JPS6370031A - 循環式給湯設備の脱気方法 - Google Patents
循環式給湯設備の脱気方法Info
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- JPS6370031A JPS6370031A JP21127886A JP21127886A JPS6370031A JP S6370031 A JPS6370031 A JP S6370031A JP 21127886 A JP21127886 A JP 21127886A JP 21127886 A JP21127886 A JP 21127886A JP S6370031 A JPS6370031 A JP S6370031A
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- hot water
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 85
- 238000007872 degassing Methods 0.000 title abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 19
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 abstract description 14
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 7
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 7
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 abstract description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000005536 corrosion prevention Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Domestic Hot-Water Supply Systems And Details Of Heating Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(a業上の利用分野)
本発明は、強制的に湯を循環させる循環式給、・易設備
に於いて、渦中に含まれる酸素や塩素などのガスを外部
に放出して金属腐食を防止するための脱気方法に関する
。
に於いて、渦中に含まれる酸素や塩素などのガスを外部
に放出して金属腐食を防止するための脱気方法に関する
。
(従来の技術)
循環式給湯設備は、第2図に示す如く貯湯槽1内の加熱
ヒーター2で温められた渇を、ポンプ3により矢印方向
へ強制循環させ、循環配管4の給湯栓5から使用された
量だけ高置水槽6より給水管7を通じて補給するもので
ある。
ヒーター2で温められた渇を、ポンプ3により矢印方向
へ強制循環させ、循環配管4の給湯栓5から使用された
量だけ高置水槽6より給水管7を通じて補給するもので
ある。
このような循環式給湯設備では、湯中に3まれている酸
素及び塩素などのガスによる腐食によって弱水すること
が多く、この為腐食性ガスを除去する種々の脱気装置が
設けられる。
素及び塩素などのガスによる腐食によって弱水すること
が多く、この為腐食性ガスを除去する種々の脱気装置が
設けられる。
従来の脱気装置の一例として、第3図に示す気泡分離装
置がある。図中1は貯湯槽、3はポンプ、4は循環配管
、6は高置水槽、7は給水管である。8は循環配管4の
途中に設けた気泡分離装置で、中空大径部8aと、この
中空大径部8aの上面に設けたエアクッション筒8bと
、このエアクッション筒8bの上板に上下動可能に設け
た抜気管8cとより成るものである。
置がある。図中1は貯湯槽、3はポンプ、4は循環配管
、6は高置水槽、7は給水管である。8は循環配管4の
途中に設けた気泡分離装置で、中空大径部8aと、この
中空大径部8aの上面に設けたエアクッション筒8bと
、このエアクッション筒8bの上板に上下動可能に設け
た抜気管8cとより成るものである。
この気泡分離装置8は、中空大径部8aに湯が入ると流
速が遅くなり、ここで山中の気泡が分離されてクッショ
ン筒8bにたまり、このたまった気体は抜気管8cを上
昇させることにより大気中に放出されるものである。(
実開昭55−91902号参照) また従来の脱気装置の他の例として、第4図に示す如く
円筒形状のタンク10の頂部に空気抜き口11が設けら
れ、タンク10の側壁上部からタンク内面のほぼ接線方
向に液体が流入する流入管12、及びタンク10の側壁
下部からタンク内面のほぼ接線方向に液体が流出する流
出管13が設けられて成る空気分離装置14がある。こ
の空気分離装置14は、タンク10内に流入した液体が
タンク内壁に沿って旋回下降する途中で液体中の空気が
分離され、タンク10内の上部にたまり、一定量たまる
と、空気抜き口11より大気中に放出されるものである
。(実開昭59−127708号参照)(発明が解決し
ようとする問題点) ところで、前述の第3図に示す気泡分離装置8は、中空
大径部8a内で配管中に元々存在していた大きな気泡は
分離できるが、給水により持ち込まれ渦中に溶は込んで
いる酸素や塩素などのガスは、中空大径部Bah<密閉
され、エアクック3ン筒8b内の圧力が高いので、脱気
できないものである。
速が遅くなり、ここで山中の気泡が分離されてクッショ
ン筒8bにたまり、このたまった気体は抜気管8cを上
昇させることにより大気中に放出されるものである。(
実開昭55−91902号参照) また従来の脱気装置の他の例として、第4図に示す如く
円筒形状のタンク10の頂部に空気抜き口11が設けら
れ、タンク10の側壁上部からタンク内面のほぼ接線方
向に液体が流入する流入管12、及びタンク10の側壁
下部からタンク内面のほぼ接線方向に液体が流出する流
出管13が設けられて成る空気分離装置14がある。こ
の空気分離装置14は、タンク10内に流入した液体が
タンク内壁に沿って旋回下降する途中で液体中の空気が
分離され、タンク10内の上部にたまり、一定量たまる
と、空気抜き口11より大気中に放出されるものである
。(実開昭59−127708号参照)(発明が解決し
ようとする問題点) ところで、前述の第3図に示す気泡分離装置8は、中空
大径部8a内で配管中に元々存在していた大きな気泡は
分離できるが、給水により持ち込まれ渦中に溶は込んで
いる酸素や塩素などのガスは、中空大径部Bah<密閉
され、エアクック3ン筒8b内の圧力が高いので、脱気
できないものである。
また前述の第4図に示す空気分離装置14は、循環回路
の圧力の低い箇所に取付けられた場合には、湯の旋回運
動により配管中に元々存在していた大きな気泡は分離で
きるが、湯中に溶存している酸素や塩素等のガスは、タ
ンク10が密閉されてタンク10内の圧力が高い為、脱
気できないものである。
の圧力の低い箇所に取付けられた場合には、湯の旋回運
動により配管中に元々存在していた大きな気泡は分離で
きるが、湯中に溶存している酸素や塩素等のガスは、タ
ンク10が密閉されてタンク10内の圧力が高い為、脱
気できないものである。
この為、循環配管の途中に本格的な脱気器を設けること
が考えられるが、完全脱気の為には脱気器が大型化し、
循環式給湯設備としては大きな設置スペースを必要とし
、且つ著しくコスト高となって、実用向きではない。
が考えられるが、完全脱気の為には脱気器が大型化し、
循環式給湯設備としては大きな設置スペースを必要とし
、且つ著しくコスト高となって、実用向きではない。
(発明の目的)
本発明は上記問題点を解決すべくなされたもので、循環
式給湯設備の構成部品の腐食を防止するに必要な量の酸
素や塩素などのガスを脱気でき、しかも負荷変動に対す
る追従性が良く、その上循環式給湯設備の設置スペース
を大きくする必要が無く、低コストの循環式給湯設備の
脱気方法を提供することを目的とするものである。
式給湯設備の構成部品の腐食を防止するに必要な量の酸
素や塩素などのガスを脱気でき、しかも負荷変動に対す
る追従性が良く、その上循環式給湯設備の設置スペース
を大きくする必要が無く、低コストの循環式給湯設備の
脱気方法を提供することを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段)
上記問題点を解決するための本発明による循循環式給(
易設備の脱気方法は、循環式給湯設備を循環流通する湯
を、循環回路よりバイパス回路に分流し、この分流した
湯を開放式脱気箱で噴霧脱気した後、押込みポンプによ
り循環回路に戻すことにより、該循J回路を循環流通す
る湯の必要量を脱気することを特徴とするものである。
易設備の脱気方法は、循環式給湯設備を循環流通する湯
を、循環回路よりバイパス回路に分流し、この分流した
湯を開放式脱気箱で噴霧脱気した後、押込みポンプによ
り循環回路に戻すことにより、該循J回路を循環流通す
る湯の必要量を脱気することを特徴とするものである。
(作用)
上記のように循環回路よりバイパス回路に分流した湯を
開放式噴霧脱気箱で噴霧脱気するので、渦中に溶存して
いる酸素や塩素などの腐食性ガスは完全に脱気され、大
気中に放出される。脱気後の湯は押込みポンプにより循
環回路に戻すので、循環回路を流れる湯は必要ユ脱気さ
れ、湯が使用されない間に循環回路を流れる湯中の酸素
や塩素などの腐食性ガスは次第に脱気されていく、また
湯が使用されて高置水相より循環回路に水が補給されて
いる場合でも、循環回路を流れる渇は、必ずバイパス回
路に分流し、開放式脱気箱内で噴霧脱気され、脱気後循
環回路に戻るので、腐食防止に必要な量の腐食性ガスを
脱気でき、負荷変動に対する給湯の追従性が良い。
開放式噴霧脱気箱で噴霧脱気するので、渦中に溶存して
いる酸素や塩素などの腐食性ガスは完全に脱気され、大
気中に放出される。脱気後の湯は押込みポンプにより循
環回路に戻すので、循環回路を流れる湯は必要ユ脱気さ
れ、湯が使用されない間に循環回路を流れる湯中の酸素
や塩素などの腐食性ガスは次第に脱気されていく、また
湯が使用されて高置水相より循環回路に水が補給されて
いる場合でも、循環回路を流れる渇は、必ずバイパス回
路に分流し、開放式脱気箱内で噴霧脱気され、脱気後循
環回路に戻るので、腐食防止に必要な量の腐食性ガスを
脱気でき、負荷変動に対する給湯の追従性が良い。
(実施例)
本発明による循環式給湯設備の脱気方法の一実施例を第
1図によって説明する0図中15は貯44m、16は貯
tQ 41!! S 内tD加熱器、17は循環回路、
18は給湯栓、19は循環回路17の押込みポンプであ
る。20は循環回路17に設けたバイパス回路、21は
そのバイパス回路20の途中に設けた開放式脱気箱で、
該開放式脱気箱21内に導入されたバイパス回路20か
らの分岐導入管20aの先端には噴霧ノズル22が設け
られ、開放式脱気[21の上面に大気に開口する通気管
23が設けられ、開放式脱魚箱21の下部側面に導出管
20bが設けられてバイパス回路20に連結されている
。導出管20bには押込みポンプ24が設けられている
。バイパス回路20における分岐導入管20aの分岐部
の下流にはコントロールバルブ25が設けられている。
1図によって説明する0図中15は貯44m、16は貯
tQ 41!! S 内tD加熱器、17は循環回路、
18は給湯栓、19は循環回路17の押込みポンプであ
る。20は循環回路17に設けたバイパス回路、21は
そのバイパス回路20の途中に設けた開放式脱気箱で、
該開放式脱気箱21内に導入されたバイパス回路20か
らの分岐導入管20aの先端には噴霧ノズル22が設け
られ、開放式脱気[21の上面に大気に開口する通気管
23が設けられ、開放式脱魚箱21の下部側面に導出管
20bが設けられてバイパス回路20に連結されている
。導出管20bには押込みポンプ24が設けられている
。バイパス回路20における分岐導入管20aの分岐部
の下流にはコントロールバルブ25が設けられている。
尚、26は使用された量だけ水を補給する高置水槽で、
27はその給水管である。
27はその給水管である。
さて上記の循環式給湯設備における本発明の脱気方法は
、貯湯槽15内で加熱器16により加熱された湯は貯湯
槽15を出て循環回路17を漬れ、途中からバイパス回
路20に分流し。
、貯湯槽15内で加熱器16により加熱された湯は貯湯
槽15を出て循環回路17を漬れ、途中からバイパス回
路20に分流し。
この分流した渇が分岐導入管20mを流れて開放式脱気
箱21内の噴霧ノズル22より噴霧されて、渦中に溶存
している酸素や塩素などの腐食性ガスが完全に脱気され
て、脱気後の湯が開放式脱気箱21内に一旦貯溜される
。そして導出管20bの押込みポンプ24によりバイパ
ス回路20を通して循環回路17の押込みポンプ19の
上流に戻されて、循環回路17を循3]流通する渇と一
緒になり、押込みポンプ19により貯湯4ff15内に
送り込まれ、ここで再び加熱器16により一定温度まで
加熱された後循環回路17に流れ、途中からバイパス回
路20に分流する。以後上記工程が繰り返されて、循環
回路17を循環流通する渇に溶存している酸素や塩素等
の腐食性ガスが脱気されて、渦中には循環式給湯設備の
構成部品を腐食するに必要な量の酸素や塩素等の腐食性
ガスが無くなるので、確実に腐食が防止される。
箱21内の噴霧ノズル22より噴霧されて、渦中に溶存
している酸素や塩素などの腐食性ガスが完全に脱気され
て、脱気後の湯が開放式脱気箱21内に一旦貯溜される
。そして導出管20bの押込みポンプ24によりバイパ
ス回路20を通して循環回路17の押込みポンプ19の
上流に戻されて、循環回路17を循3]流通する渇と一
緒になり、押込みポンプ19により貯湯4ff15内に
送り込まれ、ここで再び加熱器16により一定温度まで
加熱された後循環回路17に流れ、途中からバイパス回
路20に分流する。以後上記工程が繰り返されて、循環
回路17を循環流通する渇に溶存している酸素や塩素等
の腐食性ガスが脱気されて、渦中には循環式給湯設備の
構成部品を腐食するに必要な量の酸素や塩素等の腐食性
ガスが無くなるので、確実に腐食が防止される。
また給湯栓18で湯が使用されて高置水槽26より循環
回路17に水が補給されている場合でも循環回路17を
循環流通する湯は、必ずバイパス回路20に分流し、開
放式脱気箱21内で噴霧PA気され、脱気後循環回路1
7に戻るので、循環回路17を流れる湯は、腐食防止に
必要な量の酸素や塩素等のガスを脱気でき、負荷変動に
対する給湯の追従性が良好である。
回路17に水が補給されている場合でも循環回路17を
循環流通する湯は、必ずバイパス回路20に分流し、開
放式脱気箱21内で噴霧PA気され、脱気後循環回路1
7に戻るので、循環回路17を流れる湯は、腐食防止に
必要な量の酸素や塩素等のガスを脱気でき、負荷変動に
対する給湯の追従性が良好である。
尚、開放式脱気箱21内に流入する湯の量の調整は、分
岐導入管20aの分岐部の下流のコントロールバルブ2
5の開度を調節して行われる。
岐導入管20aの分岐部の下流のコントロールバルブ2
5の開度を調節して行われる。
(発明の効果)
以上の説明で判るように本発明による循環式給湯設備の
脱気方法によれば、循環式IIB湯設備の構成部品の腐
食を防止するに必要な量の酸素や塩素等の腐食性ガスを
容易に脱気でき、しかも湯の使用時の負荷変動に対して
も常に腐食防止に必要な量の酸素や塩素などのガスを循
環回路のバイパス回路側で安定して脱気できるので、給
湯に対し何ら支障が無く、極めて追従性が良い、また循
環式給湯設備の設置スペースを大きくする必要が無く、
脱気の為の4ゐ成機器も低コストで良い等の効果がある
。
脱気方法によれば、循環式IIB湯設備の構成部品の腐
食を防止するに必要な量の酸素や塩素等の腐食性ガスを
容易に脱気でき、しかも湯の使用時の負荷変動に対して
も常に腐食防止に必要な量の酸素や塩素などのガスを循
環回路のバイパス回路側で安定して脱気できるので、給
湯に対し何ら支障が無く、極めて追従性が良い、また循
環式給湯設備の設置スペースを大きくする必要が無く、
脱気の為の4ゐ成機器も低コストで良い等の効果がある
。
第1図は本発明の脱気方法を実施する循環式給湯設備の
系統図、第2図は一般的な循環式給湯設備の系統図、第
3図は従来の脱気装置としての気泡分離装置を備えた循
環式給湯設備の系統図、第4図は同じ〈従来の脱気装置
としての空気分離装置を示す概略断面図である。 15・・・貯湯槽 16・・・加熱器 17・・
・循環回路 18・・・給湯栓 19・・・押込み
ポンプ 20・・・バイパス回路 20a・・・分
岐導入管 20b・・・導出管 21・・・開放式
脱気箱 22・・・噴霧ノズル 23・・・通気管
24・・・押込みポンプ 25・・・コントロールバ
ルブ 26・・・高置水槽 27・・・給水管出願
人 日本弁管工業株式会社 第2図 第3図
系統図、第2図は一般的な循環式給湯設備の系統図、第
3図は従来の脱気装置としての気泡分離装置を備えた循
環式給湯設備の系統図、第4図は同じ〈従来の脱気装置
としての空気分離装置を示す概略断面図である。 15・・・貯湯槽 16・・・加熱器 17・・
・循環回路 18・・・給湯栓 19・・・押込み
ポンプ 20・・・バイパス回路 20a・・・分
岐導入管 20b・・・導出管 21・・・開放式
脱気箱 22・・・噴霧ノズル 23・・・通気管
24・・・押込みポンプ 25・・・コントロールバ
ルブ 26・・・高置水槽 27・・・給水管出願
人 日本弁管工業株式会社 第2図 第3図
Claims (1)
- 循環式給湯設備を循環流通する湯を循環回路よりバイパ
ス回路に分流し、この分流した湯を開放式脱気箱で噴霧
脱気した後、押込みポンプにより循環回路に戻すことに
より、該循環回路を循環流通する湯の必要量を脱気する
ことを特徴とする循環式給湯設備の脱気方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21127886A JPS6370031A (ja) | 1986-09-08 | 1986-09-08 | 循環式給湯設備の脱気方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21127886A JPS6370031A (ja) | 1986-09-08 | 1986-09-08 | 循環式給湯設備の脱気方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6370031A true JPS6370031A (ja) | 1988-03-30 |
Family
ID=16603276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21127886A Pending JPS6370031A (ja) | 1986-09-08 | 1986-09-08 | 循環式給湯設備の脱気方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6370031A (ja) |
-
1986
- 1986-09-08 JP JP21127886A patent/JPS6370031A/ja active Pending
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