JPWO2005081294A1 - 露光装置、液体処理方法、露光方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2004年2月20日に出願された特願2004−44804号に対し優先権を主張し、その内容をここに援用する。
R= k1・λ/NA ……(1)
δ=±k2・λ/NA2 ……(2)ここで、λは露光光の波長、NAは投影光学系の開口数、k1,k2はプロセス係数である。
加えて、回収タンクに一時的に蓄えることができる液体の量は限られるため、液体の量が多くなると回収タンクから液体が溢れてしまう。逆に、回収タンクに蓄えられている液体の量が所定量以下になると、液体と空気とが共に回収タンクから排出され、又は空気のみが回収タンクから排出されることになるため、回収タンクの排出系(ポンプ等)が悪影響を受け、場合によっては破損する可能性がある。
この発明によると、回収部に回収された液体が露光装置の動作に同期して回収部から排出される。
また、本発明の第2の観点による露光装置は、投影光学系(PL)と液体(w)とを介して基板(P)を露光する露光装置(EX)において、前記投影光学系の像面側に供給された液体を回収口(36、36a、36b、36a′、36b′)を介して回収部(41、42、61)に回収する液体回収装置(CW)と、前記液体回収装置の動作を制御する制御装置(CS)とを備え、前記液体回収装置は、複数の回収部を有し、前記制御装置は、前記回収口に連結する回収部の切り替えを制御することを特徴としている。
この発明によると、複数設けられた回収部が制御部により切り替えられ、投影光学系の像面側に供給された液体は制御装置によって回収部に連結された回収部に回収される。
また、本発明の第3の観点による露光装置は、投影光学系(PL)と液体(w)とを介して基板(P)を露光する露光装置(EX)において、前記投影光学系の像面側に液体を供給する液体供給装置(SW)と、前記投影光学系の像面側に供給された液体を回収部(41、42、61)に回収する液体回収装置(CW)と、前記回収部に回収された液体の表面位置を検出する液面検出系(51、52、62)と、前記液面検出系の検出結果に基づき、前記液体供給装置からの液体供給を制御する制御装置(CS)とを備えることを特徴としている。
この発明によると、液体回収装置に設けられる回収部に回収された液体の表面位置が液面検出系で検出され、この検出結果に基づいて液体供給装置からの液体供給が制御される。
本発明のデバイス製造方法は、上記の何れかに記載の露光装置を用いることを特徴としている。 上記課題を解決するために、本発明の第1の観点による液体処理方法は、液体(w)を介して基板(P)を露光する露光装置(EX)における液体処理方法であって、供給された液体を回収部に回収する回収ステップと、前記露光装置の動作に同期して、前記回収部に回収された液体を前記回収部から排出する排出ステップとを含むことを特徴としている。
この発明によると、回収部に回収された液体が露光装置の動作に同期して回収部から排出される。
また、本発明の第2の観点による液体処理方法は、液体(w)を介して基板(P)を露光する露光装置(EX)における液体処理方法であって、供給された液体を回収するための回収口(36、36a、36b、36a′、36b′)と第1回収部(41)とを連結し、供給された液体を前記第1回収部に回収する第1回収ステップと、前記回収口と前記第1回収部とは異なる第2回収部(42)とを連結し、供給された液体を前記第2回収部に回収する第2回収ステップと、前記回収口と連結されていない前記第1回収部に回収された液体を前記第1回収部から排出する排出ステップとを含むことを特徴としている。
この発明によると、第1回収部と回収口とが連結されて基板上に供給された液体が第1回収部に回収された後で、第1回収部とは異なる第2回収部と回収口とが連結されて基板上に供給された液体が回収され、回収口とは連結されていない第1回収部から液体が排出される。
更に、本発明の液体処理方法は、液体(w)を介して基板(P)を露光する露光装置(EX)における液体処理方法であって、前記基板上に供給された供給ステップと、前記基板上に供給された液体を回収部(41、42、61)に回収する回収ステップと、前記回収部に回収された液体の表面が所定の位置(WL1、WL11)に達した場合に、前記液体の供給を停止する停止ステップとを含むことを特徴としている。 この発明によると、回収部に回収された液体の表面が所定の位置に達した場合に、液体の供給が停止される。
本発明の露光方法は、上記の何れかに記載の液体処理方法を用いることを特徴としている。
また、本発明によれば、回収口に連通する回収部が切り替えられるため、高い精度が要求される動作を行っている場合にも、例えば回収口に連通していない回収部から液体を排出させることができ、その結果として露光精度の悪化を招くことなく回収した液体を排出することができるという効果がある。
また、本発明によれば、回収部に回収された液体表面の位置の検出結果に基づいて液体供給装置からの液体供給が制御されるため、例えば回収部からの液体の溢れを防止することができる。
更に、本発明によれば、回収部に回収された液体の排出動作に起因する露光精度の悪化等を防止することができる露光装置や液体の排出部の不具合に起因する稼働率の低下等を防止できる露光装置を使用するため、高い歩留まりで所期の性能を有するデバイスを低コストで製造することができるという効果がある。
以下、本発明に係る実施形態を説明するが、本発明はこれに限定されない。
図1は、本発明の第1実施形態による露光装置の概略構成図である。図1に示す通り、本実施形態の露光装置EXは、マスクMを保持するマスクステージMST、基板Pを保持する基板ステージPST、マスクステージMSTに保持されているマスクMを露光光ELで照明する照明光学系IS、露光光ELで照明されたマスクMのパターン像を基板ステージPSTに支持されている基板Pに投影露光する投影光学系PL、露光装置EX全体の動作を統括制御する主制御系CSを含んで構成される。
鏡筒PKの外周部にはフランジ部FLGが設けられている。また、メインコラム2の下側段部2bには、防振ユニット11を介して鏡筒定盤12が支持されている。そして、投影光学系PLのフランジ部FLGが鏡筒定盤12に係合することによって、投影光学系PLが鏡筒定盤12に支持されている。
このプレート部材13は、液浸領域WRを広い範囲に亘って良好に形成するために設けられるものであり、基板Pと対向する面(即ち下面)は平坦面となっている。投影光学系PLの先端部に設けられる光学素子1の下面(液体接触面)も平坦面になっており、プレート部材13の下面と光学素子1の下面とがほぼ面一となるよう配置される。光学素子1と同様に、プレート部材13の下面にも表面処理(親液化処理)を施すことが可能である。
液体供給機構SWは、投影光学系PLと基板Pとの間に液体wを供給するものであって、超純水製造装置30、温調装置31、及び供給ノズル32を含んで構成される。超純水製造装置30は純度の高い超純水を製造する装置である。温調装置31は超純水製造装置30で製造された超純水の温度を一定に制御する温調制御部、超純水を脱気する脱気部、温調及び脱気した超純水を収容するタンク、及び超純水を送出する加圧ポンプ等を備える。供給ノズル32は、基板Pの表面に近接して配置しているとともに供給管33を介して温調装置31と接続されており、温調装置31から送出される超純水を液体wとして投影光学系PLと基板Pとの間に供給するものである。なお超純水製造装置30及び温調装置31は必ずしも露光装置EXの液体供給機構SWが備えている必要はなく、その少なくとも一方の代りに露光装置EXが設定される工場などの設備を使用しても良い。
第2回収管44は2つの回収管44a,44bに分岐しており、一方の回収管44aは回収タンク41に接続されており、他方の回収管44bは回収タンク42に接続されている。また、第2回収管44の途中には、回収された液体wの量(単位時間当たりの液体回収量)を計測する流量計40が設けられている。流量計40は基板P上から回収ノズル36を介して回収された液体wの量をモニタし、その計測結果を主制御系CSに出力する。
なお、供給ノズルや回収ノズルの形態や配置は、上述したものに限られず、投影光学系PLの像面側の光路空間を液体で満たすことができる構成であれば、その構成はいかなるものであっても良い。投影光学系PLの像面側の光路空間を液体で満たす構成は、例えば、国際公開第2004/053955号パンフレットに開示されている機構や、欧州特許公開第1420298号公報に開示されており、本国際出願で指定した指定国(又は選択した選択国)の国内法令が許す限りにおいて、上記各公開公報及びこれらに対応する米国特許又は米国特許出願公開明細書における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
フォーカス検出系の構成としては、例えば特開平8−37147号公報に開示されているものを適用できる。またフォーカス検出系は、液体wを介さずに検出用光束を基板P上に投射するものであってもよい。
つまり、図2中の走査方向SD1(−X方向)に基板Pを移動させて走査露光を行う場合には、供給管33、供給ノズル32a〜32c、回収ノズル36a,36b、及び回収管43を用いて、液体供給機構SW及び液体回収機構CWによる液体wの供給及び回収が行われる。即ち、基板Pが−X方向に移動する際には、供給ノズル32(32a〜32c)から投影光学系PLと基板Pとの間に液体wが供給されるとともに、基板P上の液体wがその周囲の気体とともに回収ノズル36から回収され、これによって投影光学系PLの先端部の光学素子1と基板Pとの間を満たすように液体wが−X方向に流れる。
なお、液体供給量が液体回収量に比べて極端に少ない場合、液体供給機構SWの供給動作に異常が生じたと判断し、液体供給機構SWのバルブ35(35′)を作動して供給管33(33′)の流路を遮断するようにしてもよい。
また、回収タンク41,42に設けられている水位センサ51,52の検出結果は、常時主制御系CSに出力されている。主制御系CSは、水位センサ51,52の検出結果と、予め設定されている警報閾値及び停止閾値とを比較し、各々の検出結果が警報閾値又は停止閾値を超えているか否かを判断する。例えば、基板Pの露光中に、回収ノズル36に連通している回収タンク42の水位が警報閾値を超えていると判断した場合には、主制御系CSは信号を出力して警報装置KDを駆動する。主制御系CSから信号が出力されると、警報装置KDから警告灯、アラーム音、ディスプレイ等により警報が発せられる。これにより、回収タンク41,42から液体wが溢れる可能性があること、又は露光装置EXの液体供給機構SW又は液体回収機構CWに異常が生じたことをオペレータ等に知らせることができる。
また、上述の実施形態においては、第2回収管44を回収管44aと回収管44bとに分岐して、それぞれをバルブ45,46を介して回収タンク41,42に接続する構成になっているが、回収ノズル36a,36bから回収タンク41までの流路を形成する回収管と、回収ノズル36a′,36b′から回収タンク42への流路を形成する回収管とを分離して配置し、例えば基板Pが−X方向に移動するときには、回収ノズル36a,36bから回収した液体wを回収タンク41へ流し、基板Pが+X方向に移動するときには、回収ノズル36a′,36b′から回収した液体wを回収タンク42へ流すようにしてもよい。この場合、基板Pが+X方向に移動するときに回収タンク41から液体wの排出を行い、基板Pが−X方向に移動するときに回収タンク42から液体wの排出を行うことができる。
次に、本発明の第2実施形態による露光装置について図4を参照して説明する。図4は、図1の露光装置EXから要部を抜粋したものである。本実施形態の露光装置は、以上説明した本発明の第1実施形態による露光装置と全体構成がほぼ同様であるが、回収タンクが1つであること、また回収タンクについて設定されている水位の閾値が異なる。即ち、第2実施形態では、真空系39、回収タンク42、回収管44b、排出管48、バルブ50、水位センサ52、及びこれらと主制御系CSとの接続が省略されている。更に、本実施形態では、図1に示す回収タンク41に代えて回収タンク61を1つ備える。他の構成は図1と同様なので説明は省略する。
特に、マスクのパターンが所定の一方向に延びるラインパターンだけでなく、複数の異なる方向に延びるラインパターンが混在する場合には、同じく特開平6−53120号公報に開示されているように、光軸を中心とした円の接線方向に直線偏光する偏光照明法と輪帯照明法とを併用することによって、投影光学系の開口数NAが大きい場合でも高い結像性能を得ることができる。
なお、基板Pを保持するステージとは別に、測定用の部材やセンサを搭載して投影光学系の像面側で移動する測定ステージを備えた露光装置にも本発明を適用することができる。なお、測定ステージを備えた露光装置は、例えば特開2000−164504号(対応米国出願第09/593,800号)に開示されており、本国際出願で指定した指定国(又は選択した選択国)の国内法令が許す限りにおいて、上記公報及びこれに対応する米国出願における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
また、上述の液浸法を適用した露光装置では、投影光学系PLの先端の光学素子1の光射出側の光路空間を液体(純水)で満たして基板Pを露光する構成になっているが、国際公開第2004/019128号に開示されているように、投影光学系PLの光学素子1の入射側の光路空間も液体(純水)で満たすようにしてもよい。
また、投影光学系を持たないタイプの露光装置、例えば、プロキシミティ型露光装置や干渉縞をウエハ上に形成することによってウエハを露光する二光束干渉型の露光装置を使用することもできる。
Claims (24)
- 投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置において、
前記投影光学系の像面側に供給された液体を回収口を介して回収部に回収する液体回収装置と、
前記露光装置の動作に同期して、前記回収部に回収された液体の前記回収部からの排出動作を制御する制御装置と
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記制御装置は、基板の露光が行われていない場合に、前記回収部から液体を排出させる制御を行うことを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記基板に形成されたマークの位置情報を計測する計測装置を備え、
前記制御装置は、前記計測装置によるマークの計測が行われていない場合に、前記回収部から液体を排出させる制御を行うことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の露光装置。 - 前記制御装置は、基板の交換が行われている間に前記回収部から液体を排出させる制御を行うことを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記回収部は複数設けられており、
前記制御装置は、露光装置の動作に同期して、前記回収口に連結する前記回収部を切り替える制御を行うことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記制御装置は、前記回収口に連結されていない回収部に回収された液体を排出させる制御を行うことを特徴とする請求項5記載の露光装置。
- 前記制御装置は、基板の露光処理が終了する度、複数枚を単位とした前記基板の露光処理が終了する度、又は基板上に設定された複数の区画領域の露光処理が終了する度、前記回収口に連結される回収部を切り替える制御を行うことを特徴とする請求項5記載の露光装置。
- 投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置において、
前記投影光学系の像面側に供給された液体を回収口を介して回収部に回収する液体回収装置と、
前記液体回収装置の動作を制御する制御装置とを備え、
前記液体回収装置は、複数の回収部を有し、
前記制御装置は、前記回収口に連結する回収部の切り替えを制御することを特徴とする露光装置。 -
前記制御装置は、前記回収口に連結されていない回収部から回収された液体を排出させることを特徴とする請求項8記載の露光装置。 - 投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置において、
前記投影光学系の像面側に液体を供給する液体供給装置と、
前記投影光学系の像面側に供給された液体を回収部に回収する液体回収装置と、
前記回収部に回収された液体の表面位置を検出する液面検出系と、
前記液面検出系の検出結果に基づき、前記液体供給装置からの液体供給を制御する制御装置と
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記制御装置は、前記回収部に回収された液体の表面位置が第1位置に達した場合に、前記液体供給装置からの液体供給を停止することを特徴とする請求項10記載の露光装置。
- 前記第1位置は、前記液体供給が停止された後に、前記投影光学系の像面側に供給されている液体を前記回収部で回収しうるように設定されていることを特徴とする請求項11記載の露光装置。
- 前記制御装置は、前記回収部に回収された液体の表面位置が前記第1位置よりも低い第2位置に達した場合に警告を発することを特徴とする請求項11記載の露光装置。
- 前記制御装置は、前記回収部に回収された液体の表面位置が前記第1位置よりも低い第2位置と該第2位置よりも低い第3位置との間に維持されるように、前記回収部に回収された液体の排出を行うことを特徴とする請求項11に記載の露光装置。
- 前記制御装置は、前記回収部に回収された液体の表面位置が、前記第3位置よりも低い第4位置に達した場合に前記回収部からの液体の排出を停止することを特徴とする請求項14記載の露光装置。
-
前記基板を保持して、前記投影光学系の像面側で移動可能な基板ステージを更に備え、 前記制御装置は、前記回収部に回収された液体の表面位置が前記第1位置に達した場合に前記基板ステージを停止させることを特徴とする請求項10に記載の露光装置。 - 請求項1、請求項8、及び請求項10の何れか一項に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
- 液体を介して基板を露光する露光装置における液体処理方法であって、
供給された液体を回収部に回収する回収ステップと、
前記露光装置の動作に同期して、前記回収部に回収された液体を前記回収部から排出する排出ステップと
を含むことを特徴とする液体処理方法。 - 前記基板は、投影光学系の像面側に供給された液体を介して露光される請求項18記載の液体処理方法。
- 液体を介して基板を露光する露光装置における液体処理方法であって、
供給された液体を回収するための回収口と第1回収部とを連結し、供給された液体を前記第1回収部に回収する第1回収ステップと、
前記回収口と前記第1回収部とは異なる第2回収部とを連結し、供給された液体を前記第2回収部に回収する第2回収ステップと、
前記回収口と連結されていない前記第1回収部に回収された液体を前記第1回収部から排出する排出ステップと を含むことを特徴とする液体処理方法。
- 前記基板は、投影光学系の像面側に供給された液体を介して露光される請求項20記載の液体処理方法。
-
液体を介して基板を露光する露光装置における液体処理方法であって、 前記基板上に液体を供給する供給ステップと、
前記基板上に供給された液体を回収部に回収する回収ステップと、
前記回収部に回収された液体の表面が所定の位置に達した場合に、前記液体の供給を停止する停止ステップと
を含むことを特徴とする液体処理方法。
- 前記基板は、投影光学系の像面側に供給された液体を介して露光される請求項22記載の液体処理方法。
- 請求項18,20,及び22のいずれか一項に記載の液体処理方法を用いて基板の露光する露光方法。
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