JPS63298304A - Transmission type liquid crystal color display device and its production - Google Patents
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Landscapes
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- Optical Filters (AREA)
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- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液晶を用いた表示装置に関するものであり、
特に透過型液晶カラー表示装置及びその製造方法に関す
るものである。[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a display device using liquid crystal,
In particular, the present invention relates to a transmission type liquid crystal color display device and a manufacturing method thereof.
液晶表示装置は、微少電流で駆動できるため、腕時計な
どの携帯用ディスプレーには最も有用な方式であるが、
その働きは、光透過率をコントロールするシャッター作
用であり、自己発色型ディスプレーのような高いコント
ラストを得ることができない。これに対して液晶テレビ
は、バック照明方式（透過型）により、必要な光量とコ
ントラストを得ている。この方式は、光量が自由に選べ
ることとフィルターの選択により所望の色相を得ること
が容易で有るという特長があり、商用電源やカーバッテ
リーが使用できる分野゛のディスプレーに適している。Liquid crystal display devices are the most useful method for portable displays such as wristwatches because they can be driven with minute currents.
Its function is a shutter action that controls light transmittance, and it is not possible to obtain the high contrast of self-coloring displays. On the other hand, LCD TVs use a back lighting method (transmissive type) to obtain the necessary amount of light and contrast. This method has the advantage that the amount of light can be freely selected and that it is easy to obtain a desired hue by selecting a filter, and is suitable for displays in fields where commercial power sources or car batteries can be used.
しかし、液晶自身の遮光能力は不十分なので照明光が強
いとバックグラウンドが明るくなり、十分なコントラス
トを得ることが出来ない。これを解決する方法として、
バックグラウンドの遮光用マスクに金属あるいは金属酸
化物の蒸着膜、オフセット印刷あるいはスクリーン印刷
による黒色インキ膜などを用いてコントラストを改善す
る方法が知られている。However, the light-shielding ability of the liquid crystal itself is insufficient, so if the illumination light is strong, the background becomes bright and sufficient contrast cannot be obtained. As a way to solve this,
A method of improving contrast is known by using a vapor-deposited film of metal or metal oxide, a black ink film by offset printing or screen printing, etc. as a background light-shielding mask.
一方、カラーパターンを表示する方法として液晶表示装
置の表面または裏面に光透過性着色層を形成し、該光透
過性の着色層を通過する光線が、該光透過性着色層によ
りカラーパターンを形成するような構造が実用化されて
いる。On the other hand, as a method for displaying a color pattern, a light-transmissive colored layer is formed on the front or back surface of a liquid crystal display device, and light rays passing through the light-transmissive colored layer form a color pattern by the light-transmissive colored layer. A structure that does this has been put into practical use.
しかしながら、上記の方法では、カラー表示に際し、高
いコントラストが得られないといった問題があった。However, the above method has a problem in that high contrast cannot be obtained during color display.
本発明は、高いコントラストが得られる新規な液晶カラ
ー表示装置を提供することを目的とする。An object of the present invention is to provide a novel liquid crystal color display device that provides high contrast.
又、本発明は、同一平面上に入り組んで隣接する光不透
過性膜（遮光層）と光透過性着色膜を全く位置ずれなく
形成したすぐれた透過型液晶カラー表示装置の製造方法
を提供することを目的とする。Furthermore, the present invention provides an excellent method for manufacturing a transmissive liquid crystal color display device in which a light-opaque film (light-shielding layer) and a light-transmissive colored film are formed on the same plane in a complicated manner and are adjacent to each other without any misalignment. The purpose is to
本発明は、透過型液晶表示装置の内部に光透過性着色層
と遮光層とからなるカラー表示層を設けると新規なカラ
ー表示装置が得られること、及び該光透過型着色層を形
成するのに染料又は顔料を含有するネガ型感光性組成物
を用いると該カラー表示装置を効率よく製造できるとの
知見に基づいてなされたのである。The present invention provides that a new color display device can be obtained by providing a color display layer consisting of a light-transmissive colored layer and a light-shielding layer inside a transmissive liquid crystal display device, and that a method for forming the light-transmissive colored layer is This was done based on the knowledge that the color display device can be efficiently manufactured by using a negative photosensitive composition containing a dye or a pigment.
すなわち、本発明は対向する透明基板間に液晶層を有し
、これらの間に配置された配向膜を有する透過型液晶表
示装置であって、１つの透明基板上に透明電極、その上
へ光透過性着色層と遮光層とからなるカラー表示層を配
向膜の方向に向って順次配置したことを特徴とする透過
型液晶カラー表示装置を提供する。That is, the present invention is a transmission type liquid crystal display device having a liquid crystal layer between opposing transparent substrates, and an alignment film disposed between these, wherein a transparent electrode is provided on one transparent substrate, and a light beam is directed onto the transparent electrode. A transmissive liquid crystal color display device is provided, characterized in that a color display layer consisting of a transmissive colored layer and a light shielding layer is sequentially arranged in the direction of an alignment film.
又、本発明は、対向する透明基板間に液晶層を有し、こ
れらの間に配置された配向膜を有する液晶表示装置であ
って、１つの透明基板上に透明電極、その上へ光透過性
着色層と遮光層とからなるカラー表示層を配向膜の方向
に向って順次配置した透過型液晶カラー表示装置を製造
するにあたり、透明基板上に形成された透明電極上に、
所望の形状の光不透過性の遮光層を形成し、染料又は顔
料を含をするネガ型感光性組成物を用いて該遮光層に隣
接して光透過型着色層を形成することを特徴とする透過
型液晶カラー表示装置の製造方法を提供する。The present invention also provides a liquid crystal display device having a liquid crystal layer between opposing transparent substrates and an alignment film disposed between these, wherein a transparent electrode is provided on one transparent substrate and light is transmitted onto the transparent electrode. In manufacturing a transmissive liquid crystal color display device in which a color display layer consisting of a colored layer and a light shielding layer is sequentially arranged in the direction of an alignment film, on a transparent electrode formed on a transparent substrate,
A light-impermeable light-shielding layer having a desired shape is formed, and a light-transmitting colored layer is formed adjacent to the light-shielding layer using a negative photosensitive composition containing a dye or pigment. Provided is a method for manufacturing a transmissive liquid crystal color display device.
先づ第１図に本発明に係る透過型液晶カラー表示装置の
断面図を示す。ガラス等よりなる透明な基板１．２が対
向配置されており、これらの外側、つまり非対向側には
ネガ型表示とするための偏光板９．９が被着されて右り
、基板１．２上には文字や絵などのパターンを形成すべ
き透明電極膜が被着形成しており基板ｌ上の透明電極膜
はセグメント電極３、基板２上の透明電極膜はコモン電
極４となっている。基板２側のコモン電極４上及びこれ
が形成されていない基板２上の部分には遮光層５及び光
透過型着色層６からなるカラー表示層が形成され、その
上層を透明な配向膜８が覆っている。基板１側のセグメ
ント電極３上も透明な配向膜７で覆われており、配向膜
間にネマッチク液晶１１が配されている。１２は液晶１
１の収容スペースを確保するためのスペーサであるが必
ずしも用いなくともよい。そして基板１の外側に光源が
配置され、基板２の外側からカラー表示をみることがで
きるような構造となっている。First, FIG. 1 shows a cross-sectional view of a transmission type liquid crystal color display device according to the present invention. Transparent substrates 1.2 made of glass or the like are arranged facing each other, and a polarizing plate 9.9 for negative type display is attached to the outside of these substrates, that is, on the non-opposing side. A transparent electrode film on which patterns such as letters and pictures are to be formed is deposited on the substrate 2. The transparent electrode film on the substrate 1 serves as a segment electrode 3, and the transparent electrode film on the substrate 2 serves as a common electrode 4. There is. A color display layer consisting of a light-shielding layer 5 and a light-transmissive colored layer 6 is formed on the common electrode 4 on the substrate 2 side and a portion of the substrate 2 where this is not formed, and a transparent alignment film 8 covers the upper layer. ing. The segment electrode 3 on the substrate 1 side is also covered with a transparent alignment film 7, and a nematic liquid crystal 11 is arranged between the alignment films. 12 is LCD 1
Although this is a spacer for securing the storage space of 1, it does not necessarily have to be used. A light source is arranged outside the substrate 1, and the structure is such that the color display can be seen from the outside of the substrate 2.
本発明で用いる透明基板としては、ガラス板、プラスチ
ックスなどをあげることができる。基板としてガラスを
使う場合は電極形成側の表面に５１０２等のアンダーコ
ートを施してナトリウムイオン等の析出を防止するのが
よい。該基板上に設ける透明電極層は、インジウムや錫
の酸化物が良く知られており、特にＩＴ○膜をスパッタ
リングにより所望厚み、例えば数１０〜数１０００人に
形成し、所望により公知の方法でパターニングしてコモ
ン電極４を形成するのがよい。Examples of the transparent substrate used in the present invention include glass plates and plastics. When glass is used as the substrate, it is preferable to apply an undercoat such as 5102 to the surface on the electrode formation side to prevent precipitation of sodium ions, etc. The transparent electrode layer to be provided on the substrate is well known to be made of indium or tin oxide, and in particular, an IT○ film is formed by sputtering to a desired thickness, for example, several tens to several thousand layers, and if desired, a known method is used. It is preferable to form the common electrode 4 by patterning.
上記透明電極上、又はパターニングされて露出した基板
上に形成する遮光層は、カーボンブラックなどの光不透
過性顔料を分散したネガ型感光性組成物によって形成す
るか、オフセット印刷法あるいはシルクスクリーン印刷
法によって形成するかまたはメッキや蒸着層のフォトエ
ツチング法によって形成することができる。The light-shielding layer formed on the above-mentioned transparent electrode or on the patterned and exposed substrate is formed by a negative photosensitive composition in which a light-opaque pigment such as carbon black is dispersed, or by offset printing or silk screen printing. It can be formed by a plating method or a photo-etching method of a deposited layer.
また光透過性着色層は、染料や顔料などの着色するため
の物質を含有、例えば溶解または分散したネガ型感光性
組成物を用いて形成することができる。Further, the light-transmitting colored layer can be formed using a negative photosensitive composition containing, for example, dissolved or dispersed a coloring substance such as a dye or a pigment.
ここで用いるネガ型感光性組成物としては、例えば次の
４種類のものがあげられる。Examples of the negative photosensitive composition used here include the following four types.
〔１〕ジアゾ樹脂とバインダとからなる感光性組成物
ネガ作用感光性ジアゾ化合物としては、米国特許第２．
０６３．６３１号及び同第２．６６７、４１５号の各明
細書に開示されているジアゾニウム塩と、アルドール又
はアセタールのような反応性カルボニル基を含有する有
機縮合剤との反応生成物であるジフェニルアミン−ｐ−
ジアゾニウム塩とフォルムアルデヒドの縮合生成物（所
謂感光性ジアゾ樹脂〉が好適である。この他の有用な縮
合ジアゾ化合物は特公昭４９−４８００１号、同４９−
４５３２２号、同４９−４５３２３号の各公報等に開示
されている。 ゛
これらの型の感光性ジアゾ化合物は通常水溶性無機塩の
型で得られ、従って水溶液として塗布することが出来る
。また、これらの水溶性ジアゾ化合物を特公昭４７−１
１６７号公報に開示された方法により１個またはそれ以
上のフェノール性水酸基、スルホン酸基またはその両者
を有する芳香族または脂肪族化合物と反応させ、その反
応生成物である実質的に水不溶性の感光性ジアゾ樹脂を
使用することもできる。[1] Photosensitive composition comprising a diazo resin and a binder As a negative-acting photosensitive diazo compound, US Pat.
Diphenylamine, which is the reaction product of the diazonium salt disclosed in Nos. 063.631 and 2.667, 415, and an organic condensing agent containing a reactive carbonyl group, such as an aldol or an acetal. -p-
Condensation products of diazonium salts and formaldehyde (so-called photosensitive diazo resins) are preferred.Other useful condensed diazo compounds are described in Japanese Patent Publication No. 49-48001 and Japanese Patent Publication No. 49-49-
It is disclosed in publications such as No. 45322 and No. 49-45323. ``These types of photosensitive diazo compounds are usually obtained in the form of water-soluble inorganic salts and can therefore be applied as aqueous solutions. In addition, these water-soluble diazo compounds were
A substantially water-insoluble photosensitive reaction product obtained by reacting with an aromatic or aliphatic compound having one or more phenolic hydroxyl groups, sulfonic acid groups, or both by the method disclosed in Japanese Patent No. 167 Polymeric diazo resins can also be used.
フェノール性水酸基を有する反応物の例としては、ヒド
ロキシベンゾフェノン、４．４−ビス（４′−ヒドロキ
シフェニル）ペンタン酸、レゾルシノール、またはレゾ
ルシノールのようなジフェノール酸であって、これらは
更に置換基を有していてもよい。ヒドロキシベンゾフェ
ノンには４−ヒドロキシベンゾフェノン、２．４−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン、２．２’ −ジヒドロキシ−４，４
′−ジメトキシベンゾフェノンまたは２゜２’、４．４
’−テトラヒドロキシベンゾフェノンが含まれる。Examples of reactants with phenolic hydroxyl groups are hydroxybenzophenone, 4,4-bis(4'-hydroxyphenyl)pentanoic acid, resorcinol, or diphenolic acids such as resorcinol, which may further carry substituents. may have. Hydroxybenzophenone includes 4-hydroxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4
'-Dimethoxybenzophenone or 2°2', 4.4
'-Tetrahydroxybenzophenone is included.
好ましいスルホン酸としては、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ナフタリン、フェノール、ナフトール及
びベンゾフェノン等のスルホン酸のような芳香族スルホ
ン酸、またはそれらの可溶性塩類、例えばアンモニウム
及びアルカリ金属塩が例示できる。スルホン酸基含有化
合物は、一般に低級アルキル、ニトロ基、ハロ基、およ
び／またはもう１つのスルホン酸基で置換されていても
よい。こあような化合物の好ましいものとしては、ベン
ゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフタレンスル
ホン酸、２．５−ジメチルベンゼンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸ナトリウム、ナフタリン−２−スルホン酸
、１−ナフトール−２（または４）−スルホン酸、２．
４−ジニトロ−１−ナフトール−７−スルホン酸、２−
ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホ
ン酸、ｍ（Ｐ′−アニリノフェニルアゾ）ベンゼンスル
ホン酸ナトリウム、アリザリンスルホン酸、０−トイ用
ジン−ｍ−スルホン酸及びエタンスルホン酸等があげら
れる。Preferred sulfonic acids include aromatic sulfonic acids such as sulfonic acids such as benzene, toluene, xylene, naphthalene, phenol, naphthol and benzophenone, or soluble salts thereof, such as ammonium and alkali metal salts. Sulfonic acid group-containing compounds may generally be substituted with lower alkyl, nitro groups, halo groups, and/or another sulfonic acid group. Preferred examples of such compounds include benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, sodium benzenesulfonate, naphthalene-2-sulfonic acid, 1-naphthol-2( or 4)-sulfonic acid, 2.
4-dinitro-1-naphthol-7-sulfonic acid, 2-
Examples include hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, sodium m(P'-anilinophenylazo)benzenesulfonic acid, alizarin sulfonic acid, 0-toy gin-m-sulfonic acid, and ethanesulfonic acid.
アルコールのスルホン酸エステルとその塩類モまた有用
である。このような化合物は通常アニオン性界面活性剤
として容易に入手できる。その例としてはラウリルサル
フェート、アルキルアリールサルフェート、ｐ−７ニル
フエニルサルフエート、２−フェニルエチルサルフェー
ト、インオクチルフェノキシジェトキシエチルサルフェ
ート等のアンモニウムまたはアルカリ金属塩が上げられ
る。Sulfonic esters of alcohols and their salts are also useful. Such compounds are usually readily available as anionic surfactants. Examples include ammonium or alkali metal salts such as lauryl sulfate, alkylaryl sulfate, p-7 nylphenyl sulfate, 2-phenylethyl sulfate, inoctylphenoxyjethoxyethyl sulfate, and the like.
これらの実質的に水不溶性ジアゾ樹脂は、水溶性の感光
性ジアゾ樹脂と、前記の芳香族または脂肪族化合物の水
溶液を好ましくはほぼ等量となる量で混合することによ
って沈澱として単離される。These substantially water-insoluble diazo resins are isolated as a precipitate by mixing a water-soluble photosensitive diazo resin with an aqueous solution of the aromatic or aliphatic compound, preferably in approximately equal amounts.
また、英国特許第１．３１２．９２５号明細書に記載さ
れているジアゾ樹脂も好ましい。最も好適なジアゾ樹脂
はｐ−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの
縮合物の２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイ
ルベンゼンスルホン酸塩である。Also preferred are the diazo resins described in GB 1.312.925. The most preferred diazo resin is 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzene sulfonate, a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde.
ジアゾ樹脂の含有量は、感光層中に５〜５０重量％が適
当である。ジアゾ樹脂の量が少なくなれば感光性は当然
良化するが、経時安定性が低下する。適当のジアゾ樹脂
の量は約８〜２０重量％である。The content of the diazo resin in the photosensitive layer is suitably 5 to 50% by weight. As the amount of diazo resin decreases, photosensitivity naturally improves, but stability over time decreases. A suitable amount of diazo resin is about 8-20% by weight.
一方、バインダーとしては、種々の高分子化合物が使用
され得るが、本発明においてはヒドロキシ、アミノ、カ
ルボン酸アミド、スルホンアミド、活性メチレン、チオ
アルコール、エポキシ等の基を含むものが好ましい。こ
の様な好ましいバインダーには、英国特許第１．３５０
．５２１号明細書に記載されているシェラツク、英国特
許第１．４６０．９７８号及び米国特許第４．１２３．
２７６号の各明細書に記載されているようなヒドロキシ
エチルアクリレート単位またはヒドロトキシエチルメタ
アクリレート単位を主なる繰り返し単位として含むポリ
マー、米国特許第３．７５１，２５７号明細書に記され
ているポリアミド樹脂、英国特許第１．０７４．３９２
号明細書に記されているフェノール樹脂及び例えばポリ
ビニールフォルマー元樹脂、ポリビニールブチラール樹
脂のようなポリビニールアセタール樹脂、米国特許第３
．６６０．０９７号明細書に記されている線状ポリウレ
タン樹脂、ポリビニールアルコールのフタレート化樹脂
、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンから縮合され
たエポキシ樹脂、ポリアミノスチレンやポリアルキルア
ミノ （メタ）アクリレートのようなアミノ基を含むポ
リマー、酢酸セルロース、セルロースアルキルエーテル
、セルロースアセテートツクレート等のセルロース誘導
体、水溶性のポリビニールアルコールＣ等が包含される
。On the other hand, various polymer compounds can be used as the binder, but in the present invention, those containing groups such as hydroxy, amino, carboxylic acid amide, sulfonamide, active methylene, thioalcohol, and epoxy are preferred. Such preferred binders include those described in British Patent No. 1.350.
．． Shellac, described in U.S. Patent No. 521, British Patent No. 1.460.978 and US Patent No. 4.123.
Polymers containing hydroxyethyl acrylate units or hydroxyethyl methacrylate units as the main repeating unit as described in U.S. Patent No. 3,751,257; Resin, British Patent No. 1.074.392
Phenolic resins and polyvinyl acetal resins such as polyvinyl former resins and polyvinyl butyral resins described in US Pat.
．． 660.097, phthalated resins of polyvinyl alcohol, epoxy resins condensed from bisphenol A and epichlorohydrin, amino groups such as polyaminostyrene and polyalkylamino (meth)acrylate. , cellulose derivatives such as cellulose acetate, cellulose alkyl ether, and cellulose acetate tuclate, water-soluble polyvinyl alcohol C, and the like.
〔２〕光重合性感光性組成物
光重合性感光性組成物は、米国特許第３．５４９．３６
７号明細書等に開示されている付加重合性不飽和モノマ
ー、光重合開始剤およびバインダーからなる。[2] Photopolymerizable photosensitive composition The photopolymerizable photosensitive composition is disclosed in U.S. Patent No. 3.549.36.
It consists of an addition-polymerizable unsaturated monomer, a photopolymerization initiator, and a binder as disclosed in No. 7 specification and the like.
付加重合性不飽和モノマーは少なくとも１個の付加重合
可能なエチレン性不飽和基をもち沸点が常圧で１００℃
以上の化合物である。例えばポリエチレングリコールモ
ノ （メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール
モノ （メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ
〉アクリレート、等の単官能のアクリレートやメタアク
リレート：ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールエタントリ （メタ）アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトールトリ （メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキ
サンジオール（メタ）アクリレート、トリメチロールプ
ロパントリ （アクリロイルオキシプロピル）エーテル
、トリ （アクリロイロキシエチル）イソシナヌレート
、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコ
ールやエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付
加させた後（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４
８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５
１−３７１９３号各公報に記載されているようなウレタ
ンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭
４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報
に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキ
シ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキ
シアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアク
リレートをあげることができる。更に日本接着協会誌Ｖ
ａｔ、２０、Ｎ（１７，３００〜３０８頁に光硬化性モ
ノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用
できる。使用量は、５〜５０重量％好ましくは、１０〜
４０重量％である。The addition-polymerizable unsaturated monomer has at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group and has a boiling point of 100°C at normal pressure.
These are the above compounds. For example, monofunctional acrylates and methacrylates such as polyethylene glycol mono (meth)acrylate, polypropylene glycol mono (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, etc.: polyethylene glycol di(meth)acrylate, trimethylolethane tri(meth)acrylate , neopentyl glycol di(meth)acrylate,
Pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, hexanediol(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(acryloyloxypropyl)ether, tri(acryloyloxyethyl) Isocyanurate, polyfunctional alcohol such as glycerin or trimethylolethane, or (meth)acrylate after addition of ethylene oxide or propylene oxide, Tokuko Sho 4
No. 8-41708, Japanese Patent Publication No. 50-6034, Japanese Patent Publication No. 5
Urethane acrylates as described in JP-A No. 1-37193, polyester acrylates as described in JP-A-48-64183, JP-B No. 49-43191, and JP-A-52-30490, epoxy Examples include polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates, which are reaction products of resin and (meth)acrylic acid. Furthermore, Japan Adhesive Association Journal V
at, 20, N (those introduced as photocurable monomers and oligomers on pages 17, 300-308 can also be used. The amount used is 5-50% by weight, preferably 10-50% by weight)
It is 40% by weight.
光重合開始剤としては、米国特許第２．３６７、６６０
号明細書に開示されているビシナールポリケタルドニル
化合物、米国特許第２．３６７、６６１号および第２．
３６７、６７０号明細書に開示されているアルフすカル
ボニル化合物、米国特許第２．４４８．８２８号明細書
に開示されているアシロインエーテル９、米国特許第２
．７２２．５１２号明細書に開示されているアルファー
炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特
許第３．０４６．１２７号および第２．９５１．７５８
号明細書に開示されている多核キノン化合物、米国特許
第３．５４９．３６７号明細書に開示されているトリア
リルイミダゾールダイマー／ｐ−アミノフェニルケトン
の組合せ、特公昭５１−４８５１６号公報に開示されて
いるベンゾチアゾール系化合物／トリへロメチール−５
−トリアジン系化合物、米国特許第４．２３９．８５０
号明細書に開示されているトリハロメチル−５−トリ
アジン系化合物、米国特許第４，２１２．９７６号明細
書に記載されているオキサジアゾール化合物等があげら
れる。使用量は固形分比で約０．５〜２０重量％、より
好ましくは２〜１５重量％が適当である。As a photopolymerization initiator, U.S. Patent No. 2.367, 660
Vicinal polyketaldonyl compounds disclosed in US Pat. No. 2.367,661 and US Pat.
367,670; asiloin ether 9 disclosed in U.S. Pat. No. 2.448.828; U.S. Pat.
．． Alpha-hydrocarbon-substituted aromatic acyloin compounds disclosed in US Pat. No. 722.512, U.S. Pat.
polynuclear quinone compounds disclosed in US Pat. No. 3,549,367, triallylimidazole dimer/p-aminophenyl ketone combinations disclosed in US Pat. benzothiazole compounds/triheromethyl-5
-Triazine compounds, U.S. Patent No. 4.239.850
Examples include trihalomethyl-5-triazine compounds disclosed in US Pat. No. 4,212.976, and oxadiazole compounds disclosed in US Pat. No. 4,212.976. The appropriate amount to be used is about 0.5 to 20% by weight, more preferably 2 to 15% by weight in terms of solid content.
バインダーは、モノマーに対して相溶性のある゛線状有
機高分子重合体で、有機溶剤に可溶であり、弱アルカリ
水溶液で現像できるものが好ましい。The binder is preferably a linear organic polymer that is compatible with the monomer, soluble in an organic solvent, and capable of being developed with a weak alkaline aqueous solution.
このような線状有機高分子重合体としては、側鎖にカル
ボン酸を有するポリマー、例えば、特開昭５９−４４６
１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２
５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５９−５
３８３６号、特開昭５９−７１０４８号明細書に記載さ
れているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重
合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等
があり、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セル
ロース誘導体がある。この他に水酸基を有するポリマー
に酸無水物を付加させたものなどが有用である。特にこ
れらのなかでベンシール（メタ）アクリレート／（メタ
）アクリル酸共重合体やベンジル（メタ）アクリレート
／（メタ）アクリル酸／および他のモノマーとの多元共
重合体が好適である。この他に水溶性ポリマーとじて、
ポリビニールピロリドンやポリエチレンオキサイド、ポ
リビニールアルコール等も有用である。また硬化被膜の
強度をあげるためにアルコール可溶性ナイロン或は２．
２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエ
ビクロルヒトリンノホリエーテルなども有用である。こ
れらのポリマーは任意な量を混合させることが出来るが
、９０重量％を越えることは形成される画像強度等の点
で好ましい結果を与えない。好ましくは３０〜８５重量
％である。As such linear organic polymers, polymers having carboxylic acid in the side chain, for example, JP-A-59-446
No. 15, Special Publication No. 54-34327, Special Publication No. 58-12
No. 577, JP 54-25957, JP 59-5
Methacrylic acid copolymers, acrylic acid copolymers, itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, moieties as described in No. 3836 and JP-A-59-71048. There are esterified maleic acid copolymers and the like, as well as acidic cellulose derivatives having carboxylic acid in their side chains. In addition, a polymer having a hydroxyl group to which an acid anhydride is added is also useful. Particularly preferred among these are benzyl (meth)acrylate/(meth)acrylic acid copolymers and multicomponents of benzyl (meth)acrylate/(meth)acrylic acid/and other monomers. In addition, water-soluble polymers include
Polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, polyvinyl alcohol, and the like are also useful. In addition, to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon or 2.
Also useful are 2-bis-(4-hydroxyphenyl)-propane and shrimp chlorohydrinopholiether. These polymers can be mixed in any amount, but if it exceeds 90% by weight, it will not give favorable results in terms of the strength of the image formed. Preferably it is 30 to 85% by weight.
以上の他に、更に、熱重合防止剤を加えておくことが好
ましく、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノ
ール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール
、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４．４’ −
チオビス（３−メチ−ルー６−ｔ−ブチルフェノール）
、２．２’ −メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）、２−メルカプトベンゾイミダゾール
等が有用である。In addition to the above, it is preferable to further add a thermal polymerization inhibitor, such as hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, etc. ' −
Thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol)
, 2,2'-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, and the like are useful.
〔３〕アジド化合物とバインダー（高分子化合物）から
なる感光性組成物
例えば、英国特許第１．２３５−ｉ２８１号、同第１、
４９５．８６１号の各明細書および特開昭５１−３２３
３１号、同５１−３６１２８号公報などに記載されてい
るアジド化合物と水溶性またはアルカリ可溶性高分子化
合物からなる組成物の他、特開昭５０−５１０２号、同
５０−８４３０２号、同５３−１２９８４号公報などに
記載されているアジド基を含むポリマーとバインダーと
しての高分子化合物からなる組成物が含まれる。[3] Photosensitive composition comprising an azide compound and a binder (polymer compound) For example, British Patent No. 1.235-i281, British Patent No. 1,
Specifications of No. 495.861 and JP-A-51-323
In addition to the compositions comprising an azide compound and a water-soluble or alkali-soluble polymer compound described in JP-A No. 50-5102, JP-A No. 50-84302, JP-A-53- Included are compositions comprising a polymer containing an azide group and a polymer compound as a binder, as described in Japanese Patent No. 12984 and the like.
〔４〕感光性ポリマー
例えば、特開昭５２−９６６９６号に開示されているポ
リエステル化合物、英国特許第１．１１２．２７７号、
同第１．３１３．３９０号、同第１．３４１，００４号
、同第１．３７７、７４７号等の各明細書に記載のポリ
ビニールシンナメート系感光性ポリマーなどが含まれる
。[4] Photosensitive polymers, for example, polyester compounds disclosed in JP-A-52-96696, British Patent No. 1.112.277,
Included are polyvinyl cinnamate-based photosensitive polymers described in Patent No. 1.313.390, Patent No. 1.341,004, Patent No. 1.377, and Patent No. 747.
上記ネガ型感光性組成物を用いて遮光層を形成するには
、感光性組成物に顔料を分散するとか染料を溶解してお
く外に光不溶化型感光性組成物を用いてなる感光層に所
要のパターンを露光し、現像した後、染料溶液で染色し
て光不透過性にしてもよい。In order to form a light-shielding layer using the above-mentioned negative photosensitive composition, in addition to dispersing a pigment in the photosensitive composition or dissolving a dye, the photosensitive layer is formed using a photoinsolubilized photosensitive composition. After the desired pattern has been exposed and developed, it may be dyed with a dye solution to make it opaque to light.
顔料や染料は、光透過率が低い金属あるいは金属酸化物
または光吸収率の高いカーボンブラック、黒色染料など
が有用であるが、表示装置として使用する場合、光不透
過性パターンの色相も表示の一部として使うこともでき
る。その様な場合、所望の色相の顔料あるいは染料と光
不透過性の顔料を組み合わせて使うこともできる。Pigments and dyes such as metals or metal oxides with low light transmittance, or carbon black and black dyes with high light absorption are useful, but when used as a display device, the hue of the light-opaque pattern may also be difficult to display. It can also be used as a part. In such cases, a pigment or dye of a desired hue and a light-opaque pigment may be used in combination.
一方、光透過型着色層を形成するためには、遮光層の形
成と同様に染料や顔料を溶解又は分散させたネガ型感光
性組成物を用いるが、現像後に該層が光透過性となるよ
うに染料、顔料の種類及び量を調整する必要がある。On the other hand, in order to form a light-transmitting colored layer, a negative photosensitive composition in which dyes and pigments are dissolved or dispersed is used in the same way as for forming a light-shielding layer, but after development, the layer becomes light-transmissive. It is necessary to adjust the types and amounts of dyes and pigments accordingly.
感光性組成物を用いて遮光層を形成する場合や光透過型
着色層を形成するには光重合性感光性組成物を適当な溶
媒に溶解し、該顔料を分散するか或いはそれと共に染料
を溶解した溶液をスピンナー、ホワイラー、ローラーコ
ーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター等によ
り適当な基板上に塗着する。When forming a light-shielding layer or a light-transmitting colored layer using a photosensitive composition, the photopolymerizable photosensitive composition is dissolved in a suitable solvent and the pigment is dispersed therein, or a dye is added thereto. The dissolved solution is applied onto a suitable substrate using a spinner, whisker, roller coater, knife coater, wire bar coater, or the like.
好ｔしい溶剤は、エチレングリコール、モノメチルエー
テル、エチレングリコール、モノエチルエーテル、プロ
ピレングリコール、モノエチルエ−テル、フロピレンゲ
リコール モノエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、エチレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、エチレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、フロピレンクリコール
モノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン
等であり、単純または組合せで使用することができる。Preferred solvents include ethylene glycol, monomethyl ether, ethylene glycol, monoethyl ether, propylene glycol, monoethyl ether, propylene gellicol, monoethyl ether, and ethylene glycol.
Monomethyl ether acetate, ethylene glycol
Monoethyl ether acetate, ethylene glycol
These include monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, etc., and can be used simply or in combination.
溶液濃度は、１〜５０重量％の範囲で利用できるが、よ
り好ましい範囲は、５〜３０重量％であり、感光層の乾
燥厚は０．５〜５μｍが適当である。The solution concentration can be used in the range of 1 to 50% by weight, but a more preferable range is 5 to 30% by weight, and the dry thickness of the photosensitive layer is suitably 0.5 to 5 μm.
上記感光性組成物を用いて形成した感光層に常法により
パターン露光し、現像して遮光層を形成し、次いで着色
層用の感光性組成物を塗付、形成した感光層をパターン
露光、現像する操作をくり返し、赤、緑、青などの光透
過型着色層を形成できる。A photosensitive layer formed using the above photosensitive composition is exposed to light in a pattern by a conventional method, developed to form a light-shielding layer, and then a photosensitive composition for a colored layer is applied, the formed photosensitive layer is exposed to light in a pattern, By repeating the developing operation, a light-transmissive colored layer such as red, green, or blue can be formed.
光重合性組成物によって形成された光透過性パターンは
、配向膜のためのポリイミドプレカーサーの塗布によっ
て、膨潤あるいは下層との密着不良を引き起こすことが
ある。これは、ポリイミドプレカーサーの主溶媒である
Ｎ−メチル ピロリドン、ジメチルフォルムアミド、シ
クロヘキサノン等による膨潤が原因と考えられる。この
ような場合、感光性組成物を用いて形成した感光層に所
望のパターンを露光した後加熱するか、加熱しながら露
光するか、あるいは両者の組合せ条件で露光し、加熱し
た後現像するとこの欠陥は改良される６加熱温度は室温
〜１００℃°、好ましくは３５℃〜８５℃の範囲で、加
熱時間は、１０秒〜１０分間であり、好ましくは、３０
秒〜５分間である。A light-transmitting pattern formed from a photopolymerizable composition may swell or cause poor adhesion to the underlying layer due to the application of a polyimide precursor for an alignment film. This is considered to be caused by swelling caused by N-methyl pyrrolidone, dimethylformamide, cyclohexanone, etc., which are the main solvents of the polyimide precursor. In such cases, a desired pattern may be exposed on a photosensitive layer formed using a photosensitive composition and then heated, exposed while being heated, or exposed under a combination of both conditions, heated, and then developed. Defects are improved 6 The heating temperature ranges from room temperature to 100°C, preferably from 35°C to 85°C, and the heating time ranges from 10 seconds to 10 minutes, preferably 30°C.
The duration is from seconds to 5 minutes.
この加熱は、露光時間を短縮するのにも有効であり、特
に光透過率を下げるためにカーボンブラックを分散した
遮光用の感光性組成物や光透過型着色用の感光性組成物
も、それ自身の光吸収のために感光性組成物の感光性を
極めて悪化させるが、該加熱処理により露光量を通常の
１／２〜１／８程度に抑えることができる。またイミド
化工程で２００〜３５０℃に数分間〜数１０分間加熱す
ると、カーボンブラックを分散した光重合性感光性組成
物から形成した遮光層は、＠栂性不良を引き起こすこと
があるが、該加熱処理を行うことによってこの点も改良
される。This heating is also effective in shortening the exposure time, and it is especially effective for light-shielding photosensitive compositions and light-transmitting coloring photosensitive compositions in which carbon black is dispersed to reduce light transmittance. Although the photosensitivity of the photosensitive composition is extremely deteriorated due to its own light absorption, the exposure amount can be suppressed to about 1/2 to 1/8 of the normal amount by the heat treatment. Furthermore, when heated at 200 to 350°C for several minutes to several tens of minutes in the imidization process, the light shielding layer formed from the photopolymerizable photosensitive composition in which carbon black is dispersed may cause poor durability. This point can also be improved by heat treatment.
更に必要な゛らば、現像後、陽光および／または加熱す
ることができる。この工程での曙光および／または加熱
処理も上記の耐溶剤性および絶縁性改良に効果がある。Furthermore, if necessary, sunlight and/or heating can be applied after development. Daylight treatment and/or heat treatment in this step are also effective in improving the solvent resistance and insulation properties.
曙光は、パターン露光量と同程度かもしくはその数倍程
度が好ましく、特に酸素を遮断した条件で露光すること
が好ましい。加熱温度は１２０℃以上とすることが必要
であり、１５０℃〜３００℃が好ましく、より好ましい
範囲は１８０℃〜２６０℃、時間は５分間から３００分
間程である。The dawn light is preferably about the same level as the pattern exposure amount or several times that amount, and it is particularly preferable to perform the exposure under conditions where oxygen is blocked. The heating temperature needs to be 120°C or higher, preferably 150°C to 300°C, more preferably 180°C to 260°C, and the heating time is about 5 minutes to 300 minutes.
本発明の透過型液晶カラー表示装置を製造するに際し、
予め形成された遮光層を有する透明電極上の全面に、上
該ネガ型感光性組成物を塗布した後、透明基板の裏側か
らパターン形成に必要な光量を全面照射し、現像して遮
光層と同一平面上に光透過型着色層を形成する方法によ
れば、遮光層と光透過型着色層とを全く位置ずれするこ
となしに形成でき、極めて有利である。When manufacturing the transmission type liquid crystal color display device of the present invention,
After coating the above negative photosensitive composition on the entire surface of the transparent electrode having a pre-formed light-shielding layer, the entire surface is irradiated with the amount of light necessary for pattern formation from the back side of the transparent substrate, and developed to form a light-shielding layer. According to the method of forming the light-transmitting colored layer on the same plane, the light-shielding layer and the light-transmitting colored layer can be formed without any positional shift, which is extremely advantageous.
本発明によれば、カラー表示層を内部に組込んだ新規な
透過型液晶カラー表示装置が提供される。According to the present invention, a novel transmissive liquid crystal color display device incorporating a color display layer therein is provided.
さらに、同一平面上の遮光層と光透過型着色層とが全く
位置ずれしない工業上すぐれた製造方法が提供される。Furthermore, an industrially superior manufacturing method is provided in which the light-shielding layer and the light-transmitting colored layer on the same plane are not misaligned at all.
従って、本発明のカラー表示組成物は、液晶ディスプレ
ー、液晶カラーテレビ、カラー撮像管、カラーイメージ
センサ−などに幅広く利用できる。Therefore, the color display composition of the present invention can be widely used in liquid crystal displays, liquid crystal color televisions, color image pickup tubes, color image sensors, and the like.
次に実施例により本発明を説明する。Next, the present invention will be explained with reference to examples.
実施例１
図−１及び２に示すように、ナトリウムイオン溶出防止
のためのＳｉＯ２膜を形成したソーダガラス基板２上に
、スパッタ法により透明電極であるＩＴＯ膜４０を形成
し常法によりエツチングし、パターン４を形成した。
−
この上に下記の遮光用の感光性組成物５０を所要厚さに
塗着した。なお（）内は各成分の機能等を示している。Example 1 As shown in Figures 1 and 2, an ITO film 40, which is a transparent electrode, was formed by sputtering on a soda glass substrate 2 on which a SiO2 film for preventing sodium ion elution was formed, and etched by a conventional method. , pattern 4 was formed.
- On top of this, the following light-shielding photosensitive composition 50 was applied to the required thickness. Note that the numbers in parentheses indicate the function of each component.
ベンジルメタアクリレート／メタアクリル酸共重合体（
バインダー） ６２ｇ
〔モル比７０ ／３０、平均分子量ΣＷ２０．０００
〕ペンタエリスリトール テトラアクリレート（モノマ
ー） ３８ｇ
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−β−ナフトチア
ゾリン（光重合開始剤）３ｇ２−（ｐ−メトキシフェニ
ル）−４，６−ビス（トリスクロルメチル）−５−トリ
アジン（熱重合防止剤） ３ｇ
カーボンブラック〔例えば三菱化成製のＭＡ−１００）
（顔料） ２０ｇ
セロソルブ アセテート（溶剤） ６５０ｇ塗着後８
０℃で２分程度゛乾燥した。Benzyl methacrylate/methacrylic acid copolymer (
binder) 62g [molar ratio 70/30, average molecular weight ΣW20.000
[Pentaerythritol tetraacrylate (monomer) 38g 2-benzoylmethylene-3-methyl-β-naphthothiazoline (photopolymerization initiator) 3g2-(p-methoxyphenyl)-4,6-bis(trischlormethyl)-5- Triazine (thermal polymerization inhibitor) 3g Carbon black (e.g. MA-100 manufactured by Mitsubishi Kasei)
(Pigment) 20g Cellosolve Acetate (solvent) 650g After application 8
It was dried at 0°C for about 2 minutes.
次に、ＰＶＡ （ポリビニールアルコール）膜５１を感
光層５０上に形成した。これは感光層の露光の際に酸素
を遮断するためのものである。Next, a PVA (polyvinyl alcohol) film 51 was formed on the photosensitive layer 50. This is to block oxygen during exposure of the photosensitive layer.
ＰＶＡ膜５１に用いるＰＶＡはケン化度８２％、重合友
釣５００の５％水溶液であり、塗着後８０℃で２分程度
乾燥した。The PVA used for the PVA film 51 was a 5% aqueous solution of Polymeric Tomori 500 with a degree of saponification of 82%, and was dried at 80° C. for about 2 minutes after being applied.
次いで、形成すべき遮光層５のパターンに対応するマス
ク５２をＰＶＡ膜５膜上１上して２Ｋｗのメタルハイト
ランプにて１分間程度露光した。Next, a mask 52 corresponding to the pattern of the light-shielding layer 5 to be formed was placed over the PVA film 5 and exposed for about 1 minute using a 2 Kw metal height lamp.
露光後直ちに７０℃で５分程度加熱した。これにより現
像の際の水洗時にパターンが流出する虞れがな（なる。Immediately after exposure, the film was heated at 70° C. for about 5 minutes. This eliminates the risk of the pattern flowing out during washing during development.
なお、このような露光後の加熱工程に替えて加熱しなが
ら露光しても同効を奏するし、更に露光時間を５分間と
長くした場合も同効を奏する。最後に炭酸ナトリウムの
１％水溶液を用いて感光層５０を現像した。露光された
部分が不溶となっているので、この部分が残って遮光層
５が形成された。It should be noted that the same effect can be obtained by performing exposure while heating instead of such a heating step after exposure, and the same effect can also be obtained by increasing the exposure time to 5 minutes. Finally, the photosensitive layer 50 was developed using a 1% aqueous solution of sodium carbonate. Since the exposed portion was insoluble, this portion remained to form the light shielding layer 5.
次に、該表面に下記の組成からなる光透過型着色層形成
用の感光層６１をスピンコーターによりｌμｍ厚に塗布
した。Next, a photosensitive layer 61 for forming a light-transmissive colored layer having the composition shown below was applied to the surface using a spin coater to a thickness of 1 μm.
ベンジルメタアクリレート／メタアクリル酸共重合体
（バインダー）６２ｇ（モル比７０ ／３
０ 平均分子量ΣＷ２０．０００ ）ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート（モノマー）３８ｇ
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−β−ナフトチア
ゾリン （光重合開始剤）３ｇ２−（ｐ−メトキシ
フェニル）−４，６−ビス（トリスクロルメチル）−Ｓ
−）リアジン（光重合開始剤）３ｇ
セロソルブアセテート （溶剤）６５０ｇカーミン６
Ｂ （Ｃ１＋ １２４９０）（赤色顔料）２０ｇ
８０℃２分乾燥後、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の
５％水溶液を該感光層−表面に塗布し再度８０℃、２分
乾燥した。ネガマスク５２を通して、２に’メタルハラ
イドランプにて１分間露光し、直ちに７０℃５分加熱し
たあと、炭酸ナトリウム１％水溶液で現像した。Benzyl methacrylate/methacrylic acid copolymer
(Binder) 62g (molar ratio 70/3
0 Average molecular weight ΣW20.000) Pentaerythritol tetraacrylate (monomer) 38g 2-benzoylmethylene-3-methyl-β-naphthothiazoline (photopolymerization initiator) 3g 2-(p-methoxyphenyl)-4,6-bis(tris) chloromethyl)-S
-) Riazine (photopolymerization initiator) 3g Cellosolve acetate (solvent) 650g Carmine 6
B (C1+ 12490) (red pigment) 20 g After drying at 80°C for 2 minutes, a 5% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA) was applied to the surface of the photosensitive layer and dried again at 80°C for 2 minutes. The film was exposed to light using a metal halide lamp through a negative mask 52 for 1 minute, immediately heated at 70° C. for 5 minutes, and then developed with a 1% aqueous sodium carbonate solution.
パターンを露光後、加熱なしで現像したサンプルは、そ
の後の水洗で、パターンのほとんどが流出したが、露光
量を５倍の５分にアップしたものは、加熱なしでもパタ
ーンを形成した。In the sample where the pattern was developed without heating after exposure, most of the pattern was washed away after washing with water, but in the sample where the exposure amount was increased five times to 5 minutes, a pattern was formed even without heating.
次に該感光層の顔料をフタロシアニングリーン（Ｃ１１
，７４２６０） （緑色）１８ｇに変えたものを同様に
塗布し、パターンを形成した。さらに顔料をフタロシア
ニンブルー（Ｃ，１，７４１６０） （肯色）１８ｇに
変えたものを同様に塗布し、パターンを形成した。Next, the pigment of the photosensitive layer was added to phthalocyanine green (C11
, 74260) (Green) 18 g was applied in the same manner to form a pattern. Further, 18 g of phthalocyanine blue (C, 1,74160) (positive color) was applied in the same manner to form a pattern.
続いて２００℃１０分加熱し、冷却後配向膜８を塗布し
、乾燥後３００℃３０分間加熱し、配向膜を形成した。Subsequently, it was heated at 200°C for 10 minutes, cooled, and then an alignment film 8 was applied, and after drying, it was heated at 300°C for 30 minutes to form an alignment film.
基板１側は公知の方法でセグメント電極３、配向膜７を
形成すればよく、両配向膜７．８に対して配向処理をし
た後、２つの基板Ｌ ２をスペーサ１２を介して組合せ
、両者間にネマチック液晶１１を注入し封止することで
この装置が完成する。On the substrate 1 side, segment electrodes 3 and an alignment film 7 may be formed by a known method.After alignment treatment is performed on both alignment films 7 and 8, the two substrates L2 are combined via a spacer 12, and both This device is completed by injecting nematic liquid crystal 11 between them and sealing them.
実施例２
第１図に示すカラー表示装置を第３図に示す方法で製造
した。すなわち、第３図の（イ）において、ｔ、ｔｍｍ
厚のソーダガラスよりなる基板２にナトリウムイオンの
析出を防止するためのＳｉ Ｏ，アンダーコート膜（図
示せず）を施した上にスパッタリングにより、透明電極
４となるＩＴＯ膜４０を形成した。次いで、ＩＴＯ膜４
０を所定の方法によりエツチングして、透明電極４を形
成した。Example 2 The color display device shown in FIG. 1 was manufactured by the method shown in FIG. 3. That is, in (a) of Fig. 3, t, tmm
A substrate 2 made of thick soda glass was coated with an undercoat film (not shown) of Si 2 O for preventing precipitation of sodium ions, and then an ITO film 40, which would become a transparent electrode 4, was formed by sputtering. Next, ITO film 4
0 was etched using a predetermined method to form a transparent electrode 4.
次に実施例１で用いたのと同じ遮光性感光性組成物５０
を透明電極４と同一平面上に所要の厚さに塗布、乾燥し
た。さらに、実施例１と同様に感光の際に酸素を遮断す
るためのＰＶＡ （ポリビニルアルコール）膜５１を塗
布、乾燥する。つづいて、遮光膜５に対応するマスク５
２をＰＶＡ膜５１の上に配して、メタルハライドランプ
にて露光する。Next, the same light-shielding photosensitive composition 50 used in Example 1 was used.
was applied to the desired thickness on the same plane as the transparent electrode 4 and dried. Furthermore, as in Example 1, a PVA (polyvinyl alcohol) film 51 for blocking oxygen during exposure is applied and dried. Next, a mask 5 corresponding to the light shielding film 5
2 is placed on the PVA film 51 and exposed with a metal halide lamp.
露光後直ちに７０℃で５分程度加熱し、露光部分の反応
を十分すすめた。Immediately after exposure, the film was heated at 70° C. for about 5 minutes to sufficiently promote the reaction of the exposed areas.
つづいて、炭酸す）ＩＪウム１％水溶液を用いて遮光性
感光性組成物５０を現像した。露光された部分が不溶に
なっているので、第２図の（ニ）に示すように遮光膜５
が形成された。その後２００℃で５分程度のポストベー
クを行った。Subsequently, the light-shielding photosensitive composition 50 was developed using a 1% aqueous solution of IJium carbonate. Since the exposed area is insoluble, the light shielding film 5 is removed as shown in FIG. 2 (d).
was formed. Thereafter, post-baking was performed at 200° C. for about 5 minutes.
第２図の（ホ）において、透明電極４、遮光膜５と同一
平面上に、実施例１で用いたのと同じ光透過型着色層形
成用感光性組成物〔１色目〕６１を塗布・乾燥し、さら
に、ＰＶＡ膜５１を塗布して乾燥した。つづいて、膜面
と反対側に、所定のマスク６２を廃止、ガラス基板を通
して、メタルハライドランプにて露光した。露光後、た
だちに７０℃で５分程度加熱し、露光部分の反応を十分
にすすめた。つづいて、炭酸ナトリウム１％水溶液を用
いて現像した。露光された部分は不溶となっているので
、第２図（へ）に示すようにカラーフィルター〔１色目
〕６が形成された。その後、２００℃で５分程度ボスト
ベークを行った。同様に、２色目、３色目のカラーフィ
ルターを形成し、第２図（ト）を得た。さらに、２００
℃で１００分程ポストベークを行い、公知の方法で配向
膜８を形成し、第２図（チ）を得た。In (E) of FIG. 2, the same photosensitive composition for forming a light-transmissive colored layer [first color] 61 as used in Example 1 is applied on the same plane as the transparent electrode 4 and the light-shielding film 5. After drying, a PVA film 51 was further applied and dried. Subsequently, on the opposite side to the film surface, the prescribed mask 62 was removed and exposure was performed using a metal halide lamp through the glass substrate. Immediately after exposure, the film was heated at 70°C for about 5 minutes to sufficiently promote the reaction of the exposed areas. Subsequently, development was performed using a 1% aqueous sodium carbonate solution. Since the exposed portion was insoluble, a color filter (first color) 6 was formed as shown in FIG. Thereafter, a boost bake was performed at 200° C. for about 5 minutes. Similarly, second and third color filters were formed to obtain FIG. 2 (G). In addition, 200
Post-baking was performed at a temperature of 100 minutes, and an alignment film 8 was formed by a known method to obtain the image shown in FIG. 2 (h).
対向する基板も公知の方法により、透明電極３、配向膜
７を形成し、側基板の配向膜に対して配向処理をした後
、２つの基板をスペーサー１２に介して組答わせ、両者
間に液晶１１を注入、封止し、偏光板９をネガ型表示に
なる様に配し、完成した。A transparent electrode 3 and an alignment film 7 are also formed on the opposing substrate by a known method, and the alignment film on the side substrate is subjected to an alignment treatment, and then the two substrates are assembled together via a spacer 12 between them. The liquid crystal 11 was injected and sealed, and the polarizing plate 9 was arranged to provide a negative type display, and the display was completed.
第１図は、本発明に係る透過型液晶カラー表示装置の概
略断面図を、第２図及び第３図は、本発明のカラー表示
装置の製造工程図である。
図中、１．２・・・・・・透明基板、
３・・・・・・セグメント電極、
４・・・・・・透明電極（コモン電極）、５・・・・・
・遮光層、
６・・・・・・光透過型着色層、
７．８・・・・・・配向膜、
１１・・・・・・液晶。
１．２：透明基板
３：セグメント電極
４：透明ｗＡ櫂（コモン電極）
５：遮光層
６：光透過型着色層
７．８：配向膜
９：＠元板
１１：液晶
第３図
（イ）
（ハ）
（ニ）
（ホ）
（へ）
（ト）
（チ）FIG. 1 is a schematic sectional view of a transmissive liquid crystal color display device according to the present invention, and FIGS. 2 and 3 are manufacturing process diagrams of the color display device of the present invention. In the figure, 1.2...Transparent substrate, 3...Segment electrode, 4...Transparent electrode (common electrode), 5...
- Light-shielding layer, 6... Light-transmitting colored layer, 7.8... Alignment film, 11... Liquid crystal. 1.2: Transparent substrate 3: Segment electrode 4: Transparent wA paddle (common electrode) 5: Light-shielding layer 6: Light-transmitting colored layer 7.8: Alignment film 9: @ Original plate 11: Liquid crystal Figure 3 (A) (c) (d) (e) (e) (g) (ch)
Claims (3)
に配置された配向膜を有する透過型液晶表示装置であっ
て、１つの透明基板上に透明電極、その上へ光透過性着
色層と遮光層とからなるカラー表示層を配向膜の方向に
向って順次配置したことを特徴とする透過型液晶カラー
表示装置。(1) A transmissive liquid crystal display device that has a liquid crystal layer between opposing transparent substrates and an alignment film disposed between them, with a transparent electrode on one transparent substrate and a light transmitting layer on the transparent electrode. A transmissive liquid crystal color display device characterized in that a color display layer consisting of a colored layer and a light-shielding layer is sequentially arranged in the direction of an alignment film.
に配置された配向膜を有する液晶表示装置であって、１
つの透明基板上に透明電極、その上へ光透過性着色層と
遮光層とからなるカラー表示層を配向膜の方向に向って
順次配置した透過型液晶カラー表示装置を製造するにあ
たり、透明基板上に形成された透明電極上に、所望の形
状の光不透過性の遮光層を形成し、染料又は顔料を含有
するネガ型感光性組成物を用いて該遮光層に隣接して光
透過型着色層を形成することを特徴とする透過型液晶カ
ラー表示装置の製造方法。(2) A liquid crystal display device having a liquid crystal layer between opposing transparent substrates and an alignment film disposed between them,
In manufacturing a transmissive liquid crystal color display device in which a transparent electrode is placed on one transparent substrate, and a color display layer consisting of a light-transmitting colored layer and a light-shielding layer is sequentially arranged on the transparent electrode in the direction of the alignment film, A light-impermeable light-shielding layer of a desired shape is formed on the transparent electrode formed on the transparent electrode, and a light-transmitting type coloring is applied adjacent to the light-shielding layer using a negative photosensitive composition containing a dye or pigment. A method for manufacturing a transmissive liquid crystal color display device, which comprises forming a layer.
に、上記ネガ型感光性組成物を塗布した後、透明基板の
裏側からパターン形成に必要な光量を全面照射し、現像
して遮光層と同一平面上に光透過型着色層を形成する特
許請求の範囲第（２）項記載の製造方法。(3) After applying the above-mentioned negative photosensitive composition on the entire surface of the transparent electrode having a pre-formed light-shielding layer, the entire surface is irradiated with the amount of light necessary for pattern formation from the back side of the transparent substrate, developed and light-shielded. The manufacturing method according to claim (2), wherein the light-transmitting colored layer is formed on the same plane as the layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13419987A JP2654453B2 (en) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | Method of manufacturing transmission type liquid crystal color display device |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JPS63298304A true JPS63298304A (en) | 1988-12-06 |
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| JP (1) | JP2654453B2 (en) |
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| JP2654453B2 (en) | 1997-09-17 |
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