JPS63280257A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/142—Inert intermediate layers
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は電子写真感光体に関し、さらに詳しくは、繰り
返し使用による電気特性の変動の少ない電子写真感光体
に関する。
返し使用による電気特性の変動の少ない電子写真感光体
に関する。
導電性基板上に電荷発生層および電荷移動層を積層して
なる電子写真感光体に高帯電性、高感度性、低残留電位
性および繰り返し使用時の安定性を付与すべく、種々の
試みがこれまでにも多くなされてきた。そのひとつとし
て、高感度の電荷発生層中へ帯電時に導電性基板側から
帯電電荷と逆極性の電荷が注入するのを阻止するための
中間層を設けることが提案されている。
なる電子写真感光体に高帯電性、高感度性、低残留電位
性および繰り返し使用時の安定性を付与すべく、種々の
試みがこれまでにも多くなされてきた。そのひとつとし
て、高感度の電荷発生層中へ帯電時に導電性基板側から
帯電電荷と逆極性の電荷が注入するのを阻止するための
中間層を設けることが提案されている。
たとえば特開昭47−6341号、特開昭48−354
4号および特開昭48−12034号などの公報には硝
酸セルロース系樹脂中間層が、特開昭48−47344
号、特開昭52−25638号、特開昭58−3075
7号、特開昭58−63945号、特開昭58−953
51号、特開昭58−98739号および特開昭60−
66258号などの公報にはナイロン系樹脂中間層が、
特開昭48−26141号公報には酢酸ビニル系樹脂中
間層が、特開昭49−69332号および特開昭52−
10138号などの公報にはマレイン酸系樹脂中間層が
、そして特開昭58−105155号公報にはポリビニ
ルアルコール中間層が開示されている。
4号および特開昭48−12034号などの公報には硝
酸セルロース系樹脂中間層が、特開昭48−47344
号、特開昭52−25638号、特開昭58−3075
7号、特開昭58−63945号、特開昭58−953
51号、特開昭58−98739号および特開昭60−
66258号などの公報にはナイロン系樹脂中間層が、
特開昭48−26141号公報には酢酸ビニル系樹脂中
間層が、特開昭49−69332号および特開昭52−
10138号などの公報にはマレイン酸系樹脂中間層が
、そして特開昭58−105155号公報にはポリビニ
ルアルコール中間層が開示されている。
また、中間層の電気抵抗を制御すべく種々の導電性添加
物を樹脂中に含有させた中間層が提案されている。たと
えば特開昭51−65942号公報にはカーボンまたは
カルコゲン系物質を硬化性樹脂に分散した中間層が、特
開昭52−82238号公報には第四級アンモニウム塩
を添加したイソシアネート系硬化剤を用いた熱重合体中
間層が、特開昭55−1180451号公報には抵抗調
節剤を添加した樹脂中間層が、特開昭58−58556
号公報にはアルミニウムまたはスズの酸化物を分散した
樹脂中間層が、特開昭58−93062号公報には有機
金属化合物を添加した樹脂中間層が、特開昭58−93
063号、特開昭60−97363号および特開昭60
−111255号などの公報には導電性粒子を分散した
樹脂中間層が、さらに特開昭59−84257号、特開
昭59−93453号および特開昭60−32054号
などの公報にはTie、とSnO□粉末とを分散した樹
脂中間層が開示されている。
物を樹脂中に含有させた中間層が提案されている。たと
えば特開昭51−65942号公報にはカーボンまたは
カルコゲン系物質を硬化性樹脂に分散した中間層が、特
開昭52−82238号公報には第四級アンモニウム塩
を添加したイソシアネート系硬化剤を用いた熱重合体中
間層が、特開昭55−1180451号公報には抵抗調
節剤を添加した樹脂中間層が、特開昭58−58556
号公報にはアルミニウムまたはスズの酸化物を分散した
樹脂中間層が、特開昭58−93062号公報には有機
金属化合物を添加した樹脂中間層が、特開昭58−93
063号、特開昭60−97363号および特開昭60
−111255号などの公報には導電性粒子を分散した
樹脂中間層が、さらに特開昭59−84257号、特開
昭59−93453号および特開昭60−32054号
などの公報にはTie、とSnO□粉末とを分散した樹
脂中間層が開示されている。
また、電気抵抗のかわりに電荷の移動性を制御しようと
いう考え方から、マイナス電荷移動性の物質としての電
子受容性の有機化合物を含有した樹脂中間層が提案され
ている。たとえば、特開昭53−89433号公報には
多環芳香族ニトロ化合物を添加した有機高分子光導電体
中間層が、また、特開昭54−4134号、特開昭59
−160147号および特開昭59−170846号な
どの公報には電子受容性有機物を含有する樹脂中間層が
開示されている。
いう考え方から、マイナス電荷移動性の物質としての電
子受容性の有機化合物を含有した樹脂中間層が提案され
ている。たとえば、特開昭53−89433号公報には
多環芳香族ニトロ化合物を添加した有機高分子光導電体
中間層が、また、特開昭54−4134号、特開昭59
−160147号および特開昭59−170846号な
どの公報には電子受容性有機物を含有する樹脂中間層が
開示されている。
さらにまた、特開昭59−65852号公報には短波長
光に感度の高いSe系電荷発生層の上に長波長光に感度
の高い有機顔料(フタロシアニン系、スクェアリリウム
系およびシアニン系など)を分散した電荷発生層を積層
し、さらにその上に有機電荷移動層を積層してなる感光
体が開示されている。
光に感度の高いSe系電荷発生層の上に長波長光に感度
の高い有機顔料(フタロシアニン系、スクェアリリウム
系およびシアニン系など)を分散した電荷発生層を積層
し、さらにその上に有機電荷移動層を積層してなる感光
体が開示されている。
しかしながら、かかる従来のものにあっては、上記樹脂
のみよりなる中間層を有する感光体は、高帯電性と低残
留電位性を中間層の電気抵抗により制御すべく作成され
たものであり、電気抵抗が101a〜1014Ω1の比
較的電気抵抗の低い絶縁性樹脂を中間層として用いたも
のであるが、帯電性を良くするためには中間層の膜厚を
厚くする必要があり、また露光後の残留電位を低くする
ためには逆に中間層を薄くする必要があり、帯電性と低
い残留電位性の両立は困難であった。
のみよりなる中間層を有する感光体は、高帯電性と低残
留電位性を中間層の電気抵抗により制御すべく作成され
たものであり、電気抵抗が101a〜1014Ω1の比
較的電気抵抗の低い絶縁性樹脂を中間層として用いたも
のであるが、帯電性を良くするためには中間層の膜厚を
厚くする必要があり、また露光後の残留電位を低くする
ためには逆に中間層を薄くする必要があり、帯電性と低
い残留電位性の両立は困難であった。
また繰返し使用時の帯電電位の低下や残留電位の上昇と
いう電気特性の変動も大きかった。
いう電気特性の変動も大きかった。
また、導電性添加物を含有した樹脂中間層を有する感光
体は、中間層の電気抵抗を制御しているが、前述の樹脂
のみよりなる中間層と同様に、中間層の電気抵抗が感光
体の電気特性に影響を与えるため、感光体の帯電性と低
残留電位性との両立は困難であり、また繰り返し使用に
よる変動も大きかった。
体は、中間層の電気抵抗を制御しているが、前述の樹脂
のみよりなる中間層と同様に、中間層の電気抵抗が感光
体の電気特性に影響を与えるため、感光体の帯電性と低
残留電位性との両立は困難であり、また繰り返し使用に
よる変動も大きかった。
さらに、電子受容性の有機化合物を樹脂中間層に含有す
る感光体では、電気特性の変動は小さいが電子受容性有
機物が種々の有機溶剤に溶解しやすいため、感光層の塗
工時や乾燥時に中間層から電荷発生層ならびに電荷移動
層へ入りこみ、感光体の光減衰速度が低下するという問
題があった。また、この電子受容性物質は結晶性が高く
、かつ樹脂に対する相溶性が低いために感光体作成過程
において結晶が析出しやすいという問題があった。
る感光体では、電気特性の変動は小さいが電子受容性有
機物が種々の有機溶剤に溶解しやすいため、感光層の塗
工時や乾燥時に中間層から電荷発生層ならびに電荷移動
層へ入りこみ、感光体の光減衰速度が低下するという問
題があった。また、この電子受容性物質は結晶性が高く
、かつ樹脂に対する相溶性が低いために感光体作成過程
において結晶が析出しやすいという問題があった。
さらにまた、前述のSe系化合物および有機顔料からな
る層の積層された感光体は製法が難しく複雑であるとい
う問題があった。
る層の積層された感光体は製法が難しく複雑であるとい
う問題があった。
本発明の目的は、以上のような従来公知の電子写真感光
体の持つ問題点を解決し、高い帯電性と低い残留電位性
とが両立でき、かつ、繰り返し使用による電気特性の変
動の少ない電子写真感光体を提供するものである。
体の持つ問題点を解決し、高い帯電性と低い残留電位性
とが両立でき、かつ、繰り返し使用による電気特性の変
動の少ない電子写真感光体を提供するものである。
本発明の電子写真感光体は、導電性基板上に中間層、電
荷発生層および電荷移動層を順次積層してなる電子写真
感光体において、前記中間層が高分子化合物の単分子膜
または単分子累積膜であることを特徴としている。
荷発生層および電荷移動層を順次積層してなる電子写真
感光体において、前記中間層が高分子化合物の単分子膜
または単分子累積膜であることを特徴としている。
以下に本発明感光体をさらに詳細に説明する。
本発明による電子写真感光体は、前記のとおり、導電性
基板(導電性基体)上に特定の中間層が設けられ、この
中間層上に、電荷発生層および電荷移動層が順次積層さ
れてなるものである。
基板(導電性基体)上に特定の中間層が設けられ、この
中間層上に、電荷発生層および電荷移動層が順次積層さ
れてなるものである。
導電性基板とは、帯電電荷と逆極性の電荷を基板側に供
給することを目的とするものであって、電気抵抗が10
@Ω国以下で、かつ中間層、電荷発生層および電荷移動
層の成膜条件に耐えられるものを使用することができる
。これらの例としてはAQ、 Ni、 Cr、 Zn、
ステンレス等の電気伝導性の金属及びこれらの合金並び
にガラス、セラミックス等の無機絶縁物質およびポリエ
ステル、ポリイミド、フェノール樹脂、ナイロン樹脂、
紙等の有機絶縁性物質の表面を真空蒸着。
給することを目的とするものであって、電気抵抗が10
@Ω国以下で、かつ中間層、電荷発生層および電荷移動
層の成膜条件に耐えられるものを使用することができる
。これらの例としてはAQ、 Ni、 Cr、 Zn、
ステンレス等の電気伝導性の金属及びこれらの合金並び
にガラス、セラミックス等の無機絶縁物質およびポリエ
ステル、ポリイミド、フェノール樹脂、ナイロン樹脂、
紙等の有機絶縁性物質の表面を真空蒸着。
スパッタリング、吹付塗装等の方法によってAQ、Ni
、 Cr、 Zn、ステンレス、炭素、SnO,、In
、 O。
、 Cr、 Zn、ステンレス、炭素、SnO,、In
、 O。
等の電気導電性物質で被覆して導電処理を行なったもの
があげられる。
があげられる。
中間層とは、感光体の帯電時に導電性基板から電荷発生
層への電荷注入を阻止して、帯電性を保ち、かつ感光体
への露光時には電荷発生層で発生した電荷対の一方、す
なわち導電性基板側に阻止されている電荷とは反対極性
の電荷を導電性基板側へ移動させる作用が要求される層
であり、この作用が繰り返し使用によっても変化せず、
安定な電気特性を示す層でなければならない。
層への電荷注入を阻止して、帯電性を保ち、かつ感光体
への露光時には電荷発生層で発生した電荷対の一方、す
なわち導電性基板側に阻止されている電荷とは反対極性
の電荷を導電性基板側へ移動させる作用が要求される層
であり、この作用が繰り返し使用によっても変化せず、
安定な電気特性を示す層でなければならない。
これらの特性は、感光体の帯電性、光減衰速度、光減衰
後に残留する残留電位を測定することによって評価でき
る。
後に残留する残留電位を測定することによって評価でき
る。
上記の中間層に要求される作用および効果は、高分子化
合物の単分子膜または単分子累積膜を用いることにより
達成される。
合物の単分子膜または単分子累積膜を用いることにより
達成される。
導電性基板上に高分子化合物の単分子膜および単分子累
積膜を形成するには種々の方法が考えられるが、たとえ
ばラングミュア・プロジェット法(以降rLB法」と略
記する)を用いるのが有利である。
積膜を形成するには種々の方法が考えられるが、たとえ
ばラングミュア・プロジェット法(以降rLB法」と略
記する)を用いるのが有利である。
LB法は、水面上に単分子膜を形成し、この単分子膜を
基板上に移し取る方法であるが、本発明において高分子
化合物の単分子膜を形成するには、たとえば次の二つの
方法(a)(b)がある。
基板上に移し取る方法であるが、本発明において高分子
化合物の単分子膜を形成するには、たとえば次の二つの
方法(a)(b)がある。
(a)は、分子内の疎水性部分と相対的にみて親水性の
部分とが適度なバランスを持つ高分子化合物を適当な有
機溶剤に溶解した希薄な溶液を水面上に展開し、有機溶
剤を蒸発させた後、水面の面積を縮小することにより単
分子状の膜を得る方法である。
部分とが適度なバランスを持つ高分子化合物を適当な有
機溶剤に溶解した希薄な溶液を水面上に展開し、有機溶
剤を蒸発させた後、水面の面積を縮小することにより単
分子状の膜を得る方法である。
ここで用いられる高分子化合物の主骨格部分は、たとえ
ばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなどの
ポリオレフィン類、ポリブタジェンなどのジエンポリマ
ー類、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサ
イドなどのポリエーテル類、ポリエステル類、ポリカー
ボネート類、ポリアミド類、ポリイミド類、セルロース
類などがあり、これらの高分子化合物の主骨格に対し、
必要に応じて相対的に親水性の部分を付与するために、
ヒドロキシ基、カルボキシ基またはそのエステル、カル
ボニル基、アシル基、シアノ基、アミノ基、アミド基、
メルカプト基、スルホン基、アセタール基などの官能基
が導入されていてもよい。
ばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなどの
ポリオレフィン類、ポリブタジェンなどのジエンポリマ
ー類、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサ
イドなどのポリエーテル類、ポリエステル類、ポリカー
ボネート類、ポリアミド類、ポリイミド類、セルロース
類などがあり、これらの高分子化合物の主骨格に対し、
必要に応じて相対的に親水性の部分を付与するために、
ヒドロキシ基、カルボキシ基またはそのエステル、カル
ボニル基、アシル基、シアノ基、アミノ基、アミド基、
メルカプト基、スルホン基、アセタール基などの官能基
が導入されていてもよい。
これらの中、具体的でかつ好ましい高分子化合物として
は例えばポリビニルアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、
ポリイミド樹脂などがあげられる。
は例えばポリビニルアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、
ポリイミド樹脂などがあげられる。
(b)水面上に高分子化合物の単分子膜を形成する他の
1つの方法としては、(b−1)水面上に重合性の七ツ
マ−を適当な有機溶剤に溶解して展開し、圧縮して単分
子膜としたのち熱、光(紫外光、可視光、赤外光)、γ
線、電子線、X線などを照射することにより重合させる
か、あるいは(b −2)水面上に展開圧縮した分子と
水相中に溶解しておいた他の分子との重縮合反応により
高分子化する方法などがある。
1つの方法としては、(b−1)水面上に重合性の七ツ
マ−を適当な有機溶剤に溶解して展開し、圧縮して単分
子膜としたのち熱、光(紫外光、可視光、赤外光)、γ
線、電子線、X線などを照射することにより重合させる
か、あるいは(b −2)水面上に展開圧縮した分子と
水相中に溶解しておいた他の分子との重縮合反応により
高分子化する方法などがある。
前者の(b−1)方法に用いる重合性のモノマーは1分
子中に相対的に疎水性部と親水性部を有する両親媒性化
合物であることが好ましい。分子中の前記のような活性
エネルギー線により重合する重合性基としては、たとえ
ばビニル基、ジアセチレン基、ジエン基などがある。親
水性部位としてはたとえばカルボキシ基、エステル基、
アミド基、ヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、メルカ
プト基、スルホン基などが、疎水他部位としてはたとえ
ば直鎖または分枝状アルキル基などのオレフィン系炭化
水素基、フェニル、ビフェニル、アントラニルなどの芳
香族基などがある。これらの中で、好ましい具体的化合
物としては、トリコサ−10,12−ジイノイックアシ
ッド、ペンタコサ−10,12−ジイノイックアシッド
、ω−トリコセン酸、α−オクタデシルアクリル酸、t
rans、 trans −2,4−オクタデカジエン
酸などがあげられる。
子中に相対的に疎水性部と親水性部を有する両親媒性化
合物であることが好ましい。分子中の前記のような活性
エネルギー線により重合する重合性基としては、たとえ
ばビニル基、ジアセチレン基、ジエン基などがある。親
水性部位としてはたとえばカルボキシ基、エステル基、
アミド基、ヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、メルカ
プト基、スルホン基などが、疎水他部位としてはたとえ
ば直鎖または分枝状アルキル基などのオレフィン系炭化
水素基、フェニル、ビフェニル、アントラニルなどの芳
香族基などがある。これらの中で、好ましい具体的化合
物としては、トリコサ−10,12−ジイノイックアシ
ッド、ペンタコサ−10,12−ジイノイックアシッド
、ω−トリコセン酸、α−オクタデシルアクリル酸、t
rans、 trans −2,4−オクタデカジエン
酸などがあげられる。
また、後者(b −2)の重縮合反応により高分子化す
る化合物の好ましい具体例としては、たとえば水面上へ
展開したジアルキルテレフタルアルジミンと水相中のp
−フェニレンジアミンとの重縮合による芳香族ポリシッ
フ塩基、水面上のジアキルテレフタルアルジミンと水相
中の3.3−ジアミノベンジジンとの重縮合による芳香
族ポリベンゾイミダゾールなどがあげられる。
る化合物の好ましい具体例としては、たとえば水面上へ
展開したジアルキルテレフタルアルジミンと水相中のp
−フェニレンジアミンとの重縮合による芳香族ポリシッ
フ塩基、水面上のジアキルテレフタルアルジミンと水相
中の3.3−ジアミノベンジジンとの重縮合による芳香
族ポリベンゾイミダゾールなどがあげられる。
以上のような方法により水面上に形成された高分子化合
物の単分子膜を導電性基板上に移し取る方法には、たと
えば単分子膜に対して基板を上または下から通過させて
移し取るいわゆる垂直浸漬法、基板を単分子膜に水平に
接触させて移し取るいわゆる付着法(ここでいう「垂直
または水平」とは実際には垂直または水平とは限らない
)、あるいは回転円筒法などが用いられる。
物の単分子膜を導電性基板上に移し取る方法には、たと
えば単分子膜に対して基板を上または下から通過させて
移し取るいわゆる垂直浸漬法、基板を単分子膜に水平に
接触させて移し取るいわゆる付着法(ここでいう「垂直
または水平」とは実際には垂直または水平とは限らない
)、あるいは回転円筒法などが用いられる。
上記の方法により形成された高分子化合物の単分子膜ま
たは単分子累積膜は、高密度で均一な膜である。高分子
化合物の単分子膜又は単分子累積膜の暦数はそこで使用
される高分子化合物の種類にもよるが1〜1000好ま
しくは1〜500くらいが適当である。この中間層を形
成した後、電荷発生層を形成する。
たは単分子累積膜は、高密度で均一な膜である。高分子
化合物の単分子膜又は単分子累積膜の暦数はそこで使用
される高分子化合物の種類にもよるが1〜1000好ま
しくは1〜500くらいが適当である。この中間層を形
成した後、電荷発生層を形成する。
電荷発生層とは画像露光によって電荷を発生分離させる
ことを目的とする層である。本発明において電荷発生層
を形成する電荷発生物質としては例えばセレン、セレン
化砒素、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、酸化亜
鉛、シリコンなどの無機の電荷発生物質およびアゾ顔料
、フタロシアニン系顔料、ペリレン系顔料、スクェアリ
リウム系顔料、アズレニウム塩系顔料、キナクリドン系
顔料、縮合多環キノン系顔料などの有機の電荷発生物質
がある。アゾ顔料としてはたとえば、下記の構成式で表
わされるジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料がある。これら
のアゾ顔料のカップリング成分としてはたとえば下記の
NQXI〜NαX70で示される成分などがあげられる
。
ことを目的とする層である。本発明において電荷発生層
を形成する電荷発生物質としては例えばセレン、セレン
化砒素、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、酸化亜
鉛、シリコンなどの無機の電荷発生物質およびアゾ顔料
、フタロシアニン系顔料、ペリレン系顔料、スクェアリ
リウム系顔料、アズレニウム塩系顔料、キナクリドン系
顔料、縮合多環キノン系顔料などの有機の電荷発生物質
がある。アゾ顔料としてはたとえば、下記の構成式で表
わされるジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料がある。これら
のアゾ顔料のカップリング成分としてはたとえば下記の
NQXI〜NαX70で示される成分などがあげられる
。
(以下余白)
アゾ顔料の代表例(又はカップリング成分)カップリン
グ成分(X) 翫 R1& R。
グ成分(X) 翫 R1& R。
Xi HX21 H
X 2 2−CH,X22 2−CH。
X 3 3−CH,X23 3−CH。
X 4 4−CH,X24 4−CH。
X 5 2−OCH,X25 2−C,H。
X 6 3−OCH,X26 3−C,I(。
X 7 4−OCH,X27 4−C,H。
X 8 2−CQ X28 2−OCH。
X 9 3−CQ X29 3−OCH
。
。
XIO4−Cf1 X30 4−0CH3
Xll 2−Br X31 2
−CIlX12 3−Br X32
3−CmX13 4−Br X
33 4−CmX14 2−No、 X
34 2−No。
Xll 2−Br X31 2
−CIlX12 3−Br X32
3−CmX13 4−Br X
33 4−CmX14 2−No、 X
34 2−No。
X15 3−No、 X35 3−No。
X16 4−No□ X36 4−No。
X17 2,4 diCHz X37 2
,4−dxcH。
,4−dxcH。
X18 2−CH,,4−Cf1 X38 2
−CH4−CmX19 2−CH3,5−C11 2025−diOcH カップリング成分(X) X39 HX53 H X40 2−CH,X54 2−CH。
−CH4−CmX19 2−CH3,5−C11 2025−diOcH カップリング成分(X) X39 HX53 H X40 2−CH,X54 2−CH。
X41 3−CH,X55 3−CH。
X42 4−CH3X56 4−CH。
X43 2−0CH3X57 2−C,H。
X44 3−OCH,X58 3−C,H。
X45 4−OCH,X59 4−C,H1X46 2
−Cf1 X60 2−OCH。
−Cf1 X60 2−OCH。
X47 3−CQ X61 3−0CH
3X48 4−CmX62 4−OCH。
3X48 4−CmX62 4−OCH。
X49 2−No、 X63 2−CρX
50 3−No、 X64 3−CmX5
1 4−No、 X65 4−CmX52
24−diCHX66 2−No2X67 3−No
□ X68 4−NO2 以上のような有機の電荷発生剤は、樹脂液中でまたは樹
脂なしで有機溶剤を加えてボールミル法などの方法によ
り分散して用いる。
50 3−No、 X64 3−CmX5
1 4−No、 X65 4−CmX52
24−diCHX66 2−No2X67 3−No
□ X68 4−NO2 以上のような有機の電荷発生剤は、樹脂液中でまたは樹
脂なしで有機溶剤を加えてボールミル法などの方法によ
り分散して用いる。
これら有機の電荷発生物質を分散する樹脂としてはたと
えばポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキ
シ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルなどの縮合系
樹脂並びにポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタ
クリレート、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニ
ルブチラール、スチレン−ブタジェン共重合体、スチレ
ン−アクリロニトリル共重合体等の重合体および共重合
体があげられ、絶縁性と接着性が要求される。
えばポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキ
シ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルなどの縮合系
樹脂並びにポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタ
クリレート、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニ
ルブチラール、スチレン−ブタジェン共重合体、スチレ
ン−アクリロニトリル共重合体等の重合体および共重合
体があげられ、絶縁性と接着性が要求される。
上記の方法で調製された塗布液を中間層上に塗布および
乾燥して膜厚、05μm乃至、5μmの電荷発生層を形
成する。有機の電荷発生剤の含有量は60重量%乃至1
00重量%が好ましい。無機の電荷発生剤のうちたとえ
ば結晶セレン粒子およびセレン化砒素合金の粒子は、そ
れら粒子をボールミル等の方法によって、電子供与性結
着剤中に分散して用いる。ここで使用される結晶セレン
粒子は、公知の方法例えば、高純度セレンを高濃度の強
アルカリ水溶液に加熱溶解し、これを純水中に滴下また
は酸で中和して結晶セレン(六方晶形)として析出させ
ることによって得る方法によって作ることができる。一
方、セレン化砒素の粒子は、例えば、01 Torr乃
至l Torrの窒素または不活性ガス中でセレン化砒
素を加熱蒸発させることによって得ることができる。
乾燥して膜厚、05μm乃至、5μmの電荷発生層を形
成する。有機の電荷発生剤の含有量は60重量%乃至1
00重量%が好ましい。無機の電荷発生剤のうちたとえ
ば結晶セレン粒子およびセレン化砒素合金の粒子は、そ
れら粒子をボールミル等の方法によって、電子供与性結
着剤中に分散して用いる。ここで使用される結晶セレン
粒子は、公知の方法例えば、高純度セレンを高濃度の強
アルカリ水溶液に加熱溶解し、これを純水中に滴下また
は酸で中和して結晶セレン(六方晶形)として析出させ
ることによって得る方法によって作ることができる。一
方、セレン化砒素の粒子は、例えば、01 Torr乃
至l Torrの窒素または不活性ガス中でセレン化砒
素を加熱蒸発させることによって得ることができる。
電荷発生層として本発明で使用される結晶セレン粒子お
よびセレン化砒素粒子を分散させる電子供与性有機化合
物の例としてはポリビニルカルバゾールおよびその誘導
体(例えばカルバゾール骨格に塩素、臭素などのハロゲ
ン、メチル基、アミノ基などの置換基を有するもの)、
ポリビニルピレン、オキサジアゾール、ピラゾリン、ヒ
ドラゾン、ジアリールメタン、α−フェニルスチルベン
、トリフェニルアミン系化合物などの窒素含有化合物お
よびジアリールメタン系化合物等があるが、特にポリビ
ニルカルバゾールおよびその誘導体が好ましい、またこ
れらの化合物を混合して用いてもよい。混合して用いる
場合もポリビニルカルバゾールおよびその誘導体に他の
電子供与性有機化合物を添加するのが好ましい。好まし
い理由としてはポリビニルカルバゾールおよびその誘導
体が他の電子供与性有機化合物と比較してイオン化ポテ
ンシャルが大きいことおよびそれ自身がポリマーである
為電荷移動層の塗工形成が容易に行ない得ることが上げ
られる。電荷発生物質の含有量は層全体の30重量%乃
至90重量%とする。中間層上に成膜および乾燥して形
成される電荷発生層の厚さは、2μm乃至5μm程度で
ある。
よびセレン化砒素粒子を分散させる電子供与性有機化合
物の例としてはポリビニルカルバゾールおよびその誘導
体(例えばカルバゾール骨格に塩素、臭素などのハロゲ
ン、メチル基、アミノ基などの置換基を有するもの)、
ポリビニルピレン、オキサジアゾール、ピラゾリン、ヒ
ドラゾン、ジアリールメタン、α−フェニルスチルベン
、トリフェニルアミン系化合物などの窒素含有化合物お
よびジアリールメタン系化合物等があるが、特にポリビ
ニルカルバゾールおよびその誘導体が好ましい、またこ
れらの化合物を混合して用いてもよい。混合して用いる
場合もポリビニルカルバゾールおよびその誘導体に他の
電子供与性有機化合物を添加するのが好ましい。好まし
い理由としてはポリビニルカルバゾールおよびその誘導
体が他の電子供与性有機化合物と比較してイオン化ポテ
ンシャルが大きいことおよびそれ自身がポリマーである
為電荷移動層の塗工形成が容易に行ない得ることが上げ
られる。電荷発生物質の含有量は層全体の30重量%乃
至90重量%とする。中間層上に成膜および乾燥して形
成される電荷発生層の厚さは、2μm乃至5μm程度で
ある。
電荷発生層の上に設けられる電荷移動層は、帯電電荷を
その表面に保持させ、また、露光により電荷発生層で発
生分離した電荷を移動させて保持していた帯電電荷と結
合させることを目的とする層である。帯電電荷を保持さ
せる目的達成のために電気抵抗が高いことが要求され、
また保持した帯電電荷で高い表面電位を得る目的を達成
するためには、誘電率が小さくかつ電荷移動性が良いこ
とが要求される。これらの要求を満足させるべく、有機
電荷移動物質を有効成分として含有する有機電荷移動層
が用いられる。
その表面に保持させ、また、露光により電荷発生層で発
生分離した電荷を移動させて保持していた帯電電荷と結
合させることを目的とする層である。帯電電荷を保持さ
せる目的達成のために電気抵抗が高いことが要求され、
また保持した帯電電荷で高い表面電位を得る目的を達成
するためには、誘電率が小さくかつ電荷移動性が良いこ
とが要求される。これらの要求を満足させるべく、有機
電荷移動物質を有効成分として含有する有機電荷移動層
が用いられる。
有機電荷移動物質としては、たとえば、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾール系化合物、ピラゾリン系化合物、α−フ
ェニルスチルベン系化合物、ヒドラゾン系化合物、ジア
リールメタン系化合物、トリフェニルアミン系化合物、
ジビニルベンゼン系化合物、フルオレン系化合物、アン
トラセン系化合物、オキサジアゾール系化合物、ジアミ
ノカルバゾール系化合物など従来知られている化合物を
使用することができる。
ルカルバゾール系化合物、ピラゾリン系化合物、α−フ
ェニルスチルベン系化合物、ヒドラゾン系化合物、ジア
リールメタン系化合物、トリフェニルアミン系化合物、
ジビニルベンゼン系化合物、フルオレン系化合物、アン
トラセン系化合物、オキサジアゾール系化合物、ジアミ
ノカルバゾール系化合物など従来知られている化合物を
使用することができる。
ポリビニルカルバゾール等の重合体以外のこれら有機電
荷移動物質は、結合剤としてポリカーボネート等の電荷
発生層で示したのと同様の樹脂へ配合して用いられる。
荷移動物質は、結合剤としてポリカーボネート等の電荷
発生層で示したのと同様の樹脂へ配合して用いられる。
ただし、電荷発生層で使用される樹脂と電荷発生層で使
用される樹脂とが同じである必要はない。またこれらに
は、必要に応じて可塑剤が配合される。こうした可塑剤
としては、例えばハロゲン化パラフィン、ジメチルナフ
タレン、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、
トリクレジルホスフェート等やポリエステル等又は重合
体の共重合体などがあげられる。
用される樹脂とが同じである必要はない。またこれらに
は、必要に応じて可塑剤が配合される。こうした可塑剤
としては、例えばハロゲン化パラフィン、ジメチルナフ
タレン、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、
トリクレジルホスフェート等やポリエステル等又は重合
体の共重合体などがあげられる。
電荷移動物質と上記結合剤樹脂とシリコン油(成膜時の
レベリング剤)とを有機溶媒に溶解して、電荷発生層と
同様の方法で成膜および乾燥して、膜厚5μm乃至30
μ■の電荷移動層を電荷発生層上に形成する。電荷移動
物質と樹脂結合剤との割合比は、2/8乃至872重量
比であって、樹脂結合剤に対するシリコン油の量は、0
01重量%乃至1重量%くらいが適当である。
レベリング剤)とを有機溶媒に溶解して、電荷発生層と
同様の方法で成膜および乾燥して、膜厚5μm乃至30
μ■の電荷移動層を電荷発生層上に形成する。電荷移動
物質と樹脂結合剤との割合比は、2/8乃至872重量
比であって、樹脂結合剤に対するシリコン油の量は、0
01重量%乃至1重量%くらいが適当である。
次に実施例及び比較例を示す。
実施例1
下記構造式
で表わされるポリアミド酸アルキルアミン塩(日本合成
ゴム社製)をN−メチルピロリドン、エタノール、N、
N−ジメチルホルムアミド及びクロロホルムの混合溶媒
に溶解した濃度、01重量%溶液を調製し試料液とした
。一方、LB膜作成装置の水槽中にイオン交換水を2回
蒸留した水を満たし、温度を20℃に保った。
ゴム社製)をN−メチルピロリドン、エタノール、N、
N−ジメチルホルムアミド及びクロロホルムの混合溶媒
に溶解した濃度、01重量%溶液を調製し試料液とした
。一方、LB膜作成装置の水槽中にイオン交換水を2回
蒸留した水を満たし、温度を20℃に保った。
導電性基板としてアルミニウムを蒸着した厚さ約100
μmのポリエステルフィルムを準備、表面を清浄化した
後、基板昇降装置に取り付け、静かに下降させて水槽中
にしずめた。
μmのポリエステルフィルムを準備、表面を清浄化した
後、基板昇降装置に取り付け、静かに下降させて水槽中
にしずめた。
次に、その水相の静止した水面に先の試料液を静かに滴
下し展開させた。溶媒が蒸発した後、バリヤーを移動さ
せ、試料を展開した水面の面積を縮小し、表面圧を20
dyne/amまで高め、その状態を維持した。
下し展開させた。溶媒が蒸発した後、バリヤーを移動さ
せ、試料を展開した水面の面積を縮小し、表面圧を20
dyne/amまで高め、その状態を維持した。
次いで表面圧を一定に保ちながら前記基板を5IIII
IZ分の速度で上昇させ、水面上の単分子膜をアルミニ
ウム蒸着面上に移し取った。続いて。
IZ分の速度で上昇させ、水面上の単分子膜をアルミニ
ウム蒸着面上に移し取った。続いて。
温度150℃で1時間熱処理して中間層とした。
一方、ψ15■のガラスポット中に容積の1/2の量の
ψlaaステンレスポールと400 gのシクロヘキサ
ノンと25gの下記アゾ顔料(I)−X8を投入して4
8時間ミリングした。408gシクロヘキサノンを追加
しさらに24時間ミリングした後、取り出した分散液8
00gに攪拌しながらテトラヒドロフラン800gを滴
下して電荷発生層塗工液を調製した。
ψlaaステンレスポールと400 gのシクロヘキサ
ノンと25gの下記アゾ顔料(I)−X8を投入して4
8時間ミリングした。408gシクロヘキサノンを追加
しさらに24時間ミリングした後、取り出した分散液8
00gに攪拌しながらテトラヒドロフラン800gを滴
下して電荷発生層塗工液を調製した。
アゾ顔料(1)−X8
前記の導電性基板上に中間層を形成したものを上記電荷
発生層塗工液に浸漬し、5nm/秒の速度で引き上げて
浸漬塗工したのち130℃で10分間加熱乾燥して、約
、5μm厚の電荷発生層を中間層上に形成した。
発生層塗工液に浸漬し、5nm/秒の速度で引き上げて
浸漬塗工したのち130℃で10分間加熱乾燥して、約
、5μm厚の電荷発生層を中間層上に形成した。
さらに、これを下記電荷移動層塗工液中に浸漬し、引き
上げて浸漬塗工した後、130℃で1時間乾燥して約2
1.5μm厚の電荷移動層を形成して電子写真感光体と
した。この電子写真感光体の全膜厚は約22μmであっ
た。
上げて浸漬塗工した後、130℃で1時間乾燥して約2
1.5μm厚の電荷移動層を形成して電子写真感光体と
した。この電子写真感光体の全膜厚は約22μmであっ
た。
(電荷移動層塗工液)
テトラヒドロフラン 80重量部実施例2
実施例1と同様にポリアミド酸アルキルアミン塩の単分
子膜を水面上に形成し、あらかじめ沈めておいた導電性
基板を上昇させて、水面上の単分子膜をアルミニウム蒸
着膜上へ移し取った。この操作を3回繰り返して、単分
子膜を3層累積した後、温度150℃で1時間熱処理し
て中間層とした。
子膜を水面上に形成し、あらかじめ沈めておいた導電性
基板を上昇させて、水面上の単分子膜をアルミニウム蒸
着膜上へ移し取った。この操作を3回繰り返して、単分
子膜を3層累積した後、温度150℃で1時間熱処理し
て中間層とした。
一方、ψ15amの″ガラスポットに容積の172量の
ψ1a11のメノウボール、下記樹脂液(1)400
g、前記例示したアゾ顔料(If −X25) 25
gを投入して48時間ミリングした。樹脂液(1)58
0 gを追加してさらに24時間ミリングしたのち、取
り出した分散液950gに、攪拌しながら、メチルエチ
ルケトン710gを滴下して電荷発生層塗工液を調製し
た。
ψ1a11のメノウボール、下記樹脂液(1)400
g、前記例示したアゾ顔料(If −X25) 25
gを投入して48時間ミリングした。樹脂液(1)58
0 gを追加してさらに24時間ミリングしたのち、取
り出した分散液950gに、攪拌しながら、メチルエチ
ルケトン710gを滴下して電荷発生層塗工液を調製し
た。
(樹脂液(1))
ポリビニルブチラール 10重量部(ユニオ
ニカーバイド社製: XYHL)シクロへキサノン
970重量部次に、前記の導電性基板上に中
間層を形成したものを上記電荷発生層塗工液に浸漬し、
5mi/秒の速度で引き上げて浸漬塗工したのち130
℃で10分間加熱乾燥して、中間層上に約、5μm厚の
電荷発生層を形成した。続いて、この電荷発生層上に実
施例1と同様にして約2、5μm厚の電荷移動層を形成
して電子写真感光体とした。この電子写真感光体の全膜
厚は約21μmであった。
ニカーバイド社製: XYHL)シクロへキサノン
970重量部次に、前記の導電性基板上に中
間層を形成したものを上記電荷発生層塗工液に浸漬し、
5mi/秒の速度で引き上げて浸漬塗工したのち130
℃で10分間加熱乾燥して、中間層上に約、5μm厚の
電荷発生層を形成した。続いて、この電荷発生層上に実
施例1と同様にして約2、5μm厚の電荷移動層を形成
して電子写真感光体とした。この電子写真感光体の全膜
厚は約21μmであった。
実施例3
ポリビニルブチラール樹脂(ユニオニカーバイド社製:
XYHL)の濃度、01重量%クロロホルム溶液を調
製し試料液とした。実施例1と同様にLB膜作成装置の
水槽に水を満たし、その中に清浄化した導電性基板を沈
めた。
XYHL)の濃度、01重量%クロロホルム溶液を調
製し試料液とした。実施例1と同様にLB膜作成装置の
水槽に水を満たし、その中に清浄化した導電性基板を沈
めた。
次に、静止した水面に試料液を静かに滴下し展開させた
。溶媒が蒸発した後、バリヤーを移動させ、゛試料を展
開した水面の面積を縮小し、表面圧を20dyne/a
mまで高めた。
。溶媒が蒸発した後、バリヤーを移動させ、゛試料を展
開した水面の面積を縮小し、表面圧を20dyne/a
mまで高めた。
次いで表面圧を一定に保ちながら前記基板を5■/分の
速度で上昇させ、水面上の単分子膜をアルミニウム蒸着
面上へ移し取り中間層とした。
速度で上昇させ、水面上の単分子膜をアルミニウム蒸着
面上へ移し取り中間層とした。
この中間層を形成した導電性基板上に実施例1と同様に
して約、5μm厚の電荷発生層を中間層上に形成した。
して約、5μm厚の電荷発生層を中間層上に形成した。
さらにこの基板を下記電荷移動層塗工液を用いた以外は
実施例1と同様にして約21μm厚の電荷移動層を塗工
し、電子写真感光体とした。この電子写真感光体の全膜
厚は約21.5μmであった。
実施例1と同様にして約21μm厚の電荷移動層を塗工
し、電子写真感光体とした。この電子写真感光体の全膜
厚は約21.5μmであった。
(電荷移動層塗工液)
ポリカーボネート 10重量部(帝人社
製:パンライトC1400) シリコンオイル 、0002重量部(信越
化学社製: KF−50)テ トラヒドロフラン 80重量部実実施例4 実施例3と同様にポリビニルブチラール樹脂の単分子膜
を水面上に形成し、あらかじめ沈めておいた導電性基板
を上昇させて、水面上の単分子膜をアルミニウム蒸着膜
上へ移し取った。
製:パンライトC1400) シリコンオイル 、0002重量部(信越
化学社製: KF−50)テ トラヒドロフラン 80重量部実実施例4 実施例3と同様にポリビニルブチラール樹脂の単分子膜
を水面上に形成し、あらかじめ沈めておいた導電性基板
を上昇させて、水面上の単分子膜をアルミニウム蒸着膜
上へ移し取った。
次にこの基板の下降、上昇を繰り返して、単分子膜を5
層累積し中間層とした。
層累積し中間層とした。
一方、φ15aaのガラスポットに容積の172量のア
ルミナ焼結ボール、前記樹脂液(1)400 gおよび
前記例示したアゾ顔料(III−X17325 gを投
入して48時間ミリングした。樹脂液(1)580 g
を追加しさらに24時間ミリングした後、取り出した分
散液950gに攪拌しながらメチルエチルケトン710
gを滴下して電荷発生層塗工液を調製した。
ルミナ焼結ボール、前記樹脂液(1)400 gおよび
前記例示したアゾ顔料(III−X17325 gを投
入して48時間ミリングした。樹脂液(1)580 g
を追加しさらに24時間ミリングした後、取り出した分
散液950gに攪拌しながらメチルエチルケトン710
gを滴下して電荷発生層塗工液を調製した。
次に、中間層を形成した導電性基板を上記電荷発生層塗
工液に浸漬し、6mm/秒の速度で引き上げて浸漬塗工
した後、130℃で10分間加熱乾燥して約、5μm厚
の電荷発生層を中間層上に形成した。さらにこれを下記
電荷移動層塗工液中に浸漬し、引き上げて浸漬塗工した
後130℃で1時間乾燥して約21.5μm厚の電荷移
動層を形成して電子写真感光体とした。この電子写真感
光体の全膜厚は約22μmであった。
工液に浸漬し、6mm/秒の速度で引き上げて浸漬塗工
した後、130℃で10分間加熱乾燥して約、5μm厚
の電荷発生層を中間層上に形成した。さらにこれを下記
電荷移動層塗工液中に浸漬し、引き上げて浸漬塗工した
後130℃で1時間乾燥して約21.5μm厚の電荷移
動層を形成して電子写真感光体とした。この電子写真感
光体の全膜厚は約22μmであった。
(電荷移動層塗工液)
し2nS
テトラヒドロフラン 80重量部比較例1
実施例1において、中間層を設けなかった以外は実施例
1と同様にして電子写真感光体を作成した。
1と同様にして電子写真感光体を作成した。
比較例2
実施例2において、中間層を設けなかった以外は実施例
1と同様にして電子写真感光体を作成した。
1と同様にして電子写真感光体を作成した。
比較例3
実施例3において、中間層を設けなかった以外は実施例
3と同様にして電子写真感光体を作成した。
3と同様にして電子写真感光体を作成した。
比較例4
実施例4において、中間層を設けなかった以外は実施例
1と同様にして電子写真感光体を作成した。
1と同様にして電子写真感光体を作成した。
比較例5
実施例1においてアルミニウム蒸着膜を有するポリエス
テルフィルム上に下記樹脂液(2)を浸漬塗工し、13
0℃で1時間加熱硬化して厚さ約1.2μmの樹脂層を
形成し中間層とした以外は実施例1と同様にして電荷発
生層および電荷移動層を形成して電子写真感光体を作成
した。
テルフィルム上に下記樹脂液(2)を浸漬塗工し、13
0℃で1時間加熱硬化して厚さ約1.2μmの樹脂層を
形成し中間層とした以外は実施例1と同様にして電荷発
生層および電荷移動層を形成して電子写真感光体を作成
した。
(樹脂液(2))
トリレンジイソシアネート 14.5重量部シクロ
ヘキサノン 552重量部メチルエチルケ
トン 130重量部比較例6 実施例2においてアルミニウム蒸着膜を有するポリエス
テルフィルム上に下記樹脂液(3)を浸漬塗工し、13
0℃で10分間加熱して厚さ約1.2μmの樹脂層を形
成し中間層とした以外は実施例2と同様にして電荷発生
層および電荷移動層を形成して電子写真感光体を作成し
た。
ヘキサノン 552重量部メチルエチルケ
トン 130重量部比較例6 実施例2においてアルミニウム蒸着膜を有するポリエス
テルフィルム上に下記樹脂液(3)を浸漬塗工し、13
0℃で10分間加熱して厚さ約1.2μmの樹脂層を形
成し中間層とした以外は実施例2と同様にして電荷発生
層および電荷移動層を形成して電子写真感光体を作成し
た。
(樹脂液(3))
メタノール 60重量部ブタノー
ル 32重量部以上のようにして
作成した10種の電子写真感光体を市販の静電複写紙試
験装置(■月日電機製作所5P−428型)を用いて、
暗所で一6KVのコロナ放電を20秒間行なって帯電さ
せて、その時の表面電位(Vm)を測定し、さらに20
秒間暗所に放置した後の表面電位(Vpo)を測定した
。続いて、タングステンランプ光を感光体表面の照度が
4.5ルツクスになるように照射してVpoが1/2に
なるまでの露光量(El/2)および30秒間照射後の
残留表面電位(Vr)を測定した。また、繰り返し使用
特性を知るため、上記装置で−7,OKVでの帯電と4
0ルツクスでの露光を15分間繰り返した後、疲労後の
Vm、 El/2、Vrを同様に測定した。
ル 32重量部以上のようにして
作成した10種の電子写真感光体を市販の静電複写紙試
験装置(■月日電機製作所5P−428型)を用いて、
暗所で一6KVのコロナ放電を20秒間行なって帯電さ
せて、その時の表面電位(Vm)を測定し、さらに20
秒間暗所に放置した後の表面電位(Vpo)を測定した
。続いて、タングステンランプ光を感光体表面の照度が
4.5ルツクスになるように照射してVpoが1/2に
なるまでの露光量(El/2)および30秒間照射後の
残留表面電位(Vr)を測定した。また、繰り返し使用
特性を知るため、上記装置で−7,OKVでの帯電と4
0ルツクスでの露光を15分間繰り返した後、疲労後の
Vm、 El/2、Vrを同様に測定した。
各々の電子写真感光体の疲労前後のVm、 El/2゜
Vrの測定結果を表−1に示す。
Vrの測定結果を表−1に示す。
以上の実施例、比較例より明らかなように、本発明の両
親媒性化合物の単分子膜を重合処理した中間層を用いた
電子写真感光体は、良好な帯電性と低残留電位性とを合
わせ持ち、特に繰り返し使用時の帯電電位の低下や残留
電位の上昇のない安定した電気特性を示す。
親媒性化合物の単分子膜を重合処理した中間層を用いた
電子写真感光体は、良好な帯電性と低残留電位性とを合
わせ持ち、特に繰り返し使用時の帯電電位の低下や残留
電位の上昇のない安定した電気特性を示す。
Claims (1)
- 1、導電性基板上に中間層、電荷発生層および電荷移動
層を順次積層してなる電子写真感光体において、前記中
間層が高分子化合物の単分子膜または単分子累積膜であ
ることを特徴とする電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11653287A JPS63280257A (ja) | 1987-05-12 | 1987-05-12 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11653287A JPS63280257A (ja) | 1987-05-12 | 1987-05-12 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63280257A true JPS63280257A (ja) | 1988-11-17 |
Family
ID=14689456
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11653287A Pending JPS63280257A (ja) | 1987-05-12 | 1987-05-12 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63280257A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5089364A (en) * | 1990-10-26 | 1992-02-18 | Xerox Corporation | Electrophotographic imaging members containing a polyurethane adhesive layer |
EP0632334A1 (en) * | 1993-06-30 | 1995-01-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, and process cartridge and electrophotographic apparatus employing the same |
-
1987
- 1987-05-12 JP JP11653287A patent/JPS63280257A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5089364A (en) * | 1990-10-26 | 1992-02-18 | Xerox Corporation | Electrophotographic imaging members containing a polyurethane adhesive layer |
EP0632334A1 (en) * | 1993-06-30 | 1995-01-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, and process cartridge and electrophotographic apparatus employing the same |
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