JPS6368288A - 線状ビ−ム取出装置 - Google Patents
線状ビ−ム取出装置Info
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- JPS6368288A JPS6368288A JP61212313A JP21231386A JPS6368288A JP S6368288 A JPS6368288 A JP S6368288A JP 61212313 A JP61212313 A JP 61212313A JP 21231386 A JP21231386 A JP 21231386A JP S6368288 A JPS6368288 A JP S6368288A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/073—Shaping the laser spot
- B23K26/0732—Shaping the laser spot into a rectangular shape
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザビームを利用して焼入1合金化等を行
うレーザビーム加熱装置に好適な線状ビーム取出装置に
関する。
うレーザビーム加熱装置に好適な線状ビーム取出装置に
関する。
近年、レーザビームを用いて金属の焼入や合金化を図る
技術が開発されている。この技術に使用するレーザビー
ムは、広い範囲にわたってエネルギー密度が均一なもの
を必要とする。ところが、レーザビームは、一般番3醪
ス状エネルギー分布をなし、エネルギー密度は中心部が
高く1周辺部に向って漸次減少する。したがって、レー
ザビームは、そのままの状態で金属の焼入や合金化に使
用することができない。そこで、レーザビームをエネル
ギー分布が均一な線状のビームに加工して使用する装置
が考えられている。
技術が開発されている。この技術に使用するレーザビー
ムは、広い範囲にわたってエネルギー密度が均一なもの
を必要とする。ところが、レーザビームは、一般番3醪
ス状エネルギー分布をなし、エネルギー密度は中心部が
高く1周辺部に向って漸次減少する。したがって、レー
ザビームは、そのままの状態で金属の焼入や合金化に使
用することができない。そこで、レーザビームをエネル
ギー分布が均一な線状のビームに加工して使用する装置
が考えられている。
このような線状のレーザビームを得る方法としては、例
えば特公昭60−54838号公報に記載されているよ
うに、陵線を有する山型の反射鏡に、断面円形のレーザ
ビームの光軸部を反射鏡の陵線に位置させるようにして
照射し、2方向←反射させた半円状の二つの分割ビーム
のそれぞれを、円筒の一部をなすような凹面鏡を用いて
反射し、各分割ビームの微測と負側とが相互に反対方向
となるように重ね合わせ、分割ビームの重畳の割合でエ
ネルギー分布を均一化している。
えば特公昭60−54838号公報に記載されているよ
うに、陵線を有する山型の反射鏡に、断面円形のレーザ
ビームの光軸部を反射鏡の陵線に位置させるようにして
照射し、2方向←反射させた半円状の二つの分割ビーム
のそれぞれを、円筒の一部をなすような凹面鏡を用いて
反射し、各分割ビームの微測と負側とが相互に反対方向
となるように重ね合わせ、分割ビームの重畳の割合でエ
ネルギー分布を均一化している。
ところが、前記した線状ビームの作成方法においては、
分割ビームを2方向に反射させるようにしているため、
レーザビームの入射方向と直交する方向に大きなスペー
スを必要とし、光路長が大きくなって装置の大型化を招
き、実用性にかけていた。また、従来の方法は、単に反
射によって分割と再合成(重ね合わせ)をおこなってい
るだけであるため、レーザビームの発振モードやエネル
ギー分布の多様性に充分対応することができず、発振ビ
ームの強度分布が異なる場合には、エネルギー分布の均
一部有効長が短く、ビームの利用効率が低下する欠点が
あった。
分割ビームを2方向に反射させるようにしているため、
レーザビームの入射方向と直交する方向に大きなスペー
スを必要とし、光路長が大きくなって装置の大型化を招
き、実用性にかけていた。また、従来の方法は、単に反
射によって分割と再合成(重ね合わせ)をおこなってい
るだけであるため、レーザビームの発振モードやエネル
ギー分布の多様性に充分対応することができず、発振ビ
ームの強度分布が異なる場合には、エネルギー分布の均
一部有効長が短く、ビームの利用効率が低下する欠点が
あった。
本発明は、前記従来技術の欠点を解消するためになされ
たもので、エネルギー分布の均一部の有効長が長い線状
ビーム取出装置を提供することを目的とする。
たもので、エネルギー分布の均一部の有効長が長い線状
ビーム取出装置を提供することを目的とする。
本発明は、光源が出射したビームを断面円形の平行ビー
ムにするコリメータ部と、このコリメータ部が出射した
平行ビームの一部を、光軸中心から反射して分割ビーム
にする分割ミラーと、この分割ミラーが反射した分割ビ
ームを反射し、残されたビームに平行して出射するとと
もに、両ビームの負側を相対向させる反射ミラーとを有
するビーム分割部と、このビーム分割部が出射したビー
ムを集光し、線状ビームを形成する円柱レンズを備えた
集光部と、からなることを特徴とする線状ビーム取出装
置である。
ムにするコリメータ部と、このコリメータ部が出射した
平行ビームの一部を、光軸中心から反射して分割ビーム
にする分割ミラーと、この分割ミラーが反射した分割ビ
ームを反射し、残されたビームに平行して出射するとと
もに、両ビームの負側を相対向させる反射ミラーとを有
するビーム分割部と、このビーム分割部が出射したビー
ムを集光し、線状ビームを形成する円柱レンズを備えた
集光部と、からなることを特徴とする線状ビーム取出装
置である。
上記の如く構成した本発明においては、分割するビーム
の半分だけを残りのビーム側に反射させ、これを反射さ
せて残りのビームと一緒に集光用の円柱レンズに入射さ
せるため、反射させるビームの光路長が短く、装置をコ
ンパクトに形成できるばかりでなく、円柱レンズをもっ
て集光させることにより、幅広い均一なエネルギー分布
を有する線状ビームを得ることができる。
の半分だけを残りのビーム側に反射させ、これを反射さ
せて残りのビームと一緒に集光用の円柱レンズに入射さ
せるため、反射させるビームの光路長が短く、装置をコ
ンパクトに形成できるばかりでなく、円柱レンズをもっ
て集光させることにより、幅広い均一なエネルギー分布
を有する線状ビームを得ることができる。
本発明に係る線状ビーム取出装置の好ましい実施例を、
添付図面にしたがって詳説する。
添付図面にしたがって詳説する。
第1図(A)は、本発明に係る線状ビーム取出装置の主
要部を示す概略構成図である。
要部を示す概略構成図である。
第1図(A)において、図示しない光源から出射された
レーザビーム10は、コリメータ部2゜に入射される。
レーザビーム10は、コリメータ部2゜に入射される。
コリメータ部20は、凹レンズ22と凸部レンズ24と
からなっており、入射してきたレーザビーム10を凹レ
ンズ22により拡大し、凸部レンズ24により平行な拡
大レーザビ−ム12として出射する。この拡大ビーム1
2は、第3図(B)に示すごとく断面が円形をなし、そ
の直径が必要とする線状ビームの長さにほぼ等しく、そ
のエネルギー分布は第3図(A)に模式的に示したごと
く、ガウス分布をなしている。
からなっており、入射してきたレーザビーム10を凹レ
ンズ22により拡大し、凸部レンズ24により平行な拡
大レーザビ−ム12として出射する。この拡大ビーム1
2は、第3図(B)に示すごとく断面が円形をなし、そ
の直径が必要とする線状ビームの長さにほぼ等しく、そ
のエネルギー分布は第3図(A)に模式的に示したごと
く、ガウス分布をなしている。
拡大ビーム12が入射するビーム分割部は、2組の分割
反転機構31.32からなっている。第1の分割反転機
構31は、平面鏡からなる第1分割ミラー33が拡大ビ
ーム12の光軸中心まで挿入しである。この藻ヲ1ミラ
ー33は、拡大ビーム12の光路に対して45度傾斜し
ており、第1半円分割ビーム13を1分割された残りの
第2半円分割ビーム14に直交して第2半円分割ビーム
14側に反射する。第1半円分割ビーム13は。
反転機構31.32からなっている。第1の分割反転機
構31は、平面鏡からなる第1分割ミラー33が拡大ビ
ーム12の光軸中心まで挿入しである。この藻ヲ1ミラ
ー33は、拡大ビーム12の光路に対して45度傾斜し
ており、第1半円分割ビーム13を1分割された残りの
第2半円分割ビーム14に直交して第2半円分割ビーム
14側に反射する。第1半円分割ビーム13は。
第1分割ミラー33に平行して設けた第1半転ミラー3
4に反射され、第2半円分割ビーム14と平行になり、
第2半円分割ビーム14とともに第2分割半転機構32
に入射される。
4に反射され、第2半円分割ビーム14と平行になり、
第2半円分割ビーム14とともに第2分割半転機構32
に入射される。
第1半円分割ビーム13と第2半円分割ビーム14とは
、第4図(B)に示すごとく負側か相対向しており、低
中央部において相互に接触するようになっており、エネ
ルギー分布は第4図(A)に示すごとく中心部(弧中央
部側)のエネルギー密度が低く、外側(ヲ文側)のエネ
ルギー密度が大きくなっている。
、第4図(B)に示すごとく負側か相対向しており、低
中央部において相互に接触するようになっており、エネ
ルギー分布は第4図(A)に示すごとく中心部(弧中央
部側)のエネルギー密度が低く、外側(ヲ文側)のエネ
ルギー密度が大きくなっている。
第2分割反転機構32は、第1分割反転機構31と同様
に、第2図(A)に示すごとく、第2分割ミラー35と
第2反転ミラー36との1対の平面鏡からなっている。
に、第2図(A)に示すごとく、第2分割ミラー35と
第2反転ミラー36との1対の平面鏡からなっている。
第2分割ミラー35と第2反転ミラー36とは、それぞ
れ平行しており、第1分割ミラー33.第1反転ミラー
34と面方向が直交するようになっている。そして、第
2分割ミラー35は、第1.第2半円分割ビーム13゜
14の光軸中心、すなわち光路中心まで挿入され、各分
割ビームの半分を残されたビーム側に、このビームに直
交して反射する。第2分割ミラー35により分割された
ビームは、第2反転ミラー36により反射されて、残さ
れた分割ビームと平行になり、集光部4oに入射する。
れ平行しており、第1分割ミラー33.第1反転ミラー
34と面方向が直交するようになっている。そして、第
2分割ミラー35は、第1.第2半円分割ビーム13゜
14の光軸中心、すなわち光路中心まで挿入され、各分
割ビームの半分を残されたビーム側に、このビームに直
交して反射する。第2分割ミラー35により分割された
ビームは、第2反転ミラー36により反射されて、残さ
れた分割ビームと平行になり、集光部4oに入射する。
この集光部40に入射するビームの形状は、第5図(B
)に示すごとく円形の拡大ビーム12を扇状に4等分し
た形状をなしており、各分割されたビームの負側か相互
に対向するようになっている。そして、これら各分割ビ
ームの光路に直交した方向に投射したエネルギー分布は
、第5図(A)に示すごとく第4図(A)と同様になっ
ている。
)に示すごとく円形の拡大ビーム12を扇状に4等分し
た形状をなしており、各分割されたビームの負側か相互
に対向するようになっている。そして、これら各分割ビ
ームの光路に直交した方向に投射したエネルギー分布は
、第5図(A)に示すごとく第4図(A)と同様になっ
ている。
集光部40は、集光部4oに入射してくる4分割ビーム
15を線状に集光する凸状の円柱レンズ42と、この円
柱レンズ42が集光したビームを平行光線にし、矩形状
の線状ビーム16にする凹状の第2の円柱レンズ44と
からなっている。
15を線状に集光する凸状の円柱レンズ42と、この円
柱レンズ42が集光したビームを平行光線にし、矩形状
の線状ビーム16にする凹状の第2の円柱レンズ44と
からなっている。
円柱レンズ42は、第1図(B)及び第2図(B)に示
すごとく、4分割ビーム15の光路に直交して挿入され
るとともに、4分割ビーム15の光路に直交した面内に
おいて所定角αだけ回転している。このように円柱レン
ズ42に入射した4分割ビーム15は、第1図及び第2
図の(B)に示すごとく、円柱レンズ42の軸線45に
向けて集光する。そして、凸状の円柱レンズ42により
集光させられたビームは、円柱レンズ42の焦点の手前
に配置された凹状の円柱レンズ44に入射する。この凹
状の円柱レンズ44は、軸IJA′が凸状の円柱レンズ
42と平行となっており、入射したビームを平行光線に
変え、矩形状の線状ビーム16を出射する。
すごとく、4分割ビーム15の光路に直交して挿入され
るとともに、4分割ビーム15の光路に直交した面内に
おいて所定角αだけ回転している。このように円柱レン
ズ42に入射した4分割ビーム15は、第1図及び第2
図の(B)に示すごとく、円柱レンズ42の軸線45に
向けて集光する。そして、凸状の円柱レンズ42により
集光させられたビームは、円柱レンズ42の焦点の手前
に配置された凹状の円柱レンズ44に入射する。この凹
状の円柱レンズ44は、軸IJA′が凸状の円柱レンズ
42と平行となっており、入射したビームを平行光線に
変え、矩形状の線状ビーム16を出射する。
すなわち、矩形状の線状ビーム16は、円柱レンズ42
の軸線方向から見た場合幅が狭く、円柱レンズ42の軸
線に直交した横方向から見た場合幅の広いビームとなっ
ている。この線状ビーム16の長手方向におけるエネル
ギー分布が、第6図に示すごとく四つの分割されたビー
ムをa = dとしたときに、これら四つの分割ビーム
a = dのエネルギー分布の和となって表わされ、は
ぼ均一な合成強度分布50を得ることができる。なお、
前記した4分割ビーム15と凸状の円柱レンズ42との
間の相対回転角αは、第3図(B)に示した拡大ビーム
12のエネルギー分布の形状によって定められ、合成強
度分布50が最も均一となるような値に選定される。
の軸線方向から見た場合幅が狭く、円柱レンズ42の軸
線に直交した横方向から見た場合幅の広いビームとなっ
ている。この線状ビーム16の長手方向におけるエネル
ギー分布が、第6図に示すごとく四つの分割されたビー
ムをa = dとしたときに、これら四つの分割ビーム
a = dのエネルギー分布の和となって表わされ、は
ぼ均一な合成強度分布50を得ることができる。なお、
前記した4分割ビーム15と凸状の円柱レンズ42との
間の相対回転角αは、第3図(B)に示した拡大ビーム
12のエネルギー分布の形状によって定められ、合成強
度分布50が最も均一となるような値に選定される。
このように1本実施例においては、断面円形の拡大ビー
ムを4分割し、各分割ビームの低側か相対向するように
反転させ、これら各分割ビームを円柱レンズ42により
集光することにより、極めて均一なエネルギー分布を有
する線状ビーム16を得ることができる。特に5本実施
例においては、拡大ビーム12のエネルギー分布曲線の
形状により、分割ビーム15と円柱レンズ42とを相対
的に回転させることにより、最適な合成強度分布50を
有する線状ビームが得られる。
ムを4分割し、各分割ビームの低側か相対向するように
反転させ、これら各分割ビームを円柱レンズ42により
集光することにより、極めて均一なエネルギー分布を有
する線状ビーム16を得ることができる。特に5本実施
例においては、拡大ビーム12のエネルギー分布曲線の
形状により、分割ビーム15と円柱レンズ42とを相対
的に回転させることにより、最適な合成強度分布50を
有する線状ビームが得られる。
また、本実施例においては、ビームを分割する際に、ビ
ームの半分だけを反射し1反転させているため、反射2
反転させるビームの光路長が短くてすみ、装置の小型化
を図ることができる。更に、本実施例においては、凸状
の円柱レンズ42により集光したビームを、凹状の円柱
レンズ44により平行光線とするため、任意の幅の線状
ビーム16を得ることができる。
ームの半分だけを反射し1反転させているため、反射2
反転させるビームの光路長が短くてすみ、装置の小型化
を図ることができる。更に、本実施例においては、凸状
の円柱レンズ42により集光したビームを、凹状の円柱
レンズ44により平行光線とするため、任意の幅の線状
ビーム16を得ることができる。
第7図は1本発明に係る線状ビーム取出装置の他の実施
例を示す構成図である。本実施例においては、ビーム分
割部3oが第1分割ミラー33と第1反転ミラー34と
に和尚する1対の平面鏡からなるIMiの分割反転機構
からなっており、拡大ビーム12を第1半円分割ビーム
13と第2半円分割ビーム14とにし、これらの分割ビ
ーム13゜14を凸状の円柱レンズ42だけからなる集
光部により集光させた例を示したものである。
例を示す構成図である。本実施例においては、ビーム分
割部3oが第1分割ミラー33と第1反転ミラー34と
に和尚する1対の平面鏡からなるIMiの分割反転機構
からなっており、拡大ビーム12を第1半円分割ビーム
13と第2半円分割ビーム14とにし、これらの分割ビ
ーム13゜14を凸状の円柱レンズ42だけからなる集
光部により集光させた例を示したものである。
本実施例による場合は、集光ぎわだビームのエネルギー
分布が第8図に示すごとくなっており、合成強度分布5
0が分割ビーム13.14のエネルギー分布曲線のピー
クを結ぶ範囲にしかならず、均一な強度分布を有する範
gJJ(長さ)が4分割した場合に比較して小さくなる
。
分布が第8図に示すごとくなっており、合成強度分布5
0が分割ビーム13.14のエネルギー分布曲線のピー
クを結ぶ範囲にしかならず、均一な強度分布を有する範
gJJ(長さ)が4分割した場合に比較して小さくなる
。
なお、前記実施例においては、円柱レンズ42により集
光した場合について説明したが反射型円柱ミラーを用い
て集光してもよい。レーザばかりでなく、通常光にも適
用できる。
光した場合について説明したが反射型円柱ミラーを用い
て集光してもよい。レーザばかりでなく、通常光にも適
用できる。
以上に説明したごとく、本発明によれば、断面円形のビ
ームを分割し、これら分割したビームの低側か相対向す
るようにして円柱レンズに入射し、集光することにより
、エネルギー分布強度の均一部分が長い線状ビームを得
ることができ、大きな面積の均一な熱処理、調質等が容
易となる。
ームを分割し、これら分割したビームの低側か相対向す
るようにして円柱レンズに入射し、集光することにより
、エネルギー分布強度の均一部分が長い線状ビームを得
ることができ、大きな面積の均一な熱処理、調質等が容
易となる。
第1図(A)は本発明に係る線状ビーム取出装置の実施
例の主要部を示す説明図であり、第1図CB)は集光用
円柱レンズと集光用円柱レンズに入射する分割ビームと
の関係を示す説明図、第2図(A)は第1図(A)の■
方向矢視図であり。 第2図(B)は集光用円柱レンズとこの円柱レンズに入
射する分割ビームとの相対関係を示す説明図、第3図は
第1ryiのm−maに沿う拡大ビームの断面とそのエ
ネルギー分布を示す図、第4図は第1図のIV−IV線
に沿う分割ビームの断面図とそのエネルギー分布を示す
図、第5図は第2図の■−vmに沿う分割ビームの断面
図とそのエネルギー分布を示す図、第6図は線状ビーム
のエネルギー分布の説明図、第7図は本発明に係る線状
ビーム取出装置の他の実施例を示す説明図、第8図は第
7図に示した実施例のエネルギー分布の説明図である。 10・・・レーザビーム、12・・・拡大ビーム、13
・・・第1半円分割ビーム、14・・・第2半円分割ビ
ーム、15・・・4分割ビーム、16・・・線状ビーム
、20・・・コリメータ部、30・・・ビーム分割部、
33・・・第1分割ミラー、34・・・第1反転ミラー
、35・・・第2分割ミラー、36・・・第2反転ミラ
ー、40・・・集光部、42.44・・・円柱レンズ。
例の主要部を示す説明図であり、第1図CB)は集光用
円柱レンズと集光用円柱レンズに入射する分割ビームと
の関係を示す説明図、第2図(A)は第1図(A)の■
方向矢視図であり。 第2図(B)は集光用円柱レンズとこの円柱レンズに入
射する分割ビームとの相対関係を示す説明図、第3図は
第1ryiのm−maに沿う拡大ビームの断面とそのエ
ネルギー分布を示す図、第4図は第1図のIV−IV線
に沿う分割ビームの断面図とそのエネルギー分布を示す
図、第5図は第2図の■−vmに沿う分割ビームの断面
図とそのエネルギー分布を示す図、第6図は線状ビーム
のエネルギー分布の説明図、第7図は本発明に係る線状
ビーム取出装置の他の実施例を示す説明図、第8図は第
7図に示した実施例のエネルギー分布の説明図である。 10・・・レーザビーム、12・・・拡大ビーム、13
・・・第1半円分割ビーム、14・・・第2半円分割ビ
ーム、15・・・4分割ビーム、16・・・線状ビーム
、20・・・コリメータ部、30・・・ビーム分割部、
33・・・第1分割ミラー、34・・・第1反転ミラー
、35・・・第2分割ミラー、36・・・第2反転ミラ
ー、40・・・集光部、42.44・・・円柱レンズ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光源が出射したビームを断面円形の平行ビームにす
るコリメータ部と; このコリメータ部が出射した平行ビームの一部を、光線
中心から反射して分割ビームにする分割ミラーと、この
分割ミラーが反射した分割ビームを反射し、残されたビ
ームに平行して出射するとともに、両ビームの弧側を相
対向させる反転ミラーとを有するビーム分割部と; このビーム分割部が出射したビームを集光し、線状ビー
ムを形成する円柱レンズを備えた集光部と; からなることを特徴とする線状ビーム取出装置。 2、特許請求の範囲第1項に記載の装置において;ビー
ム分割部は、断面円形の平行ビームの半円部を反射する
第1分割ミラーと; この第1分割ミラーが反射した第1半円分割ビームを反
射し、残された第2半円分割ビームに平行して出射する
とともに、両ビームの弧中央部を相互に接触させる第1
反転ミラーと;前記第1、第2の半円分割ビームのそれ
ぞれを、光軸中心から分割して反射する第2分割ミラー
と; この第2分割ミラーが反射した分割ビームを反射し、残
されたビームと平行に出射するとともに、両ビームの弧
側を相対向させる第2反転ミラーと; からなることを特徴とする線状ビーム取出装置。 3、特許請求の範囲第1項または第2項に記載の装置に
おいて; 集光部は、円柱ビームが集光したビームを平行ビームに
する第2の円柱レンズを有する;ことを特徴とする線状
ビーム取出装置。 4、特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれか1項
に記載の装置において; 集光用の円柱レンズは、入射する分割ビームの光路に直
交した面内において、所定角だけ回転させてある; ことを特徴とする線状ビーム取出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61212313A JPS6368288A (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | 線状ビ−ム取出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61212313A JPS6368288A (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | 線状ビ−ム取出装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6368288A true JPS6368288A (ja) | 1988-03-28 |
Family
ID=16620483
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61212313A Pending JPS6368288A (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | 線状ビ−ム取出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6368288A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03170616A (ja) * | 1989-11-29 | 1991-07-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | パイプ内面加熱用レーザ光学装置 |
US5867582A (en) * | 1994-02-22 | 1999-02-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Headphone |
JPH11138896A (ja) * | 1997-11-07 | 1999-05-25 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザを用いたマーキング方法、マーキング装置、及びマークの観察方法、観察装置 |
US6392683B1 (en) | 1997-09-26 | 2002-05-21 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Method for making marks in a transparent material by using a laser |
JP2014522963A (ja) * | 2011-06-24 | 2014-09-08 | トルネード メディカル システムズ,インコーポレイテッド | アナモルフィックビーム拡張分光器 |
JP2015083980A (ja) * | 2009-10-01 | 2015-04-30 | トルネード スペクトラル システムズ,インコーポレイテッド | 分散分光器のスペクトル分解能を改善するための光学スライサー |
-
1986
- 1986-09-09 JP JP61212313A patent/JPS6368288A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6501499B2 (en) | 1997-09-26 | 2002-12-31 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Method for making marks in a transparent material by using a laser |
US6587136B2 (en) | 1997-09-26 | 2003-07-01 | Sumitomo Heavy Industries Ltd. | Method for making marks in a transparent material by using a laser |
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