトルエン3.0mL懸濁液に、室温で３−ヨードフェノール0.17g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.4mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.6mgおよび酢酸パラジウム1.8mgを加え、110℃で24時間攪拌した。２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.4mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.6mgおよび酢酸パラジウム1.8mgを加え、110℃で21時間攪拌した。炭酸セシウム64mg、３−ヨードフェノール43mg、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.4mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.6mgおよび酢酸パラジウム1.8mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（３−クロロフェニル）−２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（３−クロロフェニル）−２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；80-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、黄色固体の４−（３−クロロフェニル）−２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）安息香酸22mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.46-6.52(1H,m),6.69-6.76(2H,m),7.08(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),7.16(1H,t,J=7.9Hz),7.44-7.53(3H,m),7.54-7.60(1H,m),7.65(1H,s),7.98(1H,d,J=8.3Hz),9.49(1H,s),9.66(1H,s),13.05-13.30(1H,broad).
実施例２７２
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（３−クロロフェニル）ベンゾアート0.12gおよび炭酸セシウム0.32gのトルエン3.0mL懸濁液に、室温で５−ブロモベンゾチオフェン0.17g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.4mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.6mgおよび酢酸パラジウム1.8mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.4mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.6mgおよび酢酸パラジウム1.8mgを加え、110℃で21時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（３−クロロフェニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（３−クロロフェニル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；80-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、黄色固体の２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（３−クロロフェニル）安息香酸10mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.08(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.37(1H,dd,J=8.5,2.1Hz),7.37-7.56(5H,m),7.63(1H,s),7.78(1H,d,J=5.4Hz),7.86(1H,d,J=2.1Hz),8.00(2H,d,J=8.3Hz),9.79(1H,s),13.10-13.25(1H,broad).
実施例２７３
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）ベンゾアート0.12gおよび炭酸セシウム0.27gのトルエン3.0mL懸濁液に、室温で２−ヨードトルエン0.084mL、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.9mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.0mgおよび酢酸パラジウム1.5mgを加え、110℃で24時間攪拌した。２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.9mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.0mgおよび酢酸パラジウム1.5mgを加え、110℃で21時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）−２−（２−メチルアニリノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）−２−（２−メチルアニリノ）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の４−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）−２−（２−メチルアニリノ）安息香酸52mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.24(3H,s),3.01(3H,s),7.00(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.04-7.12(2H,m),7.22-7.29(3H,m),7.33(1H,d,J=7.0Hz),7.39-7.44(1H,m),7.48-7.54(2H,m),7.96(1H,d,J=8.3Hz),9.59(1H,s),9.90(1H,s),12.95-13.15(1H,broad).
実施例２７４
Figure 2006098308
実施例２７３と同様にして、以下の化合物を得た。
２−アニリノ−４−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.02(3H,s),7.05(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.06-7.13(1H,m),7.25-7.43(7H,m),7.54-7.61(2H,m),7.97(1H,d,J=8.3Hz),9.71(1H,s),9.92(1H,s),13.00-13.20(1H,broad).
実施例２７５
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）ベンゾアート0.12gおよび炭酸セシウム0.27gのトルエン3.0mL懸濁液に、室温で１−ヨード−３，４−メチレンジオキシベンゼン0.16g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.9mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.0mgおよび酢酸パラジウム1.5mgを加え、110℃で24時間攪拌した。２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.9mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.0mgおよび酢酸パラジウム1.5mgを加え、110℃で21時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；50-90％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、黄色固体の２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）安息香酸2.8mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.02(3H,s),6.04(2H,s),6.74-6.83(1H,m),6.90-7.01(3H,m),7.13-7.18(1H,m),7.24-7.31(2H,m),7.50-7.57(2H,m),7.93(1H,d,J=8.3Hz),9.51(1H,s),9.91(1H,s).
実施例２７６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）ベンゾアート0.12gおよび炭酸セシウム0.27gのトルエン3.0mL懸濁液に、室温で５−ブロモベンゾチオフェン0.14g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.9mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.0mgおよび酢酸パラジウム1.5mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（４−（メタンスルホンアミド）フェニル）安息香酸52mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.01(3H,s),7.04(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),7.26(2H,d,J=8.6Hz),7.36(1H,dd,J=8.6,2.1Hz),7.36-7.41(1H,m),7.44(1H,d,J=5.4Hz),7.56(2H,d,J=8.6Hz),7.78(1H,d,J=5.4Hz),7.84(1H,d,J=2.1Hz),7.95-8.02(2H,m),9.78(1H,s),9.90(1H,s),13.00-13.15(1H,broad).
実施例２７７
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.12gおよび炭酸セシウム0.33gのトルエン3.0mL懸濁液に、室温で２−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン0.16g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.6mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mgおよび酢酸パラジウム1.8mgを加え、110℃で24時間攪拌した。２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.6mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mgおよび酢酸パラジウム1.8mgを加え、110℃で21時間攪拌した。炭酸セシウム66mg、２−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン40mg、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.6mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mgおよび酢酸パラジウム1.8mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（２−（ジメチルアミノ）フェニル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（２−（ジメチルアミノ）フェニル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；50-85％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、酢酸エチル、水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてpH6.5に調整した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にヘキサンを加え、固形物をろ取し、黄色固体の２−（（２−（ジメチルアミノ）フェニル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸7.0mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.59(6H,s),2.78-2.90(4H,m),6.67(1H,dd,J=8.1,1.2Hz),6.89-7.12(5H,m),7.13-7.30(5H,m),7.80(1H,d,J=8.1Hz),9.56(1H,s),12.73(1H,s).
実施例２７８
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニル）ベンゾアート0.12gおよび炭酸セシウム0.25gのトルエン3.0mL懸濁液に、室温で３−ヨードフェノール0.14g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.4mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）2.9mgおよび酢酸パラジウム1.4mgを加え、110℃で24時間攪拌した。２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.4mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）2.9mgおよび酢酸パラジウム1.4mgを加え、110℃で21時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）オキシフェニル）−２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）オキシフェニル）−２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にヘキサンおよびジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の４−（３−ヒドロキシフェニル）−２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）安息香酸10mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.50(1H,d,J=7.6Hz),6.68-6.74(2H,m),6.76-6.82(1H,m),6.92-7.06(3H,m),7.12-7.20(1H,m),7.22-7.29(1H,m),7.39-7.44(1H,m),7.95(1H,d,J=8.3Hz),9.49(1H,s),9.58(1H,s),9.62(1H,s),13.08(1H,s).
実施例２７９、２８０
実施例２７８と同様にして、表３６に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−アニリノ−４−（３−ヒドロキシフェニル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.75-6.81(1H,m),6.91-6.96(1H,m),6.97-7.04(2H,m),7.11(1H,t,J=7.3Hz),7.24(1H,t,J=7.9Hz),7.29-7.43(5H,m),7.97(1H,d,J=8.3Hz),9.57(1H,s),9.68(1H,s),13.09(1H,s).
４−（３−ヒドロキシフェニル）−２−（２−メチルアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.24(3H,s),6.74-6.79(1H,m),6.86-6.90(1H,m),6.91-7.03(3H,m),7.07-7.14(1H,m),7.18-7.29(2H,m),7.34(1H,d,J=7.6Hz),7.37-7.42(1H,m),7.96(1H,d,J=8.3Hz),9.56(2H,s),13.05(1H,s).
実施例２８１
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニル）ベンゾアート0.12gおよび炭酸セシウム0.25gのトルエン3.0mL懸濁液に、室温で１−ヨード−３，４−メチレンジオキシベンゼン0.15g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.4mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）2.9mgおよび酢酸パラジウム1.4mgを加え、110℃で24時間攪拌した。２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.4mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）2.9mgおよび酢酸パラジウム1.4mgを加え、110℃で21時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−（３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−（３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；50-90％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、黄色固体の２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−（３−ヒドロキシフェニル）安息香酸17mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.04(2H,s),6.75-6.80(2H,m),6.88-6.98(5H,m),7.11(1H,d,J=1.7Hz),7.23(1H,t,J=7.9Hz),7.92(1H,d,J=8.3Hz),9.47(1H,s),9.56(1H,s),12.99(1H,s).
実施例２８２
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニル）ベンゾアート0.12gおよび炭酸セシウム0.25gのトルエン3.0mL懸濁液に、室温で５−ブロモベンゾチオフェン0.13g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.4mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）2.9mgおよび酢酸パラジウム1.4mgを加え、110℃で24時間攪拌した。２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.4mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）2.9mgおよび酢酸パラジウム1.4mgを加え、110℃で21時間攪拌した。炭酸セシウム51mg、５−ブロモベンゾチオフェン33mg、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル7.4mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）2.9mgおよび酢酸パラジウム1.4mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（３−ヒドロキシフェニル）安息香酸30mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.76(1H,dd,J=8.1,1.9Hz),6.91(1H,s),6.95-7.03(2H,m),7.22(1H,t,J=7.8Hz),7.32-7.38(2H,m),7.44(1H,d,J=5.4Hz),7.79(1H,d,J=5.4Hz),7.83(1H,d,J=2.0Hz),7.98(1H,d,J=8.3Hz),8.01(1H,d,J=8.8Hz),9.54(1H,s),9.75(1H,s),13.00-13.15(1H,broad).
実施例２８３
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（インドリン−１−イル）ベンゾアート0.12gのトルエン3.0mL溶液に、室温で１−ブロモ−３，４−メチレンジオキシベンゼン0.12mL、炭酸セシウム0.26g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で6時間攪拌した。室温でトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で18時間30分間攪拌した。１−ブロモ−３，４−メチレンジオキシベンゼン0.12mL、炭酸セシウム0.26g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で22時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で20時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−（インドリン−１−イル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−（インドリン−１−イル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にメタノールを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−（インドリン−１−イル）安息香酸31mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.06(2H,t,J=8.5Hz),3.90(2H,t,J=8.5Hz),6.04(2H,s),6.55-6.60(1H,m),6.67-6.71(1H,m),6.75-6.81(2H,m),6.92-6.97(2H,m),7.02-7.12(2H,m),7.19(1H,d,J=7.3Hz),7.82(1H,d,J=8.8Hz),9.51(1H,s),12.45-12.55(1H,broad).
実施例２８４、２８５
実施例２８３と同様にして、表３７に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−アニリノ−４−（インドリン−１−イル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.07(2H,t,J=8.4Hz),3.93(2H,t,J=8.4Hz),6.65(1H,dd,J=8.9,2.3Hz),6.79(1H,t,J=7.3Hz),6.90(1H,d,J=2.2Hz),7.04-7.17(3H,m),7.19(1H,d,J=7.0Hz),7.30-7.36(2H,m),7.36-7.44(2H,m),7.86(1H,d,J=9.0Hz),9.76(1H,s),12.40-12.70(1H,broad).
４−（インドリン−１−イル）−２−（２−メチルアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.23(3H,s),3.05(2H,t,J=8.4Hz),3.88(2H,t,J=8.4Hz),6.56-6.63(2H,m),6.77(1H,t,J=7.1Hz),6.99-7.12(3H,m),7.18(1H,d,J=7.3Hz),7.27(1H,t,J=7.4Hz),7.32(1H,d,J=7.6Hz),7.43(1H,d,J=7.8Hz),7.85(1H,d,J=9.5Hz),9.61(1H,s),12.52(1H,s).
実施例２８６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（インドリン−１−イル）ベンゾアート0.12gの２−メチル−２−プロパノール3.0mL溶液に、室温で３−ヨードフェノール0.22g、炭酸セシウム0.26g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、70℃で12時間攪拌した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、70℃で7時間攪拌した。炭酸セシウム0.26g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、70℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）−４−（インドリン−１−イル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）−４−（インドリン−１−イル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；50-90％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、白色固体の２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）−４−（インドリン−１−イル）安息香酸13mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.08(2H,t,J=8.4Hz),3.94(2H,t,J=8.4Hz),6.46-6.52(1H,m),6.64(1H,dd,J=8.9,2.1Hz),6.69-6.74(2H,m),6.79(1H,t,J=7.3Hz),6.93-6.97(1H,m),7.07(1H,t,J=7.7Hz),7.13-7.23(3H,m),7.85(1H,d,J=9.0Hz),9.47(1H,s),9.68(1H,s),12.55(1H,s).
実施例２８７
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（インドリン−１−イル）ベンゾアート0.12gのトルエン3.0mL溶液に、室温で５−ブロモベンゾチオフェン0.21g、炭酸セシウム0.26g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で12時間攪拌した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で6時間攪拌した。室温で５−ブロモベンゾチオフェン0.21g、炭酸セシウム0.26g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（インドリン−１−イル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（インドリン−１−イル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にメタノールを加え、固形物をろ取し、褐色固体の２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（インドリン−１−イル）安息香酸67mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.05(2H,t,J=8.4Hz),3.91(2H,t,J=8.4Hz),6.62(1H,dd,J=9.0,2.2Hz),6.76(1H,t,J=7.4Hz),6.91(1H,d,J=2.2Hz),7.02(1H,t,J=7.8Hz),7.13-7.20(2H,m),7.34(1H,dd,J=8.5,1.9Hz),7.45(1H,d,J=5.4Hz),7.79(1H,d,J=5.4Hz),7.84-7.91(2H,m),8.00(1H,d,J=8.5Hz),9.83(1H,s),12.56(1H,s).
実施例２８８
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）ベンゾアート0.13gのトルエン3.0mL溶液に、ヨードベンゼン0.11mL、炭酸セシウム0.26g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で6時間攪拌した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で18時間30分間攪拌した。ヨードベンゼン0.11mL、炭酸セシウム0.26g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で22時間攪拌した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で20時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アニリノ−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−アニリノ−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；65-100％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、白色固体の２−アニリノ−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）安息香酸4.2mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.82(4H,s),3.70(3H,s),6.66-6.80(4H,m),6.97(1H,s),7.00-7.10(3H,m),7.17(1H,t,J=7.9Hz),7.31(2H,t,J=7.7Hz),7.81(1H,d,J=8.0Hz),9.61(1H,s),12.85-13.05(1H,broad).
実施例２８９、２９０
実施例２８８と同様にして、表３８に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.78(4H,s),3.70(3H,s),6.03(2H,s),6.56(1H,dd,J=8.3,2.2Hz),6.62(1H,d,J=8.0Hz),6.71-6.78(5H,m),6.86(1H,d,J=8.3Hz),7.16(1H,t,J=7.7Hz),7.77(1H,d,J=8.0Hz),9.40(1H,s),12.82(1H,s).
４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）−２−（２−メチルアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.16(3H,s),2.78(4H,s),3.69(3H,s),6.63-6.77(5H,m),7.00-7.07(1H,m),7.07-7.20(3H,m),7.27(1H,d,J=7.3Hz),7.81(1H,d,J=8.1Hz),9.49(1H,s),12.88(1H,s).
実施例２９１
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）ベンゾアート0.13gの２−メチル−２−プロパノール3.0mL溶液に、室温で３−ヨードフェノール0.22g、炭酸セシウム0.26g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、70℃で12時間攪拌した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、70℃で7時間攪拌した。炭酸セシウム0.26g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、70℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；50-90％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、白色固体の２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）安息香酸17mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.82(4H,s),3.70(3H,s),6.45(1H,dd,J=7.9,1.8Hz),6.49-6.54(1H,m),6.57-6.61(1H,m),6.65-6.70(1H,m),6.72-6.79(3H,m),7.05-7.12(2H,m),7.17(1H,t,J=8.0Hz),7.80(1H,d,J=8.3Hz),9.42(1H,s),9.55(1H,s),12.90(1H,s).
実施例２９２
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）ベンゾアート0.13gのトルエン3.0mL溶液に、室温で５−ブロモベンゾチオフェン0.21g、炭酸セシウム0.26g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で12時間攪拌した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で6時間攪拌した。５−ブロモベンゾチオフェン0.21g、炭酸セシウム0.26g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、褐色固体の２−（（ベンゾチオフェン−５−イル）アミノ）−４−（２−（３−メトキシフェニル）エチル）安息香酸61mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.80(4H,s),3.69(3H,s),6.66-6.82(4H,m),6.97(1H,s),7.10-7.20(2H,m),7.39(1H,d,J=5.5Hz),7.65(1H,d,J=1.9Hz),7.78(1H,d,J=5.5Hz),7.82(1H,d,J=8.3Hz),7.93(1H,d,J=8.8Hz),9.68(1H,s),12.80-13.00(1H,broad).
実施例２９３
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−（２−（２，３−ジヒドロ［１，４］ベンゾジオキシン−６−イル）エチル）ベンゾアート0.14gのトルエン3.0mL溶液に、室温で３−ヨードフェノール0.22g、炭酸セシウム0.52g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で6時間攪拌した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で18時間30分間攪拌した。３−ヨードフェノール0.22g、炭酸セシウム0.52g、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で22時間攪拌した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム1.8mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mgを加え、110℃で20時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物をろ去し、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝４−（２−（２，３−ジヒドロ［１，４］ベンゾジオキシン−６−イル）エチル）−２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）ベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝４−（２−（２，３−ジヒドロ［１，４］ベンゾジオキシン−６−イル）エチル）−２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）ベンゾアートに、トリフルオロ酢酸10mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；55-75％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製し、白色固体の４−（２−（２，３−ジヒドロ［１，４］ベンゾジオキシン−６−イル）エチル）−２−（（３−ヒドロキシフェニル）アミノ）安息香酸8.1mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.69-2.81(4H,m),4.18(4H,s),6.43-6.69(6H,m),6.73(1H,d,J=8.1Hz),7.05(1H,s),7.10(1H,t,J=7.9Hz),7.79(1H,d,J=8.1Hz),9.43(1H,s),9.55(1H,s),12.91(1H,s).
実施例２９４〜２９６
実施例２９３と同様にして、表３９に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
４−（２−（２，３−ジヒドロ［１，４］ベンゾジオキシン−６−イル）エチル）−２−（２−メチルアニリノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.17(3H,s),2.66-2.76(4H,m),4.18(4H,s),6.57-6.69(4H,m),6.72(1H,d,J=8.0Hz),7.00-7.07(1H,m),7.10-7.20(2H,m),7.27(1H,d,J=7.6Hz),7.80(1H,d,J=8.1Hz),9.49(1H,s),12.88(1H,s).
２−（（ベンゾ−１，３−ジオキソール−５−イル）アミノ）−４−（２−（２，３−ジヒドロ［１，４］ベンゾジオキシン−６−イル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.66-2.77(4H,m),4.18(4H,s),6.03(2H,s),6.55-6.66(4H,m),6.72(1H,d,J=8.3Hz),6.74-6.81(2H,m),6.87(1H,d,J=8.0Hz),7.77(1H,d,J=8.3Hz),9.40(1H,s),12.81(1H,s).
２−アニリノ−４−（２−（２，３−ジヒドロ［１，４］ベンゾジオキシン−６−イル）エチル）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.69-2.80(4H,m),4.18(4H,s),6.60-6.71(3H,m),6.74(1H,d,J=7.8Hz),6.96(1H,s),7.02-7.12(3H,m),7.27-7.37(2H,m),7.81(1H,d,J=8.0Hz),9.61(1H,s),12.91(1H,s).
実施例２９７
Figure 2006098308
４−ブロモビフェニル0.43gのトルエン3.0mL溶液に、室温で２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル17mg、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート0.20g、炭酸セシウム0.48g、酢酸パラジウム1.7mgおよびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）6.8mgを加え、5時間40分間加熱還流した。２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル17mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）6.8mgおよび酢酸パラジウム1.7mgを加え、2時間20分間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１］で精製し、淡黄色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ビフェニル−４−イル）アミノ）−４−フェニルベンゾアート0.24gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.63(9H,s),6.98(1H,dd,J=8.4,1.8Hz),7.28-7.47(8H,m),7.53-7.64(7H,m),8.00(1H,d,J=8.3Hz),9.69(1H,s).
実施例２９８〜３０６
実施例２９７と同様にして、表４０に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ビフェニル−３−イル）アミノ）−４−フェニルベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.63(9H,s),6.97(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.26-7.64(15H,m),8.00(1H,d,J=8.3Hz),9.71(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ビフェニル−２−イル）アミノ）−４−フェニルベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.47(9H,s),6.90(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.19(1H,td,J=7.6,1.2Hz),7.26-7.60(14H,m),7.92(1H,d,J=8.3Hz),9.19(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（イソキノリン−４−イル）アミノ）−４−フェニルベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.66(9H,s),7.26-7.30(1H,m),7.37-7.50(3H,m),7.50-7.58(2H,m),7.62-7.66(1H,m),7.97(1H,t,J=7.4Hz),8.10-8.18(2H,m),8.25(1H,d,J=8.3Hz),8.44(1H,d,J=8.6Hz),8.63(1H,s),9.04(1H,s),10.82(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェニル−２−（（キノリン−８−イル）アミノ）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.66(9H,s),7.10(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.33-7.40(2H,m),7.42-7.48(4H,m),7.58-7.62(2H,m),7.78-7.83(1H,m),8.01(1H,d,J=1.7Hz),8.06(1H,d,J=8.3Hz),8.14(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),8.93(1H,dd,J=4.1,1.7Hz),10.72(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェニル−２−（４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）フェニルアミノ）ベンゾアート
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.46-1.94(6H,m),1.59(9H,s),3.52-3.60(1H,m),3.76-3.84(1H,m),5.43(1H,t,J=3.3Hz),7.00(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.02-7.08(2H,m),7.19(1H,d,J=1.7Hz),7.22-7.28(2H,m),7.36-7.48(3H,m),7.50-7.56(2H,m),7.91(1H,d,J=8.3Hz),9.33(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェニル−２−（（キノリン−３−イル）アミノ）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.65(9H,s),7.06(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.32-7.44(3H,m),7.48-7.58(4H,m),7.58-7.64(1H,m),7.73(1H,dd,J=8.0,1.2Hz),7.99(1H,d,J=2.4Hz),8.02-8.08(2H,m),8.94(1H,d,J=2.4Hz),9.91(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（イソキノリン−５−イル）アミノ）−４−フェニルベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.66(9H,s),7.00(1H,dd,J=8.4,1.8Hz),7.24-7.27(1H,m),7.30-7.40(3H,m),7.40-7.46(2H,m),7.59(1H,t,J=7.8Hz),7.78(2H,t,J=7.8Hz),7.94(1H,d,J=6.1Hz),8.05(1H,d,J=8.3Hz),8.56(1H,d,J=5.8Hz),9.28(1H,s),10.07(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェニル−２−（２−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）フェニルアミノ）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.51-2.17(6H,m),1.60(9H,s),3.55-3.62(1H,m),3.93(1H,td,J=11.1,2.8Hz),5.51(1H,t,J=2.8Hz),6.93-7.01(3H,m),7.17-7.24(1H,m),7.32-7.45(3H,m),7.50-7.60(4H,m),7.99(1H,d,J=8.3Hz),9.89(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェニル−２−（３−（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）フェニルアミノ）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.63(9H,s),6.46(1H,dd,J=2.4,2.0Hz),7.00(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.22-7.28(1H,m),7.32-7.45(5H,m),7.52-7.60(3H,m),7.65-7.69(1H,m),7.70-7.73(1H,m),7.91(1H,d,J=2.4Hz),8.00(1H,d,J=8.3Hz),9.75(1H,s).
実施例３０７
Figure 2006098308
４−ブロモビフェニル0.12gのトルエン1.0mL溶液に、室温で２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル4.8mg、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート60mg、炭酸セシウム0.13g、酢酸パラジウム0.50mgおよびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）1.8mgを加え、5時間30分間加熱還流した。２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル4.8mg、酢酸パラジウム0.50mgおよびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）1.8mgを加え、7時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２００：１］で精製し、黄色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ビフェニル−４−イル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアート50mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.60(9H,s),2.80-2.94(4H,m),6.58(1H,dd,J=8.2,1.6Hz),7.06(1H,d,J=1.2Hz),7.11-7.36(8H,m),7.40-7.47(2H,m),7.49-7.55(2H,m),7.56-7.63(2H,m),7.85(1H,d,J=8.3Hz),9.58(1H,s).
実施例３０８〜３１８
実施例３０７と同様にして、表４１に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ビフェニル−３−イル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.60(9H,s),2.78-2.92(4H,m),6.58(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),7.08-7.21(5H,m),7.23-7.62(10H,m),7.84(1H,d,J=8.3Hz),9.61(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ビフェニル−２−イル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.44(9H,s),2.74-2.88(4H,m),6.52(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),6.89(1H,d,J=1.5Hz),7.10-7.23(4H,m),7.24-7.43(10H,m),7.77(1H,d,J=8.3Hz),9.08(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（キノリン−８−イル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.63(9H,s),2.86-3.00(4H,m),6.71(1H,dd,J=8.2,1.6Hz),7.14-7.46(10H,m),7.90(1H,d,J=8.3Hz),8.10(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),8.89(1H,dd,J=4.3,1.8Hz),10.61(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェネチル−２−（４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）フェニルアミノ）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.54-1.76(3H,m),1.59(9H,s),1.82-1.94(2H,m),1.94-2.08(1H,m),2.74-2.88(4H,m),3.60-3.65(1H,m),3.93-4.01(1H,m),5.38(1H,t,J=3.3Hz),6.50(1H,dd,J=8.2,1.5Hz),6.79(1H,d,J=1.5Hz),6.96-7.06(4H,m),7.10-7.30(5H,m),7.81(1H,d,J=8.0Hz),9.34(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェネチル−２−（（キノリン−３−イル）アミノ）ベンゾアート
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.56(9H,s),2.87(4H,s),6.80(1H,d,J=8.3Hz),7.12-7.28(6H,m),7.54-7.64(2H,m),7.82(1H,d,J=8.0Hz),7.85(1H,d,J=8.3Hz),7.93-8.00(2H,m),8.79(1H,d,J=2.4Hz),9.58(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（イソキノリン−５−イル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.63(9H,s),2.74-2.88(4H,m),6.63(1H,dd,J=8.2,1.5Hz),6.80(1H,d,J=1.5Hz),7.06-7.12(2H,m),7.15-7.29(3H,m),7.45-7.55(2H,m),7.72(1H,d,J=7.6Hz),7.86-7.92(2H,m),8.53(1H,d,J=5.9Hz),9.26(1H,d,J=0.8Hz),9.99(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェネチル−２−（２−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）フェニルアミノ）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.52-2.22(6H,m),1.58(9H,s),2.80-2.92(4H,m),3.55-3.63(1H,m),3.94(1H,td,J=11.2,2.6Hz),5.49(1H,t,J=2.8Hz),6.57(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),6.86-6.98(2H,m),7.10-7.32(8H,m),7.84(1H,d,J=8.3Hz),9.81(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェネチル−２−（３−（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）フェニルアミノ）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.60(9H,s),2.80-2.94(4H,m),6.45(1H,dd,J=2.3,1.8Hz),6.61(1H,dd,J=8.2,1.6Hz),6.98-7.04(1H,m),7.08-7.38(8H,m),7.52-7.56(1H,m),7.71(1H,d,J=1.7Hz),7.84(1H,d,J=8.2Hz),7.88(1H,d,J=2.4Hz),9.66(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェネチル−２−（４−（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）フェニルアミノ）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.60(9H,s),2.79-2.92(4H,m),6.45-6.48(1H,m),6.59(1H,dd,J=8.3,1.4Hz),6.95(1H,d,J=1.4Hz),7.10-7.32(7H,m),7.56-7.62(2H,m),7.72(1H,d,J=1.5Hz),7.84(1H,d,J=8.3Hz),7.88(1H,d,J=2.4Hz),9.57(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェネチル−２−（３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）フェニルアミノ）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.60(9H,s),2.80-2.94(4H,m),6.33(2H,t,J=2.2Hz),6.61(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),6.96(1H,dd,J=7.8,1.7Hz),7.02-7.10(4H,m),7.12-7.34(7H,m),7.85(1H,d,J=8.3Hz),9.62(1H,s).
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェネチル−２−（４−（１Ｈ−ピロール−１−イル）フェニルアミノ）ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.60(9H,s),2.80-2.92(4H,m),6.35(2H,t,J=2.1Hz),6.59(1H,dd,J=8.2,1.6Hz),6.93(1H,d,J=1.6Hz),7.04-7.34(11H,m),7.84(1H,d,J=8.2Hz),9.53(1H,s).
実施例３１９
Figure 2006098308
４−ブロモイソキノリン0.12gのトルエン1.0mL溶液に、室温で２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mg、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート59mg、炭酸セシウム0.13g、酢酸パラジウム0.90mgおよびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mgを加え、7時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、1.0mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に、酢酸エチルおよびヘキサンを加え、固形物をろ取し、黄色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（イソキノリン−４−イル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアート34mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.63(9H,s),2.88-3.02(4H,m),6.88(1H,d,J=8.0Hz),7.12-7.36(6H,m),7.94-8.00(2H,m),8.11-8.17(1H,m),8.25(1H,d,J=8.5Hz),8.33(1H,s),8.39(1H,d,J=8.6Hz),9.04(1H,s),10.82(1H,s).
実施例３２０
Figure 2006098308
１−フルオロ−２−ヨードベンゼン0.11gに、室温で２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム0.90mg、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート54mg、炭酸セシウム0.13gおよびトルエン1.0mLを加え、9時間30分間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２００：１］で精製し、白色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（２−フルオロアニリノ）−４−フェニルベンゾアート42mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.63(9H,s),6.99(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.00-7.20(3H,m),7.32-7.56(7H,m),8.00(1H,d,J=8.3Hz),9.51(1H,s).
実施例３２１
Figure 2006098308
実施例３２０と同様にして、以下の化合物を得た。
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（２−クロロアニリノ）−４−フェニルベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.63(9H,s),6.98(1H,td,J=7.7,1.5Hz),7.02(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.18-7.24(1H,m),7.32-7.48(5H,m),7.50-7.58(3H,m),8.00(1H,d,J=8.3Hz),9.63(1H,s).
実施例３２２
Figure 2006098308
１−フルオロ−２−ヨードベンゼン0.11gに、室温で２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム0.90mg、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート59mg、炭酸セシウム0.13gおよびおよびトルエン1.0mLを加え、9時間30分間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２００：１］で精製し、無色油状物のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（２−フルオロアニリノ）−４−フェネチルベンゾアート62mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.60(9H,s),2.80-2.92(4H,m),6.61(1H,dd,J=8.1,1.7Hz),6.88(1H,s),6.95-7.06(2H,m),7.06-7.30(7H,m),7.84(1H,d,J=8.1Hz),9.40(1H,s).
実施例３２３
Figure 2006098308
実施例３２２と同様にして、以下の化合物を得た。
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（２−クロロアニリノ）−４−フェネチルベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.60(9H,s),2.80-2.92(4H,m),6.64(1H,dd,J=8.1,1.6Hz),6.90-6.96(2H,m),7.08-7.30(7H,m),7.40(1H,dd,J=7.9,1.3Hz),7.85(1H,d,J=8.1Hz),9.52(1H,s).
実施例３２４
Figure 2006098308
ベンジルブロミド41mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド0.50mL溶液に、室温でｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート54mgおよび炭酸カリウム55mgを加え、80℃で9時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１００：１］で精製し、白色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−ベンジルアミノ−４−フェニルベンゾアート45mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.59(9H,s),4.51(2H,d,J=5.9Hz),6.78-6.83(2H,m),7.24-7.30(1H,m),7.30-7.43(7H,m),7.45-7.50(2H,m),7.91-7.96(1H,m),8.26(1H,t,J=5.9Hz).
実施例３２５
Figure 2006098308
４−フルオロベンジルクロリド35mgのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド0.50mL溶液に、室温でｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート54mgおよび炭酸カリウム55mgを加え、80℃で11時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、室温でヨウ化ナトリウム30mgを加え、80℃で4時間40分間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１００：１］で精製し、白色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（４−フルオロベンジルアミノ）−４−フェニルベンゾアート26mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.59(9H,s),4.47(2H,d,J=5.6Hz),6.77(1H,d,J=1.5Hz),6.82(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),6.98-7.08(2H,m),7.32-7.44(5H,m),7.44-7.52(2H,m),7.94(1H,d,J=8.3Hz),8.25(1H,t,J=5.6Hz).
実施例３２６
Figure 2006098308
実施例３２５と同様にして、以下の化合物を得た。
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（シンナミルアミノ）−４−フェニルベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.60(9H,s),4.07-4.13(2H,m),6.35(1H,dt,J=15.9,5.6Hz),6.67(1H,d,J=15.9Hz),6.81(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),6.91(1H,d,J=1.7Hz),7.18-7.45(8H,m),7.54-7.60(2H,m),7.94(1H,d,J=8.3Hz),8.02-8.08(1H,m).
実施例３２７
Figure 2006098308
２−ヨード−４−フェネチル安息香酸40mgに、室温で５−アミノインダゾール23mg、ヨウ化銅（I）2.2mg、プロリン2.6mg、炭酸カリウム19mgおよびおよびジメチルスルホキシド0.40mLを加え、70℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、水および飽和塩化ナトリウム水溶液順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；クロロホルム：メタノール＝１００：１］で精製し、白色固体の２−（（１Ｈ−インダゾール−５−イル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸4.0mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.70-2.84(4H,m),6.61(1H,dd,J=8.3,1.4Hz),6.72(1H,d,J=1.4Hz),7.08-7.28(6H,m),7.46(1H,d,J=1.7Hz),7.52(1H,d,J=8.8Hz),7.80(1H,d,J=8.3Hz),8.01(1H,s),9.56(1H,s),12.70-13.20(2H,broad).
実施例３２８〜３３４
実施例３２７と同様にして、表４２に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
４−フェネチル−２−（（１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル）アミノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.74-2.88(4H,m),6.24(1H,d,J=1.7Hz),6.69(1H,dd,J=8.1,1.2Hz),6.80(1H,d,J=1.2Hz),7.14-7.22(3H,m),7.22-7.28(2H,m),7.35-7.42(1H,m),7.44-7.55(4H,m),7.68(1H,d,J=2.0Hz),7.76(1H,d,J=8.1Hz),9.89(1H,s),13.07(1H,s).
４−フェネチル−２−（（３−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル）アミノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.80-2.95(4H,m),6.47(1H,s),6.68(1H,dd,J=8.3,1.2Hz),7.14-7.20(1H,m),7.20-7.31(4H,m),7.32-7.40(1H,m),7.43-7.50(2H,m),7.74-7.85(4H,m),10.15(1H,s),12.70-13.20(2H,broad).
２−（（ベンゾチアゾール−６−イル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.78-2.90(4H,m),6.73(1H,dd,J=8.2,1.4Hz),7.01(1H,s),7.14-7.30(6H,m),7.81-7.87(2H,m),7.98(1H,d,J=8.5Hz),9.25(1H,s),9.78(1H,s),12.85-13.10(1H,broad).
２−（（１Ｈ−インドール−５−イル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.66-2.82(4H,m),6.37-6.42(1H,m),6.52-6.58(1H,m),6.70(1H,s),6.85(1H,dd,J=8.4,2.0Hz),7.10-7.32(6H,m),7.34-7.40(2H,m),7.77(1H,d,J=8.4Hz),9.49(1H,s),11.10(1H,s),12.70(1H,s).
４−フェネチル−２−（（４−フェニルチアゾール−２−イル）アミノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：3.01(4H,s),6.95(1H,dd,J=8.1,1.5Hz),7.14-7.22(1H,m),7.25-7.38(5H,m),7.42-7.48(2H,m),7.54(1H,s),7.92(1H,d,J=8.1Hz),7.94-7.99(2H,m),8.54(1H,s),11.40-11.50(1H,broad),13.40-13.60(1H,broad).
４−フェネチル−２−（（５−フェニル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル）アミノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.90-3.04(4H,m),7.00(1H,dd,J=8.1,1.5Hz),7.14-7.22(1H,m),7.24-7.32(4H,m),7.50-7.60(3H,m),7.86-7.96(3H,m),8.20(1H,s),11.50(1H,s),13.50-13.70(1H,broad).
４−フェネチル−２−（（３−フェニルイソキサゾール−５−イル）アミノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.90-3.06(4H,m),6.49-6.52(1H,m),6.96(1H,dd,J=8.1,1.2Hz),7.14-7.20(1H,m),7.22-7.32(4H,m),7.37(1H,s),7.50-7.58(3H,m),7.88-7.95(3H,m),11.05-11.25(1H,broad),13.40-13.70(1H,broad).
実施例３３５
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート59mgのトルエン1.0mL溶液に、室温で２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.5mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mg、酢酸パラジウム0.90mg炭酸セシウム0.13gおよび３−ブロモベンズアミド0.10gを加え、4時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［富士シリシア化学株式会社、ＰＳＱ１００Ｂ（球状）、溶離液；クロロホルム：メタノール＝１００：１］で精製し、黄色固体のｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ベンズアミド−３−イル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアート15mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.60(9H,s),2.80-2.92(4H,m),5.42-5.78(1H,broad),5.78-6.18(1H,broad),6.62(1H,dd,J=8.3,1.3Hz),7.00(1H,d,J=1.3Hz),7.10-7.30(6H,m),7.34(1H,t,J=7.8Hz),7.42-7.46(1H,m),7.60(1H,t,J=1.8Hz),7.84(1H,d,J=8.3Hz),9.64(1H,s).
実施例３３６
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ビフェニル−４−イル）アミノ）−４−フェニルベンゾアート84mgの塩化メチレン2.5mL溶液に、トリフルオロ酢酸2.5mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の２−（（ビフェニル−４−イル）アミノ）−４−フェニル安息香酸52mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.11(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.31-7.36(1H,m),7.37-7.56(8H,m),7.60-7.74(6H,m),8.01(1H,d,J=8.3 Hz),9.79(1H,s),13.05-13.30(1H,broad).
実施例３３７〜３５０
実施例３３６と同様にして、表４３に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（（ビフェニル−３−イル）アミノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.10(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.36-7.43(4H,m),7.43-7.53(6H,m),7.54-7.57(1H,m),7.58-7.64(2H,m),7.66-7.72(2H,m),8.01(1H,d,J=8.3 Hz),9.79(1H,s),13.00-13.30(1H,broad).
２−（（ビフェニル−２−イル）アミノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.99(1H,dd,J=8.2,1.7Hz),7.22-7.49(12H,m),7.52-7.62(3H,m),7.89(1H,d,J=8.2Hz),9.54(1H,s),12.80-13.05(1H,broad).
２−（（イソキノリン−４−イル）アミノ）−４−フェニル安息香酸トリフルオロ酢酸塩
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.24(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.32-7.46(4H,m),7.53-7.59(2H,m),7.88-7.94(1H,m),8.00-8.06(1H,m),8.08(1H,d,J=8.3Hz),8.18(1H,d,J=8.3Hz),8.38(1H,d,J=8.3Hz),8.68-8.72(1H,m),9.34(1H,s),10.22(1H,s).
４−フェニル−２−（（キノリン−８−イル）アミノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.23(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),7.40-7.46(1H,m),7.46-7.64(5H,m),7.69-7.74(2H,m),7.89(1H,dd,J=7.6,1.2Hz),7.96(1H,d,J=1.4Hz),8.08(1H,d,J=8.3Hz),8.38(1H,dd,J=8.4,1.6Hz),8.92(1H,dd,J=4.2,1.7Hz),11.02(1H,s),13.00-13.25(1H,broad).
２−（４−ヒドロキシフェニルアミノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.78-6.84(2H,m),6.94(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),7.06(1H,d,J=1.6Hz),7.10-7.16(2H,m),7.34-7.40(1H,m),7.40-7.47(2H,m),7.48-7.54(2H,m),7.93(1H,d,J=8.3Hz),9.20-9.50(2H,broad),12.80-13.10(1H,broad).
２−（２−フルオロアニリノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.12(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.13-7.20(1H,m),7.20-7.29(2H,m),7.30-7.50(4H,m),7.56-7.66(3H,m),8.01(1H,d,J=8.3Hz),9.73(1H,s),13.10-13.40(1H,broad).
２−（２−クロロアニリノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.11(1H,td,J=7.7,1.5Hz),7.16(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.34-7.44(3H,m),7.44-7.50(2H,m), 7.57(1H,dd,J=8.1,1.5Hz),7.59-7.65(2H,m),7.65-7.70(1H,m),8.02(1H,d,J=8.3Hz),9.91(1H,s),13.10-13.40(1H,broad).
４−フェニル−２−（（キノリン−３−イル）アミノ）安息香酸トリフルオロ酢酸塩
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.21(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.36-7.43(1H,m),7.43-7.49(2H,m),7.56-7.63(2H,m),7.63-7.70(3H,m),7.96-8.02(2H,m),8.05(1H,d,J=8.3Hz),8.35(1H,d,J=2.4Hz),8.98(1H,d,J=2.7Hz),9.96(1H,s),13.20-13.50(1H,broad).
２−（（イソキノリン−５−イル）アミノ）−４−フェニル安息香酸トリフルオロ酢酸塩
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.16(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.23-7.28(1H,m),7.34-7.46(3H,m),7.50-7.56(2H,m),7.82(1H,t,J=7.9Hz),8.01-8.10(4H,m),8.61(1H,d,J=6.1Hz),9.56(1H,s),10.23(1H,s),13.20-13.50(1H,broad).
２−（２−ヒドロキシフェニルアミノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.80-6.88(1H,m),6.90-6.96(2H,m),7.01(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.30(1H,d,J=1.7Hz),7.36-7.49(4H,m),7.54-7.60(2H,m),7.96(1H,d,J=8.3Hz),9.53(1H,s),9.71(1H,s),12.80-13.10(1H,broad).
４−フェニル−２−（３−（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）フェニルアミノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：6.53-6.57(1H,m),7.15(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),7.26-7.32(1H,m),7.36-7.58(6H,m),7.62-7.67(2H,m),7.75(1H,d,J=1.7Hz),7.84(1H,t,J=2.0Hz), 8.02(1H,d,J=8.3Hz),8.55(1H,d,J=2.7Hz),9.81(1H,s),13.10-13.40(1H,broad).
２−（ベンジルアミノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：4.57(2H,s),6.85(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),6.88-6.92(1H,m),7.22-7.29(1H,m),7.32-7.48(7H,m),7.55-7.60(2H,m),7.88(1H,d,J=8.3Hz).
２−（４−フルオロベンジルアミノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：4.56(2H,s),6.84-6.90(2H,m),7.14-7.22(2H,m),7.35-7.48(5H,m),7.55-7.60(2H,m),7.88(1H,d,J=8.3Hz).
２−（シンナミルアミノ）−４−フェニル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：4.16(2H,d,J=5.5Hz),6.44(1H,dt,J=16.0,5.5Hz),6.67(1H,d,J=16.0Hz),6.87(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),7.00(1H,d,J=1.6Hz),7.20-7.26(1H,m),7.29-7.50(7H,m),7.65-7.70(2H,m),7.88(1H,d,J=8.3Hz).
実施例３５１
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（ビフェニル−４−イル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアート50mgの塩化メチレン2.0mL溶液に、トリフルオロ酢酸2.0mLを加え、室温で4時間30分間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の２−（（ビフェニル−４−イル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸27mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.80-2.92(4H,m),6.72(1H,d,J=8.6Hz),7.05(1H,s),7.12-7.25(5H,m),7.25-7.38(3H,m),7.46(2H,t,J=7.7Hz),7.61(2H,d,J=8.6Hz),7.66(2H,d,J=7.3Hz),7.83(1H,d,J=8.3Hz),9.68(1H,s),12.80-13.15(1H,broad).
実施例３５２〜３６４
実施例３５１と同様にして、表４４に示す化合物を得た。
Figure 2006098308
２−（（ビフェニル−３−イル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.78-2.90(4H,m),6.71(1H,dd,J=8.2,1.2Hz),7.04-7.11(2H,m),7.13-7.20(3H,m),7.21-7.28(2H,m),7.30-7.50(6H,m),7.64-7.70(2H,m),7.82(1H,d,J=8.2Hz),9.67(1H,s),12.80-13.10(1H,broad).
２−（（ビフェニル−２−イル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.74-2.88(4H,m),6.61(1H,dd,J=8.1,1.5Hz),6.81-6.85(1H,m),7.12-7.23(5H,m),7.23-7.42(9H,m),7.72(1H,d,J=8.1Hz),9.42(1H,s),12.60-12.80(1H,broad).
２−（（イソキノリン−４−イル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸トリフルオロ酢酸塩
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.80(4H,s),6.81(1H,d,J=7.3Hz),6.98(1H,s),7.10-7.16(3H,m),7.18-7.26(2H,m),7.84-7.92(2H,m),7.96-8.02(1H,m),8.08-8.14(1H,m),8.34(1H,d,J=8.3Hz),8.48(1H,s),9.28(1H,s),10.12(1H,s),13.10-13.30(1H,broad).
４−フェネチル−２−（（キノリン−８−イル）アミノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.93(4H,s),6.83(1H,dd,J=8.2,1.2Hz),7.18-7.26(3H,m),7.27-7.38(3H,m),7.41-7.48(3H,m),7.59(1H,dd,J=8.3,4.2Hz),7.89(1H,d,J=8.2Hz),8.34(1H,dd,J=8.2,1.6Hz),8.88(1H,dd,J=4.2,1.7Hz),10.90(1H,s),12.91(1H,s).
２−（４−ヒドロキシフェニルアミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.72-2.84(4H,m),6.56(1H,dd,J=8.2,1.5Hz),6.63(1H,s),6.71-6.77(2H,m),6.86-6.92(2H,m),7.12-7.28(5H,m),7.75(1H,d,J=8.2Hz),9.32(2H,s),12.60-12.90(1H,broad).
２−（２−フルオロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.85(4H,s),6.74(1H,dd,J=8.1,1.5Hz),6.87(1H,s),7.04-7.32(9H,m),7.83(1H,d,J=8.1Hz),9.63(1H,s),12.90-13.20(1H,broad).
２−（２−クロロアニリノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.86(4H,s),6.78(1H,dd,J=8.2,1.3Hz),6.94(1H,d,J=1.3Hz),7.01-7.06(1H,m),7.15-7.30(7H,m),7.51(1H,dd,J=8.0,1.5Hz),7.85(1H,d,J=8.2Hz),9.80(1H,s),12.90-13.20(1H,broad).
４−フェネチル−２−（（キノリン−３−イル）アミノ）安息香酸トリフルオロ酢酸塩
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.88(4H,s),6.82(1H,dd,J=8.2,1.5Hz),7.12-7.28(6H,m),7.58-7.70(2H,m),7.88(1H,d,J=8.2Hz),7.92(1H,dd,J=7.9,1.4Hz),7.99(1H,d,J=7.8Hz),8.14(1H,d,J=2.4Hz),8.87(1H,d,J=2.7Hz),9.90(1H,s),13.00-13.20(1H,broad).
２−（（イソキノリン−５−イル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸トリフルオロ酢酸塩
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.81(4H,s),6.79(1H,dd,J=8.1,1.5Hz),6.84-6.88(1H,m),7.10-7.27(5H,m),7.63(1H,d,J=7.6Hz),7.74(1H,t,J=7.9Hz),7.90(1H,d,J=8.1Hz),7.98-8.04(2H,m),8.59(1H,d,J=6.1Hz),9.56(1H,s),10.16(1H,s),13.00-13.30(1H,broad).
２−（２−ヒドロキシフェニルアミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.76-2.90(4H,m),6.63(1H,dd,J=8.1,1.3Hz),6.70-6.76(1H,m),6.82-6.95(3H,m),7.02(1H,dd,J=7.8,1.0Hz),7.14-7.23(3H,m),7.23-7.30(2H,m),7.79(1H,d,J=8.1Hz),9.44(1H,s),9.63(1H,s),12.73(1H,s).
４−フェネチル−２−（３−（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）フェニルアミノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.80-2.92(4H,m),6.52-6.56(1H,m),6.74(1H,dd,J=8.0,1.5Hz),6.98(1H,dd,J=7.9,1.3Hz),7.12(1H,d,J=1.2Hz),7.14-7.30(5H,m),7.39(1H,t,J=8.1Hz),7.47-7.52(1H,m),7.68(1H,t,J=2.1Hz),7.73(1H,d,J=1.7Hz),7.84(1H,d,J=8.0Hz),8.51(1H,d,J=2.4Hz),9.70(1H,s),13.01(1H,s).
４−フェネチル−２−（４−（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）フェニルアミノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.80-2.90(4H,m),6.53(1H,dd,J=2.4,2.0Hz),6.71(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),6.96(1H,d,J=1.5Hz),7.14-7.31(7H,m),7.72-7.78(3H,m),7.83(1H,d,J=8.3Hz),8.45(1H,d,J=2.4Hz),9.64(1H,s),12.96(1H,s).
２−（（ベンズアミド−３−イル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.80-2.90(4H,m),6.71(1H,d,J=8.0Hz),7.03(1H,s),7.14-7.30(6H,m),7.34-7.40(2H,m),7.53(1H,d,J=7.3Hz),7.67(1H,s),7.82(1H,d,J=8.0Hz),7.97(1H,s),9.68(1H,s),12.99(1H,s).
実施例３６５
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝４−フェネチル−２−（３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）フェニルアミノ）ベンゾアート83mgのジオキサン2.0mL溶液に、メタノール2.0mLおよび2.0mol/L水酸化ナトリウム水溶液1.0mLを加え、3時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび1.0mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、白色固体の４−フェネチル−２−（３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）フェニルアミノ）安息香酸36mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.86(4H,s),6.23-6.28(2H,m),6.73(1H,dd,J=8.3,1.2Hz),6.90-6.94(1H,m),7.09(1H,s),7.14-7.28(6H,m),7.32-7.40(4H,m),7.83(1H,d,J=8.3Hz),9.65(1H,s),12.85-13.10(1H,broad).
実施例３６６
Figure 2006098308
実施例３６５と同様にして、以下の化合物を得た。
４−フェネチル−２−（４−（１Ｈ−ピロール−１−イル）フェニルアミノ）安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.78-2.90(4H,m),6.26(2H,t,J=2.2Hz),6.69(1H,dd,J=8.2,1.2Hz),6.94(1H,s),7.12-7.24(5H,m),7.24-7.31(2H,m),7.33(2H,t,J=2.2Hz),7.46-7.52(2H,m),7.82(1H,d,J=8.2),9.60(1H,s),12.92(1H,s).
実施例３６７
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.12gの２−メチル−２−プロパノール2.5mL溶液に、室温で炭酸セシウム0.26g、Ｎ−（３−ブロモフェニル）アセトアミド0.13g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル10mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）4.0mgおよび酢酸パラジウム2.0mgを加え、80℃で4時間攪拌した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）4.0mg、酢酸パラジウム2.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル10mgを加え、80℃で12時間攪拌した。炭酸セシウム0.26g、Ｎ−（３−ブロモフェニル）アセトアミド0.13g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル10mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）4.0mgおよび酢酸パラジウム2.0mgを加え、80℃で5時間30分間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（３−（アセトアミド）フェニル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（３−（アセトアミド）フェニル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸7.5mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（（３−（アセトアミド）フェニル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸0.12gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.04(3H,s),2.78-2.90(4H,m),6.68(1H,d,J=8.2Hz),6.73(1H,d,J=7.8Hz),7.10-7.29(8H,m),7.62(1H,s),7.81(1H,d,J=8.2Hz),9.64(1H,s),9.92(1H,s),12.95(1H,s).
実施例３６８
Figure 2006098308
実施例３６７と同様にして、以下の化合物を得た。
２−（（３−（メタンスルホンアミド）フェニル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.79-2.90(4H,m),3.02(3H,s),6.70(1H,d,J=8.3Hz),6.80(1H,dd,J=8.1,1.0Hz),6.87(1H,dd,J=8.1,1.0Hz),7.10-7.30(8H,m),7.82(1H,d,J=8.3Hz),9.66(1H,s),9.75(1H,s),12.80-13.20(1H,broad).
実施例３６９
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.12gの２−メチル−２−プロパノール2.5mL溶液に、室温で炭酸セシウム0.26g、Ｎ−（４−ヨードフェニル）アセトアミド0.16g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル10mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）4.0mgおよび酢酸パラジウム2.0mgを加え、80℃で4時間攪拌した。トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）4.0mg、酢酸パラジウム2.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル10mgを加え、80℃で12時間攪拌した。炭酸セシウム0.26g、Ｎ−（４−ヨードフェニル）アセトアミド0.16g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル10mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）4.0mgおよび酢酸パラジウム2.0mgを加え、80℃で5時間30分間攪拌した。２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル10mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）4.0mgおよび酢酸パラジウム2.0mgを加え、80℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（４−（アセトアミド）フェニル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（４−（アセトアミド）フェニル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸7.5mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にメタノールを加え、固形物をろ取し、白色固体の２−（（４−（アセトアミド）フェニル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸23mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.04(3H,s),2.76-2.87(4H,m),6.64(1H,d,J=8.2Hz),6.82(1H,s),6.98(2H,d,J=8.8Hz),7.13-7.22(3H,m),7.23-7.29(2H,m),7.53(2H,d,J=8.8Hz),7.79(1H,d,J=8.2Hz),9.50(1H,s),9.90(1H,s),12.85(1H,s).
実施例３７０
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート0.12gの２−メチル−２−プロパノール2.5mL溶液に、室温で炭酸セシウム0.29g、Ｎ−（３−ブロモフェニル）アセトアミド0.14g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル11mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）4.0mgおよび酢酸パラジウム2.0mgを加え、80℃で4時間攪拌した。室温でトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）4.0mg、酢酸パラジウム2.0mgおよび２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル11mgを加え、80℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（３−（アセトアミド）フェニル）アミノ）−４−フェニルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（３−（アセトアミド）フェニル）アミノ）−４−フェニルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸7.5mLを加え、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の２−（（３−（アセトアミド）フェニル）アミノ）−４−フェニル安息香酸0.13gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.05(3H,s),6.96(1H,dd,J=8.1,1.2Hz),7.09(1H,dd,J=8.3,1.7Hz),7.16-7.31(2H,m),7.37-7.49(3H,m),7.52(1H,d,J=1.7Hz),7.63-7.69(2H,m),7.78(1H,s),8.00(1H,d,J=8.3Hz),9.75(1H,s),9.98(1H,s),13.15(1H,s).
実施例３７１
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート0.12gおよび炭酸セシウム0.36gのトルエン3.0mL懸濁液に、室温で４−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン0.18g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル11mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）4.1mgおよび酢酸パラジウム2.0mgを加え、110℃で24時間攪拌した。２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル11mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）4.1mgおよび酢酸パラジウム2.0mgを加え、110℃で21時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（４−（ジメチルアミノ）フェニル）アミノ）−４−フェニルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（４−（ジメチルアミノ）フェニル）アミノ）−４−フェニルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸エチルおよび水を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH6.5に調整した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物に酢酸エチルを加え、固形物をろ取し、黄色固体の２−（（４−（ジメチルアミノ）フェニル）アミノ）−４−フェニル安息香酸61mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.90(6H,s),6.75-6.81(2H,m),6.92(1H,dd,J=8.3,1.6Hz),7.07(1H,d,J=1.6Hz),7.12-7.18(2H,m),7.34-7.53(5H,m),7.93(1H,d,J=8.3Hz),9.35-9.50(1H,broad),12.80-13.05(1H,broad).
実施例３７２
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェニルベンゾアート0.12gおよび炭酸セシウム0.36gのトルエン3.0mL懸濁液に、室温で２−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン0.18g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル11mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）4.1mgおよび酢酸パラジウム2.0mgを加え、110℃で24時間攪拌した。２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル11mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）4.1mgおよび酢酸パラジウム2.0mgを加え、110℃で21時間攪拌した。炭酸セシウム73mg、２−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン45mg、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル11mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）4.1mgおよび酢酸パラジウム2.0mgを加え、110℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（２−（ジメチルアミノ）フェニル）アミノ）−４−フェニルベンゾアートを得た。
得られたｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（２−（ジメチルアミノ）フェニル）アミノ）−４−フェニルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液；50-85％アセトニトリル/0.1％トリフルオロ酢酸水溶液］で精製後、酢酸エチルおよび水を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH6.5に調整した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にヘキサンを加え、固形物をろ取し、黄色固体の２−（（２−（ジメチルアミノ）フェニル）アミノ）−４−フェニル安息香酸17mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.65(6H,s),7.00-7.08(3H,m),7.10-7.16(1H,m),7.36-7.50(5H,m),7.57-7.62(2H,m),7.98(1H,d,J=8.3Hz),9.67(1H,s),12.95(1H,s).
実施例３７３
Figure 2006098308
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−アミノ−４−フェネチルベンゾアート0.12gおよび炭酸セシウム0.33gのトルエン3.0mL懸濁液に、室温で４−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン0.16g、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.6mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mgおよび酢酸パラジウム1.8mgを加え、110℃で24時間攪拌した。室温で２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル9.6mg、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）3.7mgおよび酢酸パラジウム1.8mgを加え、110℃で21時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチルおよび10％クエン酸水溶液を加え、不溶物をろ去した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［トリコネックス社、フラッシュチューブ２００８、溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１］で精製し、ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（４−（ジメチルアミノ）フェニル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアートを得た。
ｔｅｒｔ−ブチル＝２−（（４−（ジメチルアミノ）フェニル）アミノ）−４−フェネチルベンゾアートに、トリフルオロ酢酸5.0mLを加え、室温で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸エチルおよび水を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH6.5に調整した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加え、固形物をろ取し、淡黄色固体の２−（（４−（ジメチルアミノ）フェニル）アミノ）−４−フェネチル安息香酸83mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.70-2.85(4H,m),2.89(6H,s),6.54(1H,dd,J=8.1,1.6Hz),6.63-6.67(1H,m),6.69-6.75(2H,m),6.91-6.98(2H,m),7.12-7.31(5H,m),7.75(1H,d,J=8.1Hz).
本発明化合物は、ＭＭＰ−１３産生阻害作用を有し、たとえば、関節リウマチ、変形性関節症および癌などＭＭＰ−１３が関与する疾患の治療剤として有用である。

Claims (9)

  1. 一般式
    Figure 2006098308
     「式中、Ｒ１は、水素原子またはカルボキシル保護基を；Ｒ２は、水素原子またはイミノ保護基を；Ｒ３は、置換されていてもよいフェニル基で置換されている単環の複素環式基；または下記置換基群（１）から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニル、シクロアルキルもしくは二環式の複素環式基を；Ｒ４は、下記置換基群（２）および（３）から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニル、チエニル、シクロアルキル、シクロアルケニルもしくは二環式の複素環式基；または下記置換基群（２）および（４）から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいピリジル基を；Ｘ１は、置換されていてもよいアルキレンもしくはアルケニレン基または結合手を；Ｘ２は、カルボニル基または一般式−Ｘ３−Ｘ４−、−Ｘ４−Ｘ３−、−Ｏ−Ｘ４−もしくは−Ｘ４−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（但し、各一般式の左側の結合手が、Ｒ４に結合するものとする。）「式中、Ｘ３は、硫黄原子、保護されていてもよいイミノ基、スルフィニル基、スルホニル基または結合手を；Ｘ４は、置換されていてもよいアルキレンもしくはアルケニレン基または結合手を意味する。」で表される基を意味する。」で表されるアントラニル酸誘導体またはその塩。
    ［置換基群（１）］
    ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいヒドロキシル基、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよい環状アミノ基、置換されていてもよいアルアルキル基または置換されていてもよい複素環式基
    ［置換基群（２）］
    ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、環状アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、低級アルキル基、アルコキシ基およびアリール基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリール、環状アミノ、アルアルキルまたは複素環式基
    ［置換基群（３）］
    ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノ基または保護されていてもよいヒドロキシル基
    ［置換基群（４）］
    シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノ基または保護されていてもよいヒドロキシル基
  2. Ｒ１が、水素原子；Ｒ２が、水素原子である請求項１記載のアントラニル酸誘導体またはその塩。
  3. Ｘ１が、アルキレン基、アルケニレン基または結合手である請求項１〜２記載のアントラニル酸誘導体またはその塩。
  4. Ｒ３が、置換されていてもよいフェニル基で置換されている単環の複素環式基；または下記置換基群（１ａ）から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニルまたは二環式の複素環式基；Ｒ４が、下記置換基群（２ａ）および（３ａ）から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいフェニルまたは二環式の複素環式基である請求項１〜３記載のアントラニル酸誘導体またはその塩。
    ［置換基群（１ａ）］
    ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよい環状アミノ基、置換されていてもよいアルアルキル基または置換されていてもよい複素環式基
    ［置換基群（２ａ）］
    ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、環状アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、低級アルキル基、アルコキシ基およびアリール基から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリール、環状アミノ、アルアルキルまたは複素環式基
    ［置換基群（３ａ）］
    ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルカンスルホニル基、アルカンスルホンアミド基、アセトアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、低級アルキルアミノ基、保護されていてもよいアミノ基または保護されていてもよいヒドロキシル基
  5. Ｘ２が、カルボニル基または一般式−Ｏ−Ｘ４ａ−もしくは−Ｘ４ａ−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（但し、各一般式の左側の結合手が、Ｒ４に結合するものとする。）「式中、Ｘ４ａは、置換されていてもよいアルキレン基または結合手を意味する。」である請求項１〜４記載のアントラニル酸誘導体またはその塩。
  6. Ｘ２が、一般式−Ｘ３ａ−Ｘ４ｂ−または−Ｘ４ｂ−Ｘ３ａ−（但し、各一般式の左側の結合手が、Ｒ４に結合するものとする。）「式中、Ｘ３ａは、硫黄原子、保護されていてもよいイミノ基または結合手を；Ｘ４ｂは、置換されていてもよいアルキルおよびフェニル基から選ばれる基で置換されていてもよいアルキレンもしくはアルケニレン基または結合手を意味する。」である請求項１〜４記載のアントラニル酸誘導体またはその塩。
  7. Ｘ２が、アルキレン基または結合手である請求項１〜４記載のアントラニル酸誘導体またはその塩。
  8. 請求項１〜７記載のアントラニル酸誘導体またはその塩を含有するマトリックスメタロプロテアーゼ１３産生阻害剤。
  9. 請求項１〜７記載のアントラニル酸誘導体またはその塩を含有する関節リウマチ疾患治療剤。
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