JPS6366557A - 絵柄のマスク作成方法 - Google Patents
絵柄のマスク作成方法Info
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- JPS6366557A JPS6366557A JP61211947A JP21194786A JPS6366557A JP S6366557 A JPS6366557 A JP S6366557A JP 61211947 A JP61211947 A JP 61211947A JP 21194786 A JP21194786 A JP 21194786A JP S6366557 A JPS6366557 A JP S6366557A
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- Japan
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 7
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate pentahydrate Chemical group O.O.O.O.O.[Cu+2].[O-]S([O-])(=O)=O JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/90—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof prepared by montage processes
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は絵柄のマスク作成方法、特にコンビ１−りを用
いた絵柄のマスク作成方法に関づる。
いた絵柄のマスク作成方法に関づる。
（従来の技術）
印刷の分野では、画像中の必要な絵柄だけを抽出して印
刷に用いるという手法がよく用いられる。
刷に用いるという手法がよく用いられる。
この場合、画像中の必要な絵柄以外の部分（以下背景部
分という）を覆うためのマスクが必要になる。例えば第
２図（ａ）に示すような画像がフィルムの形で与えられ
、この中のコーヒーカップの部分だけを抽出して印刷に
用いる場合を考える。
分という）を覆うためのマスクが必要になる。例えば第
２図（ａ）に示すような画像がフィルムの形で与えられ
、この中のコーヒーカップの部分だけを抽出して印刷に
用いる場合を考える。
この場合、コーヒーカップの部分が必要な絵柄となり、
それ以外の部分（ケーキの絵柄部分を含めて）は背景部
分となる。そこで第２図（ｂ）に示すようにハッヂング
部分を遮蔽しうるマスクを作成し、このマスクで第２図
（ａ）に示す画像の背景部分を覆い、必５ｊｃな絵柄の
みを抽出することになる。
それ以外の部分（ケーキの絵柄部分を含めて）は背景部
分となる。そこで第２図（ｂ）に示すようにハッヂング
部分を遮蔽しうるマスクを作成し、このマスクで第２図
（ａ）に示す画像の背景部分を覆い、必５ｊｃな絵柄の
みを抽出することになる。
（発明が解決しようとする問題点）
従来、このようなマスクの作成は、絵柄の輪郭線を人手
でトレースすることによって行なっていた。ところがこ
のようなトレースによるマスク作成は、多大な労力を必
要とし、また、精確なマスク作成が困難であるという問
題点がある。１１に、樹木等の輪郭線が複雑な絵柄の場
合、忠実なトレースが非常に困デ１となる。
でトレースすることによって行なっていた。ところがこ
のようなトレースによるマスク作成は、多大な労力を必
要とし、また、精確なマスク作成が困難であるという問
題点がある。１１に、樹木等の輪郭線が複雑な絵柄の場
合、忠実なトレースが非常に困デ１となる。
そこで本発明は精確なマスク作成を容易に行なうことが
できる絵柄のマスク作成方法を提供することを目的とす
る。
できる絵柄のマスク作成方法を提供することを目的とす
る。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、絵柄を有する画像を複数の画素に分割し、各
画素のもつ濃度値をデータとして入力する画像入力段階
と、画像中に絵柄を囲う外枠線を定義する段階と、この
外枠線上の画集のもつ濃度値についてのヒストグラムを
作成する段階と、このヒストグラムについて、頻度が所
定数を超える第１の濃度領域と、頻度がｔｔＪ記所記数
定数以下る第２の温度領域との２つの濃度領域を設定す
る段階と、全画素のそれぞれについて、入力した濃度値
を参照し、２つの濃度領域のどちらに所属するかを判断
し、画像を第１のＩｉ１度領域に所属する画素の集合か
ら成る第１属性の閉領域と、第２の温度領域に所属する
画素の集合から成る第２属性の閉領域とで表現する段階
と、各第１属性の閉領域および各第２属性の閉領域のそ
れぞれについて、絵柄を構成する領域であるか否かを入
力し、画像から絵柄を構成する領域を抽出する段階と、
によって絵柄のマスクを作成するようにしたものである
。
画素のもつ濃度値をデータとして入力する画像入力段階
と、画像中に絵柄を囲う外枠線を定義する段階と、この
外枠線上の画集のもつ濃度値についてのヒストグラムを
作成する段階と、このヒストグラムについて、頻度が所
定数を超える第１の濃度領域と、頻度がｔｔＪ記所記数
定数以下る第２の温度領域との２つの濃度領域を設定す
る段階と、全画素のそれぞれについて、入力した濃度値
を参照し、２つの濃度領域のどちらに所属するかを判断
し、画像を第１のＩｉ１度領域に所属する画素の集合か
ら成る第１属性の閉領域と、第２の温度領域に所属する
画素の集合から成る第２属性の閉領域とで表現する段階
と、各第１属性の閉領域および各第２属性の閉領域のそ
れぞれについて、絵柄を構成する領域であるか否かを入
力し、画像から絵柄を構成する領域を抽出する段階と、
によって絵柄のマスクを作成するようにしたものである
。
く作 用）
画像は濃度値をもった画素の集合としてコンピュータに
取込まれる。この取込まれた画集について、絵柄内の画
素か背景内の画素かがコンピュータによって４Ｊ１断さ
れるため、トレースのような人手を必要とすることなし
に、精確な絵柄の抽出が可能である。上記判断は、絵柄
を囲う外枠線上の画素を背用内の基準画素として取出し
、この基準画素の濃度ヒストグラムを参照して行なわれ
る。
取込まれる。この取込まれた画集について、絵柄内の画
素か背景内の画素かがコンピュータによって４Ｊ１断さ
れるため、トレースのような人手を必要とすることなし
に、精確な絵柄の抽出が可能である。上記判断は、絵柄
を囲う外枠線上の画素を背用内の基準画素として取出し
、この基準画素の濃度ヒストグラムを参照して行なわれ
る。
（実施例）
以下本発明を図示する実施例に基づいて詳述する。第１
図は本発明に係るマスク作成方法の手順を示す流れ図で
ある。いま、例えば第２図（ａ）に示すような画像につ
いて、同図（ｂ）に示すようなマスクを作成する場合を
考える。まずステップ＄１において、画像の入力を行な
う。即ち、第２図（ａ）に示すような画像を複数の画素
に分割し、各画素のもつ濃度値をデータとして入力する
のである。これは例えばスキャナ等の入力装置を用いて
画像を光学的に走査し、各画素のもつ濃度値をデジタル
データとしてコンピュータに取込めばよい。一般にこの
濃度値は、２のべき乗の階調数を有するデジタルデータ
で表現される。例えば各画素を０〜２５５の濃度値で表
現すればよい。
図は本発明に係るマスク作成方法の手順を示す流れ図で
ある。いま、例えば第２図（ａ）に示すような画像につ
いて、同図（ｂ）に示すようなマスクを作成する場合を
考える。まずステップ＄１において、画像の入力を行な
う。即ち、第２図（ａ）に示すような画像を複数の画素
に分割し、各画素のもつ濃度値をデータとして入力する
のである。これは例えばスキャナ等の入力装置を用いて
画像を光学的に走査し、各画素のもつ濃度値をデジタル
データとしてコンピュータに取込めばよい。一般にこの
濃度値は、２のべき乗の階調数を有するデジタルデータ
で表現される。例えば各画素を０〜２５５の濃度値で表
現すればよい。
この入力した各画素のデータはコンピュータ内のメモリ
に記憶される。
に記憶される。
次にステップＳ２において、外枠線の定義を行なう。こ
の外枠線は画像中の絵柄を囲う線で、例えば第２図（Ｃ
）に一点鎖線で示すような四角形の枠を外枠線Ｆとして
定義すればよい。このような定義は、メモリ内に記憶さ
れた各画素のデータに基づいて第２図（Ｃ）に示すよう
な画面をディスプレイ上に表示させ、オペレータがタブ
レット等の入力手段を用いてディスプレイ画面上で定義
すればよい。この外枠線上の画素が、以後の手順で背景
部分を代表する画素となる。従って、この外枠線は必ず
しも四角形である必要はなく、また、閉じた線である必
要もない。ただ、背ＦＪ部分を代表する画素をできる限
り広い領域にわたってできる限り数多くサンプリングす
るためには、第２図（Ｃ）に示すように四角形とするの
が好ましい。
の外枠線は画像中の絵柄を囲う線で、例えば第２図（Ｃ
）に一点鎖線で示すような四角形の枠を外枠線Ｆとして
定義すればよい。このような定義は、メモリ内に記憶さ
れた各画素のデータに基づいて第２図（Ｃ）に示すよう
な画面をディスプレイ上に表示させ、オペレータがタブ
レット等の入力手段を用いてディスプレイ画面上で定義
すればよい。この外枠線上の画素が、以後の手順で背景
部分を代表する画素となる。従って、この外枠線は必ず
しも四角形である必要はなく、また、閉じた線である必
要もない。ただ、背ＦＪ部分を代表する画素をできる限
り広い領域にわたってできる限り数多くサンプリングす
るためには、第２図（Ｃ）に示すように四角形とするの
が好ましい。
続いてステップＳ３において、１１度値のヒスｉ・ダラ
ム作成が行なわれる。即ら、外枠線Ｆ上のすべての画素
のもつ濃度値についての頻度を求めるのである。このヒ
ストグラムは例えば第３図（ａ）のようになる。一般に
このようなヒストグラムは、いくつかのピークをもった
グラフとなる。第３図（ａ）は通常得られる典型的なヒ
ストグラムを示し、頻度Ｏの濃度領域と頻度１以上のＱ
度領域とがはっきり分けられている。
ム作成が行なわれる。即ら、外枠線Ｆ上のすべての画素
のもつ濃度値についての頻度を求めるのである。このヒ
ストグラムは例えば第３図（ａ）のようになる。一般に
このようなヒストグラムは、いくつかのピークをもった
グラフとなる。第３図（ａ）は通常得られる典型的なヒ
ストグラムを示し、頻度Ｏの濃度領域と頻度１以上のＱ
度領域とがはっきり分けられている。
次にステップＳ４において、濃度領域の設定を行なう。
即ら、頻度について所定数ａを設定し、ステップＳ３で
作成したヒストグラムについて、頻度が所定数ａを超え
る第１のａ度領域と、傾度が所定数ａ以下となる第２の
濃度領域との２つの濃度領域を設定する。例えば第３図
（ａ）に示すヒストグラムでは、所定数ａ＝Ｏとづ−れ
ば、第３図（ｂ）に示されるように、属性″ＯＩＩで示
される第１の濃度領域（頻度Ｏを超える領域）と、属性
“１″で示される第２の濃度領域（頻度Ｏの領域）とが
設定される。また、例えば第３図（Ｃ）に示すヒストグ
ラムでは、ピークの部分が第１の濃度領域となるように
適当に所定数ａを決定し、２つのｉＩａ領域を図のよう
に設定すればよい。
作成したヒストグラムについて、頻度が所定数ａを超え
る第１のａ度領域と、傾度が所定数ａ以下となる第２の
濃度領域との２つの濃度領域を設定する。例えば第３図
（ａ）に示すヒストグラムでは、所定数ａ＝Ｏとづ−れ
ば、第３図（ｂ）に示されるように、属性″ＯＩＩで示
される第１の濃度領域（頻度Ｏを超える領域）と、属性
“１″で示される第２の濃度領域（頻度Ｏの領域）とが
設定される。また、例えば第３図（Ｃ）に示すヒストグ
ラムでは、ピークの部分が第１の濃度領域となるように
適当に所定数ａを決定し、２つのｉＩａ領域を図のよう
に設定すればよい。
次にステップＳ５において、属性１１０１１の領域内の
ｉ１１度値を有する画素の集合から成る属性“０″の閉
領域と、属性“１″の領域内の１度値を有する画素の集
合から成る属性パ１ｎの閉領域とを形成する。これによ
り、例えば第２図（ｄ）に示すような閉領域Ａ−Ｅが形
成されることになる。ここで閉領域Δは属性゛０”を有
する背景部分の閉領域であり、閉領域Ｂは属性１１１１
１を右づる必要な絵柄くコーヒーカップ）部分の閉領域
である。
ｉ１１度値を有する画素の集合から成る属性“０″の閉
領域と、属性“１″の領域内の１度値を有する画素の集
合から成る属性パ１ｎの閉領域とを形成する。これによ
り、例えば第２図（ｄ）に示すような閉領域Ａ−Ｅが形
成されることになる。ここで閉領域Δは属性゛０”を有
する背景部分の閉領域であり、閉領域Ｂは属性１１１１
１を右づる必要な絵柄くコーヒーカップ）部分の閉領域
である。
また、閉領域Ｃは属性“０″を右するを開部分の閉領域
である。このように、一般に青石部分の閉領域は属性“
０”、必要な絵柄部分の閉領域は属性″１”となる。
である。このように、一般に青石部分の閉領域は属性“
０”、必要な絵柄部分の閉領域は属性″１”となる。
ところが、閉頭［Ｄのように、必要な絵柄部分内の閉領
域であるにもかかわらず、たまたまその画素の濃度値分
布が背景部分の瀾ｔａ値分布に類似していると、ステッ
プＳ５の段階では属性１１０ ＩＩが割当てられてしま
う。また、逆に閉領域Ｅのように、必要でない絵柄部分
については、本来背累部分と同等に扱わねばならないの
に属性１１１ ＩＩがｉ’、”！当てられてしまう。こ
のようなことから、背景部分の属性は”０″、必要な絵
柄部分の属性は“１″と画一的に処理すると不都合が生
じる可能性がある。そこでステップＳ６において、絵柄
構成領域の抽出を行なう。例えば第２図（ｄ）に示すよ
うに、背景とツベき閉領域Ａ、Ｃ，Ｅ内の任意の１点Ｐ
、Ｑ、Ｒを、グラフィックタブレット等の入力手段によ
ってオペレータが指示するようにすればよい。逆に必要
な絵柄となるべぎ閉領域Ｂ、Ｄの方を指示づるようにし
てもよい。この操作によって、すべての閉領域が背景と
なるべき閉領域か、または必要な絵柄を構成するべき閉
へ１填か、のどちらかに確定することになる。従って第
２図（ｂ）に示すようなマスクの作成をコンビコータに
よって自動的に行なうことができる。
域であるにもかかわらず、たまたまその画素の濃度値分
布が背景部分の瀾ｔａ値分布に類似していると、ステッ
プＳ５の段階では属性１１０ ＩＩが割当てられてしま
う。また、逆に閉領域Ｅのように、必要でない絵柄部分
については、本来背累部分と同等に扱わねばならないの
に属性１１１ ＩＩがｉ’、”！当てられてしまう。こ
のようなことから、背景部分の属性は”０″、必要な絵
柄部分の属性は“１″と画一的に処理すると不都合が生
じる可能性がある。そこでステップＳ６において、絵柄
構成領域の抽出を行なう。例えば第２図（ｄ）に示すよ
うに、背景とツベき閉領域Ａ、Ｃ，Ｅ内の任意の１点Ｐ
、Ｑ、Ｒを、グラフィックタブレット等の入力手段によ
ってオペレータが指示するようにすればよい。逆に必要
な絵柄となるべぎ閉領域Ｂ、Ｄの方を指示づるようにし
てもよい。この操作によって、すべての閉領域が背景と
なるべき閉領域か、または必要な絵柄を構成するべき閉
へ１填か、のどちらかに確定することになる。従って第
２図（ｂ）に示すようなマスクの作成をコンビコータに
よって自動的に行なうことができる。
なお、上述の実施例では、画像がモノクロである場合を
例にとって本発明を説明したが、カラー画像についても
同様に本発明を適用できる。この場合、カラー画像をＲ
，Ｇ、Ｂ （赤、緑＊ ’ｊ！Ｊ’ ）またはＹ、〜１
．Ｃ（黄、マゼンタ、シアン）等の基準色に分け、各基
準色ごとに複数の山ふに分割してステップＳ１の画像入
力を行なえばよい。続いてステップ８２〜Ｓ４について
は、各基準色ごとに手順を進めてゆく。例えばＲ，Ｇ、
Ｂを三基単色として用いた場合には、Ｒ，Ｇ、Ｂのそれ
ぞれについて第３図（ｂ）に示すようなヒストグラムが
得られ、それぞれについて属性゛０”で示される第１の
濃度領域と属性″１″で示される第２の濃度領域とが設
定される。次にステップＳ５にＪ５いて、閉領域の形成
を行なうが、このとき、ある画素の全基準色についての
属性の論理和をとったものをその画素の属性と定義する
。即ち、各基準色のづべてに関して属性１１０ Ｉ＋で
示される濃度領域に所属する画素を属性“０°゛の画素
とし、この属性゛Ｏ“の画素の集合から成る閉領域を属
性“０”の閉領域とし、一方、各基準色のいずれかに関
して属性ＩＩ １１１で示される濃度領域に所属する画
素を属性ＩＪ Ｉ Ｉ＋の画素とし、この属性″゛１″
の画素の集合から成る閉領域を属性゛１″の閉領域とす
るこになる。別言すれば、Ｒ，Ｇ、Ｂそれぞれについて
のヒストグラムを車ね、ピークが３つとも重なり合った
濃度領域に属する画素が属性“ＯＮの画素となり、それ
以外の画素が属性゛１′の両県となる。続いてステップ
Ｓ６における絵柄構成領域の抽出をモノクロ画像と同様
に行なえば、カラー画像についてのマスク作成を行なう
ことができる。
例にとって本発明を説明したが、カラー画像についても
同様に本発明を適用できる。この場合、カラー画像をＲ
，Ｇ、Ｂ （赤、緑＊ ’ｊ！Ｊ’ ）またはＹ、〜１
．Ｃ（黄、マゼンタ、シアン）等の基準色に分け、各基
準色ごとに複数の山ふに分割してステップＳ１の画像入
力を行なえばよい。続いてステップ８２〜Ｓ４について
は、各基準色ごとに手順を進めてゆく。例えばＲ，Ｇ、
Ｂを三基単色として用いた場合には、Ｒ，Ｇ、Ｂのそれ
ぞれについて第３図（ｂ）に示すようなヒストグラムが
得られ、それぞれについて属性゛０”で示される第１の
濃度領域と属性″１″で示される第２の濃度領域とが設
定される。次にステップＳ５にＪ５いて、閉領域の形成
を行なうが、このとき、ある画素の全基準色についての
属性の論理和をとったものをその画素の属性と定義する
。即ち、各基準色のづべてに関して属性１１０ Ｉ＋で
示される濃度領域に所属する画素を属性“０°゛の画素
とし、この属性゛Ｏ“の画素の集合から成る閉領域を属
性“０”の閉領域とし、一方、各基準色のいずれかに関
して属性ＩＩ １１１で示される濃度領域に所属する画
素を属性ＩＪ Ｉ Ｉ＋の画素とし、この属性″゛１″
の画素の集合から成る閉領域を属性゛１″の閉領域とす
るこになる。別言すれば、Ｒ，Ｇ、Ｂそれぞれについて
のヒストグラムを車ね、ピークが３つとも重なり合った
濃度領域に属する画素が属性“ＯＮの画素となり、それ
以外の画素が属性゛１′の両県となる。続いてステップ
Ｓ６における絵柄構成領域の抽出をモノクロ画像と同様
に行なえば、カラー画像についてのマスク作成を行なう
ことができる。
（発明の効果）
以上のとおり本発明によれば、絵柄のマスク作成方法に
おいて、絵柄を有する画像を画素の集合としてコンピュ
ータに取込み、絵柄を囲う外枠線上の画素を背頭内の基
準画素として取出し、この基準画素の濃度ヒストグラム
を参照して絵柄の抽出を自動的に行なうようにしたため
、精確なマスク作成を容易に行なうことができるように
なる。
おいて、絵柄を有する画像を画素の集合としてコンピュ
ータに取込み、絵柄を囲う外枠線上の画素を背頭内の基
準画素として取出し、この基準画素の濃度ヒストグラム
を参照して絵柄の抽出を自動的に行なうようにしたため
、精確なマスク作成を容易に行なうことができるように
なる。
第１図は本発明に係るマスク作成方法の手順４示す流れ
図、第２図は本発明に係るマスク作成方法の一実施例の
手順説明図、第３図は第１図におけるステップＳ３で作
成されたヒストグラムの一例を示す図である。 Ａ−Ｅ・・・閉領域、Ｆ・・・外枠線、Ｐ−Ｒ・・・指
示点。
図、第２図は本発明に係るマスク作成方法の一実施例の
手順説明図、第３図は第１図におけるステップＳ３で作
成されたヒストグラムの一例を示す図である。 Ａ−Ｅ・・・閉領域、Ｆ・・・外枠線、Ｐ−Ｒ・・・指
示点。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、絵柄を有する画像を複数の画素に分割し、各画素の
もつ濃度値をデータとして入力する画像入力段階と、前
記画像中に前記絵柄を囲う外枠線を定義する段階と、前
記外枠線上の画素のもつ濃度値についてのヒストグラム
を作成する段階と、前記ヒストグラムについて、頻度が
所定数を超える第１の濃度領域と、頻度が前記所定数以
下となる第２の濃度領域との２つの濃度領域を設定する
段階と、前記全画素のそれぞれについて、入力した濃度
値を参照し、前記２つの濃度領域のどちらに所属するか
を判断し、前記画像を前記第１の濃度領域に所属する画
素の集合から成る第１属性の閉領域と、前記第２の濃度
領域に所属する画素の集合から成る第２属性の閉領域と
で表現する段階と、前記各第１属性の閉領域および／ま
たは前記各第２属性の閉領域のそれぞれについて、前記
絵柄を構成する領域であるか否かを入力し、前記画像か
ら絵柄を構成する領域を抽出する段階と、を有すること
を特徴とする絵柄のマスク作成方法。 ２、カラー画像を所定の基準色ごとに複数の画素に分割
し、前記各基準色ごとに２つの濃度領域を設定し、前記
各基準色のすべてに関して第１の濃度領域に所属する画
素の集合から成る閉領域を第１属性の閉領域とし、前記
各基準色のいずれかに関して第２の濃度領域に所属する
画素の集合から成る閉領域を第２属性の閉領域とするこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の絵柄のマス
ク作成方法。 ３、各画素のもつ濃度値を、２のべき乗の階調数を有す
るデジタルデータで表現して入力することを特徴とする
特許請求の範囲第１項または第２項記載の絵柄のマスク
作成方法。 ４、ヒストグラムの頻度に関する所定数を零とすること
を特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第３項のいずれ
かに記載の絵柄のマスク作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61211947A JPS6366557A (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | 絵柄のマスク作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61211947A JPS6366557A (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | 絵柄のマスク作成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6366557A true JPS6366557A (ja) | 1988-03-25 |
Family
ID=16614329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61211947A Pending JPS6366557A (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | 絵柄のマスク作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6366557A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0441254A2 (en) * | 1990-02-06 | 1991-08-14 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Photocomposing method and system therefor |
| WO1993013878A1 (en) * | 1992-01-08 | 1993-07-22 | Connolly Joseph W | Color detection and separation method |
-
1986
- 1986-09-09 JP JP61211947A patent/JPS6366557A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0441254A2 (en) * | 1990-02-06 | 1991-08-14 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Photocomposing method and system therefor |
| WO1993013878A1 (en) * | 1992-01-08 | 1993-07-22 | Connolly Joseph W | Color detection and separation method |
| US5432545A (en) * | 1992-01-08 | 1995-07-11 | Connolly; Joseph W. | Color detection and separation method |
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