JPS637839A - Metallic catalyst carrier - Google Patents
Metallic catalyst carrierInfo
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- JPS637839A JPS637839A JP61153855A JP15385586A JPS637839A JP S637839 A JPS637839 A JP S637839A JP 61153855 A JP61153855 A JP 61153855A JP 15385586 A JP15385586 A JP 15385586A JP S637839 A JPS637839 A JP S637839A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、排気ガスの浄化を行なうメタル触媒コンバー
タ等で用いられる金属触媒担体に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a metal catalyst carrier used in metal catalytic converters and the like for purifying exhaust gas.
一般に、排気ガスの浄化を行なうメタル触媒コンバータ
等では、例えば、特開昭５７−７１８９８号公報に開示
されるような金属触媒担体が用いられている。Generally, in metal catalytic converters and the like that purify exhaust gas, a metal catalyst carrier as disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 71898/1983 is used.
第５図は、この種の金属触媒担体を示すもので、この金
属触媒担体は、アルミニウムを含むフェライト系ステン
レスからなる基材１１の表面に、いわゆる耐スポーリン
グ性を向上するため、熱処理によりアルミニウムの拡散
によるアルミナウィスカ層１３が形成されている。また
、このアルミナウィスカ層１３の表面には、触媒担持ア
ルミナ層１５が形成され、この触媒担持アルミナ層１５
には、金属触媒１７が含浸されている。FIG. 5 shows this type of metal catalyst carrier. This metal catalyst carrier is made of aluminum by heat treatment on the surface of a base material 11 made of ferritic stainless steel containing aluminum in order to improve the so-called spalling resistance. An alumina whisker layer 13 is formed by diffusion of . Further, a catalyst-supported alumina layer 15 is formed on the surface of this alumina whisker layer 13, and this catalyst-supported alumina layer 15
is impregnated with a metal catalyst 17.
従来、このような金属触媒担体では、アルミナウィスカ
層１３に対する触媒担持アルミナ層１５の充分な密着性
および付着量を得るため、アルミナウィスカ層１３の平
均高さＨは、約３ミクロンメートルが望ましいとされて
いる。Conventionally, in such a metal catalyst carrier, the average height H of the alumina whisker layer 13 is preferably about 3 micrometers in order to obtain sufficient adhesion and adhesion of the catalyst-supported alumina layer 15 to the alumina whisker layer 13. has been done.
しかしながら、このような従来の金属触媒担体では、ア
ルミナウィスカＮ１３の平均高さＨが、約３ミクロンメ
ートルとされているため、アルミナライス力層１３を形
成するためには、例えば９２５℃の温度において、１６
時間の熱処理時間が必要であり、生産性が非常に悪いと
いう問題があった。However, in such a conventional metal catalyst carrier, the average height H of the alumina whiskers N13 is approximately 3 micrometers, so in order to form the alumina rice force layer 13, it is necessary to , 16
This method requires several hours of heat treatment time and has a problem in that productivity is very low.
本発明者等は、かかる問題を解決するため、鋭意研究し
た結果、アルミナウィスカ層１３の平均高さＨが、約１
〜２ミクロンメートルであっても、アルミナウィスカ層
１３に対する触媒担持アルミナ層１５の充分な密着性お
よび付着量を得ることができることを見出した。In order to solve this problem, the present inventors conducted extensive research and found that the average height H of the alumina whisker layer 13 was approximately 1
It has been found that even with a thickness of ~2 micrometers, sufficient adhesion and adhesion of the catalyst-supporting alumina layer 15 to the alumina whisker layer 13 can be obtained.
本発明は、かかる知見に基づいてなされたもので、従来
より大幅に生産性を向上することのできる金属触媒担体
を提供することを目的とする。The present invention was made based on this knowledge, and an object of the present invention is to provide a metal catalyst carrier that can significantly improve productivity compared to the conventional method.
（問題点を解決するための手段〕
本発明に係わる金属触媒担体は、アルミニウムを含むフ
ェライト系ステンレスからなる基材の表面に熱処理を施
すことにより前記アルミニウムの拡散によるアルミナウ
ィスカ層を形成するとともに、このアルミナウィスカ層
の表面に触媒担持アルミナ層を形成し、この触媒担持ア
ルミナ層に金属触媒を含浸してなる金属触媒担体におい
て、前記アルミナウィスカ層の平均高さを１〜２ミクロ
ンメートルとしたものである。(Means for Solving the Problems) The metal catalyst carrier according to the present invention forms an alumina whisker layer by diffusion of the aluminum by applying heat treatment to the surface of a base material made of ferritic stainless steel containing aluminum, and A metal catalyst carrier in which a catalyst-supporting alumina layer is formed on the surface of the alumina whisker layer, and the catalyst-supporting alumina layer is impregnated with a metal catalyst, in which the average height of the alumina whisker layer is 1 to 2 micrometers. It is.
（発明の作用〕
本発明においては、アルミナウィスカ層の平均高さを１
〜２ミクロンメートルとしたので、アルミナウィスカ層
を、例えば９２５℃の温度において、２〜６時間の熱処
理時間で容易に形成することができ、生産性を従来より
大幅に向上することができる。(Function of the invention) In the present invention, the average height of the alumina whisker layer is
Since the thickness is set to 2 micrometers, an alumina whisker layer can be easily formed at a temperature of, for example, 925° C. in a heat treatment time of 2 to 6 hours, and productivity can be significantly improved compared to the conventional method.
以下、本発明の詳細を図面に示す一実施例について説明
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, details of the present invention will be described with reference to an embodiment shown in the drawings.
第１図は、本発明の金属触媒担体の一実施例を示スモの
で、この金属触媒担体は、アルミニウムを含むフェライ
ト系ステンレスからなる基材２１の表面に、いわゆる耐
スポーリング性を向上するため、熱処理を施すことによ
りアルミニウムの拡散によるアルミナウィスカ層２３が
形成されている。ここで、基材２１としては、例えば、
Ｆｅ−２０Ｃｒ−５Ａ６の合金が用いられている。また
、アルミナウィスカ層２３は、α−ＡＩｔｏｓからなる
。FIG. 1 shows an embodiment of the metal catalyst carrier of the present invention. This metal catalyst carrier is applied to the surface of a base material 21 made of ferritic stainless steel containing aluminum to improve so-called spalling resistance. By performing heat treatment, an alumina whisker layer 23 is formed by diffusion of aluminum. Here, as the base material 21, for example,
An alloy of Fe-20Cr-5A6 is used. Further, the alumina whisker layer 23 is made of α-AItos.
さらに、このアルミナウィスカ層２３の表面には、触媒
担持アルミナ層２５が形成され、この触媒担持アルミナ
層２５には、金属触媒２７が含浸されている。ここで、
触媒担持アルミナ１ｉ１２５は、例えば、γ−ＡＩｌｔ
ｏ、からなる。また、金属触媒２７には、Ｐｔ、Ｒｈ等
が用いられる。Furthermore, a catalyst-supported alumina layer 25 is formed on the surface of this alumina whisker layer 23, and this catalyst-supported alumina layer 25 is impregnated with a metal catalyst 27. here,
Catalyst-supported alumina 1i125 is, for example, γ-AIlt
Consists of o. Moreover, Pt, Rh, etc. are used for the metal catalyst 27.
しかして、この実施例では、アルミナウィスカ層２３の
平均高さＨｏが、１〜２ミクロンメートルとされている
。Therefore, in this embodiment, the average height Ho of the alumina whisker layer 23 is 1 to 2 micrometers.
第２図の曲線ａは、Ｆｅ−２０Ｃｒ−５ＡＩからなる基
材２１のアルミナウィスカ層２３の生成熱処理時間とア
ルミナウィスカ層２３の平均高さとの関係を示すもので
、２〜６時間の処理時間で１〜２ミクロンメートルの平
均高さのアルミナウィスカ層２３を形成することができ
る。なお、ここで、熱処理温度は、９２５℃であった。Curve a in FIG. 2 shows the relationship between the heat treatment time for forming the alumina whisker layer 23 of the base material 21 made of Fe-20Cr-5AI and the average height of the alumina whisker layer 23, and the treatment time is 2 to 6 hours. The alumina whisker layer 23 can be formed with an average height of 1 to 2 micrometers. Note that the heat treatment temperature here was 925°C.
第３図の曲線すは、アルミナウィスカ層２３の生成熱処
理時間と、アルミナウィスカ層２３に対する触媒担持ア
ルミナ層２５の密着性（耐スポーリング性）との関係を
示すもので、２〜６時間の処理時間、すなわち、１〜２
ミクロンメートルの平均高さのアルミナウィスカ層２３
においても、充分な触媒担持アルミナ層２５の密着性を
得ることができる。なお、１ミクロンメートル（２時間
）以上のアルミナウィスカ層２３では、はぼ飽和した特
性を有しており、望ましくは、１．５ミクロンメートル
（４時間）以上が良い。The curve in FIG. 3 shows the relationship between the heat treatment time for forming the alumina whisker layer 23 and the adhesion (spalling resistance) of the catalyst-supported alumina layer 25 to the alumina whisker layer 23. Processing time, i.e. 1-2
Alumina whisker layer 23 with an average height of micrometers
Also, sufficient adhesion of the catalyst-supported alumina layer 25 can be obtained. Note that the alumina whisker layer 23 having a thickness of 1 micrometer (2 hours) or more has nearly saturated characteristics, and is preferably 1.5 micrometers (4 hours) or more.
第４図の曲線ｅ、ｆで挟まれる領域Ａは、アルミナウィ
スカ層２３の生成熱処理時間と、アルミナウィスカ層２
３に対する触媒担持アルミナ層２７の付着量との関係を
示すもので、２〜６時間の処理時間、すなわち、１〜２
ミクロンメートルの平均高さのアルミナウィスカ層２３
においても、充分な触媒担持アルミナ層２５の付着量を
得ることができる。なお、付着量には、領域Ａのような
バラツキがあるが、２〜６時間の処理時間においては、
斜線で示す望ましい領域Ｂに該当している。Region A between curves e and f in FIG.
This shows the relationship between the amount of adhesion of the catalyst-supported alumina layer 27 to
Alumina whisker layer 23 with an average height of micrometers
Even in this case, a sufficient amount of the catalyst-supporting alumina layer 25 can be obtained. In addition, although there are variations in the amount of adhesion as in area A, in a treatment time of 2 to 6 hours,
This corresponds to desirable region B indicated by diagonal lines.
また、アルミナウィスカ層２３が高くなると、付着量が
多くなる傾向が見られ、性能およびコストを考慮すると
、１〜２ミクロンメートル（２〜６時間）の平均高さの
アルミナウィスカ層２３が望ましい。Further, as the height of the alumina whisker layer 23 increases, the amount of adhesion tends to increase. Considering performance and cost, it is desirable that the alumina whisker layer 23 has an average height of 1 to 2 micrometers (2 to 6 hours).
すなわち、これ等のグラフから明らかなように、本発明
においては、アルミナウィスカ層２３の平均高さを１〜
２ミクロンメートルとしたので、アルミナウィスカ層２
３を、例えば９２５℃の温度において、２〜６時間の熱
処理時間で形成することができ、生産性を従来より大幅
に向上することができる。That is, as is clear from these graphs, in the present invention, the average height of the alumina whisker layer 23 is
Since it is 2 micrometers, the alumina whisker layer 2
3 can be formed in a heat treatment time of 2 to 6 hours at a temperature of, for example, 925° C., and productivity can be significantly improved compared to the conventional method.
そして、アルミナウィスカ層２３の平均高さが、約１〜
２ミクロンメートルであっても、アルミナウィスカ層２
３に対する触媒担持アルミナ層２５の充分な密着性およ
び付着量を得ることができる。The average height of the alumina whisker layer 23 is about 1~
Even if the thickness is 2 micrometers, the alumina whisker layer 2
It is possible to obtain sufficient adhesion and adhesion amount of the catalyst-supported alumina layer 25 to No. 3.
以上述べたように、本発明によれば、アルミナウィスカ
層の平均高さを１〜２ミクロンメートルとしたので、ア
ルミナウィスカ層を、従来より短時間で容易に形成する
ことができ、生産性を従来より大幅に向上することがで
きるという利点がある。As described above, according to the present invention, since the average height of the alumina whisker layer is set to 1 to 2 micrometers, the alumina whisker layer can be easily formed in a shorter time than conventionally, and productivity is improved. It has the advantage of being significantly improved compared to the conventional method.
第１図は本発明の金属触媒担体の一実施例を示す縦断面
図、第２図はアルミナウィスカ層の生成熱処理時間とア
ルミナウィスカ層の平均高さとの関係を示すグラフ、第
３図はアルミナウィスカ層の生成熱処理時間とアルミナ
ラ−イス力層に対する触媒担持アルミナ層の密着性との
関係を示すグラフ、第４図はアルミナウィスカ層の生成
熱処理時間とアルミナウィスカ層に対する触媒担持アル
ミナ層の付着量との関係を示すグラフ、第５図は従来の
金属触媒担体を示す縦断面図である。
２１・・・基材、２３・・・アルミナウィスカ層、２５
・・・触媒担持アルミナ層、２７・・・金属触媒。
特 許 出 願 人 日本ラヂヱーター株式会社、−＼
代理人 弁 理 士 古 谷 史 −旺〜呼貿
Ｓ大Ｘ甚媚FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view showing one embodiment of the metal catalyst carrier of the present invention, FIG. 2 is a graph showing the relationship between the heat treatment time for forming an alumina whisker layer and the average height of the alumina whisker layer, and FIG. A graph showing the relationship between the whisker layer formation heat treatment time and the adhesion of the catalyst-supported alumina layer to the alumina rice force layer. Figure 4 is a graph showing the relationship between the formation heat treatment time of the alumina whisker layer and the adhesion amount of the catalyst-supported alumina layer to the alumina whisker layer. FIG. 5 is a vertical cross-sectional view of a conventional metal catalyst carrier. 21... Base material, 23... Alumina whisker layer, 25
...Catalyst-supported alumina layer, 27...Metal catalyst. Patent applicant: Nippon Radiator Co., Ltd., −＼ Agent: Patent attorney Fumi Furuya −O~Kobo SdaiX Jinjo
Claims (1)
材の表面に熱処理を施すことにより前記アルミニウムの
拡散によるアルミナウィスカ層を形成するとともに、こ
のアルミナウィスカ層の表面に触媒担持アルミナ層を形
成し、この触媒担持アルミナ層に金属触媒を含浸してな
る金属触媒担体において、前記アルミナウィスカ層の平
均高さを１〜２ミクロンメートルとしたことを特徴とす
る金属触媒担体。By applying heat treatment to the surface of a base material made of ferritic stainless steel containing aluminum, an alumina whisker layer is formed by diffusion of the aluminum, and a catalyst-supported alumina layer is formed on the surface of this alumina whisker layer. A metal catalyst carrier comprising a layer impregnated with a metal catalyst, characterized in that the average height of the alumina whisker layer is 1 to 2 micrometers.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61153855A JPS637839A (en) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | Metallic catalyst carrier |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61153855A JPS637839A (en) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | Metallic catalyst carrier |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS637839A true JPS637839A (en) | 1988-01-13 |
Family
ID=15571577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61153855A Pending JPS637839A (en) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | Metallic catalyst carrier |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS637839A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01280426A (en) * | 1988-05-02 | 1989-11-10 | Osaka Gas Co Ltd | Cooking device |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5771898A (en) * | 1980-08-15 | 1982-05-04 | Gen Motors Corp | Reinforcement of oxide whisker growth on stainless steel foil containing cold-rolled aluminum |
-
1986
- 1986-06-30 JP JP61153855A patent/JPS637839A/en active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5771898A (en) * | 1980-08-15 | 1982-05-04 | Gen Motors Corp | Reinforcement of oxide whisker growth on stainless steel foil containing cold-rolled aluminum |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01280426A (en) * | 1988-05-02 | 1989-11-10 | Osaka Gas Co Ltd | Cooking device |
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