JPS63265482A - Luminous power controller - Google Patents
Luminous power controllerInfo
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- JPS63265482A JPS63265482A JP62098571A JP9857187A JPS63265482A JP S63265482 A JPS63265482 A JP S63265482A JP 62098571 A JP62098571 A JP 62098571A JP 9857187 A JP9857187 A JP 9857187A JP S63265482 A JPS63265482 A JP S63265482A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/136—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
「 ネ ９ Ｌ ／ｒ１ 別 ｆＲ１４，ＩＲ１本
発明は照明装置の光量制御に関し、特にエキシマレーザ
光等の高出力パルスレーザ光の光量制御装置の改良に関
するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to the control of the light amount of a lighting device, and more particularly to the improvement of a light amount control device for high-power pulsed laser light such as excimer laser light.
［従来の技術］
従来この種の装置としては、第４図に示すようなものが
考えられていた。[Prior Art] Conventionally, as this type of device, the one shown in FIG. 4 has been considered.
図において、レーザ光源１００から放射出力されたレー
ザビームＬＡは、レンズ１０２及びレンズ１０４から構
成されるビームエクスパンダを透過して適当な幅の光束
に広げられ、偏光板１０６に入射するようになっている
。ここで、レーザ出力制御装置１０８はレーザ光源１０
０から出力されるレーザ光を制御している。また、偏光
板１０６は、所定の偏光特性の光束のみを透過させるも
ので、透過した光束は直線偏光となるように構成されて
いる。In the figure, a laser beam LA emitted from a laser light source 100 passes through a beam expander composed of a lens 102 and a lens 104, is expanded into a beam of appropriate width, and is made incident on a polarizing plate 106. ing. Here, the laser output control device 108 is the laser light source 10
It controls the laser light output from 0. Further, the polarizing plate 106 is configured to transmit only a light beam having a predetermined polarization characteristic, and the transmitted light beam becomes linearly polarized light.
偏光板１０６を透過し、直線偏光となった光束は、次に
偏光板１１０に入射するようになっている。The light beam that passes through the polarizing plate 106 and becomes linearly polarized light then enters the polarizing plate 110.
偏光板１１０は、偏光板駆動装置１１２によって等速回
転駆動されるとともに、該偏光板駆動装置１１２で゛回
転角度をモニターされ、入射する光と偏光板１１０との
相対的な角度によって透過する光量を制御できるように
なっている。The polarizing plate 110 is rotated at a constant speed by a polarizing plate driving device 112, and the rotation angle is monitored by the polarizing plate driving device 112, and the amount of transmitted light is determined depending on the relative angle between the incident light and the polarizing plate 110. can be controlled.
更に、偏光板１１０を透過した光は、レンズ１１４によ
り集光された後、照射対象である資料１１６を照射する
ようになっている。Further, the light transmitted through the polarizing plate 110 is condensed by a lens 114 and then irradiated onto a material 116 as an irradiation target.
他方、上述したレーザ出力制御装置１０８及び偏光板駆
動装置１１２は、制御装置１１８によって偏光板駆動装
置１１２の動きに同期してレーザ光が放射されるように
それぞれ制御されている。On the other hand, the laser output control device 108 and the polarizing plate driving device 112 described above are each controlled by the control device 118 so that laser light is emitted in synchronization with the movement of the polarizing plate driving device 112.
なお、図には示されていないが、光量をモニターする時
には光路の途中に八−フミラー等を挿入し、入射する光
を分割して検出するようになっている。Although not shown in the figure, when monitoring the amount of light, an eight-point mirror or the like is inserted in the middle of the optical path, and the incident light is divided and detected.
次に、上記従来技術の動作について説明する。Next, the operation of the above-mentioned prior art will be explained.
レーザ光源１００から放射されたレーザビームＬＡが、
上述したようにレンズ１０２．レンズ１０４及び偏光板
１０６を透過し、偏光板１１０に入射する。この時、偏
光板１１０を偏光板駆動装置１１２によフて等速回転さ
せ、該偏光板１１０が入射する光に対して適当な角度に
なった時に、これと同期してレーザを発振させるように
、制御装置１１８によりレーザ出力制御装置１０８を介
してレーザ光源１００の出力を制御する。The laser beam LA emitted from the laser light source 100 is
As mentioned above, the lens 102. The light passes through the lens 104 and the polarizing plate 106 and enters the polarizing plate 110. At this time, the polarizing plate 110 is rotated at a constant speed by the polarizing plate driving device 112, and when the polarizing plate 110 reaches an appropriate angle with respect to the incident light, the laser is oscillated in synchronization with this. Next, the control device 118 controls the output of the laser light source 100 via the laser output control device 108.
そして、偏光板１１０を透過した光は、レンズ１１４に
より集光された後、資料１１６を照射する。The light transmitted through the polarizing plate 110 is focused by a lens 114 and then illuminates the material 116.
上記のように従来においては、偏光板を利用して光量の
制御を行なっていた。As mentioned above, in the past, the amount of light was controlled using a polarizing plate.
このような技術は、主にレーザ加工装置の光量制御に多
く使用されているものである。Such techniques are mainly used for controlling the amount of light in laser processing equipment.
［発明が解決しようとする問題点］
しかし、上記のように偏光板によって光量制御を行なう
従来技術においては、近年注目されているエキシマレー
ザを光源として用いた場合に、以下のような問題点が生
じた。[Problems to be Solved by the Invention] However, in the conventional technology that controls the amount of light using a polarizing plate as described above, when an excimer laser, which has been attracting attention in recent years, is used as a light source, the following problems arise. occured.
まず、エキシマレーザは遠紫外光であり、高出力レーザ
であるとともに、出力が不安定なため、偏光板の耐久性
及び光量制御自体の精度が著しく低下するという致命的
な問題点があった。First, the excimer laser emits deep ultraviolet light, is a high-power laser, and has unstable output, which poses a fatal problem in that the durability of the polarizing plate and the accuracy of the light amount control itself are significantly reduced.
また、光量をモニターするためには、ハーフミラ−等を
用いて光を導いているため、モニター用として多くの光
量が使用され、光量の損失が大きくなってしまうという
不都合が生じた。Furthermore, in order to monitor the amount of light, a half mirror or the like is used to guide the light, so a large amount of light is used for monitoring, resulting in an inconvenience that the loss of the amount of light becomes large.
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、精度
の高い光量制御を行なえるとともに、耐久性に優れ、且
つ光量損失の少ない光量制御装置を得ることを目的とす
るものである。The present invention has been made in view of these points, and an object of the present invention is to provide a light amount control device that can perform highly accurate light amount control, has excellent durability, and has little loss of light amount.
［問題点を解決するための手段］
この発明にかかる光量制御装置は、光路の途中に設けら
れた複数の偏光ビームスプリッタと、これら複数の偏光
ビームスプリッタの少なくとも一つを駆動する駆動手段
と、上記偏光ビームスプリッタによりて分割された光束
の一方を受光する受光手段と、上記複数の偏光ビームス
プリッタの相対的な角度関係と受光手段において得られ
る光量とに基いて、上記駆動手段及び光源の出力をそ？
ｅ ？−ａｌｌ舖ナス自１加工階シルイ請愛た７シル
姑讃的要点としたものである。[Means for Solving the Problems] A light amount control device according to the present invention includes a plurality of polarizing beam splitters provided in the middle of an optical path, a driving means for driving at least one of the plurality of polarizing beam splitters, A light receiving means that receives one of the light beams split by the polarizing beam splitter, and an output of the driving means and light source based on the relative angular relationship between the plurality of polarizing beam splitters and the amount of light obtained in the light receiving means. So?
e? - All of the eggplants themselves were treated as 1st and 7th graders' praise points.
本発明においては、偏光ビームスプリッタを用いて光量
制御を行なりているため、該偏光ビームスプリッタが結
晶構造であることから、エキシマレーザ等の高出力レー
ザに対しても耐久性が良く、精度の高い制御が可能とな
る。In the present invention, since the light amount is controlled using a polarizing beam splitter, since the polarizing beam splitter has a crystal structure, it has good durability against high-power lasers such as excimer lasers, and has high precision. A high degree of control is possible.
また、受光手段への光の分割を、ハーフミラ−等を使用
せずに偏光ビームスプリッタによって行なうため、光量
損失が極めて少なく、その結果効率の良い光量制御を行
なえるとこととなる。Furthermore, since the light is split to the light receiving means by a polarizing beam splitter without using a half mirror or the like, loss of light quantity is extremely small, and as a result, efficient light quantity control can be performed.
［実施例］ 以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。[Example] Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第１図には、露光装置に利用した本発明の一実施例が示
されている。FIG. 1 shows an embodiment of the present invention utilized in an exposure apparatus.
図において、エキシマレーザ光源１０から放射されたレ
ーザ光ＬＢは、レンズ１２及びレンズ１４から構成され
るビームエクスパンダによって光束を適当な幅に広げら
れた後に、偏光ビームスプリッタ１６に入射し、透過し
た光を直線偏光とする構成になフている。In the figure, a laser beam LB emitted from an excimer laser light source 10 is expanded into an appropriate width by a beam expander consisting of a lens 12 and a lens 14, and then enters a polarizing beam splitter 16 and is transmitted. The structure is such that the light is linearly polarized.
偏光ビームスプリッタ１６としては、例えば第２図に示
されているような、方解石（ＣａＣＯｓ ）や水晶等で
形成されたもの等がある。このようなものを使用した場
合には、これらの結晶内で生じる光の複屈折を用い、境
界面で複屈折した光線のうち一方の偏光特性をもった光
線ａのみを利用することとなる。The polarizing beam splitter 16 may be made of calcite (CaCOs), quartz, or the like, as shown in FIG. 2, for example. When such a crystal is used, the birefringence of light generated within these crystals is used, and only the ray a having one polarization characteristic among the rays birefringent at the interface is used.
また、偏光ビームスプリッタ１６は駆動装置２０によっ
て入射する光と直交する面上を等速で回転するように駆
動されるとともに、この駆動装置２０で回転角度をモニ
ターされている。更に、駆動装置２０は偏光ビームスプ
リッタ１６の駆動量を制御装置４０によって制御されて
おり、偏光ビームスプリッタ１６の回転角度によって透
過する光の光量を制御できるようになっている。Further, the polarizing beam splitter 16 is driven by a driving device 20 to rotate at a constant speed on a plane perpendicular to the incident light, and the rotation angle is monitored by the driving device 20. Further, the driving device 20 controls the driving amount of the polarizing beam splitter 16 by the control device 40, so that the amount of transmitted light can be controlled by the rotation angle of the polarizing beam splitter 16.
他方、エキシマレーザ光源１０は、パルス波発振装置１
８によってレーザ光の放射を行なっており、更にパルス
光波発振装置１８は制御装置４０によって制御されてい
る。On the other hand, the excimer laser light source 10 is a pulse wave oscillator 1
The pulsed light wave oscillation device 18 is further controlled by a control device 40 .
次に、上記のように偏光ビームスプリッタ１６の作用に
よって直線偏光となった光束は、もう１つの偏光ビーム
スプリッタ２２に入射し、偏光特性によって反射される
光と透過する光とに分割されるより・になっている、な
お、偏光ビームスプリッタ２２の角度は、予め所定の角
度に固定されている。Next, the light beam that has become linearly polarized by the action of the polarizing beam splitter 16 as described above enters another polarizing beam splitter 22, where it is split into reflected light and transmitted light depending on the polarization characteristics. Note that the angle of the polarizing beam splitter 22 is fixed to a predetermined angle in advance.
偏光ビームスプリッタ２２で分割された光のうち、ここ
で反射された光は、レンズ２４及びフィルタ２６を透過
して減光された後、受光素子２８に受光されるようにな
っている。゛受光素子２８で受光された光は、受光量測
定装置３０において光量を測定され、そのデータは制御
装置４０に入力されるように構成されている。Of the light split by the polarizing beam splitter 22, the light reflected here passes through a lens 24 and a filter 26 to be attenuated, and then is received by a light receiving element 28. The amount of light received by the light receiving element 28 is measured by a received light amount measuring device 30, and the data is input to a control device 40.
制御装置４０では、上述したパルス光発振装置１８、駆
動装置２０及び受光量測定装置３０からの各々の情報に
基いて、パルスレーザを任意の偏光ビームスプリッタ１
６の角度で発振させるように、駆動装置２０とパルス光
発振装置１８を並行して制御するようになっている。The control device 40 directs the pulsed laser to any polarization beam splitter 1 based on the information from the pulsed light oscillator 18, the drive device 20, and the received light amount measuring device 30.
The driving device 20 and the pulsed light oscillation device 18 are controlled in parallel so as to oscillate at an angle of 6.
詳述すると、偏光ビームスプリッタ１６及び２２の各々
の角度から雨漏光ビームスプリッタの角度差を求め、一
方で偏光ビームスプリッタ２２で反射された光の光量を
、フィルター２６の透過率及び受光素子２８で受光され
た光量より求める。そして、偏光ビームスプリッタ１６
及び２２の角度差と偏光ビームスプリッタ２２で反射さ
れた光量とからレチクル３８を照射する光量を算出する
。To be more specific, the angle difference of the leakage beam splitter is determined from the angle of each of the polarizing beam splitters 16 and 22, and the amount of light reflected by the polarizing beam splitter 22 is determined by the transmittance of the filter 26 and the light receiving element 28. Determined from the amount of light received. And polarizing beam splitter 16
and 22 and the amount of light reflected by the polarizing beam splitter 22, the amount of light irradiating the reticle 38 is calculated.
更に、この光量を積算光量記憶装置４２において積算し
、積算光量が所定の許容範囲内に達した時に露光を終了
するように、パルス光発振装置１８及び駆動装置２０を
それぞれ制御するようになっている。Further, the pulsed light oscillation device 18 and the driving device 20 are controlled so that the amount of light is integrated in the integrated amount of light storage device 42 and the exposure is ended when the amount of integrated light reaches within a predetermined tolerance range. There is.
他方、偏光ビームスプリッタ２２を透過した光は、四分
の一波長板３２を透過し、直線偏光が円偏光に特性を変
えられる。その後、光はフライアイレンズ３４及びコン
デンサレンズ３６を透過して、ビームの均一化が施され
てレチクル３８を照明するように構成されている。On the other hand, the light that has passed through the polarizing beam splitter 22 passes through a quarter-wave plate 32, and its characteristics are changed from linearly polarized light to circularly polarized light. Thereafter, the light is configured to pass through a fly's eye lens 34 and a condenser lens 36, and the beam is uniformized to illuminate a reticle 38.
次に、上記実施例の全体的な動作を第３図を参照しなが
ら説明する。Next, the overall operation of the above embodiment will be explained with reference to FIG.
例えば、偏光ビームスプリッタ１６と２２との角度差を
θ、フィルタ２６の透過率をα、受光量測定装置３０で
得られた光量をＥａとすると、レチクル上を照射する光
の光量は
Ｅａｘ（１−ｃｏｓθ）
□ ・・・・・・（１）
α
で表わされる。For example, if the angular difference between the polarizing beam splitters 16 and 22 is θ, the transmittance of the filter 26 is α, and the amount of light obtained by the received light amount measuring device 30 is Ea, then the amount of light irradiating the reticle is Eax(1 -cosθ) □ ...... (1) Represented by α.
基本的には、以上のように求められた光量を積算光量記
憶装置４２において積算し、積算された光量が所定の許
容範囲内に達した時点で露光を終了することとなる。Basically, the light amount determined as above is integrated in the integrated light amount storage device 42, and the exposure is ended when the integrated light amount reaches within a predetermined tolerance range.
しかし、実際にはエキシマレーザ光源におけるレーザ発
振時の光量誤差があるため、以下のようにして所定の露
光量を得ている。However, in reality, since there is an error in the amount of light during laser oscillation in the excimer laser light source, a predetermined amount of exposure is obtained as follows.
第３図には、レチクル３８上を照射する光量と偏光ビー
ムスプリッタ１８．２２の角度差θとの関係が示されて
いる。FIG. 3 shows the relationship between the amount of light irradiating onto the reticle 38 and the angular difference θ between the polarizing beam splitters 18 and 22.
例えば必要露光量をＥ１エキシマレーザ光源１０から放
射される一定の光量をＥＯｓエキシマレーザの発振の誤
差をΔＥとした場合に、まず制御装置４０において、Ｅ
、＋ΔＥがＥを超えないようなＥｌを最初の予測露光量
として選出する。For example, if the required exposure amount is a constant amount of light emitted from the E1 excimer laser light source 10 and the error in oscillation of the EOs excimer laser is ΔE, first, in the control device 40, E
, +ΔE does not exceed E as the first predicted exposure amount.
そして、出力光量ＥＯと偏光ビームスプリッタ２２の角
度から得られる透過光量の割合とから、選出した予測露
光量Ｅ、に対応する偏光ビームスプリッタ１６の角度を
求め、求められた角度より駆動指令を駆動装置２０に送
る。Then, the angle of the polarizing beam splitter 16 corresponding to the selected predicted exposure amount E is determined from the output light amount EO and the ratio of the amount of transmitted light obtained from the angle of the polarizing beam splitter 22, and the drive command is driven from the determined angle. to the device 20.
次に、駆動装置２０では制御装置４０からの駆動指令に
より偏光ビームスプリッタ１６を回転駆動させ、偏光ビ
ームスプリッタ１６の位置設定が完了した時点で′パル
ス光発振装置１８を介してエキシマレーザ光源１０から
一定光量Ｅ０のレーザ光を放射する。Next, in the driving device 20, the polarizing beam splitter 16 is rotationally driven in accordance with the driving command from the control device 40, and when the position setting of the polarizing beam splitter 16 is completed, the pulsed light oscillator 18 Emit a laser beam with a constant amount of light E0.
エキシマレーザ光源１０から放射されたレーザ光は、上
述したようにレンズ１２及び１４を透過し、駆動装置２
０によって等速回転している偏光ビームスプリッタ１６
に入射する０次に、偏光ビームスプリッタ１６に入射し
た光はＰ、Ｓどちらか一方の偏光特性をもった直線偏光
とされ、もう１つの偏光ビームスプリッタ２２に入射す
る。The laser light emitted from the excimer laser light source 10 passes through the lenses 12 and 14 as described above, and is transmitted through the driving device 2.
Polarizing beam splitter 16 rotating at a constant speed by 0
The zero-order light incident on the polarizing beam splitter 16 is made into linearly polarized light having either P or S polarization characteristics, and enters the other polarizing beam splitter 22 .
そして、偏光ビームスプリッタ２２を透過した光は、四
分の一波長板３２．フライアイレンズ３４及びコンデン
サレンズ３６を各々透過してレチクル３８を照射する。The light transmitted through the polarizing beam splitter 22 is then transmitted through the quarter-wave plate 32. The light passes through a fly-eye lens 34 and a condenser lens 36 to illuminate a reticle 38.
他方、偏光ビームスプリッタ２２で反射された光は、レ
ンズ２４及びフィルタ２６の各々を介して受光素子２８
に入射する。更に受光素子２８で得られた光量Ｅａ、を
受光量測定装置３０で測定し、そのデータを制御装置４
０に入力する。On the other hand, the light reflected by the polarizing beam splitter 22 passes through the lens 24 and the filter 26 to the light receiving element 28.
incident on . Furthermore, the amount of light Ea obtained by the light receiving element 28 is measured by the amount of received light measuring device 30, and the data is sent to the control device 4.
Enter 0.
制御装置４０では、上記（１）式を基に、受光素子２８
で得られた光量Ｅａ１ と偏光ビームスプリッタ１６．
２２の角度差θ１とから、実際にレチクル３８を照射し
た光の光量ＥＸＩをより求める。In the control device 40, based on the above formula (1), the light receiving element 28
The amount of light Ea1 obtained by the polarizing beam splitter 16.
The amount of light EXI of the light that actually illuminates the reticle 38 is determined from the angle difference θ1 of 22.
次に、必要露光量Ｅの不足分である残留露光量Ｅ−ＥＸ
ＩをＥｚｌとし、Ｅ２＋ΔＥがＦ、ｚ＋を超えないよう
な予測露光量Ｅ２を算出し、以下Ｅ１と同様に予測露光
量Ｅ２に対応する偏光ビームスプリッタ１６の角度を求
め、駆動調整をして再び露光を行なう。Next, the residual exposure amount E-EX which is the shortfall of the required exposure amount E
Let I be Ezl, calculate the predicted exposure amount E2 such that E2+ΔE does not exceed F,z+, and then calculate the angle of the polarizing beam splitter 16 corresponding to the predicted exposure amount E2 in the same manner as E1, adjust the drive, and repeat. Perform exposure.
以後、残留露光量を順にＥ ｚｚ＝ Ｅ ｚ＋−Ｅ ｘ
ｔ＋ＥＺ！−Ｅｚｚ−ＥＸ３１ ” ’ Ｅｚ
ｎ＋＋−ＥＸｎ−ＥＸｎ４１として求め、上記と同様な
動作を繰返して露光を行なう、なお、上述したようにＥ
２は残留露光量、ＥＸは実際にレチクルを照射、した光
の光量である。After that, the residual exposure amount is calculated in order as E zz = E z + - E x
t+EZ! -Ezz-EX31 ” ' Ez
n++-EXn-EXn41, and perform exposure by repeating the same operation as above.
2 is the residual exposure amount, and EX is the amount of light that actually illuminates the reticle.
他方、このように求められた光量ＥＸｎを全て積算光量
記憶装置４２に記憶しておき、光量ＥＸｎの積算値が光
量Ｅを基準とした所定の許容範囲内に達するまでパルス
レーザの発振を行ない、所定の許容範囲内に達した時に
レーザの発振を停止する。On the other hand, all the light quantities EXn obtained in this manner are stored in the integrated light quantity storage device 42, and the pulsed laser is oscillated until the integrated value of the light quantities EXn reaches within a predetermined tolerance range based on the light quantity E. Laser oscillation is stopped when reaching a predetermined tolerance.
以上の動作は、制御装置４０における演算、判断に基い
て、パルス光発生装置１８及び駆動装置２０の翻イ乍ｒ
、ｌ−って咎かわｈス−このようにして、レチクル３８
を照射する光の光量を制御して、良好な露光量を得てい
る。The above operations are based on the calculations and judgments in the control device 40, and the pulsed light generator 18 and the drive device 20 are rotated.
In this way, the reticle 38
The amount of light irradiated is controlled to obtain a good amount of exposure.
以上のように上記実施例においては、偏光ビームスプリ
ッタ１６及び２２によって光量制御を行なりているため
、エキシマレーザ等の高出力レーザにも良好に対応でき
るとともに、光量モニター用に光を分割する場合におい
ても光量の損失を極めて少なくできるという効果がある
。As described above, in the above embodiment, since the light amount is controlled by the polarizing beam splitters 16 and 22, it is well suited for use with high-power lasers such as excimer lasers, and when splitting light for light amount monitoring. Also, there is an effect that the loss of the amount of light can be extremely reduced.
また、積算光量によって光量の制御を行なっているため
、更に精度の高い光量制御が可能となる。Furthermore, since the light amount is controlled based on the integrated light amount, it is possible to control the light amount with even higher accuracy.
なお、本発明による光量制御装置は上記実施例に限定さ
れるものではなく、露光装置以外の装置にも充分適用可
能なことは明らかである。It should be noted that the light amount control device according to the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and it is clear that it can be sufficiently applied to devices other than exposure devices.
［発明の効果］
以上のように本発明によれば、複数の偏光ビームスプリ
ッタを用いて光量制御を行なりているため、エキシマレ
ーザ等の高出力レーザを用いた場合においても、耐久性
よく、高精度で、更に効率の良い光量制御を行なうこと
ができるという効果がある。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, since the light amount is controlled using a plurality of polarizing beam splitters, even when a high-output laser such as an excimer laser is used, it has good durability. This has the effect of enabling highly accurate and more efficient light amount control.
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図及び第
３図は実施例の作用を示す説明図、第４図は従来の技術
の一実施例を示す構成図である。
［主要部分の符号の説明］
１０・・・エキシマレーザ光源、１６．２２・・・（ｌ
ｉ光ビームスプリッタ、２０・・・駆動装置、２８・・
・受光素子、４０・・・制御装置。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention, FIGS. 2 and 3 are explanatory diagrams showing the operation of the embodiment, and FIG. 4 is a block diagram showing an embodiment of a conventional technique. [Explanation of symbols of main parts] 10... Excimer laser light source, 16.22... (l
i-light beam splitter, 20...driver, 28...
- Light receiving element, 40...control device.
Claims (1)
る光量制御装置において、 光路の途中に設けられた複数の偏光ビームスプリッタと
、 該偏光ビームスプリッタにおいて分割される所定の方向
の光の割合を変化させるように、上記複数の偏光ビーム
スプリッタの少なくとも一つを駆動する駆動手段と、 上記偏光ビームスプリッタによって分割された光の一方
を受光する受光手段と、 上記複数の偏光ビームスプリッタの相対的な角度関係と
受光手段において得られる光量とに基いて、上記駆動手
段を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする光量
制御装置。[Scope of Claim] A light amount control device that controls light output from a light source to a predetermined amount of light, comprising: a plurality of polarizing beam splitters provided in the middle of an optical path; and a predetermined amount of light divided by the polarizing beam splitters. a driving means for driving at least one of the plurality of polarizing beam splitters so as to change the ratio of light in the direction of the plurality of polarizing beam splitters; a light receiving means for receiving one of the lights split by the polarizing beam splitter; A light amount control device comprising: a control means for controlling the driving means based on the relative angular relationship of the polarizing beam splitter and the amount of light obtained by the light receiving means.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62098571A JPS63265482A (en) | 1987-04-23 | 1987-04-23 | Luminous power controller |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62098571A JPS63265482A (en) | 1987-04-23 | 1987-04-23 | Luminous power controller |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63265482A true JPS63265482A (en) | 1988-11-01 |
Family
ID=14223361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62098571A Pending JPS63265482A (en) | 1987-04-23 | 1987-04-23 | Luminous power controller |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63265482A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0381078A (en) * | 1989-08-24 | 1991-04-05 | Toshiba Corp | Laser beam machine |
| JPH049291A (en) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Canon Inc | Boring machine by laser |
| JP2005289693A (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Nikon Corp | Artificial quartz member, optical element, optical system, projection aligner, and method for selecting artificial quartz member |
| JP2007044739A (en) * | 2005-08-11 | 2007-02-22 | Miyachi Technos Corp | Laser machining monitoring device |
| JP2013182085A (en) * | 2012-02-29 | 2013-09-12 | V Technology Co Ltd | Polarization exposure device |
-
1987
- 1987-04-23 JP JP62098571A patent/JPS63265482A/en active Pending
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