JPS6350459A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS6350459A JPS6350459A JP61192598A JP19259886A JPS6350459A JP S6350459 A JPS6350459 A JP S6350459A JP 61192598 A JP61192598 A JP 61192598A JP 19259886 A JP19259886 A JP 19259886A JP S6350459 A JPS6350459 A JP S6350459A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film thickness
- light
- film
- vapor
- optical fibers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000151 deposition Methods 0.000 title 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 53
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 42
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 18
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 13
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 11
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 76
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 10
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、いわゆる蒸着テープの如き金属薄膜型磁気記
録媒体等を製造する際に使用される真空蒸着装置に関す
るものである。
録媒体等を製造する際に使用される真空蒸着装置に関す
るものである。
本発明は、例えば蒸着テープの製造に用いられる真空蒸
着装置において、 蒸着フィルムに対して平行光を照射する光照射手段と、
前記蒸着フィルムの裏面側の複数の測定点から透過光を
取り出す複数本の光ファイバと、任意の光ファイバを選
択する検出光切換手段とから構成される膜厚検出部によ
って蒸着フィルムに被着される蒸着膜の膜厚を検出する
と同時に、検出された膜厚情弗に応して蒸M源を制御す
るようになし、 蒸着フィルムの膜厚のバラツキを抑制し、生産性の向上
を図ろうとするものである。
着装置において、 蒸着フィルムに対して平行光を照射する光照射手段と、
前記蒸着フィルムの裏面側の複数の測定点から透過光を
取り出す複数本の光ファイバと、任意の光ファイバを選
択する検出光切換手段とから構成される膜厚検出部によ
って蒸着フィルムに被着される蒸着膜の膜厚を検出する
と同時に、検出された膜厚情弗に応して蒸M源を制御す
るようになし、 蒸着フィルムの膜厚のバラツキを抑制し、生産性の向上
を図ろうとするものである。
例えば蒸着テープ製造における蒸着プロセスにおいては
、磁性層となる蒸着膜の膜厚分布を小さくすることが電
磁変換特性等のバラツキを抑制すルトいう観点から重要
な要件となっている。
、磁性層となる蒸着膜の膜厚分布を小さくすることが電
磁変換特性等のバラツキを抑制すルトいう観点から重要
な要件となっている。
したがって、前記弾着テープ等を製造する際に使用され
る1着装置にあっては、精度の高い膜厚測定が必要不可
欠なものとなっており、ベースフィルム上に被着される
蒸着膜の膜厚を膜厚測定装置によって常時監視し、この
測定結果に応じて蒸着装置の設定を調整して前記蒸着膜
の膜厚を制御する必要がある。
る1着装置にあっては、精度の高い膜厚測定が必要不可
欠なものとなっており、ベースフィルム上に被着される
蒸着膜の膜厚を膜厚測定装置によって常時監視し、この
測定結果に応じて蒸着装置の設定を調整して前記蒸着膜
の膜厚を制御する必要がある。
この場合、使用する膜厚測定装置としては、例えば投光
部にLEDを使用し受光部にフォトダイオード若しくは
フォトトランジスタを使用し光学的にそれらを複数組配
置したものや、放射線(X線、α線、β線、遠赤外線)
発生源と検出部とから構成され通常大気中で使用される
放射線膜厚測定装置を大気符に入れて真空装置用に改造
したもの等が考えられる。
部にLEDを使用し受光部にフォトダイオード若しくは
フォトトランジスタを使用し光学的にそれらを複数組配
置したものや、放射線(X線、α線、β線、遠赤外線)
発生源と検出部とから構成され通常大気中で使用される
放射線膜厚測定装置を大気符に入れて真空装置用に改造
したもの等が考えられる。
しかしながら、前者は簡易的な膜厚測定装置で、得られ
る測定値の精度が低いという欠点を有しており、また多
チャンネル化するためには投・受光部の組数を多くしな
ければならず、チャンネル間のバラツキが大きいことか
ら、前述の真空蒸着装置における膜厚測定装置あるいは
膜厚制御用検出部として使用するのは難しい。
る測定値の精度が低いという欠点を有しており、また多
チャンネル化するためには投・受光部の組数を多くしな
ければならず、チャンネル間のバラツキが大きいことか
ら、前述の真空蒸着装置における膜厚測定装置あるいは
膜厚制御用検出部として使用するのは難しい。
一方後者は、放射線発生源と検出部とで構成されるセン
サヘッド部をベースフィルムの幅方向に移動させるもの
が一般的であり、これを真空装置中に設置するには形状
上の制約が大きく、また得られるH原価はバックグラン
ドの影響を受けやすいという欠点がある。さらには、装
置のメンテナンス性が悪いこと、高価であること等の要
因で、真空蒸着装置に使用するには不向きである。
サヘッド部をベースフィルムの幅方向に移動させるもの
が一般的であり、これを真空装置中に設置するには形状
上の制約が大きく、また得られるH原価はバックグラン
ドの影響を受けやすいという欠点がある。さらには、装
置のメンテナンス性が悪いこと、高価であること等の要
因で、真空蒸着装置に使用するには不向きである。
このように、従来の真空蒸着装置では、特に蒸着フィル
ムに被着される蒸着膜の膜厚測定を精度良く行うことが
難しく、結果として精度の高い膜厚制御が難しかった。
ムに被着される蒸着膜の膜厚測定を精度良く行うことが
難しく、結果として精度の高い膜厚制御が難しかった。
そこで本発明は、上述の従来のものの有する欠点を解消
するために提寡されたものであって、ベースフィルムに
被着される蒸着膜の幅方向、あるいは長手方向における
膜厚分布を精度良く把握することが可能で、高精度な膜
厚制御を簡便かつ安価ニ実現し得る真空蒸着装置を提供
することを目的とする。
するために提寡されたものであって、ベースフィルムに
被着される蒸着膜の幅方向、あるいは長手方向における
膜厚分布を精度良く把握することが可能で、高精度な膜
厚制御を簡便かつ安価ニ実現し得る真空蒸着装置を提供
することを目的とする。
上述の目的を達成するために、本発明の真空蒸着装置は
、蒸着フィルムに対して平行光を照射する光照射手段と
、前記蒸着フィルムの裏面側の複数の測定点から透過光
を取り出す複数本の光ファイバと、任意の光ファイバを
選択する検出光切換手段とを存し、前記光ファイバの光
路を切り換えて蒸着フィルムの任意の測定点の透過光強
度を測定し蒸着膜の膜厚を検出する膜厚検出部と、前記
膜厚検出部からの検出信号に応じて出力が制御される蒸
着源とを備えたことを特徴としている。
、蒸着フィルムに対して平行光を照射する光照射手段と
、前記蒸着フィルムの裏面側の複数の測定点から透過光
を取り出す複数本の光ファイバと、任意の光ファイバを
選択する検出光切換手段とを存し、前記光ファイバの光
路を切り換えて蒸着フィルムの任意の測定点の透過光強
度を測定し蒸着膜の膜厚を検出する膜厚検出部と、前記
膜厚検出部からの検出信号に応じて出力が制御される蒸
着源とを備えたことを特徴としている。
本発明の真空蒸着装置の膜厚検出部において、蒸着フィ
ルムに照射された平行光は、当該蒸着フィルムを透過し
、この蒸着フィルムの裏面側に配設された複数本の光フ
ァイバにより複数の測定点から同時に取り出され、透過
光強度に応じて膜厚値に換算される。また、゛検出光切
換手段により光ファイバを切り換えることにより、蒸着
フィルムの幅方向の任意の測定点における膜厚を瞬時に
求めることができる。
ルムに照射された平行光は、当該蒸着フィルムを透過し
、この蒸着フィルムの裏面側に配設された複数本の光フ
ァイバにより複数の測定点から同時に取り出され、透過
光強度に応じて膜厚値に換算される。また、゛検出光切
換手段により光ファイバを切り換えることにより、蒸着
フィルムの幅方向の任意の測定点における膜厚を瞬時に
求めることができる。
上記膜厚検出部で得られた膜厚値は、蒸着源の加熱手段
にフィードバックされ、例えば電子ビーム加熱の蒸着装
置では、電子ビームの出力や走査等が膜厚値に応じて制
御され、長手方向及び幅方向での厚み分布の小さな均質
な蒸着テープが製造される。
にフィードバックされ、例えば電子ビーム加熱の蒸着装
置では、電子ビームの出力や走査等が膜厚値に応じて制
御され、長手方向及び幅方向での厚み分布の小さな均質
な蒸着テープが製造される。
以下、本発明を適用した真空蒸着装置の具体的な実施例
について、図面を参照しながら説明する。
について、図面を参照しながら説明する。
本実施例の真空蒸着装置は、第1図に示すように、真空
チャンバ(1)の第1の真空室(IA)内に巻出しロー
ル(3)1巻取りロール(4)及び冷却ロール(5)を
配置するとともに、第2の真空室(IB)内には電子銃
(7)より発射される電子ビームEBにより加熱され溶
融して金属原子を蒸発する蒸発a(6)を設置すること
により構成されるものである・したがって、上記巻出し
ロール(3)より供給されるベースフィルム(2A)に
は、冷却ロール(5)に巻き付けられた時点で蒸発*
(6)がら飛来する蒸発原子(強磁性金属材料)が被着
し、磁性層となる蒸着膜が形成されて蒸着テープ(2B
)として巻取りロール(4)に巻き取られるようになっ
ている。
チャンバ(1)の第1の真空室(IA)内に巻出しロー
ル(3)1巻取りロール(4)及び冷却ロール(5)を
配置するとともに、第2の真空室(IB)内には電子銃
(7)より発射される電子ビームEBにより加熱され溶
融して金属原子を蒸発する蒸発a(6)を設置すること
により構成されるものである・したがって、上記巻出し
ロール(3)より供給されるベースフィルム(2A)に
は、冷却ロール(5)に巻き付けられた時点で蒸発*
(6)がら飛来する蒸発原子(強磁性金属材料)が被着
し、磁性層となる蒸着膜が形成されて蒸着テープ(2B
)として巻取りロール(4)に巻き取られるようになっ
ている。
なお、上記蒸着源(6)は、電子銃(7)の電流を定電
流に制御することによって常に一定の蒸発原子を供給す
るようにされており、また電子ビームを走査コイル(8
)によってベースフィルム(2A)の幅方向に走査しで
ある程度幅を有する被蒸着物に対処するようになってい
る。
流に制御することによって常に一定の蒸発原子を供給す
るようにされており、また電子ビームを走査コイル(8
)によってベースフィルム(2A)の幅方向に走査しで
ある程度幅を有する被蒸着物に対処するようになってい
る。
そして、本実施例の真空蒸着装置では、冷却ロール(5
)から巻取りロール(4)に至るまでの中間地点に膜I
y、検出部(10)が設けられ、蒸着テープ(2B)に
被着された蒸着膜の膜厚を検出し、この測定値に応じて
電子銃(7)の出力や電子ビームを走査する走査コイル
(8)を制御して蒸着膜の膜厚分布を抑制するようにな
されている。
)から巻取りロール(4)に至るまでの中間地点に膜I
y、検出部(10)が設けられ、蒸着テープ(2B)に
被着された蒸着膜の膜厚を検出し、この測定値に応じて
電子銃(7)の出力や電子ビームを走査する走査コイル
(8)を制御して蒸着膜の膜厚分布を抑制するようにな
されている。
上記膜厚検出部(10)は、第2図に示すように、光源
やコリメータレンズ等を内蔵した光分岐結合器(11)
及び平行光照射側光ファイバ(13)からなる平行光照
射部と、被測定物である蒸着テープ(2B)の裏面側か
ら透過光を取り出す複数の光ファイバ(15)、前記光
ファイバ(15)のうち任意の光ファイバを選択する検
出光切換器(17)、さらには光検出センサや増幅器を
内蔵した計測制御部(18)等からなる透過光強度検出
部から構成される。
やコリメータレンズ等を内蔵した光分岐結合器(11)
及び平行光照射側光ファイバ(13)からなる平行光照
射部と、被測定物である蒸着テープ(2B)の裏面側か
ら透過光を取り出す複数の光ファイバ(15)、前記光
ファイバ(15)のうち任意の光ファイバを選択する検
出光切換器(17)、さらには光検出センサや増幅器を
内蔵した計測制御部(18)等からなる透過光強度検出
部から構成される。
上記平行光照射部では、光源から照射される光がコリメ
ーターレンズを介して平行光に変換され、光分岐結合器
(11)で各光ファイバ(13a) 、 (13b)
、 (13c) 、 (13d) 、 (13e)に略
等しい光量で分配され、光導入フランジ(12)を介し
て真空チャンバ(1)内へ送り込まれる。ここで光源は
、フィードバック光路系を介して光源用電力制御部に接
続され、常に一定の光強度となるように制御されている
。
ーターレンズを介して平行光に変換され、光分岐結合器
(11)で各光ファイバ(13a) 、 (13b)
、 (13c) 、 (13d) 、 (13e)に略
等しい光量で分配され、光導入フランジ(12)を介し
て真空チャンバ(1)内へ送り込まれる。ここで光源は
、フィードバック光路系を介して光源用電力制御部に接
続され、常に一定の光強度となるように制御されている
。
また、上記照射側の光ファイバ(13a) 、 (13
b) 、 (13c) 、 (13d) 、 (13e
) と、透過光を取り出す光ファイバ(15a) 、
(15b) 、 (15c) 、 (15d) 、 (
15e)は、それぞれ被測定物である蒸着テープ(2B
)を挟んで対向する位置で光軸が一致するように支持部
材(14)により固定されている。ここで、例えば光フ
ァイバ(13a)から照射される光が裏面側の光ファイ
バ(15a)に導入されるように各光ファイバ(13a
) 、 (13b) 、 (13c) 。
b) 、 (13c) 、 (13d) 、 (13e
) と、透過光を取り出す光ファイバ(15a) 、
(15b) 、 (15c) 、 (15d) 、 (
15e)は、それぞれ被測定物である蒸着テープ(2B
)を挟んで対向する位置で光軸が一致するように支持部
材(14)により固定されている。ここで、例えば光フ
ァイバ(13a)から照射される光が裏面側の光ファイ
バ(15a)に導入されるように各光ファイバ(13a
) 、 (13b) 、 (13c) 。
(13d)、 (13e)、 (15a)、 (15b
)、 (15c)、 (15d)、 (15e)は正確
に位置合わせされ、蒸着テープ(2B)の幅方向に配列
される。したがって、各光ファイバは対になって膜厚検
出部を構成することになり、光ファイバ(13a) 、
(13b) 、 (13c) 、 (13d) 、
(13e)は検出光の投光部としての、光ファイバ(1
5a) 、 (15b) 、 (15c) 。
)、 (15c)、 (15d)、 (15e)は正確
に位置合わせされ、蒸着テープ(2B)の幅方向に配列
される。したがって、各光ファイバは対になって膜厚検
出部を構成することになり、光ファイバ(13a) 、
(13b) 、 (13c) 、 (13d) 、
(13e)は検出光の投光部としての、光ファイバ(1
5a) 、 (15b) 、 (15c) 。
(15d) 、 (15e)は検出光の受光部としての
役割を果たすことになる。なお、これら光ファイバ(1
3a) 。
役割を果たすことになる。なお、これら光ファイバ(1
3a) 。
(13b) 、 (13c) 、 (13d) 、 (
13e)あるいは光ファイバ(15a) 、 (15b
) 、 (15c) 、 (15d) 、 (15e)
の数は、本実施例では5&tlとしているが、これに限
定されるものではなく、適宜変更すればよい。
13e)あるいは光ファイバ(15a) 、 (15b
) 、 (15c) 、 (15d) 、 (15e)
の数は、本実施例では5&tlとしているが、これに限
定されるものではなく、適宜変更すればよい。
一方、測定点を選択するために光ファイバ(15a)
。
。
(15b) 、 (15c) 、 (15d) 、 (
15e)のうちの任意の光ファイバと透過光強度検出部
とを接続する検出光切換器(17)としては、例えば第
3図に示すように、各光ファイバ(15a) 、 (1
5b) 、 (15c) 、 (15d) 、 (15
e)を固定するステータ部(31)と、このステータ部
(31)と対向配置され回動自在に取り付けられるロー
タ部(32)とから構成したもの等が考えられる。
15e)のうちの任意の光ファイバと透過光強度検出部
とを接続する検出光切換器(17)としては、例えば第
3図に示すように、各光ファイバ(15a) 、 (1
5b) 、 (15c) 、 (15d) 、 (15
e)を固定するステータ部(31)と、このステータ部
(31)と対向配置され回動自在に取り付けられるロー
タ部(32)とから構成したもの等が考えられる。
すなわち、各光ファイバ(15a) 、 (15b)
、 (15c) 、 (15d) 、 (15e)は、
第4図に示すように、円板状のステータ部(31)の周
方向に沿って等角度間隔でこのステータ部(31)を貫
通して固定される。したがって、ステータ部(31)の
−側面(31a)には、各光ファイバ(15a) 、
(15b) 、 (15c) 、 (15d) 、 (
15e)の端面が露出することになる。
、 (15c) 、 (15d) 、 (15e)は、
第4図に示すように、円板状のステータ部(31)の周
方向に沿って等角度間隔でこのステータ部(31)を貫
通して固定される。したがって、ステータ部(31)の
−側面(31a)には、各光ファイバ(15a) 、
(15b) 、 (15c) 、 (15d) 、 (
15e)の端面が露出することになる。
また、上記ロータ部(32)は、上記ステータ部(31
)と対向する円板状の回動機(32a)と、ベアリング
(33) 、 (34)によって回動自在に支持される
円筒状の支持部(32b)とから構成され、上記ステー
ク部(31)に固定される任意の光ファイバ(15a)
、 (15b) 。
)と対向する円板状の回動機(32a)と、ベアリング
(33) 、 (34)によって回動自在に支持される
円筒状の支持部(32b)とから構成され、上記ステー
ク部(31)に固定される任意の光ファイバ(15a)
、 (15b) 。
(15c) 、 (15d) 、 (15e)と透過光
強度検出部に接続される検出部用光ファイバ(36)と
を結合させる接続用光ファイバ(35)が取り付けられ
ている。
強度検出部に接続される検出部用光ファイバ(36)と
を結合させる接続用光ファイバ(35)が取り付けられ
ている。
上記接続用光ファイバ(35)の一端部(35a)は・
第5図に示すように、上記回動機(32a)において前
記ステータ部(31)に固定される各光ファイバ(15
a) 、 (15b) 、 (15c) 、 (15d
) 、 (15e)の固定位置に対応した径を有する円
周上の位置に貫通固定されている。したがって、このロ
ータ部(32)を回動操作することによって、上記接続
用光ファイバ(35)の−端部(35a)の端面がステ
ータ部(31)の光ファイバ(15a) 、 (15b
) 、 (15c) 、 (15d) 、 (15e)
のいずれかと−致するようになる。一方、上記接続用光
ファイバ(35)の他端部(35b)は、上記回動板(
32a)の回動中心に植設される中心軸(32c)に固
定され、上記回動機(32a)が回動操作されたときに
も常に検出部用光ファイバ(36)と結合されるように
なっている。
第5図に示すように、上記回動機(32a)において前
記ステータ部(31)に固定される各光ファイバ(15
a) 、 (15b) 、 (15c) 、 (15d
) 、 (15e)の固定位置に対応した径を有する円
周上の位置に貫通固定されている。したがって、このロ
ータ部(32)を回動操作することによって、上記接続
用光ファイバ(35)の−端部(35a)の端面がステ
ータ部(31)の光ファイバ(15a) 、 (15b
) 、 (15c) 、 (15d) 、 (15e)
のいずれかと−致するようになる。一方、上記接続用光
ファイバ(35)の他端部(35b)は、上記回動板(
32a)の回動中心に植設される中心軸(32c)に固
定され、上記回動機(32a)が回動操作されたときに
も常に検出部用光ファイバ(36)と結合されるように
なっている。
ここで、上記ロータ部(32)は、例えば図示しないス
テッピングモータ等により、前述のステータ部(31)
における光ファイバ(15a) 、 (15b) 、
<15c) 、 (15d) 、 (15e)の配設間
隔に応じて順次回動操作され、この回動操作によって前
記接続用光ファイバ(35)が任意の光ファイバ(15
a) 、 (15b) 、 (15c) 、 (15d
) 、 (15e)と接続される。この場合、例えばロ
ータ部(32)側の回動板(32a)に検出体(37)
を設けたり、ステータ部(31)側に磁気センサ(図示
せず、)を設けておけば、前述の接続用光ファイバ(3
5)と光ファイバ(15a) 、 (15b) 、 (
15c) 、 (15d) 、 (15e)の接続状態
をより正確なものとすることができる。
テッピングモータ等により、前述のステータ部(31)
における光ファイバ(15a) 、 (15b) 、
<15c) 、 (15d) 、 (15e)の配設間
隔に応じて順次回動操作され、この回動操作によって前
記接続用光ファイバ(35)が任意の光ファイバ(15
a) 、 (15b) 、 (15c) 、 (15d
) 、 (15e)と接続される。この場合、例えばロ
ータ部(32)側の回動板(32a)に検出体(37)
を設けたり、ステータ部(31)側に磁気センサ(図示
せず、)を設けておけば、前述の接続用光ファイバ(3
5)と光ファイバ(15a) 、 (15b) 、 (
15c) 、 (15d) 、 (15e)の接続状態
をより正確なものとすることができる。
上述の検出光切換器(17)及び光分岐結合器(11)
は、それぞれ計測制御部(18)を介して制御計算機(
19)に接続されている。
は、それぞれ計測制御部(18)を介して制御計算機(
19)に接続されている。
この制御計算機(19)は、操作・表示部(20)を通
しての所謂マンマシンインターフェイス殿能を有するば
かりでなく、検出光切換器(17)の制御機能。
しての所謂マンマシンインターフェイス殿能を有するば
かりでなく、検出光切換器(17)の制御機能。
電子ビームパワーユニット(21)の制御機能ならびに
電子ビーム走査ユニッ) (22)の制御機能を有する
ものである。さらに、この制御計算1(19)は、イン
テリジェンス機能としての蒸着膜厚データのトレンドプ
リント出力や、リアルタイム蒸着膜厚フィードバック制
御等のマルチタスクリアルタイム処理を実行可能となっ
ている。
電子ビーム走査ユニッ) (22)の制御機能を有する
ものである。さらに、この制御計算1(19)は、イン
テリジェンス機能としての蒸着膜厚データのトレンドプ
リント出力や、リアルタイム蒸着膜厚フィードバック制
御等のマルチタスクリアルタイム処理を実行可能となっ
ている。
したがって、上記検出光切換器(17)においては、制
御計算機(19)からの検出光切換信号によって唯一の
検出光路、すなわち光ファイバ(15a) 、 (15
b) 。
御計算機(19)からの検出光切換信号によって唯一の
検出光路、すなわち光ファイバ(15a) 、 (15
b) 。
(15c) 、 (15d) 、 (15e)のいずれ
かを選択し、任意の測定点における定点測定や蒸着テー
プ(2B)の幅方向に対し光学的にトラバースする広幅
測定等が可能となる。
かを選択し、任意の測定点における定点測定や蒸着テー
プ(2B)の幅方向に対し光学的にトラバースする広幅
測定等が可能となる。
次に上記膜厚検出部(10)及び制御機能を存する真空
蒸着装置における膜厚測定機構ならびに膜厚制御機構を
説明する。
蒸着装置における膜厚測定機構ならびに膜厚制御機構を
説明する。
先ず、真空蒸着装置の稼働時には、上述の構成の膜厚検
出部(10)において、光aによって放射される光束が
コリメータレンズにより平行光となり、光分岐結合器(
11)を通して各光ファイバ(13a) 、 (13b
) 、 (13c) 、 (13d) 、 (13e)
へ供給され、支持部材(14)で固定された光フプイハ
(13a) 、 (13b) 、 (13c) 、 (
13d) 、 (13e)の先端部分から被測定物であ
る蒸着テープ(2A)へ照射される。
出部(10)において、光aによって放射される光束が
コリメータレンズにより平行光となり、光分岐結合器(
11)を通して各光ファイバ(13a) 、 (13b
) 、 (13c) 、 (13d) 、 (13e)
へ供給され、支持部材(14)で固定された光フプイハ
(13a) 、 (13b) 、 (13c) 、 (
13d) 、 (13e)の先端部分から被測定物であ
る蒸着テープ(2A)へ照射される。
そして、上記蒸着テープ(2A)を透過した光は、光軸
が一敗するように固定されている光ファイバ(15a)
、 (15b) 、 (15c) 、 (15d)
、 (15e)の先端部分に導入され、検出光切換器(
17)へと進む。
が一敗するように固定されている光ファイバ(15a)
、 (15b) 、 (15c) 、 (15d)
、 (15e)の先端部分に導入され、検出光切換器(
17)へと進む。
検出光切換器(17)は、制御計算a(19)からの電
気信号により唯一つの光ファイバ、例えば光ファイバ(
15aンを選択する。
気信号により唯一つの光ファイバ、例えば光ファイバ(
15aンを選択する。
そこで、選択された光ファイバ(15a)からの検出光
は、光学フィルタを通り抜けた後、光検出センサに到達
し透過光強度に応じた電気信号に変換される。なお、上
記光学フィルタは、被測定物の吸光特性や光源からの照
射光の波長等に応して適宜選択すればよく、場合によっ
ては無くともよい。
は、光学フィルタを通り抜けた後、光検出センサに到達
し透過光強度に応じた電気信号に変換される。なお、上
記光学フィルタは、被測定物の吸光特性や光源からの照
射光の波長等に応して適宜選択すればよく、場合によっ
ては無くともよい。
光検出センサで変換された電気信号は、増幅器により所
定のレベルに増幅され、計測制御部(18)に入力され
て、演算処理後所要の値(すなわち膜厚値)に加工され
、制御計算1 (19)に送られる。このとき必要があ
れば、得られた膜厚値は、装置を操作するスイッチ類や
表示器等を備えた操作・表承部(21)に表示される。
定のレベルに増幅され、計測制御部(18)に入力され
て、演算処理後所要の値(すなわち膜厚値)に加工され
、制御計算1 (19)に送られる。このとき必要があ
れば、得られた膜厚値は、装置を操作するスイッチ類や
表示器等を備えた操作・表承部(21)に表示される。
上記膜厚検出部(10)で検出された膜厚測定結果が制
御計算機(19)に送られると、薄着膜の膜厚の長手方
向分布に応じて電子ビームパワーユニット(21)が当
該計算機(19)によって制御され、電子銃(7)の電
流が制御されて得られる蒸着テープ(2B)の膜厚が常
に一定の膜厚となるように制御される。
御計算機(19)に送られると、薄着膜の膜厚の長手方
向分布に応じて電子ビームパワーユニット(21)が当
該計算機(19)によって制御され、電子銃(7)の電
流が制御されて得られる蒸着テープ(2B)の膜厚が常
に一定の膜厚となるように制御される。
同様に、制御計算機(19)が蒸着テープ(2B)の幅
方向での膜厚のバラツキをキャッチすると、制御計算機
(19)は電子ビーム走査ユニッ) (22)を制御し
、電子ビームEBの走査状態をコントロールしてこの膜
厚のバラツキを解消するように作動する。
方向での膜厚のバラツキをキャッチすると、制御計算機
(19)は電子ビーム走査ユニッ) (22)を制御し
、電子ビームEBの走査状態をコントロールしてこの膜
厚のバラツキを解消するように作動する。
したがって、本実施例の真空蒸着装置によれば、長手方
向ならびに幅方向での蒸着膜の膜厚分布の小さな蒸着テ
ープ(2A)が得られる。
向ならびに幅方向での蒸着膜の膜厚分布の小さな蒸着テ
ープ(2A)が得られる。
以上の説明からも明らかなように、本発明の真空蒸着装
置では、多チャンネル化した光ファイバを真空チャンバ
内へ導入して1着膜の膜厚を検出するとともに、この膜
厚情報に応じて茎発源を制御するようにしているので、
蒸着プロセスの大きな課題であった膜厚分布保証が確立
され、長手方向1幅方向に亘って厚み分布の少ない蒸着
フィルムを生産性良く製造することが可能である。
置では、多チャンネル化した光ファイバを真空チャンバ
内へ導入して1着膜の膜厚を検出するとともに、この膜
厚情報に応じて茎発源を制御するようにしているので、
蒸着プロセスの大きな課題であった膜厚分布保証が確立
され、長手方向1幅方向に亘って厚み分布の少ない蒸着
フィルムを生産性良く製造することが可能である。
また、本発明の真空蒸着装置は、真空チャンバ内に全く
機械的移動機構を持たないため、メンテナンス性に極め
て優れ、装置を比較的安価に提供できる等の特徴を有す
る。
機械的移動機構を持たないため、メンテナンス性に極め
て優れ、装置を比較的安価に提供できる等の特徴を有す
る。
第1図は本発明を適用した真空蒸着装置の構成例を示す
構成図であり、第2図は膜厚検出部の構成を示す構成図
である。 第3図は検出光切換器の一例を示す断面図であり、第4
図は前記検出光切換器のステータ部の正面図、第5図は
検出光切換器のロータ部の正面図である。 1・・・・真空チャンバ 2B・・・蒸着テープ 6、・・・・蒸発源 7・・・・電子銃 10・・・膜厚検出部 13.15・・・光ファイバ 17・・・検出光切換器
構成図であり、第2図は膜厚検出部の構成を示す構成図
である。 第3図は検出光切換器の一例を示す断面図であり、第4
図は前記検出光切換器のステータ部の正面図、第5図は
検出光切換器のロータ部の正面図である。 1・・・・真空チャンバ 2B・・・蒸着テープ 6、・・・・蒸発源 7・・・・電子銃 10・・・膜厚検出部 13.15・・・光ファイバ 17・・・検出光切換器
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 蒸着フィルムに対して平行光を照射する光照射手段と、
前記蒸着フィルムの裏面側の複数の測定点から透過光を
取り出す複数本の光ファイバと、任意の光ファイバを選
択する検出光切換手段とを有し、前記光ファイバの光路
を切り換えて蒸着フィルムの任意の測定点の透過光強度
を測定し蒸着膜の膜厚を検出する膜厚検出部と、 前記膜厚検出部からの検出信号に応じて出力が制御され
る蒸着源とを備えたことを特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61192598A JPS6350459A (ja) | 1986-08-18 | 1986-08-18 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61192598A JPS6350459A (ja) | 1986-08-18 | 1986-08-18 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6350459A true JPS6350459A (ja) | 1988-03-03 |
Family
ID=16293929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61192598A Pending JPS6350459A (ja) | 1986-08-18 | 1986-08-18 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6350459A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02305959A (ja) * | 1989-05-22 | 1990-12-19 | Sato Seigyo Kk | イオンプレーティング方法及び装置 |
JP2006070291A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Hoya Corp | レンズ製造方法及びプログラム |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58100108U (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-07 | 富士重工業株式会社 | 自動車用ドア閉作動時の換気構造 |
-
1986
- 1986-08-18 JP JP61192598A patent/JPS6350459A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58100108U (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-07 | 富士重工業株式会社 | 自動車用ドア閉作動時の換気構造 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02305959A (ja) * | 1989-05-22 | 1990-12-19 | Sato Seigyo Kk | イオンプレーティング方法及び装置 |
JP2006070291A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Hoya Corp | レンズ製造方法及びプログラム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4480914A (en) | Vibration compensating interferometer mirror drive system | |
JP2874280B2 (ja) | 周縁露光装置及び周縁露光方法 | |
EP0448362B1 (en) | Mirror rotation angle detection mechanism | |
JPS5844961B2 (ja) | 膜厚制御または監視装置 | |
US2963910A (en) | Electrical signal offsetting apparatus | |
CA1082486A (en) | Arrangement and photometer for measuring and controlling the thickness of optically active thin layers | |
US4390897A (en) | Technique for automatically centering a lightguide fiber in a coating | |
US4099055A (en) | Scanning transmission electron microscope | |
JPS6350459A (ja) | 真空蒸着装置 | |
US3773548A (en) | Method of monitoring the rate of depositing a coating solely by its optical properties | |
CN104296670A (zh) | 多光束光学厚膜监测仪 | |
CN105333829A (zh) | 一种化纤卷绕丝卷直径检测方法 | |
JPH08329870A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP3306394B2 (ja) | 膜厚測定装置および膜厚測定方法 | |
US20030147084A1 (en) | Apparatus for devices for determining properties of applied layers | |
US5889586A (en) | System of photodetection and associated process for analyzing a luminous flux | |
JP2768337B2 (ja) | 光軸調整装置及び光軸調整方法 | |
JPS621230Y2 (ja) | ||
JP2659320B2 (ja) | 電子線露光装置 | |
US3222526A (en) | Photosensitive light beam location information device | |
JPH11352054A (ja) | エリプソメトリ装置 | |
JPH08248141A (ja) | スピン検出器 | |
JPS6414733A (en) | Optical head | |
JPH10104073A (ja) | プラズマ測定装置 | |
US2590693A (en) | Reference signal generator for flickering beam photometers |