JPS63259807A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS63259807A JPS63259807A JP9400487A JP9400487A JPS63259807A JP S63259807 A JPS63259807 A JP S63259807A JP 9400487 A JP9400487 A JP 9400487A JP 9400487 A JP9400487 A JP 9400487A JP S63259807 A JPS63259807 A JP S63259807A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 3
- 239000011162 core material Substances 0.000 claims 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 abstract description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は最短記録波長が１μｍ以下の高密度磁気記録再
生を行うために必要な磁気ヘッドの製造方法に関する。
生を行うために必要な磁気ヘッドの製造方法に関する。
［発明の概要〕
本発明の磁気ヘッドの製造方法は、高透磁率を有する酸
化物磁性材料、あるいは高透磁率、高飽和磁束密度を有
する合金磁性材料ブロックに、トラック溝を所定のトラ
ック幅よりも広い間隔で形成し、その後ＨＣＩあるいは
、Ｈ３ＰＯ４等によりエツチングすることにより所定の
トラック幅を得ることを特徴とする。
化物磁性材料、あるいは高透磁率、高飽和磁束密度を有
する合金磁性材料ブロックに、トラック溝を所定のトラ
ック幅よりも広い間隔で形成し、その後ＨＣＩあるいは
、Ｈ３ＰＯ４等によりエツチングすることにより所定の
トラック幅を得ることを特徴とする。
従来の磁気ヘッドの製造方法を嶌７図がら溶１１図を用
いて説明する。
いて説明する。
まず、酸化物磁性材料あるいは合金磁性材料のブロック
１に内部巻線溝２と外部巻線溝３をダイシングソー等の
切削加工により付す。続いて、トラック溝４′ｆニドラ
ック幅５の間隔で切削加工により加工を付す。次に、内
部巻線溝２とトラック溝４にガラス６を充填し、その後
７の部分のガラスを切削し、ギャップ対向面となる面を
鏡面に研磨する。その後、ギャップ材となる５ｉ０２等
をスパッタリング等により０．１５μｍ程度形成し、２
つのブロックのギャップ対向面同士を付き合わせガラス
の部分を溶着し、８の部分よりｔ７Ｉ断することにより
第１１図の様な磁気へラドチップを得る。
１に内部巻線溝２と外部巻線溝３をダイシングソー等の
切削加工により付す。続いて、トラック溝４′ｆニドラ
ック幅５の間隔で切削加工により加工を付す。次に、内
部巻線溝２とトラック溝４にガラス６を充填し、その後
７の部分のガラスを切削し、ギャップ対向面となる面を
鏡面に研磨する。その後、ギャップ材となる５ｉ０２等
をスパッタリング等により０．１５μｍ程度形成し、２
つのブロックのギャップ対向面同士を付き合わせガラス
の部分を溶着し、８の部分よりｔ７Ｉ断することにより
第１１図の様な磁気へラドチップを得る。
上記従来の磁気ヘッドの製造方法において、トラック溝
等を加工する場合、ダイシングソー等の切削加工により
磁性材料に、加工表面から２〜３μｍの部分に大きな加
工歪が大きな加工歪が入った部分では磁気特性が大幅に
劣化してしまう。特に、トラック幅を形成する部分（以
後トラック部分とする。）では、加工歪が入った部分は
有効に作用しないため、有効トラック幅が所定のトラッ
ク幅より狭くなってしまう。有効トラック幅の減少によ
り、再生出力も減少してしまうという問題点がある。
等を加工する場合、ダイシングソー等の切削加工により
磁性材料に、加工表面から２〜３μｍの部分に大きな加
工歪が大きな加工歪が入った部分では磁気特性が大幅に
劣化してしまう。特に、トラック幅を形成する部分（以
後トラック部分とする。）では、加工歪が入った部分は
有効に作用しないため、有効トラック幅が所定のトラッ
ク幅より狭くなってしまう。有効トラック幅の減少によ
り、再生出力も減少してしまうという問題点がある。
［問題点を解決するだめの手段〕
本発明の磁気ヘッドの製造方法は、高透磁率を有する酸
化物磁性材料、あるいは高透磁率、高飽和磁束密度を有
する合金磁性材料ブロックに、トラック溝を所定のトラ
ック幅よりも広い間隔で形成し、その後ＨＣＩあるいは
、Ｈ３ＰＯ４等によりエツチングすることにより所定の
トラック幅を得ることを特徴とする。
化物磁性材料、あるいは高透磁率、高飽和磁束密度を有
する合金磁性材料ブロックに、トラック溝を所定のトラ
ック幅よりも広い間隔で形成し、その後ＨＣＩあるいは
、Ｈ３ＰＯ４等によりエツチングすることにより所定の
トラック幅を得ることを特徴とする。
［作 用］
本発明によれば、トラック幅を形成する部分の全幅が有
効に記録・再生時に作用するため、高出力の磁気ヘッド
を得ることができる。特に、狭トラツク幅の磁気ヘッド
の場合、本発明による効果が顕著にあられれる。
効に記録・再生時に作用するため、高出力の磁気ヘッド
を得ることができる。特に、狭トラツク幅の磁気ヘッド
の場合、本発明による効果が顕著にあられれる。
本発明の実施例を第１図から嘉６図を用いて説明する。
１ず、酸化物磁性材料、あるいは合金磁性材料のブロッ
ク９に、内部巻線溝１ｏと外部巻線溝を加工する。次に
、第２図の様にトラック溝１２を所定のトラック幅より
も６μｍ程度広い間隔１３で形成する。次に、このよう
にして加工されたブロック’ｋ、ＨＣＩやＨ３Ｐ Ｏ４
ｇｆｔ、 ’ｊｆ”用いてエツチングすることにより、
３μｍ程度エツチングして、第３図の様にトラック部分
をトラック幅１３がら所定のトラック幅１４にする。
ク９に、内部巻線溝１ｏと外部巻線溝を加工する。次に
、第２図の様にトラック溝１２を所定のトラック幅より
も６μｍ程度広い間隔１３で形成する。次に、このよう
にして加工されたブロック’ｋ、ＨＣＩやＨ３Ｐ Ｏ４
ｇｆｔ、 ’ｊｆ”用いてエツチングすることにより、
３μｍ程度エツチングして、第３図の様にトラック部分
をトラック幅１３がら所定のトラック幅１４にする。
その後、ガラス１５をモールドし、ギヤツブ対向面を鏡
面状に研磨し、その部分にギャップ材となるＳｉＯ２等
をスパッタリング等の方法により０．１５μｍ程度形成
する。この様にして得られた２つのブロックをギヤツブ
対向面同士付き合わせガラス溶着することにより君５図
の様なブロックを得る。その後テープ摺動面に曲率をつ
け、１６部分より切断することによシ汚６図の様な磁気
へラドチップを得る。
面状に研磨し、その部分にギャップ材となるＳｉＯ２等
をスパッタリング等の方法により０．１５μｍ程度形成
する。この様にして得られた２つのブロックをギヤツブ
対向面同士付き合わせガラス溶着することにより君５図
の様なブロックを得る。その後テープ摺動面に曲率をつ
け、１６部分より切断することによシ汚６図の様な磁気
へラドチップを得る。
本発明によれば、トラック幅方向の加工歪を除去するこ
とができ、高出力の磁気ヘッドを得ることができる。
とができ、高出力の磁気ヘッドを得ることができる。
第１図から第６図は、本発明の磁気ヘッドの製造方法の
一実施例を示す図である。第７図から第１１図は、従来
の磁気ヘッドの製造方法の一実施例を示す図である。 に酸化物磁性材料あるいは合金磁性材料２：内部巻線溝
３：外部巻線溝 ４ニドラツク溝 ５：所定の
トラック幅 ６：ガラス ７：内部巻線溝 ８：
切断ライン９二酸化物磁性材料、あるいは、合金磁性材
料１０：内部巻線溝 １１：外部巻線溝１２ニドラッ
ク溝 １３：所定のトラック幅方向６μｍの幅 １
４：所定のトラック幅１５ニガラス １６：切断ライ
ン 代理人 弁理士 杉 山 毅 至（他１名）１Ｎ開昭
６３−２５９８０７（３） １４ ｑ 第２１！１ ｎ ｒｌ
亡 ＯＭ第Ｖ凶 完Ｏｐ 第９図 第１０阻 第１１図
一実施例を示す図である。第７図から第１１図は、従来
の磁気ヘッドの製造方法の一実施例を示す図である。 に酸化物磁性材料あるいは合金磁性材料２：内部巻線溝
３：外部巻線溝 ４ニドラツク溝 ５：所定の
トラック幅 ６：ガラス ７：内部巻線溝 ８：
切断ライン９二酸化物磁性材料、あるいは、合金磁性材
料１０：内部巻線溝 １１：外部巻線溝１２ニドラッ
ク溝 １３：所定のトラック幅方向６μｍの幅 １
４：所定のトラック幅１５ニガラス １６：切断ライ
ン 代理人 弁理士 杉 山 毅 至（他１名）１Ｎ開昭
６３−２５９８０７（３） １４ ｑ 第２１！１ ｎ ｒｌ
亡 ＯＭ第Ｖ凶 完Ｏｐ 第９図 第１０阻 第１１図
Claims (1)
- １、高透磁率を有する酸化物磁性材料あるいは高透磁率
高飽和磁束密度を有する合金磁性材料をコア材料として
用いる磁気ヘッドの製造方法において、前記磁性材料ブ
ロックにトラック幅を得るための溝を所定のトラック幅
より広い間隔で形成し、その後、ＨＣＩあるいはＨ＿３
ＰＯ＿４等によりエッチングすることにより所定のトラ
ック幅を得ることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9400487A JPS63259807A (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9400487A JPS63259807A (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63259807A true JPS63259807A (ja) | 1988-10-26 |
Family
ID=14098277
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9400487A Pending JPS63259807A (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63259807A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005026180A1 (ja) | 2003-09-08 | 2005-03-24 | Ube Industries, Ltd. | トリアルコキシハロシランの製造方法及びアルコキシ（ジアルキルアミノ）シランの製造方法、並びにα−オレフィンの重合又は共重合に用いられるα−オレフィンの重合又は共重合用触媒、その触媒成分及びその触媒を用いたα−オレフィンの重合方法 |
| US7238758B2 (en) | 2002-08-19 | 2007-07-03 | Ube Industries, Ltd. | Catalysts for polymerization or copolymerization of α-olefins, catalyst components thereof, and processes for polymerization of α-olefins with the catalysts |
-
1987
- 1987-04-16 JP JP9400487A patent/JPS63259807A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7238758B2 (en) | 2002-08-19 | 2007-07-03 | Ube Industries, Ltd. | Catalysts for polymerization or copolymerization of α-olefins, catalyst components thereof, and processes for polymerization of α-olefins with the catalysts |
| EP3020738A2 (en) | 2002-08-19 | 2016-05-18 | Toho Titanium Co., Ltd. | Catalyst and catalyst component thereof |
| WO2005026180A1 (ja) | 2003-09-08 | 2005-03-24 | Ube Industries, Ltd. | トリアルコキシハロシランの製造方法及びアルコキシ（ジアルキルアミノ）シランの製造方法、並びにα−オレフィンの重合又は共重合に用いられるα−オレフィンの重合又は共重合用触媒、その触媒成分及びその触媒を用いたα−オレフィンの重合方法 |
| US7396950B2 (en) | 2003-09-08 | 2008-07-08 | Ube Industries, Ltd. | Process for production of trialkoxyhalosilanes |
| US7396951B2 (en) | 2003-09-08 | 2008-07-08 | Ube Industries, Ltd. | Process for production of trialkoxyhalosilanes |
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