JPS637536A - 光デイスク記録媒体の製造方法 - Google Patents
光デイスク記録媒体の製造方法Info
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- JPS637536A JPS637536A JP14814086A JP14814086A JPS637536A JP S637536 A JPS637536 A JP S637536A JP 14814086 A JP14814086 A JP 14814086A JP 14814086 A JP14814086 A JP 14814086A JP S637536 A JPS637536 A JP S637536A
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- photoresist film
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- groove
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Links
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光ディスク記録媒体の製造方法に係り。
特にグループの形成方法の改良に関する。
光ディスク記＠媒体にあっては、原盤の製造に際し、ガ
ラス基板上に必要とするグループ（案内溝）の深さより
も厚いフォトレジスト層を形成し。
ラス基板上に必要とするグループ（案内溝）の深さより
も厚いフォトレジスト層を形成し。
二のフォトレジスト層にグループを露光し、その露光面
を現像してＶ字状断面の案内溝を形成している。このグ
ループ内に情報内容に応じたビットが形成される。
を現像してＶ字状断面の案内溝を形成している。このグ
ループ内に情報内容に応じたビットが形成される。
しかし、従来の光ディスク記録媒体の製造方法にあって
は、現像レベルのむらやばらつきによって均一な深さの
案内溝が形成できないのみならず。
は、現像レベルのむらやばらつきによって均一な深さの
案内溝が形成できないのみならず。
案内溝の側壁も現像液によって溶かされるため。
側壁表面が粗くなる。このため、トラッキング信号が不
均一になり、Ｓ／Ｎの低下を招くという問題があった。
均一になり、Ｓ／Ｎの低下を招くという問題があった。
本発明は上記従来技術の実情に鑑みてなされたもので、
その目的とするところは、案内溝の深さ及び形状を均一
にすると共に、側壁の粗れを無くし、Ｓ／Ｎの向上を図
った光ディスク記録媒体の製造方法を提供するところに
ある。
その目的とするところは、案内溝の深さ及び形状を均一
にすると共に、側壁の粗れを無くし、Ｓ／Ｎの向上を図
った光ディスク記録媒体の製造方法を提供するところに
ある。
上記問題点を解決するため、この発明は、基板上に設け
たフォトレジスト面に露光及び現像手段を用いてトラッ
キング用の案内溝を形成する原盤製作工程を含む光ディ
スク記録媒体の製造方法において、露光及び現像手段を
用いてまず矩形断面を有する溝を形成したのち、所定時
間の紫外線露光及びベーキング処理を施して所定形状の
案内溝を形成するようにしたものである。
たフォトレジスト面に露光及び現像手段を用いてトラッ
キング用の案内溝を形成する原盤製作工程を含む光ディ
スク記録媒体の製造方法において、露光及び現像手段を
用いてまず矩形断面を有する溝を形成したのち、所定時
間の紫外線露光及びベーキング処理を施して所定形状の
案内溝を形成するようにしたものである。
上記手段によると、矩形断面に形成した溝を加熱するこ
とにより溝のフォトレジストが溶融し。
とにより溝のフォトレジストが溶融し。
上縁は崩れて山形を成し、８部はＶ字状断面を有するよ
うになるため、その加熱条件を適宜制御することによっ
て表面粗れやＳ／Ｎの悪化等の生じない案内溝を有する
光ディスク記録媒体の製造方法を提供できる。
うになるため、その加熱条件を適宜制御することによっ
て表面粗れやＳ／Ｎの悪化等の生じない案内溝を有する
光ディスク記録媒体の製造方法を提供できる。
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第１図及び第２図は本発明における案内溝の形成過程を
示す説明図である。
示す説明図である。
先ず５表面を洗浄したガラス板の表面にフォトレジスト
膜を均一に塗布する。
膜を均一に塗布する。
次に、第１図に示すように、ガラス板２の表面に形成さ
れたフォトレジストｗＡ１を、集光したレーザビームに
よって螺旋状または同心円状に露光し、これを現像して
露光部分を除去し、矩形溝３を形成する。
れたフォトレジストｗＡ１を、集光したレーザビームに
よって螺旋状または同心円状に露光し、これを現像して
露光部分を除去し、矩形溝３を形成する。
次に、この矩形溝３が形成された原盤をベーク炉等で加
熱する。この加熱により、現像後のフォトレジスト膜１
は流動性を増し、フォトレジスト１１１の角部が垂れ、
矩形溝３内へ流れ込む、こｔによって、矩形溝３内は第
２図のように埋められて山型のフォトレジスト膜４が形
成され、谷部は７字状になる。このとき、現像による表
面粗れは殆んど消滅する。したがってＳ／Ｎを低下させ
ることが無い。
熱する。この加熱により、現像後のフォトレジスト膜１
は流動性を増し、フォトレジスト１１１の角部が垂れ、
矩形溝３内へ流れ込む、こｔによって、矩形溝３内は第
２図のように埋められて山型のフォトレジスト膜４が形
成され、谷部は７字状になる。このとき、現像による表
面粗れは殆んど消滅する。したがってＳ／Ｎを低下させ
ることが無い。
ここで、具体的な実施例を第３図及び第４図の断面図に
基づいて説明する。
基づいて説明する。
表面を洗浄したガラス板５上に、フェノールノボラック
を主成分とするポジ型のフォトレジスト膜６を膜厚２５
００人にスピン塗布する。
を主成分とするポジ型のフォトレジスト膜６を膜厚２５
００人にスピン塗布する。
次に、８０℃で３０分間のプリベータを実施したのち、
Ａｒレーザ（波長４５７９λ）によってフォトレジスト
膜６の表面を螺旋状（１，６μｍピッチ）に露光する・ さらに、アルカリ現像液（ＭＰデ、ｒベロツバ）を用い
てスピン現像する。スピン現像は原盤を回転させ、上方
から現像液を流下させることによって行なう、現像が所
定レベルに達したことをもって現像を停止し、水洗いを
実施することにより、第３図に示す溝７を有した原盤が
得られる。
Ａｒレーザ（波長４５７９λ）によってフォトレジスト
膜６の表面を螺旋状（１，６μｍピッチ）に露光する・ さらに、アルカリ現像液（ＭＰデ、ｒベロツバ）を用い
てスピン現像する。スピン現像は原盤を回転させ、上方
から現像液を流下させることによって行なう、現像が所
定レベルに達したことをもって現像を停止し、水洗いを
実施することにより、第３図に示す溝７を有した原盤が
得られる。
次に、第３図に示すｆ！に盤をベーク炉に入れ。
１５０″Ｃで１０分間加熱する。この加熱によって。
第４図のようにフォトレジスト膜６は溝７内に流れ出し
、谷の深さは０．０３７ノ＋７１となる。また、加熱処
理後のフォトレジスト膜８の厚みは１６００人になる。
、谷の深さは０．０３７ノ＋７１となる。また、加熱処
理後のフォトレジスト膜８の厚みは１６００人になる。
なお、このベーキング処理過程において、原盤に紫外線
を照射すると、第５図のようにフォトレジスト膜６の流
動化を促進することができる。
を照射すると、第５図のようにフォトレジスト膜６の流
動化を促進することができる。
最終製品である光ディスク記録媒体は、以下の工程を経
て作製される。まず、上記のようにして作られた原盤の
レジスト膜の表面にニッケル蒸着及びニッケルめっきを
順次施し、ニッケル蒸着膜及びニッケルめっき膜の積層
体をレジスト膜の表面からｇｄＪＩＩｌすることによっ
て凹凸のパターンが上記原盤と反転したスタンバを作製
する。次いで、上記スタンバを母型として、上記スタン
バと反転した（上記原盤と同一）凹凸パターンを有する
ディスク基板を作製する。最後に、上記ディスク基板の
凹凸パターン転写面に記録層を形成して所望の光ディス
ク記録媒体とする。記録層を形成する記録材料としては
１例えば低融点合金、光磁気記録材料、有機色素など、
任意のヒートモード用記録材料を用いることができる。
て作製される。まず、上記のようにして作られた原盤の
レジスト膜の表面にニッケル蒸着及びニッケルめっきを
順次施し、ニッケル蒸着膜及びニッケルめっき膜の積層
体をレジスト膜の表面からｇｄＪＩＩｌすることによっ
て凹凸のパターンが上記原盤と反転したスタンバを作製
する。次いで、上記スタンバを母型として、上記スタン
バと反転した（上記原盤と同一）凹凸パターンを有する
ディスク基板を作製する。最後に、上記ディスク基板の
凹凸パターン転写面に記録層を形成して所望の光ディス
ク記録媒体とする。記録層を形成する記録材料としては
１例えば低融点合金、光磁気記録材料、有機色素など、
任意のヒートモード用記録材料を用いることができる。
尚、アドレスビットやクロックピットなどのプリフォー
マットを必要とするタイプの光ディスク記録媒体におい
ては、上記記録層形成後、記録層にプリフォーマットが
記録される。
マットを必要とするタイプの光ディスク記録媒体におい
ては、上記記録層形成後、記録層にプリフォーマットが
記録される。
以上説明した通り１本発明の光ディスク記録媒体の製造
方法によれば、表面粗れが減少することによってＳ／Ｎ
が改善されると共に、案内溝の深さ形状を均一化させる
ことができるために品質の向上を図ることができる。さ
らにプロセスコントロールの簡略化を図ることができる
。
方法によれば、表面粗れが減少することによってＳ／Ｎ
が改善されると共に、案内溝の深さ形状を均一化させる
ことができるために品質の向上を図ることができる。さ
らにプロセスコントロールの簡略化を図ることができる
。
第１図及び第２図は本発明による光ディスク原盤の製造
工程の要部を示す説明図、第３図及び第４図は本発明の
具体的実施例を示す説明図、第５図は本発明におけるベ
ータ温度に対するパターン変形にともなう平坦度特性図
である。 １・・・・・・フォトレジスト膜、２・・・・・・ガラ
ス板、３・・・・・・矩形溝、４・・・・・・加熱後の
フォトレジスト膜第１図 第２図
工程の要部を示す説明図、第３図及び第４図は本発明の
具体的実施例を示す説明図、第５図は本発明におけるベ
ータ温度に対するパターン変形にともなう平坦度特性図
である。 １・・・・・・フォトレジスト膜、２・・・・・・ガラ
ス板、３・・・・・・矩形溝、４・・・・・・加熱後の
フォトレジスト膜第１図 第２図
Claims (1)
- 基板上に設けたフォトレジスト面に露光及び現像手段を
用いてトラッキング用の案内溝を形成する原盤製作工程
を含む光ディスク記録媒体の製造方法において、露光及
び現像手段を用いて矩形断面を有する溝を形成したのち
、所定時間の紫外線露光及びベーキング処理を施して案
内溝を形成することを特徴とする光ディスク記録媒体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14814086A JPS637536A (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 | 光デイスク記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14814086A JPS637536A (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 | 光デイスク記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS637536A true JPS637536A (ja) | 1988-01-13 |
Family
ID=15446164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14814086A Pending JPS637536A (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 | 光デイスク記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS637536A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5430706A (en) * | 1993-04-16 | 1995-07-04 | Tdk Corporation | Magneto-optical disk having lands and grooves for recording information |
| WO2003023775A1 (fr) * | 2001-09-05 | 2003-03-20 | Sony Corporation | Procede de fabrication d'un disque original destine a la fabrication d'un support d'enregistrement et procede de fabrication d'une matrice |
| US8026046B2 (en) * | 2000-10-03 | 2011-09-27 | Panasonic Corporation | Method for producing multi-layer optical disk |
-
1986
- 1986-06-26 JP JP14814086A patent/JPS637536A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5430706A (en) * | 1993-04-16 | 1995-07-04 | Tdk Corporation | Magneto-optical disk having lands and grooves for recording information |
| US8026046B2 (en) * | 2000-10-03 | 2011-09-27 | Panasonic Corporation | Method for producing multi-layer optical disk |
| WO2003023775A1 (fr) * | 2001-09-05 | 2003-03-20 | Sony Corporation | Procede de fabrication d'un disque original destine a la fabrication d'un support d'enregistrement et procede de fabrication d'une matrice |
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