JPS6398832A - 回転ブレ−ド体および磁気記録媒体の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、非磁性支持体と、この支持体−ヒに設けられ
た磁性層とからなる基本構造を有する磁気記録媒体の製
法およびこの方法で使用する回転ブレード体に関するも
のである。

［発明の背景］ 一般にオーディオ用、ビデオ用あるいはコンピュータ用
等の磁気記録媒体として、強磁性粉末が結合剤中に分散
されている磁性層を非磁性支持体りに設けた磁気記録媒
体が用いられている。

このような磁気記録媒体は、樹脂成分などの結合剤成分
と強磁性粉末などの粒状成分とを溶剤に分散させた磁性
塗料を、非磁性支持体１．に塗１（ｊ　Ｌ。

て塗、／Ｉｊ層を形成し、この塗ＩＨｊ層に磁場配向処
理、乾燥処理および表面＋−滑化処理などの処理？施し
たのち、所望の形状に裁断することにより製造されてい
る・ 一般に、このようにして製造された磁性層の表面は、粒
状成分が磁性層に強固に固定され、非常に上滑であると
考えられているが、未発ＩＪＩ者の検：１・ｌによれば
、磁性層表面には固定不充分な強磁性粉末などの粒状成
分が存在することがＦｌｌ　１ｇ１１．た。

このような固定不充分な粒状成分は、走行中に脱離して
磁気ヘッドに伺着して磁気ヘッド１１詰まりの原因とな
ることがあり、さらに例えばビデオテープなどにおいて
はドロップアウトの発生原因となることがある。そして
、こうした強磁性粉末の脱離により磁性層表面近傍にあ
る強磁性粉末のｊ、Ｙが減少するので、走行を繰り返す
ことにより電磁変換特性が低下（出力低下）するとの問
題もある。

本発明者は、こうしたドロップアウト、目詰まりおよび
出力低下の発生を軽減する方法として磁性層の表面を研
削する方法について発明をし、この発明については既に
出願法である（特願昭６１−１３１８４号）。

すなわち、この発明は、表面上滑化された磁性層の表面
をダイヤモンドホイールあるいは固定式のサファイヤブ
レードなどの高硬度の研削具を用いて研削することによ
り、脱離し易い状態にある粒状成分あるいは磁性層表面
の付着物などを除去し、磁性層表面からの脱離物のにを
低減するものである。このように磁性層を研削すること
により、ドロップアウトおよび目詰まり発生並びに長時
間走行による出力の低下を有効に防止できる。

このような背景から本発明者は、磁性層表面の研削につ
いてさらに検討した結果、磁気記録媒体の磁性層の研削
に好適な研削具を発明し、これを用いることにより、さ
らに走行１耐久性の良好な磁気記録媒体を製造すること
ができることを見い出した。

［発ｌＪｊの目的］ 本発明は、良好な走行耐久性を有する磁気記録媒体を製
造する方法を提供することを目的とする。

さらに本発明は、こうした走行耐久性の良好な磁気記録
媒体の製造に好適な新規な研削具を提供することを［１
的とする。

［発ＩＩの要旨］ 本発明は、断面が円形の回転体と、該回転体の外周部に
その回転軸に沿５って備えられた少なくとも一枚のブレ
ードとからなる回転ブレード体にある。

さらに本発明は、非磁性支持体上に塗設された、強磁性
粉末が結合剤に分散されてなる磁性層を表面上滑化処理
したのち、該磁性層の表面に、上記の回転ブレードを回
転下に接触させることにより研削処理することを特徴と
する磁気記録媒体の製法を提供する。

［発ＩＪＩの効果］ 本発明の特定の研削具を用いることにより、磁＋１層を
良なｆにωＦ削することができる。

従って、磁性層表面から脱ツしやすい状ｙ８の強磁性粉
末などの粒状１表分の故が少なくなるので、走イ１中に
これらの粒状成分の税引による磁気へラド１１詰まりお
よびドロップアウトの少ない磁気記録媒体を製造するこ
とができる。

さらに、磁性層表面からＩ税引する強磁性粉末の個数が
少なくなるので、庁り返し走行させても強（ａ　ｔｉ粉
末の減少が少なく、従って、走行初期の再生出力と繰り
返し走行後の＋Ｉｆ生出力出力が少ない磁気記録媒体を
製造することができる。

また、磁性層形成成分として硬化剤を使用した場合には
、磁性層表面の未反応硬化剤の大部分が除去されるので
、磁気記録媒体の製造後に粉塵などが磁性層に付着する
ことがない、従って、こうした付着物に起因するドロー
、ブアウトの発生の少ない磁気記録媒体を製造すること
ができる。さらに、磁気ヘッドが未反応硬化体などで汚
染されることが少ないので、磁気ヘッドへの粉塵の付着
などによる磁気へラド［１詰まりの発生が少ない磁気記
録媒体を製造することができる。

「９．１町のｌｉｔ細な記述］ 磁気記録媒体は、通常、非磁性支持体４−に磁性塗料を
塗設し、磁場配向処理、硬化処理および表面）Ｌ消化処
理などを行なったのち、所望の形状に裁断することによ
り製造される。

磁気記録媒体は、非磁性支持体と、この支持体−にに設
けられた磁性層からなる。磁性層は、強磁性粉末などの
粒状成分と、この粒状成分が分散している結合剤からな
る。結合剤は、８４脂成分と、さらに所望により配合さ
れる硬化剤とにより構成されている。

磁性層の塗設は、通常の方法に従って行なうことができ
る。たとえば、樹脂成分および強磁性粉末並びに所望に
より配合される研磨材および硬化剤などの磁性層形成成
分を溶剤と共に混線分散して磁性塗料を調製し、この磁
性塗料を非磁性支持体上に塗布する方法を利用すること
ができる。

樹脂成分は、通常磁性塗料の樹脂成分として使用されて
いる樹脂から選ばれる。樹脂成分の例としでは、塩化ビ
ニル系共重合体（例、塩化ビニル・酩酊ビニル共重合体
、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体
、塩化ビニル・酢酸ビニル・アクリル酩共重合体、１１
！化ビニルｌ１１１！化ヒニＩＪ　テン共重合体、塩化
ビニル・アクリロニトリル共重合体、エチレン・耐酸ビ
ニル共重合体、−５Ｏ，Ｎａまたは−５ｏ２Ｎａなどの
極性基およびエポキシ基が導入された塩化ビニル系共重
合体）、ニトロセルロース樹脂などのセルロース誘導体
、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニ
ルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポ
リウレタン系樹脂（例、ポリエステルポリウレタン樹脂
、−３Ｏ，Ｎａまたは−５ｏ２Ｎａなどの極性）、（が
導入されたポリウレタン系樹脂、ポリカーボネートポリ
ウレタン樹脂）を挙げることができる。

また、硬化剤を使用する場合、通常は、ポリイソシアネ
ート化合物が用いられる。ポリイソシアネート化合物は
、通常ポリウレタン系樹脂等の硬化剤成分として使用さ
れているもののなかから選択される。ポリイソシアネー
ト化合物の例としては、トリレンジイソシアネートとト
リメチロールプロパン１モルとの反応生成物（例、デス
モジュールＬ−７５（バイエル社製））、キシリレンジ
イソシアネートあるいはへキサメチレンジイソシアネー
トなどのジイソシアネート３モルとトリメチロールプロ
パン１モルとの反応生成物、ヘキサメチレンジイソシア
ネート３モルのビューレット付加化合物、トリレンジイ
ソシアネート５モルのインシアヌレート化合物、トリレ
ンジインシアネート３モルとへキサメチレンジイソシア
ネート２モルのインシアヌレート付加化合物、インホロ
ンジイソシアネートおよびジフェニルメタンジイソシア
ネートのポリマーを挙げることができる。

また、電子線照射による硬化処理を行なう場合には、反
応性二重結合を有する化合物（例、塩化ビニル系共重合
体アクリレート、ウレタンアクリレート）を使用するこ
とができる。

本発明においては、樹脂成分として塩化ビニル系共重合
体のような硬度の高い樹脂とボリウレタン系樹脂のよう
な柔軟性を有する樹脂とを組合わせて使用することが好
ましい。

塩化ビニル系共重合体のような硬度の高い樹脂とポリウ
レタン系樹脂のような柔軟性を有する樹脂とを組合わせ
て使用する場合、前者と後者との配合重ｒＵＹ比は通常
は９：１〜５：５の範囲内（好ましくは９：１〜６：４
）とする。そして、硬化剤を使用する場合には、通常、
■−記樹脂成分と硬化剤との配合重量比は、９：１〜５
：５（好ましくは９：ｌ〜６：４）の範囲内に設定され
る。

一般に、強磁性粉末として、強磁性金属微粉末のような
硬度の低いものを使用する場合には。

γ−Ｆｅ　２０．などの硬度の高いものを用いる場合よ
りも多量の結合剤を使用する。そして、この場合、通常
は、ポリウレタン系樹脂のように柔軟性を右する樹脂の
使用量を増加させる。

こうしたポリウレタン系樹脂の使用量の増加によって結
合剤が軟化する傾向があるので、通常は、ポリイソシア
ネート化合物のような硬化剤を増量して結合剤の硬度を
維持する方法が利用されている。

樹脂成分として、ポリウレタン系樹脂を使用し硬化剤と
してポリインシアネート化合物を使用する場合、ポリウ
レタン系樹脂とポリイソシア藷−ト化合物との配合重量
比は、通常１　：　０．８〜ｌ：２（好ましくは１：１
〜１：１．５）の範囲内に設定される。このようにする
ことにより硬度の低い強磁性金属微粉末を使用した場合
にも、ポリウレタン系樹脂を使用することに伴なう結合
剤の軟化を有効に防１にすることができるようになる。

樹脂成分と硬化剤との合計の重ら１は、強磁性粉末１０
０重量部に対して、通常１０〜１００重星部（１５〜４
０重陽部）の範囲内にある。

未発１！１で用いる強磁性粉末の例としては、γ−Ｆｅ
　２０．のような金属酸化物系の強磁性粉末、コバルト
等の他の成分を含有するγ−Ｆｅ　２０゜のような異種
金属・金属酸化物系の強磁性粉末、および鉄、コバルト
あるいはニッケルなどの強磁性金属を含む強磁性金属微
粉末を挙げることができる。

特に本発明は、強磁性金属微粉末を用いた磁気記録媒体
の製法として利用すると有利である。すなわち、強磁性
金属微粉末の使用に伴なって硬化剤を多量に使用した場
合であっても１ｇｉ性層あるいは磁気ヘッドへの付着物
の量を低減することができるので、ドロップアウトおよ
び磁気ヘッド目詰まりの少ない磁気記録媒体を製造する
ことができる。

強磁性金属微粉末を使用する場合には、鉄、コバルトあ
るいはニッケルを含む強磁性金属微粉末であって、その
比表面積が４２ｒｎ’／ｇ以上（特に好ましくは４５ｒ
ｒｒ’／ｇ以上）の強磁性金属微粉末であることが好ま
しい。

この強磁性金属微粉末の例としては、強磁性金属微粉末
中の金属分が７５重量％以上であり、そして金属分の８
０重量％以上が少なくとも一種類の強磁性金属あるいは
合金（例、Ｆｅ、Ｃ０１Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ
、Ｇｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｆｅ）であり、該金属分の
２０重量％以下の範囲内で他の成分（例、Ａｎ、Ｓｉ、
Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｍ
ｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂ、Ｂａ、Ｔａ、
Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｐ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、
Ｎｄ、Ｔｅ、Ｂｉ）を含むことのある合金を挙げること
ができる。また、上記強磁性金属分が少量の水、水酸化
物または酸化物を含むものなどであってもよい。

これらの強磁性粉末の製法は既に公知であり、本発明で
用いる強磁性粉末についても公知の方法に従って製造す
ることができる。

強磁性粉末の形状に特に制限はないが、通常は針状、粒
状、サイコロ状、米粒状および板状のものなどが使用さ
れる。特に針状の強磁性粉末を使用することが好ましい
。

上記の樹脂成分、硬化剤および強磁性粉末を、通常磁性
塗料の調製の際に使用されている溶剤（例、メチルエチ
ルケトン、ジオキサン、シクロヘキサノン、酢酸エチル
）と共に混線分散して磁性塗料とする。混線分散は通常
の方法に従って行なうことができる。

なお、磁性塗料中は、」二足成分以外に、研磨材（例、
α−Ａ　Ｍ　２０３、Ｃｒ２０３）、帯電防１ト剤（例
、カーボンブラック）、潤滑剤（例、脂肪酸、脂肪酸エ
ステル、シリコーンオイル）、分散剤など通常使用され
ている添加剤あるいは充填材（剤）を含むものであって
もよいことは勿論である。４′ｒに４１滑剤として、炭
素数が１０〜２２の飽和脂肪酸を用いた場合、後述の回
転ブレード体を用いて研削を行なうことにより飽和脂肪
酸が磁性層表面に層状に配向する傾向があり、このよう
に配向した脂肪ＮＩ膜は強度が高く、さらに潤滑性も良
ｆｌ−ｆであるので、磁気記録媒体の走行性が向−１ニ
するとの利点がある。

このようにして調製した磁性塗料を非磁性支持体Ｉ−に
塗布する。塗布の方法は、リバースロールを用いる方法
などの通常の塗布方法を利用して行なうことができる。

磁性塗料の塗布層は、得られた磁気記録媒体の磁性層の
厚さが通常０．５〜ｌｏｇｍの範囲内となるように塗布
される。

非磁性支持体は、通常使用されているものを用いること
ができ、また、非磁性支持体は、一般には厚Ｓが３〜５
０ｇｍ（好ましくは５〜３０ｇｍ）のものが使用される
。

本発明で用いる非磁性支持体の磁性塗料が塗ｒｌｊされ
ていない面にバック層（バッキング層）が設けられてい
てもよい０通常バック層は、非磁性支持体の磁性塗料が
塗布されていない面に、研磨材、帯電防止剤などの粒状
成分と結合剤とが有機溶剤に分散してなるパック層形Ｉ
＆塗＄１を塗布して設けられた層である。

なお、非磁性支持体の磁性塗料およびバック層形成塗料
の塗設面に接着剤層が付設されていてもよい。

通常、塗布された磁性塗料の塗布層は、磁性塗料の塗布
層中に含まれる強磁性粉末を配向さゼる処理、すなわち
磁場配向処理を施した後、乾煙される。

このようにして乾繰された後、塗布層に表面平消化処（
１Ｙを施す０表面平滑化処理には、たとえばスーパーカ
レンダロールなどが利用される０表面平滑化処理を行な
うことにより、乾炸により溶剤の除去により生じた空孔
が消滅し磁性層中の強磁性粉末の充填率が向１−するの
で、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができ
る。

未発ＩＪＩの製法おいては、こうして表面平滑化処理さ
れた磁性層の表面を回転ブレード体を用いて研削する。

ただし、結合剤の形成成分として硬化剤を使用した場合
には、この段階では、磁性層に含まれる硬化剤のうち、
通常９０重量％以りが未反応の状態で磁性層に含有され
ているので、硬化処理を行なって、少なくとも硬化剤の
５０重量％（特に好ましくは８０重漬浸以−Ｌ）を反応
させたのちに研削することが好ましい。

硬化処理には、加熱硬化処理と電子線照射硬化処理とが
あり１本発明においては、いずれの方法であっても利用
することができる。

この硬化処理により表面平滑化処理された磁性層に含有
される未反応の硬化剤が、たとえば塩化ビニル系共重合
体およびポリウレタン系樹脂のような樹脂成分と三次元
網状の架橋構造を形成するように反応する。

加熱処理の工程目体は既に公知であり、本発明において
もこれらの方法に準じて加熱処理を行なうことができる
。

たとえば、加熱処理は、加熱待間を通常４０℃以−Ｌ（
好ましくは５０〜８０℃の範囲内）、加熱時間を通常２
０時間以上（好ましくは２４時間〜７１間）に設定して
行なわれる。また、電子線照射による硬化処理の工程目
体も既に公知であり、本発明においてもこれらの方法に
準じて加熱処理を行なうことができる。

このようにして硬化処理された積層体を次に所望の形状
に裁断する。

裁断はスリッターなとの通常の裁断機などを使用して通
常の条件で行なうことができる。

このように硬化処理され、裁断された積層体の磁性層の
表面を回転ブレード体を用いて研削する。

第１図は回転ブレード体の例を示す斜視図である。

第１図に示すように、回転ブレード体は、回転体１と、
この回転体ｌの回転軸に沿ってこの回転体の外周部２に
備えられた少なくとも一枚のブレード３とからなる０回
転体ｌは、回転軸に対する垂直断面が円形であって、通
常は円筒状のものが用いられる。回転体ｌの円形断面の
直径は、通常は１０〜５０　ｍ、　ｍの範囲内にある。

また、長さは、研削する磁気記録媒体の幅に合せて適宜
設定することができる。例えばスリット後に研削を行な
う場合には、回転体１の長さは、通常は、研削される磁
気記録媒体の幅の１．１〜１０倍の長さに１没定される
。

なお、通常は回転体１を形成する素材は、鉄、黄銅およ
びステンレスなどの金属である。

ブレード２は、−１−記の回転体の外周部２に少なくと
も１枚備えられていることが必要であるが、その枚数が
２〜３２枚の範囲内にあることが好ましく、さらに２〜
ｌＯ枚の範囲内にあることが特に好ましい、ブレードは
、回転体の外周部２に回転体の回転軸に沿った方向で備
え伺けられており、通常は、回転軸と平行に回転体の外
周部に備え付けられている。

第２図に、上記の回転体の外周部に備えられているブレ
ー　ドの例を示す。

第２図に示すように、ブレード３は、通常長さ方向に垂
直な断面が三角形の三角柱である。

ブレードのサイズは、回転体のサイズ、回転体の外周部
に備えられるブレードの枚数などにより適宜設定するこ
とができるが、通常は、第２図におけるブレード底辺ａ
の長さが、０．５〜１０ｍｍの範囲内にあり、ブレード
の高さｂが３〜１０ｍｍの範囲内にあるものが使用され
る。そして、ブレードの長さＣは、通常の上記の回転体
の長さに対応して設定される。

ブレードは、磁気記録媒体の磁性層を研削するのである
から、磁性層に含まれる成分と同等もしくはそれよりも
高い硬度を有する素材で形成されている。そして１通常
は、サファイヤ、アルミナ、サーノ−／　）、ジルコニ
ア（酸化ジルコニウム）、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ダ
イヤモンドおよび超硬合金などの素材から形成されてい
る。特にサファイヤを用いることが好ましい。

上記のブレード３の回転体の外周部２に回転体ｌの回転
軸方向に沿って、たとえば螺子などを用いて備え付けら
れている。

第３図に本発明の回転ブレード体の側面図を示す。

そして、第３図に示すようにブレード３の配置角０、す
なわち、ブレード３の頂点と回転ブレード体の回転中心
点とを結ぶ仮想線とブレードの底辺との成す角度θが、
３０〜１５０度の範囲内になるようにすることが好まし
い。さらに、回転体の表面からブレードの頂点が通常は
１ｍｍ以上（好ましくは２ｍｍ以上）Ｗ出するようにさ
れている。

このような回転ブレード体を用いた磁性層の研削は、通
常、研削される磁性層を走行させながら、その表面と１
回転している−１ユ記回転ブレード体と接触させること
により行なわれる。すなわち、このような磁性層表面の
研削の際には、非磁性支持体と磁性層とからなる積層体
の長さ方向に、通常３０〜１００ｇ７８ｍｍの範囲内の
張力を付与し、通常６０〜１２００ｍ／分の範囲内の速
度で走行させながら接触させる。

磁性層と接触する回転ブレード体の回転速度は、通常ｉ
ｏｏ〜６０００回転／分（好ましくは１５０〜５００回
転）の範囲内に設定される。また、磁性層と上記回転ブ
レード体の接触角（ラップ角）は、通常は、３０〜１８
０度（好ましくは３０〜１２０度）の範囲内に設定され
る。

さらに、回転ブレード体の回転方向は、磁性層の走行方
向に対して逆になるようにすることが好ましい、このよ
うに逆回転で接触させることにより研削効率が向上する
。

上記のような処理により、磁性層の表面から突出してい
る強磁性粉末あるいは研磨材のような粒状成分、さらに
は磁性層の表面に存在する未反応の硬化剤、表面の付着
物（例えば、磁気記録媒体を！Ａ造する際に表面に付着
した空気中の粉塵）などは、磁性層表面近傍（一般には
０．０１〜５ｇｍの高さ）の結合剤と共に削り取られ、
磁性層表面が平滑化される。

さらに、こうして研削された磁性層表面に拭き取り処理
を行なうことが好ましい、すなわち、研削により発生す
る研削屑などを除去することにより、ドロップアウトの
発生などをさらに低減することができる。

拭き取り材料の例としては、ポリウレタンなどの結合成
分を含むことなくｏ、ｏｉ〜０．０９デニールのポリエ
ステル繊維が結束されてなる繊維の束が緻密にからみ合
った一層構造のスェード調不織布（例、エクセーヌ（商
品名）、東し■製）およびポリエステル繊維などをポリ
ウレタンなどの結合成分で結合してなる不織布（例、バ
イリーン（商品名）、日本バイリーン■製）を挙げるこ
とができ、特に本発明においては、前者のスェード調不
織布を用いることが好ましい。

なお、以上は表面上滑化処理が施された積層体全裁断し
た後、磁性層と回転ブレード体とを接触させる方法を主
に記載したが、本発明は、この順序に限定されるもので
はなく、たとえば、裁断しながら接触させる方法、ある
いは裁断する前に接触させる方法などを利用することが
できる。

さらに、硬化処理を行なわなくとも徐々に硬化反応が進
行するので１表面平滑化処理後、特に硬化処理を行なう
ことなく磁性層表面の研削を行なうこともできる。

以下余白 次に、本発明に実施例および比較例を示す、なお、実施
例および比較例中の「部」との表示は、ｒ毛量部」を示
すものである。

［実施例１］ Ｆ記の磁性塗料組成物をボールミルで均一になるまで混
線分散して磁性塗料を調製した。

得られた磁性塗料の粘度を調整した後、磁性層の厚さが
３．０メＬｍになるように、厚さ１０ｇｍのポリエチレ
ンテレフタレート支持体の表面にリバースロールを用い
て塗布した。

磁性塗料組成 強磁性金属微粉末　　　　　　　　　　ｉｏｏ部（組成
：　Ｆｅ９６％、　Ｎｉ４％、 比表面積：４５ｒｎ’／ｇ） 塩化ビニル／酢酸ビニルΦ 無水マレイン酸共重合体　　　　　１４部（４００Ｘｌ
ｌ０Ａ　　日本ゼオン株製）ポリウレタン系樹脂　　　
　　　　　　　１２部にツボランＮ−２３０４、 目Ｉ侵ポリウレタン■製） ポリイソシアネート化合物　　　　　　　１２部（デス
モジュールし−７５、 バイエル社製） α−アルミナ　　　　　　　　　　　　１０部ステアリ
ン酸　　　　　　　　　　　　　　　　５部ステアリン
酸ブチル　　　　　　　　　　　５８１１カーボンブラ
ツク　　　　　　　　　　　　１部メチルエチルケトン
　　　　　　　　　３２５部別に下記のバック層形Ｌ１
１２．塗料組成物をボールミルで均一になるまで混線分
散してバック層形成塗料を調製した。

得られたバック層形成塗料の粘度を調整した後、上記の
磁性塗料が塗布された支持体の裏面にバック層の厚さが
０．７ｇｍになるように、リバースロールを用いて塗布
した。

バック層形成塗料組成 カーボンブラック　　　　　　　　　　　３５部（モ均
粒子径：０．０５ｐｍ） α−アルミナ　　　　　　　　　　　　１．８部（Ｖ均
粒子径：０．１５ＪＬｍ 最大粒子径：０．３ｐｍ） ニトロセルロース　　　　　　　　　　　２０部ポリウ
レタン系樹脂　　　　　　　　　　ｉｏ部にツボランＮ
−２３０４、 ［］本ポリウレタン■製） ポリイソシアネート化合物　　　　　　　１０部（コレ
ネートＬ、 日本ポリウレタン林製）） メチルエチルケトン　　　　　　　　　６００部磁性塗
料およびバック層塗料が塗布された非磁性支持体を、磁
性塗寧１が未乾燥の状態で３０００ガウスの磁石で磁場
配向処理を行ない、ざらに乾煙後、スーパーカレンダー
処理を行ない、非磁性支持体と磁性層およびバック層と
からなる積層体を調製した。

この積層体を６０℃で２４蒔間加熱処理を行ない磁性層
中に含有されるポリイソシアネート化合物を硬化させた
後、８ｍｍにスリットし、以下に記載する条件で回転ブ
レード体を用いて磁性層表面を研削を行ない、さらに、
研削した磁性層面に、０．１〜０．９デニールのポリエ
ステル繊維が東になってからみ合っているスェード調不
織１（ｉ（商品名：エクセーヌ、東し■製）を用いて拭
き取り操作を施して８ミリビデオ用テープを製造した。

回転ブレード体を用いた研削 円筒状の金属（長さ：３５ｍｍ、直径：２０ｍｍ、空洞
の直径：１２ｍｍ）の周囲に、長さ３５ｍｍ、断面形状
が１辺５ｍｍの正三角形の三角柱の形状を有すサファイ
ヤブレードを１本備えてなる回転ブレード体（ブレード
の設置角０：６５度）を用意した。

この回転ブレード体を１０００回転／分で磁性層の走行
方向と逆方向に回転させて、積層体に張力５０　ｇ　／
　８　ｍ　ｍの張力を４−ｔ−’ｌ−し、積層体の磁性
層と回転ブレードとを接触角度１２０度にて接触させて
磁性層の表面を研削した。

得られた８ミリビデオ用テープを出版のビデオレコーダ
（ＦＵＪ　ｌＸ−８）を用いて走行させ、１５ｇ５、−
１８ｄＢのドロップアウトの１分間の発生個数を測定し
た。

また、上記の装置を用いて、通常走行速度で９０分間走
行する長さのテープを走行させて発生した瞬間［Ｊ詰ま
りの回数を測定した。

さらに、上記の装置を用いて、得られたテープを１０回
繰り返し走行させ、最初の１回目の再生出力をＯｄＢと
したときの１０回目の再生出力を測定した（出力低下）
。

なお、以下に示す実施例及び比較例において、ドロー２
プアウトの個数、瞬間目詰まり及び出力低下は上記の方
法により測定したものである。

第１表にドロップアウトの個数、瞬間目詰まり回数およ
び出力低Ｆの測定結果を記載する。

［比較例１］ 実施例１において、回転ブレード体を用いた磁性層の研
削を行なわなかった以外は同様にして８ミリビデオ用テ
ープを製造した。

第１表にドロップアウトの個数、瞬間目詰まり回数およ
び出力低下の測定結果を記載する。

［比較例２］ 実施例１において、回転ブレード体による磁性層の研削
の代わりに、以下に記載する内定ブレードを用いて磁性
層の研削を行なった以外は同様にして８ミリビデオ用テ
ープを製造した。

サファイヤブレード処理 先端の角度が６０度のサファイヤブレード（幅：５ｍｍ
、長さ３５　ｍ　ｍ、京セラ■製）と磁性層とを接触角
度８０度、張力５０ｇ７８ｍｍにて接触させて研削した
。なお、磁性層とサファイヤブレードとの接触はサファ
イヤブレード４枚を一組として１回行なった。

第１表にドロップアウトの個数、瞬間１−］詰まり回数
および出力低下の測定結果を記載する。

以下全白 第１表 １５μｓ；−１８ｄＢ　　　　　　（回）　　　　（ｄ
Ｂ）実施例 １　　　ｌＯ個／分　　　　１〜３　　　−１比較例 １１５０個／分　　多数発生さらに　−６１１詰まりも
発生 ２　　１５個／分　　　　４〜６−４ 註）第１表において、比較例１の磁気記録媒体は、瞬間
目詰まりが発生し、その発生回数が多かったので磁気ヘ
ッドに磁気記録媒体の走行による自浄作用によっては除
去されず１発生回数を計測することができなくなったこ
とを意味する。

４、ｒＡ而のｆ！−Ｊ巾な説明 第１図は本発明の回転ブレード体の例を示す斜視図であ
る。

第２図は、［−記の回転体の外周部に備えられているブ
レードの例を示す斜視図である。

第３図は、上記第１図で示した回転ブレード体の側面図
である。

ｌ：回転体、２註回転体の外工１間部、３ニブレード

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、断面が円形の回転体と、該回転体の外周部にその回
   転軸に沿って備えられた少なくとも一枚のブレードとか
   らなる回転ブレード体。 ２、上記回転体の外周部に備えられたブレードの枚数が
   ２〜３２枚の範囲内にあることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項記載の回転ブレード体。 ３、上記ブレードが、サファイヤ、アルミナ、サーメッ
   ト、ジルコニア、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ダイヤモン
   ドおよび超硬合金よりなる群から選ばれた一種の素材よ
   り形成されているものであることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項記載の回転ブレード体。 ４、非磁性支持体上に塗設された、強磁性粉末が結合剤
   に分散されてなる磁性層を表面平滑化処理したのち、該
   磁性層の表面に、断面が円形の回転体と、該回転体の外
   周部にその回転軸に沿って備えられた少なくとも一枚の
   ブレードとからなる回転ブレード体を回転下に接触させ
   ることにより研削処理することを特徴とする磁気記録媒
   体の製法。 ５、上記回転体の外周部に備えられたブレードの枚数が
   ２〜３２枚の範囲内にあることを特徴とする特許請求の
   範囲第４項記載の磁気記録媒体の製法。 ６、上記ブレードが、サファイヤ、アルミナ、サーメッ
   ト、ジルコニア、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ダイヤモン
   ドおよび超硬合金よりなる群から選ばれた一種の素材よ
   り形成されているものであることを特徴とする特許請求
   の範囲第４項記載の磁気記録媒体の製法。 ７、上記回転ブレード体の回転数が１００〜６０００回
   転／分の範囲内にあることを特徴とする特許請求の範囲
   第４項記載の磁気記録媒体の製法。 ８、磁性層の走行下に、該磁性層の走行方向に対して逆
   方向に該回転ブレード体を回転させながら該磁性層と該
   回転ブレード体とを接触させて、該磁性層表面を研削す
   ることを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の磁気記
   録媒体の製法。 ９、上記磁性層を研削したのち、該磁性層表面を拭き取
   ることを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の磁気記
   録媒体の製法。