JPS6392512A - Belt conveyer mechanism - Google Patents
Belt conveyer mechanismInfo
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- JPS6392512A JPS6392512A JP61233824A JP23382486A JPS6392512A JP S6392512 A JPS6392512 A JP S6392512A JP 61233824 A JP61233824 A JP 61233824A JP 23382486 A JP23382486 A JP 23382486A JP S6392512 A JPS6392512 A JP S6392512A
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Structure Of Belt Conveyors (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
この発明は、装置内で高さが狭い場所における、板状物
体の搬送用のベルトａ送機構に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] This invention relates to a belt-a transport mechanism for transporting a plate-shaped object in a narrow space within an apparatus.
［従来の技術］
′１′導体素ｒの原材料であるシリコンウエノ１は、種
々のプロセスを経て製品化されるが、各プロセスのステ
ーション間の移送は自動化されており、エアベアリング
、ベルト搬送方式または回転アームなどにより行われる
。これらの搬送方式にはそれぞれ一長一短があり、ステ
ーションの機構−１−都合のよいものが選定されて使用
されている。特に、ウェハの投影露光装置においては、
搬送機構を収容する場所の高さ間隔が狭いので、厚さが
薄くできるエアベアリング方式が採用されている。[Prior art] Silicon wafer 1, which is the raw material for ``1'' conductor element r, is manufactured through various processes, and the transfer between stations in each process is automated, using air bearings and belt conveyance methods. Alternatively, it can be performed using a rotating arm, etc. Each of these transport methods has its advantages and disadvantages, and the most convenient one is selected and used. In particular, in wafer projection exposure equipment,
Since the height spacing of the location where the transport mechanism is housed is narrow, an air bearing system is used that allows for a thinner thickness.
第４図（ａ）、（ｂ）はウェハの投影露光装置にエアベ
アリング方式を使用した場合の構造図で、図（ａ）は甲
面を図（ｂ）は図（ａ）のＡ−Ａ断面を示す。Figures 4(a) and 4(b) are structural diagrams of a wafer projection exposure device using an air bearing method, with figure (a) showing the upper surface, and figure (b) showing A-A in figure (a). A cross section is shown.
両図において、ウェハ１は別途回転アームにより矢印Ｒ
に示す軌跡で搬送されて、ウェハテーブル２の４−に載
置され、エア孔２ａにより吸着される。In both figures, the wafer 1 is moved by the arrow R by a separate rotating arm.
The wafer is transported along the trajectory shown in , placed on 4- of the wafer table 2, and sucked by the air hole 2a.
一方、露光マスク４はマスク台３に固定されており、露
光マスク４とウェハｌの間隔は別途のＮ ４Ｍにより、
焦点調整がなされて露光が行われる。露光路ｒ後、エア
ベアリング機構５が矢印Ｂの方向に移動して適当な位置
（図示点線）までウェハ１に接近する。ついで、エア孔
５ａよりエアが矢印Ｃの方向に傾斜して噴射され、ウェ
ハｌは噴射エアに引き出されながら、これに乗って搬送
され、排出されるものである。なおこの場合、ウェハテ
ーブル２のエア孔２ａよりエアが噴射されて、ウェハｌ
が僅かに浮」−シた杖態である。On the other hand, the exposure mask 4 is fixed to the mask stand 3, and the distance between the exposure mask 4 and the wafer l is set by a separate N 4M.
Focus is adjusted and exposure is performed. After the exposure path r, the air bearing mechanism 5 moves in the direction of arrow B and approaches the wafer 1 to an appropriate position (dotted line in the figure). Next, air is injected from the air hole 5a obliquely in the direction of arrow C, and the wafer I is drawn out by the injected air, carried along with it, and discharged. In this case, air is injected from the air hole 2a of the wafer table 2, and the wafer l
It is in a slightly floating position.
さて、以上に説明したエアベアリング搬送方式には、し
ばしばウェハ１の搬送が円滑に杼われない場合がある。Now, in the air bearing transport method described above, the wafer 1 is often not transported smoothly.
これを第４図（Ｃ）により説明する。This will be explained with reference to FIG. 4(C).
上記したマスク４による露光の際は、ミクロンまたはサ
ブミクロンオーダーの微細なマスクパターンの焦点を精
密に合わせるため、ウェハテーブル２は、傾斜角が任意
の方向に調整できる機構とされており、露光後はその傾
斜角の位置でウェハ１の排出がなされるものである。例
えば、ウェハテーブル２が点線２′まで傾斜し、ウェハ
１が点線１′の位置にあるときは、ウェハ１′はエアベ
アリング５の先端部５ｂに衝突して移動することができ
ないこととなる。これを救うためには、ウェハテーブル
２の傾斜を修正またはなくして水平とすることであるが
、制御が複雑となるばかりでなく、時間的ロスがあるた
め行われていない。また、エアベアリングに代わって、
ベルト搬送方式を使用することが考えられるが、通常の
ベルト搬送方式は、第５図に示すように、軸受け９の直
径が回転軸６に比較して大きく、またブー１７７は通常
さらに大きいものである。従って、」−記したような高
さの狭い場所には適当しない。そこで、搬送方式として
このような欠点のないものが要求されるものである。During exposure using the mask 4 described above, in order to precisely focus the fine mask pattern on the order of microns or submicrons, the wafer table 2 has a mechanism that allows the tilt angle to be adjusted in any direction. The wafer 1 is discharged at the position of the inclination angle. For example, when the wafer table 2 is tilted to the dotted line 2' and the wafer 1 is at the position indicated by the dotted line 1', the wafer 1' collides with the tip 5b of the air bearing 5 and cannot move. In order to solve this problem, the inclination of the wafer table 2 should be corrected or eliminated to make it horizontal, but this is not done because it not only complicates control but also involves time loss. In addition, instead of air bearings,
It is conceivable to use a belt conveyance system, but in a normal belt conveyance system, as shown in FIG. be. Therefore, it is not suitable for places with narrow heights such as those mentioned above. Therefore, there is a need for a transport system that does not have these drawbacks.
［発明の目的コ
この発明は、以−ヒに説明したウェハの露光ＲＡｉ！ｆ
のごとき、高さ寸法が狭（限られた場所に適用できる、
ベルト搬送機構を提供することを目的とするものである
。[Object of the Invention] The present invention is directed to the wafer exposure RAi! described below. f
The height dimension is narrow (applicable to limited places, such as
The object is to provide a belt conveyance mechanism.
［問題点を解決するための手段］
この発明においては、２本の回転軸のそれぞれの両端を
円ｆｔ＃杖とし、これを同転軸の直径にほぼ等しい外径
のピボットベアリングでそれぞれ軸支する。２本の回転
軸の軸、１−の対応する位置において、円周」−に断面
が円弧状のｉｂを設けて、対応する溝間に搬送用のベル
トを巻き掛け展張したものである。[Means for Solving the Problems] In the present invention, both ends of each of the two rotating shafts are circular ft# rods, and each of these is supported by a pivot bearing having an outer diameter approximately equal to the diameter of the rotating shafts. do. At corresponding positions on the two rotating shafts 1-, ibs having an arc-shaped cross section are provided on the circumference, and a conveying belt is wound and stretched between the corresponding grooves.
［作用］
この発明によるベルト搬送機構においては、外形−ｊ゛
法が、回転軸の直径にほぼ等しいピボットベアリングを
使用し、またベルトを掛けるプーリを廃して、回転軸自
身にプーリ用の溝を設けであるので、高さ１１法が通常
のベルト搬送機構に比して著しく小さくできる。従って
、高さ制限の厳しい、狭い場所に使用できるものである
。[Function] In the belt conveyance mechanism according to the present invention, a pivot bearing having an outer diameter approximately equal to the diameter of the rotating shaft is used, and a pulley for hanging the belt is eliminated, and a groove for the pulley is provided on the rotating shaft itself. Because of this arrangement, the height 11 can be made significantly smaller than that of a normal belt conveyance mechanism. Therefore, it can be used in narrow spaces with severe height restrictions.
［実施例］
第１図（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）は、この発
明によるベルト搬送機構の構成を示す図で、適当な直径
の２本の回転軸６−１と６−２を用い、それぞれの両端
６ａを円錐状とする。これに対して、外径が回転軸６と
ほぼ等しいピボットベアリング１１を用いて軸支する。[Example] Figures 1 (a), (b), (c) and (d) are diagrams showing the configuration of a belt conveyance mechanism according to the present invention, in which two rotating shafts 6-1 of appropriate diameters and 6-2, and both ends 6a of each are made into a conical shape. On the other hand, a pivot bearing 11 having an outer diameter approximately equal to that of the rotating shaft 6 is used to support the shaft.
ピボットベアリング１１としては、図（ｂ）に示すボー
ルベアリング１１−１、または図（Ｃ）に示す円錐１犬
のオイルレスベアリング１１−２のいずれでもよい。２
本の回転軸６−１と６−２には、対応する位置に、図（
ｄ）で示すように、円周」−に断面が円弧状の溝６ｂを
設ける。The pivot bearing 11 may be either a ball bearing 11-1 shown in Figure (b) or a conical single-dog oilless bearing 11-2 shown in Figure (C). 2
The rotation axes 6-1 and 6-2 of the book have a diagram (
As shown in d), a groove 6b having an arc-shaped cross section is provided on the circumference.
ピボットベアリング１１を適当なベースに平行に固定し
、対応する溝間にベルト８を巻き掛けて展張する。ベル
ト８は通常の合成ゴムによるものでよい。The pivot bearing 11 is fixed in parallel to a suitable base, and the belt 8 is wound and stretched between the corresponding grooves. The belt 8 may be made of ordinary synthetic rubber.
第２図は、この発明によるベルト搬送機構の実施例にお
ける構造を示す斜視外観図で、ベース１２に、取り付は
具１２ａによりピボットベアリング１１を取り付け、こ
れに２本の回転軸６−１と６−２を軸支する。回転軸６
−Ｌ Ｅｉ−２の対応する位置にそれぞれ２個づつ溝６
ｂを設け、これらの間に２本のベル）８−１および８−
２を巻き掛ける。回転軸６−２には、さらに別の溝６ａ
を１個設け、駆動用のプーリ７との間にベルト８−３を
巻き掛ける。プーリ７はモータ１０により駆動されて回
転し、回転軸８−Ｌ ６−２が回転するとともに、ベル
ト８が移動する。なお、取り付は只１２ａ１ベルト８の
位置は、ベース１２が切削されて低くされており、機構
の高さ寸法ができる限り小さくなるようにされている。FIG. 2 is a perspective external view showing the structure of an embodiment of the belt conveyance mechanism according to the present invention, in which a pivot bearing 11 is attached to a base 12 using a tool 12a, and two rotating shafts 6-1 are attached to the pivot bearing 11. 6-2 is pivotally supported. Rotating shaft 6
-L Two grooves 6 in each corresponding position of Ei-2
b, and between them two bells) 8-1 and 8-
Wrap 2. The rotating shaft 6-2 has yet another groove 6a.
A belt 8-3 is wound between the driving pulley 7 and the driving pulley 7. The pulley 7 is driven and rotated by the motor 10, and as the rotation shaft 8-L 6-2 rotates, the belt 8 moves. The position of the belt 8 is lowered by cutting the base 12 so that the height of the mechanism is made as small as possible.
第３図は、この発明によるベルト搬送機構を、ウェハマ
スクの露光装置に適用した場合の構造断面図で、従来の
エアベアリングの位置に、ベルト搬送機構がおかれるが
、高さ寸法が十分に小さいので、容易に取り付けられる
。この場合は、回転軸６−１の先端部において、ベルト
８が半円形で矢印Ｅの方向に回転しているため、ウェハ
１の先端を円滑に捉えて搬送でき、従来のエアベアリン
グ方式の欠点が解消されるものである。FIG. 3 is a cross-sectional view of the structure when the belt conveyance mechanism according to the present invention is applied to a wafer mask exposure device.The belt conveyance mechanism is placed in the position of a conventional air bearing, but the height dimension is It's small so it's easy to install. In this case, since the belt 8 rotates semicircularly in the direction of arrow E at the tip of the rotating shaft 6-1, the tip of the wafer 1 can be smoothly captured and transported, which is a disadvantage of the conventional air bearing method. will be resolved.
［発明の効果］
以−１〕の説明により明らかなように、この発明による
ベルト搬送機構においては、従来のベルト搬送機構の回
転軸自身をプーリとし、軸受けとして外径がほぼ回転軸
の直径と等しいピボットベアリングを使用するので、高
さ・ｊ法を著しく小さくすることができるもので、ウェ
ハの露光装置に限らず、各種の装置内の挟隘な場所に容
易に取り付けられる効果があるものである。[Effects of the Invention] As is clear from the explanation in (1) below, in the belt conveyance mechanism according to the present invention, the rotary shaft itself of the conventional belt conveyance mechanism is a pulley, and the outer diameter of the bearing is approximately the same as the diameter of the rotary shaft. Since it uses equal pivot bearings, the height and j-measure can be significantly reduced, making it easy to install in narrow spaces in various types of equipment, not just wafer exposure equipment. be.
第１図（ａ） 、（ｂＬ（Ｃ）および（ｄ）は、この発
明によるベルト搬送機構の構成図、第２図は、この発明
によるベルト搬送機構の実施例における構造の斜視外観
図、第３図は、この発明によるベルト搬送機構をウェハ
露光装置に適用した場合の構造断面図、第４図（ａ）、
（ｂ）および（ｃ）は、従来ウェハ露光装置に使用され
たエアベアリング搬送機構の説明図、第５図は、従来か
ら一般に使用されているベルト搬送機構の概略図である
。
ｌ…ウェハ、 ２…ウエハテーブル、２ａ・・
・エア孔、 ３・・・マスク台、４・・・露光マ
スク、 ５・・・エアベアリング、５ａ・・・エア
孔、 ５ｂ・・・先端部、６・・・回転軸、
６ａ・・・回転軸の両端、６ｂ・・・回転軸の溝、
７・・・プーリ、８・・・ベルト、 ９・・・
軸受け、ｌＯ・・・モータ、ＩＩ・・・ピボットベアリ
ング、！２・・・ベース、 １２ａ・・・取り
付は具。
第１図
（ａ）
（ｂ） （ｃ）
第５図1(a), (bL(C) and (d) are block diagrams of a belt conveying mechanism according to the present invention, FIG. 2 is a perspective external view of the structure of an embodiment of the belt conveying mechanism according to the present invention, and FIG. 3 is a structural sectional view when the belt conveyance mechanism according to the present invention is applied to a wafer exposure apparatus, FIG. 4(a),
(b) and (c) are explanatory diagrams of an air bearing conveyance mechanism conventionally used in a wafer exposure apparatus, and FIG. 5 is a schematic diagram of a conventionally commonly used belt conveyance mechanism. l...Wafer, 2...Wafer table, 2a...
・Air hole, 3... Mask stand, 4... Exposure mask, 5... Air bearing, 5a... Air hole, 5b... Tip, 6... Rotating shaft,
6a...Both ends of the rotating shaft, 6b...Groove of the rotating shaft,
7...Pulley, 8...Belt, 9...
Bearing, lO...motor, II...pivot bearing,! 2...Base, 12a...Installation tool. Figure 1 (a) (b) (c) Figure 5
Claims (1)
して搬送するベルトよりなる物体の搬送機構において、
２本の回転軸のそれぞれの両端を円錐状として該回転軸
の直径にほぼ等しい外径のピボットベアリングでそれぞ
れ軸支し、かつ該２本の回転軸の軸上の対応する位置に
おいて、円周上に断面が円弧状の溝をそれぞれ設け、対
応する該溝間にベルトを巻き掛け展張して構成されたこ
とを特徴とする、ベルト搬送機構。In an object conveyance mechanism consisting of a rotating shaft driven by a motor and a belt that carries a plate-shaped object,
Both ends of each of the two rotating shafts are shaped like a cone and supported by pivot bearings having an outer diameter approximately equal to the diameter of the rotating shafts, and at corresponding positions on the axes of the two rotating shafts, the circumferential 1. A belt conveyance mechanism, characterized in that grooves each having an arcuate cross section are provided on the top, and a belt is wound and stretched between the corresponding grooves.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61233824A JPS6392512A (en) | 1986-10-01 | 1986-10-01 | Belt conveyer mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61233824A JPS6392512A (en) | 1986-10-01 | 1986-10-01 | Belt conveyer mechanism |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6392512A true JPS6392512A (en) | 1988-04-23 |
Family
ID=16961137
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61233824A Pending JPS6392512A (en) | 1986-10-01 | 1986-10-01 | Belt conveyer mechanism |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6392512A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105411215A (en) * | 2015-11-11 | 2016-03-23 | 安徽孟凌精密电子有限公司 | Metal film placement device for capacitor |
| JP2017100830A (en) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | 株式会社川島製作所 | Conveyor belt |
-
1986
- 1986-10-01 JP JP61233824A patent/JPS6392512A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105411215A (en) * | 2015-11-11 | 2016-03-23 | 安徽孟凌精密电子有限公司 | Metal film placement device for capacitor |
| JP2017100830A (en) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | 株式会社川島製作所 | Conveyor belt |
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