JPS63301232A - 低摩擦係数の表面を有するゴム製品の製造方法 - Google Patents
低摩擦係数の表面を有するゴム製品の製造方法Info
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- JPS63301232A JPS63301232A JP13838987A JP13838987A JPS63301232A JP S63301232 A JPS63301232 A JP S63301232A JP 13838987 A JP13838987 A JP 13838987A JP 13838987 A JP13838987 A JP 13838987A JP S63301232 A JPS63301232 A JP S63301232A
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Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【発明の利用分野〕
本発明は 低摩擦係数を示す表面を有するゴム製品の製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
有機高分子材料の表面改質の方法には 大別して化学的
方法及び物理的方法の２つがあるが、化学的方法には
種々の薬品により被処理材料の表面に官能基を導入した
り、エツチングなどにより被処理材料の表面を粗面化し
たり、シランカップリング剤のような各種のカップリン
グ剤により被処理材料の表面を変性したり、あるいは被
処理材料の表面に重合性モノマーを塗布した後、これを
重合することによる被処理材料とは異なる高分子層を生
成させることなどがある。物理的方法としては 被処理
材料に紫外線や放射線を照射して該表面の分子を架橋さ
せたり、被処理材料にコロナ放電あるいはグロー放電を
通用してその表面層を変性させることなどがある。
方法及び物理的方法の２つがあるが、化学的方法には
種々の薬品により被処理材料の表面に官能基を導入した
り、エツチングなどにより被処理材料の表面を粗面化し
たり、シランカップリング剤のような各種のカップリン
グ剤により被処理材料の表面を変性したり、あるいは被
処理材料の表面に重合性モノマーを塗布した後、これを
重合することによる被処理材料とは異なる高分子層を生
成させることなどがある。物理的方法としては 被処理
材料に紫外線や放射線を照射して該表面の分子を架橋さ
せたり、被処理材料にコロナ放電あるいはグロー放電を
通用してその表面層を変性させることなどがある。
上記の従来技術をゴム製品表面を改質して低摩擦係数化
することに利用する場合、改質処理した表面の良好な均
質性、改質処理した表面と基材との強固な密着性、改質
処理後の表面の特性の長期間安定性、改質処理のプロセ
スの簡便性などのすべての点にわたって満足できる方法
は 未だ知られていない。
することに利用する場合、改質処理した表面の良好な均
質性、改質処理した表面と基材との強固な密着性、改質
処理後の表面の特性の長期間安定性、改質処理のプロセ
スの簡便性などのすべての点にわたって満足できる方法
は 未だ知られていない。
〔発明が解決しようとする問題点］
しかし上記の各種の方法のうち グロー放電法、すなわ
ち低温プラズマ法には上述の諸要求を満足する可能性が
ある。この低温プラズマ法によるゴム製品の表面の低摩
擦係数化のためには 処理ガスの選択とそのガスに適合
する処理条件を見出さねばならなかった。
ち低温プラズマ法には上述の諸要求を満足する可能性が
ある。この低温プラズマ法によるゴム製品の表面の低摩
擦係数化のためには 処理ガスの選択とそのガスに適合
する処理条件を見出さねばならなかった。
〔問題点を解決するための手段及び作用］本発明は 上
述した従来技術における問題点を解決するため為された
ものであって、ゴム製成形品の表面に低温プラズマ処理
を施すことを特徴とする低摩擦係数の表面を有するゴム
製品の製造方法であり、特に該低温プラズマ処理におい
て使用される処理ガスは 含弗素有機ガスあるいは含弗
素無機ガスであり、さらに該低温プラズマ処理を施した
後、該ゴム製品を含弗素有機ガスあるいは含弗素無機ガ
ス中にて暫時放置して処理表面の安定化をはかることを
特徴とする低摩擦係数の表面を存するゴム製品の製造方
法である。
述した従来技術における問題点を解決するため為された
ものであって、ゴム製成形品の表面に低温プラズマ処理
を施すことを特徴とする低摩擦係数の表面を有するゴム
製品の製造方法であり、特に該低温プラズマ処理におい
て使用される処理ガスは 含弗素有機ガスあるいは含弗
素無機ガスであり、さらに該低温プラズマ処理を施した
後、該ゴム製品を含弗素有機ガスあるいは含弗素無機ガ
ス中にて暫時放置して処理表面の安定化をはかることを
特徴とする低摩擦係数の表面を存するゴム製品の製造方
法である。
本発明におけるゴム製品の基材であるゴムとしては 天
然ゴム、クロロプレンゴム、エチレン−プロピレンゴム
、ニトリルゴム、ブチルゴム、スチレンブタジェンゴム
、ブタジェンゴム、アクリルゴム、クロロスルホン化ポ
リエチレンゴム、塩素化ポリエチレンゴム、シリコーン
ゴム、エピクロルヒドリンゴム、合成イソプレンゴムな
どの各種のゴムがある。これらのゴムには 必要に応じ
て各種の配合剤が添加されていてもよく、また２種以上
のゴムがブレンドされていてもよい。
然ゴム、クロロプレンゴム、エチレン−プロピレンゴム
、ニトリルゴム、ブチルゴム、スチレンブタジェンゴム
、ブタジェンゴム、アクリルゴム、クロロスルホン化ポ
リエチレンゴム、塩素化ポリエチレンゴム、シリコーン
ゴム、エピクロルヒドリンゴム、合成イソプレンゴムな
どの各種のゴムがある。これらのゴムには 必要に応じ
て各種の配合剤が添加されていてもよく、また２種以上
のゴムがブレンドされていてもよい。
また低温プラズマ処理に用いられる含弗素ガスとしては
四弗化メタン、二弗化エタン、四弗化エチレンなどの
有機ガス、及び六弗化硫黄、三弗化窒素、四弗化珪素な
どの無機ガスがある。これらのガスを単独であるいは混
合して用いられる。
四弗化メタン、二弗化エタン、四弗化エチレンなどの
有機ガス、及び六弗化硫黄、三弗化窒素、四弗化珪素な
どの無機ガスがある。これらのガスを単独であるいは混
合して用いられる。
後処理用のガスとしては低温プラズマ処理に用いられる
ものと同じでよく、特に限定されない。
ものと同じでよく、特に限定されない。
次に本発明の方法を実施例により具体的に説明する。
まずシート状ウレタンゴムを低温プラズマ処理用反応容
器中に置き、器内に三弗化窒素ガスを毎分２０ｍｌの流
量で流しながら、圧力０．５Ｔｏｒｒで周波数１３．５
６ Ｍ Ｈｚの高周波を用い、５０Ｗの電力で低温プラ
ズマを発生させ、試料に照射した。
器中に置き、器内に三弗化窒素ガスを毎分２０ｍｌの流
量で流しながら、圧力０．５Ｔｏｒｒで周波数１３．５
６ Ｍ Ｈｚの高周波を用い、５０Ｗの電力で低温プラ
ズマを発生させ、試料に照射した。
一定時間経過した後、低温プラズマを停止させ、かつ反
応容器を密閉状態に保持したまま、三弗化窒素ガスのガ
ス圧を６００Ｔｏｒｒまで上げて暫時放置した。その後
、試料を器外へ取り出した。
応容器を密閉状態に保持したまま、三弗化窒素ガスのガ
ス圧を６００Ｔｏｒｒまで上げて暫時放置した。その後
、試料を器外へ取り出した。
処理された試料の処理面と平滑なテフロン面との静摩擦
係数、及び未処理面と同じテフロン面との静摩擦係数と
を測定し、両者の差（減少Ｉ）を”静摩擦係数の低下率
（％）”として算出した。
係数、及び未処理面と同じテフロン面との静摩擦係数と
を測定し、両者の差（減少Ｉ）を”静摩擦係数の低下率
（％）”として算出した。
この場合、低温プラズマ処理時間とそれに続く後処理時
間を各々変えた試料について、及び試料を器外に取り出
した直後と、１０日間空気中に放置した後との両方の場
合について測定を行った。
間を各々変えた試料について、及び試料を器外に取り出
した直後と、１０日間空気中に放置した後との両方の場
合について測定を行った。
得られた結果は 第１表（初期）及び第２表（１０日間
放置後）に記載されている通りである。
放置後）に記載されている通りである。
第 １ 表
第 ２ 表
第１表に示されている結果から明らかなように、後処理
時間に関係なく、低温プラズマ処理時間が長くなるにつ
れて、静摩擦係数も減少するが、１０分間ですでに最低
値に達していることが分る。また空気中に取り出した直
後（初期）の試料では 後処理時間の効果は 認められ
なかったが、第２表に示されているように、空気中に１
０日間放置した試料では 後処理時間の短い場合は長い
場合と比較して静摩擦係数の減少量が小さく、１００分
以上の場合はその違いは認められなかった。
時間に関係なく、低温プラズマ処理時間が長くなるにつ
れて、静摩擦係数も減少するが、１０分間ですでに最低
値に達していることが分る。また空気中に取り出した直
後（初期）の試料では 後処理時間の効果は 認められ
なかったが、第２表に示されているように、空気中に１
０日間放置した試料では 後処理時間の短い場合は長い
場合と比較して静摩擦係数の減少量が小さく、１００分
以上の場合はその違いは認められなかった。
以上の結果より 後処理時間を１００分間にして低温プ
ラズマ処理時間を変えることにより静Ｆｊ擦係数が未処
理のものと比較して最大４０％減少した値をもつウレタ
ンゴムを作成することができた。
ラズマ処理時間を変えることにより静Ｆｊ擦係数が未処
理のものと比較して最大４０％減少した値をもつウレタ
ンゴムを作成することができた。
〔発明の効果］
本発明によれば 含弗素ガスを用いての低温プラズマ処
理とそれに続く後処理によって均質でかつ安定性の高い
低摩擦係数をもつ表面層を有するゴム製品を製造するこ
とができ、本発明は 工業上きわめて有用な発明である
。
理とそれに続く後処理によって均質でかつ安定性の高い
低摩擦係数をもつ表面層を有するゴム製品を製造するこ
とができ、本発明は 工業上きわめて有用な発明である
。
Claims (3)
- （１）ゴム製成形品の表面に低温プラズマ処理を施すこ
とを特徴とする低摩擦係数の表面を有するゴム製品の製
造方法。 - （２）該低温プラズマ処理において使用される処理ガス
は含弗素有機ガスあるいは含弗素無機ガスであることを
特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の低摩擦係数の
表面を有するゴム製品の製造方法。 - （３）該低温プラズマ処理を施した後、該ゴム製品を含
弗素有機ガスあるいは含弗素無機ガス中にて暫時放置し
て処理表面の安定化をはかることを特徴とする特許請求
の範囲第１項に記載の低摩擦係数の表面を有するゴム製
品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13838987A JPS63301232A (ja) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | 低摩擦係数の表面を有するゴム製品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13838987A JPS63301232A (ja) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | 低摩擦係数の表面を有するゴム製品の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63301232A true JPS63301232A (ja) | 1988-12-08 |
Family
ID=15220799
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13838987A Pending JPS63301232A (ja) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | 低摩擦係数の表面を有するゴム製品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63301232A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04209633A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-31 | Fukui Pref Gov | 非粘着性シリコンゴム材料およびその製造法 |
| ITMI20110538A1 (it) * | 2011-03-31 | 2012-10-01 | Novotema Spa | Metodo per la modulazione del coefficiente di attrito di un pezzo in gomma |
-
1987
- 1987-06-02 JP JP13838987A patent/JPS63301232A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04209633A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-31 | Fukui Pref Gov | 非粘着性シリコンゴム材料およびその製造法 |
| ITMI20110538A1 (it) * | 2011-03-31 | 2012-10-01 | Novotema Spa | Metodo per la modulazione del coefficiente di attrito di un pezzo in gomma |
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