JPS6378339A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高密度磁気記録層として強磁性金属薄膜を有
する磁気記録媒体の製造方法に関する。

従来の技術 近年、高密度磁気記録層として、Ｃｏ−Ｎｉの斜め蒸着
膜や、垂直方向に磁化できるＣｏ−Ｃｒスパッタ膜等の
強磁性金属薄膜が実用化に向は検討されている。

特に、垂直磁気記録方式は、今後の高密度化に重要な技
術として注目されている〔外国論文誌：アイイーイーイ
ー　トランザクションズ　オンマクネｆイクス（ＩＥＥ
Ｅ　ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳＯＮ　　ＭＡＧＮＥＴＩ
Ｃ３）Ｖｏｌ、ＭＡＧ−１３、Ｊｉ５ｐ、ｐ、１２７２
〜１２７７（１９了７）〕。

垂直記録では媒体面に垂直な反平行磁化転移を形成させ
るので、磁化転移が極めて狭いものとなり、高密度の記
録が可能になるが、この方式の実現には、垂直異方性を
有する媒体の使用が不可欠で、耐久性のある信号出力対
雑音比（以下Ｃ／Ｎと記す）の大きな媒体が量産規模で
得られることが鍵といえる〔応用磁気セミナ、″′垂直
磁気記録方式゛″（ｓｏ年１２月）〕。

現状では、電磁変換特性からみると、スパッタ法で得た
Ｃｏ−Ｃｒ膜が最も垂直磁化膜として優れており、この
磁気記録層上に各種の保護膜を配して耐久性を改良する
検討が盛んである〔例えば、応用磁気セミナ、′垂直磁
気記録方式″６７〜７６頁（１９８５））。

例えば、特開昭５７−１１６７７１号公報にはイミド基
を有する高分子をスパッタして磁気記録層上の保護膜と
する方法が示されており、特開昭６１−１２６６２７号
公報には硬質カーボン層と含フツ素潤滑油層を積層する
方法が示されている。

真空蒸着膜、プラズマ重合膜等についても面内磁化膜を
実施例として数多く提案開示されている〔例えば、特開
昭６１−１５１８３７号、特開昭６１−１６０２６号、
同５８−ｅｏ４ｉ７号の公報〕。

一方、保護膜と別の見方で、磁気記録層を強化すること
が提案されている。その代表的な例は、高分子フィルム
上にカーボンや、シリカ等の微粒子を大量に塗布して１
００人〜３００人程度の微細な凹凸を形成したのち、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−０膜等を電子ビーム蒸着したもので、動摩擦
係数、スチル耐久の改良等が確認されている〔例えば米
国特許第４　、５８４　、５４９　号ＢＡＭＪ書）。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記した構成では、耐久性の面で微粒子
塗布、真空蒸着法により製造する方法が実用上優れてい
るものの、記録波長が短かくなってくると、雑音が大き
くなる傾向があシ改善が望まれている。本発明は上記し
た事情に鑑みなされたもので、優れたＣ／Ｎの媒体を均
一に製造することの出来る製造方法を提供するものであ
る。

問題点を解決するための手段 本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記した問題点を
解決するために、高分子フィルム上に連続的に積層した
複数の蒸着膜をドライエツチングした後、その上に磁気
記録層を蒸着形成するようにしたものである。

作　　用 本発明の製造方法は上記した構成により、複数の蒸着膜
が積層された層をドライエツチングすることで出来る微
細な凹凸形状の均一性が極めて良好なため、その上に蒸
着形成された強磁性金属薄膜からなる磁気記録層の磁気
的均一性が良好となり、Ｃ／Ｎ改善がなされるもので、
再現良く大面積に渡って均一性が確保できることになる
のである。

実施例 以下、図面を参照しながら本発明の磁気記録媒体の製造
方法について詳しく説明する。

第１図は本発明を実施するために用いた磁気記録媒体製
造装置の要部構成図である。第１図に於て、１は処理す
るフィルムで、２は第１真空容器、３は第２真空容器、
４は送り出し軸、６は第１円筒キャン、６，７はフリー
ローラ、８は第２円筒キャン、９は巻取υ軸、１ｏは第
１のガス導入ボート、１１は放電電極、１２は第２のガ
ス導入ボート、１３はターゲットホルダー、１４はター
ゲット、１６は磁界発生器、１６．１７は真空排気系、
１８．１９は高周波電源である。

第２図は本発明によシ製造した磁気記録媒体の一例の拡
大断面図である。

第２図で、２１は高分子フィルム、２２はドライエツチ
ング層、２３は強磁性金属薄膜、２４は潤滑層である。

厚み１０／ｊｍの表面粗さ５０Ａのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に、あらかじめ、ＣｒとＴ１の積層
膜を高周波スパッタ法で形成した。

Ｃｒ　ターゲットとＴ１ターゲットを用い、１３．５６
　（ＭＨｚ　）の高周波放電により、まずＣｒを換算厚
みが６０人となるようにスパッタ蒸着し、引き続きＴ１
を換算厚み７０Ａとなるようにスパッタ蒸着した。ここ
での換算厚みとは均一な連続膜とみなした時の厚みで、
この厚み領域では、不連続膜でＣｒとＴｉが均一に分散
したような膜となっている。

この状態のフィルム１を第１図の装置で送り出し軸４に
装着し、第１真空容器２でドライエツチングにより、微
細な凹凸を形成する。１１の放電電極をＡｌ！のワイヤ
によるメツシュ電極とすることで、より微細な凹凸形成
を図るようにした。１８は１３．５６（ＭＨｚ）の高周
波電源で、１．９（ＫＷ）投入した。放電ガスは１ｏよ
りＡｒを導入し、圧力は２　Ｘ　１０−２（Ｔｏｒｒ）
に保ｚた。

主にＴ１がエツチングされる条件のため、Ｃｒが凹凸形
状を形成するに授かる系となっている。凹凸の高さは、
約１３０人で、凸部の密度は２×１０　個／Ｃ−にした
。

かかるフィルムを３の部屋に導き、８に沿った状態で、
ターゲット１４にＣｒを２１ｗｔ％含む、Ｃｏ−Ｃｒを
用い、１０６　（Ｏｅ　）の表面磁界強度で、１ｓ、ｓ
ｅ（ＭＨｚ）のマグネトロン式の高周波スパッタリング
で０．１５／ｌｆｍのＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜を形成した
。放電ガスはＡ　ｒ　＋　Ｈ２（Ａ　ｒ　、’　Ｈ２＝
５　”、　２　）で、７　Ｘ　１０””　（Ｔｏｒｒ）
とし、１　３．５６（ＭＨｚ）、２．２ＫＷの条件で製
膜した。この膜の上にパー７０ロバルミチン酸を６０人
真空蒸着した潤滑層を形成し、幅８Ｉ！１１の磁気テー
プを製造した。

比較例は、同じ高分子フィルム上に溶液塗布法で、凹凸
の高さを同じく１３０八となり、凸部の密度を平均２　
Ｘ　１０９　個／Ｃ−となるようにシリカ微粒子を塗布
してから、同一条件でＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜、パーフロ
ロバルミチン酸を形成してテープ化した。

両者を８ミリビデオのメカニズムを用いて、記録波長を
変化させてＣ／Ｎを比較した。用いたヘッドは、ギャッ
プ長０．１５）ｔｍのフェライトヘッドである。記録波
長０．８μｍでは両者のＣ／Ｎに差はみられないが、Ｑ
、８．ｎりは本発明によるテープの方が、２．２　（ｄ
Ｂ）　、　０．４ｐｍでは４．７（ｄＢ）Ｃ／Ｎが良好
であった。

また、均一性についての比較は、本発明によるものは、
０．６μｍの記録波長を記録した時の再生Ｃ／Ｎが、任
意（７）１００本のテープの１０００個所の測定で、ｏ
、５（ｄＢ）以内であったのに対し、比較例のテープは
、任意の１６本のテープの１５０個所の測定で、２．７
（ｄＢ）のばらつきがあり、この比較に於ても本発明の
価値がわかる。

上記した実施例の媒体は、スチル状態で雑音が発生する
までの耐久時間も２０℃３０％ＲＨ，４０℃８０％ＲＨ
で共に２．５〜３倍長い耐久性を示す点も有利なことで
あるといえる。

実施例ではポリエチレンテレフタレートフィルムで説明
したが、他にポリフェニレンサルフフイド、ポリサルフ
ォン等でもよい。

ドライエツチング層の構成材料は、金属、酸化物、窒化
物等から適宜選択できるもので、２層で構成すれば充分
である場合が殆んどであるが、パーマロイ層上に２層を
付加して２層部で凹凸を形成する等層数は適宜選択すれ
ばよい。

磁気記録層はＣｏ−Ｃｒの他にＣｏ　、　Ｃｏ＝Ｆｅ　
。

Ｃｏ−Ｎｉ　、Ｃｏ−Ｂ１　、Ｆｅ　−Ａｇ　、Ｇｏ−
Ｂ、Ｃｏ−Ｐｒ　。

Ｃｏ−Ｐｄ、Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｗ、Ｃｏ−Ｔａ、Ｃｏ
−Ｔｉ等及びそれらの部分酸化膜で磁化容易軸に無関係
で、スパッタ法の他に電子ビーム蒸着による形成も有効
である。

尚、実施態様は磁気テープに限らず、磁気ディスクであ
ってもよいのは勿論である。

発明の効果 以上のように本発明によれば、高密度磁気記録時に優れ
たＣ／Ｎを与えることのできる磁気記録媒体を大量に均
一に生産できるといったすぐれ之効来がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を実施するのに用いた磁気記録媒体製造
装置の一例の要部構成図、第２図は第１図の装置で製造
した磁気記録媒体の拡大断面図である。 １・・・・・・処理フィルム、１１・・・・・・放電電
極、１４・・・・・・ターゲット、１８．１９・・・・
・・高周波電源、２１・・・・・・高分子フィルム、２
２・・川・ドライエツチング層、２３・・・・・・強磁
性金属薄膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 高分子フィルム上に連続的に積層した複数の蒸着膜をド
   ライエッチングした後、その上に磁気記録層を蒸着形成
   することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。