JPS63256492A - 直描型平版印刷用原版 - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 title description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 51
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 39
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 39
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 25
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 21
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 19
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 abstract description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract 1
- -1 methoxyethyl group Chemical group 0.000 description 50
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 36
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 26
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 23
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 19
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 13
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 10
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 7
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 6
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 4
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 4
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 3
- 239000006258 conductive agent Substances 0.000 description 3
- 125000004188 dichlorophenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 238000012552 review Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 3
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 3
- 239000013053 water resistant agent Substances 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 125000004803 chlorobenzyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000004802 cyanophenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 2
- 125000004772 dichloromethyl group Chemical group [H]C(Cl)(Cl)* 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000006501 nitrophenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920013730 reactive polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- JSDZSLGMRRSAHD-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutan-2-ylcyclopropane Chemical compound CC(C)C(C)C1CC1 JSDZSLGMRRSAHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 206010011224 Cough Diseases 0.000 description 1
- 229910020514 Co—Y Inorganic materials 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001756 Polyvinyl chloride acetate Polymers 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000000855 fermentation Methods 0.000 description 1
- 230000004151 fermentation Effects 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006178 methyl benzyl group Chemical group 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 125000006502 nitrobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- JMHCCAYJTTWMCX-QWPJCUCISA-M sodium;(2s)-2-amino-3-[4-(4-hydroxy-3,5-diiodophenoxy)-3,5-diiodophenyl]propanoate;pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Na+].IC1=CC(C[C@H](N)C([O-])=O)=CC(I)=C1OC1=CC(I)=C(O)C(I)=C1 JMHCCAYJTTWMCX-QWPJCUCISA-M 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 125000006337 tetrafluoro ethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 238000004078 waterproofing Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は平版印刷用原版に関し、詳しくは、事務用印刷
原版等に好適な直描型平版印刷用原版に関する。
原版等に好適な直描型平版印刷用原版に関する。
(従来技術)
現在、事務用印刷原版としては支持体上に画像受理層を
有する直描型平版印刷原版が広く用いられている。この
ような印刷原版に製版、即ち画像形成を行なうには一般
に画像受理層に油性インキを手書きにより描画するか、
タイプライタ−、イングジェット方式あるいは転写型怒
熱方式等で印字する方法が採用されている。その他、普
通紙電子写真複写機(P P C)を用いて帯電、露光
及び現像の工程を経て感光体上に形成したトナー画像を
画像受理層に転写定着する方法も近年使われ始めた。い
ずれにしても製版後の印刷原版は不感脂化液(いわゆる
エッチ液)で表面処理して非画像部を不感脂化した後、
印刷版として平版印刷に供せられる。
有する直描型平版印刷原版が広く用いられている。この
ような印刷原版に製版、即ち画像形成を行なうには一般
に画像受理層に油性インキを手書きにより描画するか、
タイプライタ−、イングジェット方式あるいは転写型怒
熱方式等で印字する方法が採用されている。その他、普
通紙電子写真複写機(P P C)を用いて帯電、露光
及び現像の工程を経て感光体上に形成したトナー画像を
画像受理層に転写定着する方法も近年使われ始めた。い
ずれにしても製版後の印刷原版は不感脂化液(いわゆる
エッチ液)で表面処理して非画像部を不感脂化した後、
印刷版として平版印刷に供せられる。
従来の直描型平版印刷版は紙等の支持体の両面に裏面層
及び中間層を介して表面層が設けられていた。IX面層
又は中間層はPVA澱粉等の水溶性樹脂及び合成樹脂エ
マルシヨン等の水分散性樹脂と顔料で形成されている0
表面層は顔料、水溶性樹脂及び耐水化剤で形成される。
及び中間層を介して表面層が設けられていた。IX面層
又は中間層はPVA澱粉等の水溶性樹脂及び合成樹脂エ
マルシヨン等の水分散性樹脂と顔料で形成されている0
表面層は顔料、水溶性樹脂及び耐水化剤で形成される。
このような画描型平版印刷原版の代表例は米国特許第2
532865号に記載されるように、画像受理層をPV
Aのような水溶性樹脂バインダー、シリカ、炭酸カルシ
ウム等のような無機顔料及びメラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂初期縮合物のような耐水化剤を主成分として構成
したものである。
532865号に記載されるように、画像受理層をPV
Aのような水溶性樹脂バインダー、シリカ、炭酸カルシ
ウム等のような無機顔料及びメラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂初期縮合物のような耐水化剤を主成分として構成
したものである。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、この様にして得られた従来の印刷版は、
印刷耐久性を向上するために耐水化剤の添加量を多くし
たり疎水性樹脂を使用したりして疎水性を増大させると
、耐剛性は向上するが親水性が低下し、印刷汚れが発生
し、一方、親木性を良くすると耐水性が劣化し、耐剛性
が低下するという問題があった。特に30℃以上の高温
使用環境下ではオフセット印刷に使用する浸し水に表面
層が溶解し、耐剛性の低下及び印刷汚れの両者が発生す
るなど大きな欠点があった。
印刷耐久性を向上するために耐水化剤の添加量を多くし
たり疎水性樹脂を使用したりして疎水性を増大させると
、耐剛性は向上するが親水性が低下し、印刷汚れが発生
し、一方、親木性を良くすると耐水性が劣化し、耐剛性
が低下するという問題があった。特に30℃以上の高温
使用環境下ではオフセット印刷に使用する浸し水に表面
層が溶解し、耐剛性の低下及び印刷汚れの両者が発生す
るなど大きな欠点があった。
更に、平版印刷用原版は油性インキ等を画像部として画
像受理層に描画するものであり、この受理層と油性イン
キの接着性が良くなければ、たとえ非画像部の親水性が
充分で上記の如き印刷汚れが発生しなくても、印刷時に
画像部の油性インキが欠落してしまい、結果として耐刷
性が低下してしまうという問題もあった。
像受理層に描画するものであり、この受理層と油性イン
キの接着性が良くなければ、たとえ非画像部の親水性が
充分で上記の如き印刷汚れが発生しなくても、印刷時に
画像部の油性インキが欠落してしまい、結果として耐刷
性が低下してしまうという問題もあった。
本発明は以上の様な画描型平版印刷用原版の有する問題
点を改良するものである。
点を改良するものである。
本発明の目的は、オフセット原版として全面一様な地汚
れはもちろん点状の地汚れも発生させない不怒脂化性の
優れた画描型平版印刷用原版を提供することである。
れはもちろん点状の地汚れも発生させない不怒脂化性の
優れた画描型平版印刷用原版を提供することである。
本発明の目的は、画像部の油性インキと画像受理層との
接着性が向上し、且つ印刷において印刷枚数が増加して
も非画像部の親水性が充分保たれ、地汚れの発生しない
、高耐剛力を有する平版印刷用原版を提供することであ
る。
接着性が向上し、且つ印刷において印刷枚数が増加して
も非画像部の親水性が充分保たれ、地汚れの発生しない
、高耐剛力を有する平版印刷用原版を提供することであ
る。
(問題点を解決するための手段)
上記諸口的は、支持体上に画像受理層を有する画描型平
版印刷用原版において、該画像受理層の結着剤の主成分
として含有される少なくとも1種の樹脂に含有される1
以上の官能基が、分解により少なくとも1つのヒドロキ
シル基及び少なくとも1つのカルボキシル基を生成する
ものであることを特徴とする画描型平版印刷用原版によ
って達成される。
版印刷用原版において、該画像受理層の結着剤の主成分
として含有される少なくとも1種の樹脂に含有される1
以上の官能基が、分解により少なくとも1つのヒドロキ
シル基及び少なくとも1つのカルボキシル基を生成する
ものであることを特徴とする画描型平版印刷用原版によ
って達成される。
本発明の樹脂は、不感脂化液および印刷時に用いる浸し
水により、加水分解あるいは加水素分解されてヒドロキ
シル基及びカルボキシル基を生成する樹脂である。
水により、加水分解あるいは加水素分解されてヒドロキ
シル基及びカルボキシル基を生成する樹脂である。
従って該樹脂を表面層に主成分として含む画描型平版印
刷用原版は、油性インキ等を画像部として画像受理層に
描画する際には、親油性の官能基を含有するため、受理
層と油性インキ等との接着性が良好となり、耐剛性が向
上する。
刷用原版は、油性インキ等を画像部として画像受理層に
描画する際には、親油性の官能基を含有するため、受理
層と油性インキ等との接着性が良好となり、耐剛性が向
上する。
一方、本画描型平版印刷用原版は、非画像部においては
、後述の如き官能基が不感脂化液及び浸し水により加水
分解又は加水素分解してヒドロキシル基及びカルボキシ
ル基になり、親水化されるため、画像部の親油性と明確
に区別され、印刷時において非画像に印刷インキが付着
しなくなるものである。上記の如く、従来は親水性の樹
脂に油性インク等を描画して画像部を疎水性化していた
のに対して、本発明では、親油性である官能基を含有す
る樹脂を、表面処理によりその非画像部を親水化すると
いう全く異なる発想をもとに、結着樹脂の親水性及び疎
水性それぞれがもたらす有利な点を併せもつ画期的な画
描型平版印刷用原版を得るに至ったものである。
、後述の如き官能基が不感脂化液及び浸し水により加水
分解又は加水素分解してヒドロキシル基及びカルボキシ
ル基になり、親水化されるため、画像部の親油性と明確
に区別され、印刷時において非画像に印刷インキが付着
しなくなるものである。上記の如く、従来は親水性の樹
脂に油性インク等を描画して画像部を疎水性化していた
のに対して、本発明では、親油性である官能基を含有す
る樹脂を、表面処理によりその非画像部を親水化すると
いう全く異なる発想をもとに、結着樹脂の親水性及び疎
水性それぞれがもたらす有利な点を併せもつ画期的な画
描型平版印刷用原版を得るに至ったものである。
本発明の嶺脂としては例えば以下のものを挙げることが
できる。
できる。
1)分解によりヒドロキシル基を生成する官能基と分解
によりカルボキシル基を生成する官能基とを共重合成分
中に各々少なくとも1種ずつ含有する二元又は多元共重
合体。
によりカルボキシル基を生成する官能基とを共重合成分
中に各々少なくとも1種ずつ含有する二元又は多元共重
合体。
2)分解によりヒドロキシル基を生成する置換基と分解
によりカルボキシル基を生成する置換基とを重合体成分
の側鎖中に同時に含有する重合体成分のホモ重合体又は
該重合体成分と共重合可能な他の共重合成分と該重合体
成分との二元又は多元共重合体。
によりカルボキシル基を生成する置換基とを重合体成分
の側鎖中に同時に含有する重合体成分のホモ重合体又は
該重合体成分と共重合可能な他の共重合成分と該重合体
成分との二元又は多元共重合体。
3)分解によりヒドロキシル基とカルボキシル基を同時
に生成する官能基(例えばラクトン環基)を重合体成分
中に含有する重合体成分のホモ重合体、又は該重合体成
分と共重合可能な他の共重合成分と咳重合体成分との二
元又は多元共重合体。
に生成する官能基(例えばラクトン環基)を重合体成分
中に含有する重合体成分のホモ重合体、又は該重合体成
分と共重合可能な他の共重合成分と咳重合体成分との二
元又は多元共重合体。
該分解により少なくとも1つのヒドロキシル基を生成す
る官能基としては例えば一般式(1)、(It)又は(
Ill)で示される置換基を挙げることができる。
る官能基としては例えば一般式(1)、(It)又は(
Ill)で示される置換基を挙げることができる。
但し、R1、R1、R1は、互いに同じでも異なってい
てもよく、水素原子、炭化水素基又は−0−R′(しは
炭化水素基を示す)を表わし、Yl、Y2は炭化水素基
を表わし、Xはイオン原子又は酸素原子を表わし、Zは
一〇−1−S−又は−Nトを表わす、〕一般式(II) c式(n)中、Hlは炭素原子又はケイ素原子を表゛わ
し、R4、Rsは互いに同じでも異なっていてもよく、
式(1)中のRt、 Rtと同義である。Zlはへテロ
原子を介してもよい炭層−炭素結合を表わす(但し、酸
素原子間の原子数は5個以内を表わす、))一般式(n
l) (式(m)中、Z8は式(II)中の21と同義である
。)一方、該分解により少なくとも1つのカルボキシル
基を生成する官能基としては、例えば一般式(IV)又
は(V)で示される置換基を挙げることができる。
てもよく、水素原子、炭化水素基又は−0−R′(しは
炭化水素基を示す)を表わし、Yl、Y2は炭化水素基
を表わし、Xはイオン原子又は酸素原子を表わし、Zは
一〇−1−S−又は−Nトを表わす、〕一般式(II) c式(n)中、Hlは炭素原子又はケイ素原子を表゛わ
し、R4、Rsは互いに同じでも異なっていてもよく、
式(1)中のRt、 Rtと同義である。Zlはへテロ
原子を介してもよい炭層−炭素結合を表わす(但し、酸
素原子間の原子数は5個以内を表わす、))一般式(n
l) (式(m)中、Z8は式(II)中の21と同義である
。)一方、該分解により少なくとも1つのカルボキシル
基を生成する官能基としては、例えば一般式(IV)又
は(V)で示される置換基を挙げることができる。
一般式(TV)
−Coo−Lx
〔式(mV)中、L、は、
又は−NH−OHを表わす。
但し、R&、 Rvは互いに同じでも異なっていてもよ
く、水素原子又は脂肪族基を表わし、Wは芳香族基を表
わし、Z′は水素原子ハロゲン原子、トリハロメチル基
、アルキル7J、−CM 、 −Not、−SO□R+
+(但し、ll++ は炭化水素基を示す)又はJ−R
tx (但し、R18は炭化水素基を示す)を表わし、
n、mは各々0、l又は2を表わす。
く、水素原子又は脂肪族基を表わし、Wは芳香族基を表
わし、Z′は水素原子ハロゲン原子、トリハロメチル基
、アルキル7J、−CM 、 −Not、−SO□R+
+(但し、ll++ は炭化水素基を示す)又はJ−R
tx (但し、R18は炭化水素基を示す)を表わし、
n、mは各々0、l又は2を表わす。
R1、R9、R3゜は互いに同じでも異なっていてもよ
く、炭化水素基又は−〇−R+s (但し、RI2は炭
化水素基を示す)を表わし、M8はSi、 Sn又はT
iを表わす。
く、炭化水素基又は−〇−R+s (但し、RI2は炭
化水素基を示す)を表わし、M8はSi、 Sn又はT
iを表わす。
0いhは各々炭化水素基を表わす、〕
一般式(V)
1、。
(式(V)中、Rta 、Rtsは互いに同じでも異な
っていてもよく、水素原子又は炭化水素基を表わす、) 更に分解により少なくとも1つのヒドロキシル基と少な
くとも1つのカルボキシル基を同時に生成する官能基と
して、例えばラクトン環基が挙げられる。
っていてもよく、水素原子又は炭化水素基を表わす、) 更に分解により少なくとも1つのヒドロキシル基と少な
くとも1つのカルボキシル基を同時に生成する官能基と
して、例えばラクトン環基が挙げられる。
以下一般式(1)で示される置換基(−0−1,、)に
ついて更に詳しく説明する。
ついて更に詳しく説明する。
R。
R5は互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、
置換されていてもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐
状アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデ
シル基、オクタデシル基、クロロエチル基、メトキシエ
チル基、メトキシプロピル基等)、直換されていてもよ
い脂環式基(例えばシクロペンチル基、シフヘキシル基
等)、I tAされていてもよい炭素数7〜12のアラ
ルキル基(例えばヘンシル基、フェネチル基、クロロベ
ンジル基、メトキシベンジル基等)又は置換されていて
もよい芳香族基(例えばフェニル基、ナフチル基、クロ
ロフェニル基、トリル基、メトキシフェニル基、メトキ
シカルボニルフェニル基、ジクロロフェニル基等)又は
−0−R’ (R’は炭化水素基を表わし、具体的には
上記R1、PいR1の炭化水素基と同一の置換基類を示
す)を表わす。
置換されていてもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐
状アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデ
シル基、オクタデシル基、クロロエチル基、メトキシエ
チル基、メトキシプロピル基等)、直換されていてもよ
い脂環式基(例えばシクロペンチル基、シフヘキシル基
等)、I tAされていてもよい炭素数7〜12のアラ
ルキル基(例えばヘンシル基、フェネチル基、クロロベ
ンジル基、メトキシベンジル基等)又は置換されていて
もよい芳香族基(例えばフェニル基、ナフチル基、クロ
ロフェニル基、トリル基、メトキシフェニル基、メトキ
シカルボニルフェニル基、ジクロロフェニル基等)又は
−0−R’ (R’は炭化水素基を表わし、具体的には
上記R1、PいR1の炭化水素基と同一の置換基類を示
す)を表わす。
Llが−Co−Y+を表わす場合においては、Y、は置
換されていてもよい炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状ア
ルキル基(例えばメチル基、トリクロロメチル基、トリ
フルオロメチル基、メトキシメチル基、フェノキシメチ
ル基、2,2.2− )リフルオロエチル基、t−ブチ
ル基、ヘキサフルオロ−1−プロピル基等)、置換され
ていてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベン
ジル基、フェネチル基、メチルベンジル基、トリメチル
ベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メトキシベンジ
ル基等)・置換されていてもよい炭素数6〜12のアリ
ール基(例えばフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ
フェニル基、メタンスルホニルフェニル基、メトキシフ
ェニル基、ブトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基等)
を表わす。
換されていてもよい炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状ア
ルキル基(例えばメチル基、トリクロロメチル基、トリ
フルオロメチル基、メトキシメチル基、フェノキシメチ
ル基、2,2.2− )リフルオロエチル基、t−ブチ
ル基、ヘキサフルオロ−1−プロピル基等)、置換され
ていてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベン
ジル基、フェネチル基、メチルベンジル基、トリメチル
ベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メトキシベンジ
ル基等)・置換されていてもよい炭素数6〜12のアリ
ール基(例えばフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ
フェニル基、メタンスルホニルフェニル基、メトキシフ
ェニル基、ブトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基等)
を表わす。
Llが−Co−Z−Y!を表わす場合においては、Zは
酸素原子、イオウ原子又は−NH−結合基を表わし、Y
tは上記したYlと同義である。
酸素原子、イオウ原子又は−NH−結合基を表わし、Y
tは上記したYlと同義である。
いては、Xは酸素原子又はイオウ原子を表わす。
一般式(II)で示される置換基においては、MIは炭
素原子又はケイ素原子を表わし、R4、R6は互いに同
じでも異なっていてもよく、上記PいR2と同義である
。Zlはへテロ原子を介してもよい炭素−炭素結合を表
わす(但し、酸素原子間の原子数は5個以内を示す)。
素原子又はケイ素原子を表わし、R4、R6は互いに同
じでも異なっていてもよく、上記PいR2と同義である
。Zlはへテロ原子を介してもよい炭素−炭素結合を表
わす(但し、酸素原子間の原子数は5個以内を示す)。
−C式(1[[)中のZ、は上記Z、と同義である。
一方、一般式(IV)で示される置換基(−COO−1
,g)について説明する。
,g)について説明する。
R6
L、が−4C袷−II−r−Z ’を表わす場合におい
て、R4、R?は互いに同じでも異なっていてもよく、
水素原子又は置換されていてもよい炭素数1〜12の直
鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、ト
リクロロメチル基、トリフルオロメチル基、ブチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ヒドロキシエチル
基、3−クロロプロピル基等)を表わし、Xは置換され
ていてもよい、フェニル基又はナフチル基(例えばフェ
ニル基、メチルフェニル基、クロロフェニル基、ジメチ
ルフェニル基、クロロメチルフェニル基、ナフチル基等
)を表わし、Z′は水素原子、ハロゲン原子(例えば塩
素原子、フッ素原子等)、トリへロメチル基(例えばト
リクロロメチル基、トリフルオロメチル基等)、炭素数
1〜12の置換されてもよい直鎖状又は分岐状アルキル
基(例えばメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、テ
トラフルオロエチル基、オクチル基1、シアノエチル基
、クロロエチル基等) 、−CN 、−NOx、−SO
*Rz (R++は脂肪族基(例えば炭素数1〜12
の置換されていてもよいアルキル基:具体的には、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロロエチル
基、ペンチル基、オクチル基等、炭素数7〜12の置換
されていてもよいアラルキル基:具体的にはベンジル基
、フェネチル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル
基、クロロフェネチル基、メチルフェネチル基等)又は
芳香族基(例えば置換基を含有していてもよい、フェニ
ル基又はナフチル基:具体的にはフェニル基、クロロフ
ェニル基、ジクロロフェニル基、メチルフェニル基、メ
トキシフェニル基、アセチルフェニル基、アセトアミド
フェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ナフチル
基等)を表わす〕又は−〇−R+z(R+xは前記R1
と同義である)を表わす。
て、R4、R?は互いに同じでも異なっていてもよく、
水素原子又は置換されていてもよい炭素数1〜12の直
鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、ト
リクロロメチル基、トリフルオロメチル基、ブチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ヒドロキシエチル
基、3−クロロプロピル基等)を表わし、Xは置換され
ていてもよい、フェニル基又はナフチル基(例えばフェ
ニル基、メチルフェニル基、クロロフェニル基、ジメチ
ルフェニル基、クロロメチルフェニル基、ナフチル基等
)を表わし、Z′は水素原子、ハロゲン原子(例えば塩
素原子、フッ素原子等)、トリへロメチル基(例えばト
リクロロメチル基、トリフルオロメチル基等)、炭素数
1〜12の置換されてもよい直鎖状又は分岐状アルキル
基(例えばメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、テ
トラフルオロエチル基、オクチル基1、シアノエチル基
、クロロエチル基等) 、−CN 、−NOx、−SO
*Rz (R++は脂肪族基(例えば炭素数1〜12
の置換されていてもよいアルキル基:具体的には、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロロエチル
基、ペンチル基、オクチル基等、炭素数7〜12の置換
されていてもよいアラルキル基:具体的にはベンジル基
、フェネチル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル
基、クロロフェネチル基、メチルフェネチル基等)又は
芳香族基(例えば置換基を含有していてもよい、フェニ
ル基又はナフチル基:具体的にはフェニル基、クロロフ
ェニル基、ジクロロフェニル基、メチルフェニル基、メ
トキシフェニル基、アセチルフェニル基、アセトアミド
フェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ナフチル
基等)を表わす〕又は−〇−R+z(R+xは前記R1
と同義である)を表わす。
n、mは0.1又は2を表わす。
R。
Rフ
体的に説明すると、以下の様な置換基例が挙げられる。
例えば、t−ブチル基、β、β、β−トリクロロエチル
基、β、β、β−トリフルオロエチル基、ヘキサフルオ
ロ−1−プロピル基、−C1l言CFzCFz) 1l
−11基(n′)は1〜5を示す)、2−シアノエチル
基、2−二トロエチル基、2−メタンスルホニルエチル
基、2−エタンスルホニルエチル基、2−ブタンスルホ
ニルエチル基、ベンゼンスルホニルエチル基、4−二ト
ロベンゼンスルホニルエチル基、4−シアノベンゼンス
ルホニルエチル基、4−メチルベンゼンスルホニルエチ
ル基、置換基を含有していてもよいベンジル基(例えば
ベンジル基、メトキシベンジル基、トリメチルベンジル
基、ペンタメチルベンジル基、ニトロベンジルM等)、
置換基を含有していてもよいフェナシル基(例えばフェ
ナシル基、ブロモフェナシル基等)、置換基を含有して
いてもよいフェニル基(例えばフェニル基、ニトロフェ
ニル基、シアノフェニル基、メタンスルホニルフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、ジニトロフェニル
基)等を表わす。
基、β、β、β−トリフルオロエチル基、ヘキサフルオ
ロ−1−プロピル基、−C1l言CFzCFz) 1l
−11基(n′)は1〜5を示す)、2−シアノエチル
基、2−二トロエチル基、2−メタンスルホニルエチル
基、2−エタンスルホニルエチル基、2−ブタンスルホ
ニルエチル基、ベンゼンスルホニルエチル基、4−二ト
ロベンゼンスルホニルエチル基、4−シアノベンゼンス
ルホニルエチル基、4−メチルベンゼンスルホニルエチ
ル基、置換基を含有していてもよいベンジル基(例えば
ベンジル基、メトキシベンジル基、トリメチルベンジル
基、ペンタメチルベンジル基、ニトロベンジルM等)、
置換基を含有していてもよいフェナシル基(例えばフェ
ナシル基、ブロモフェナシル基等)、置換基を含有して
いてもよいフェニル基(例えばフェニル基、ニトロフェ
ニル基、シアノフェニル基、メタンスルホニルフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、ジニトロフェニル
基)等を表わす。
p。
1、。
R2゜は互いに同じでも異なっていてもよく、各々炭素
数1〜18の置換されていてもよい脂肪族基〔脂肪族基
としては、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、
脂環式基を示し、置換基としては例えばハロゲン原子、
−CN基、−OH基、−0−Q’基(Q’はアルキル基
、アラルキル基、脂環式基、アリール基を示す)等が挙
げられる〕、炭素数6〜18の置換されていてもよい芳
香族基(例えばフェニル基、トリル基、クロロフェニル
基、メトキシフェニル基、アセトアミドフェニル基、ナ
フチル基等)又は−0−RI3 (RI3は置換され
ていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、置換されて
いてもよい炭素数2〜12のアルケニル基、置換されて
いてもよい炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数5〜
18の置換されていてもよい脂環式基、炭素数6〜18
の置換されていてもよいアリール基を示す〕を表わす。
数1〜18の置換されていてもよい脂肪族基〔脂肪族基
としては、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、
脂環式基を示し、置換基としては例えばハロゲン原子、
−CN基、−OH基、−0−Q’基(Q’はアルキル基
、アラルキル基、脂環式基、アリール基を示す)等が挙
げられる〕、炭素数6〜18の置換されていてもよい芳
香族基(例えばフェニル基、トリル基、クロロフェニル
基、メトキシフェニル基、アセトアミドフェニル基、ナ
フチル基等)又は−0−RI3 (RI3は置換され
ていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、置換されて
いてもよい炭素数2〜12のアルケニル基、置換されて
いてもよい炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数5〜
18の置換されていてもよい脂環式基、炭素数6〜18
の置換されていてもよいアリール基を示す〕を表わす。
M8はSi、 Ti又はSnの各原子を表わし、より好
ましくはSi原子を表わす。
ましくはSi原子を表わす。
L寞が−N−CH−Q+又は−〇−Qxを表わす場合に
おいては、Ql、R2は各々炭素数l〜18の置換され
ていてもよい脂肪族基〔脂肪族基としては、アルキル基
、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基を示し、置換
基としては例えばハロゲン原子、CN基、アルコキシ基
等のいづれでもよい〕又は炭素数6〜18の置換されて
いてもよいアリール基(例えばフェニル基、メトキシフ
ェニル基、トリル基、クロロフェニル基、ナフチル基等
)を表わす。
おいては、Ql、R2は各々炭素数l〜18の置換され
ていてもよい脂肪族基〔脂肪族基としては、アルキル基
、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基を示し、置換
基としては例えばハロゲン原子、CN基、アルコキシ基
等のいづれでもよい〕又は炭素数6〜18の置換されて
いてもよいアリール基(例えばフェニル基、メトキシフ
ェニル基、トリル基、クロロフェニル基、ナフチル基等
)を表わす。
1 占1゜
Pフ
から選ばれた原子団基を示す。
更に、一般式(V)で示される置換基R+4 、Il+
sは上記R6、R?と同義である。
sは上記R6、R?と同義である。
本発明に用いられる樹脂は、重合体中に含有されるヒド
ロキシル基及びカルボキシル基を高分子反応によって変
換する方法又は予め一般式(I)、(II)、(Ill
)、(TV)、(V)あるいはラクトン環基を適宜含有
する単量体の又は該単量体及びこれと共重合し得る適当
な他の単量体との重合反応により重合する方法により製
造される。
ロキシル基及びカルボキシル基を高分子反応によって変
換する方法又は予め一般式(I)、(II)、(Ill
)、(TV)、(V)あるいはラクトン環基を適宜含有
する単量体の又は該単量体及びこれと共重合し得る適当
な他の単量体との重合反応により重合する方法により製
造される。
高分子反応による製造法として、一般式(1)で示され
る置換基に変換する方法としては例えば岩倉貴男、栗田
恵輔著「反応性高分子」第158頁(講談社刊)等の総
説引例の公知文献等に詳細に記載されている。
る置換基に変換する方法としては例えば岩倉貴男、栗田
恵輔著「反応性高分子」第158頁(講談社刊)等の総
説引例の公知文献等に詳細に記載されている。
更に、一般式(II)又は(Ilりで示される置換基に
変換する方法としては例えば下記に具体例として挙げら
れる様なヒドロキシル基を近接して有する重合体成分を
含む重合体 R’ R“ (i ) +CI(−C) (ii )
(Cur−C+0)1 0il
0)l(R”はH又はCH
z等の置換基を示す)H0H CHzOHC)I!OH (v ) (GHz C−シ(vi ) (GHz
C−)CHzOHCHxCHiOl( (X’は連結基を示す) を、カルボニル化合物、オルトエステル化合物、ハロゲ
ン置換ギ酸エステル類、ジハロゲン置換シリル化合物等
と反応させることにより、二つのヒドロキシル基を一つ
の保護基で同時に保護した官能基とすることができる。
変換する方法としては例えば下記に具体例として挙げら
れる様なヒドロキシル基を近接して有する重合体成分を
含む重合体 R’ R“ (i ) +CI(−C) (ii )
(Cur−C+0)1 0il
0)l(R”はH又はCH
z等の置換基を示す)H0H CHzOHC)I!OH (v ) (GHz C−シ(vi ) (GHz
C−)CHzOHCHxCHiOl( (X’は連結基を示す) を、カルボニル化合物、オルトエステル化合物、ハロゲ
ン置換ギ酸エステル類、ジハロゲン置換シリル化合物等
と反応させることにより、二つのヒドロキシル基を一つ
の保護基で同時に保護した官能基とすることができる。
具体的には、日本化学全編「新実験化学講座、第14巻
、有機化合物の合成と反応(V)第2505頁(丸善株
式会社刊)、J、FJ、McOmie、 rPro
tectivegvoups in Organi
cChemistry J第3章及び第4章(Plen
um Press刊)等の総説引例の公知文献記載の方
法によって製造することができる。
、有機化合物の合成と反応(V)第2505頁(丸善株
式会社刊)、J、FJ、McOmie、 rPro
tectivegvoups in Organi
cChemistry J第3章及び第4章(Plen
um Press刊)等の総説引例の公知文献記載の方
法によって製造することができる。
更に一般式(IV)で示される置換基に変換する方法と
しては、例えば日本化学全編「新実験化学講座第14S
1有機化合物の合成と反応〔■〕」第2535頁(丸善
株式会社刊)、岩倉義勇、栗田恵輔著、「反応性高分子
」第170頁(講談社刊)等の総説引例の公知文献等に
詳細に記載されている方法に従って製造することができ
る。
しては、例えば日本化学全編「新実験化学講座第14S
1有機化合物の合成と反応〔■〕」第2535頁(丸善
株式会社刊)、岩倉義勇、栗田恵輔著、「反応性高分子
」第170頁(講談社刊)等の総説引例の公知文献等に
詳細に記載されている方法に従って製造することができ
る。
一方、単量体中のヒドロキシル基及び/又はカルボキシ
ル基を一般式(1)〜(V)の官能基に各々変換(例え
ば前記した公知例等に従って相当する単量体を合成し、
あるいは一般式([[)で示される官能基を含む単量体
は例えばY、Iwakura %F、Todas Y、
Torii % J、Polymer Sci、 A−
1、土、2649 (1966)、同6 2681(1
968)等に記載の方法により合成する)するか、ある
いはラクトン環基含有の単量体の場合には、R,Lie
pins 、C3,Marvel sJ、Polyme
r Sci、 A−1% 5.1489(1967)等
に記載の方法により合成し、次いで必要ならば該単量体
と共重合する他の単量体を共存させて通常の重合方法で
重合することによりホモ重合体又は多元共重合体を製造
することができる。
ル基を一般式(1)〜(V)の官能基に各々変換(例え
ば前記した公知例等に従って相当する単量体を合成し、
あるいは一般式([[)で示される官能基を含む単量体
は例えばY、Iwakura %F、Todas Y、
Torii % J、Polymer Sci、 A−
1、土、2649 (1966)、同6 2681(1
968)等に記載の方法により合成する)するか、ある
いはラクトン環基含有の単量体の場合には、R,Lie
pins 、C3,Marvel sJ、Polyme
r Sci、 A−1% 5.1489(1967)等
に記載の方法により合成し、次いで必要ならば該単量体
と共重合する他の単量体を共存させて通常の重合方法で
重合することによりホモ重合体又は多元共重合体を製造
することができる。
重合体中の一般式(1)〜(V)及びラクトン環基の官
能基を任意に調整し得ることあるいは不純物を重合体中
に混入しないこと等の理由から予め本官能基を含有する
単量体から重合反応により製造する方法が好ましい。
能基を任意に調整し得ることあるいは不純物を重合体中
に混入しないこと等の理由から予め本官能基を含有する
単量体から重合反応により製造する方法が好ましい。
本発明の樹脂は、前記した如く、ホモ重合体でも多元共
重合体でも良く、更に前記した共重合成分を例えば、酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、酢酸アリ
ル、プロピオン酸アリル等の如き脂肪族カルボン酸ビニ
ルあるいはアリルエステル類、アクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸
等の如き不飽和カルボン酸のエステル類又はアミド類、
スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレンの如き
スチレン誘導体、α−オレフィン類、アクリロニトリル
、メタクロニトリル、N−ビニルピロリドンの如き、ビ
ニル基置換のへテロ環化合物等の如き成分と共重合させ
ることもできる。
重合体でも良く、更に前記した共重合成分を例えば、酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、酢酸アリ
ル、プロピオン酸アリル等の如き脂肪族カルボン酸ビニ
ルあるいはアリルエステル類、アクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸
等の如き不飽和カルボン酸のエステル類又はアミド類、
スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレンの如き
スチレン誘導体、α−オレフィン類、アクリロニトリル
、メタクロニトリル、N−ビニルピロリドンの如き、ビ
ニル基置換のへテロ環化合物等の如き成分と共重合させ
ることもできる。
又、該表面層の強度をより向上させるために、後述する
架橋効果を利用することができるが、この様な場合には
、架橋が容易に進行する官能基(例えば、エポキシ基、
アミノ基、イソシアナート基、カルボキシル基、水酸基
等)を含有する単量体を共重合させることが好ましい。
架橋効果を利用することができるが、この様な場合には
、架橋が容易に進行する官能基(例えば、エポキシ基、
アミノ基、イソシアナート基、カルボキシル基、水酸基
等)を含有する単量体を共重合させることが好ましい。
これらの方法は、例えば、日本化学全編、「新実験化学
講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔V〕」第25
35頁(丸善株式会社刊)、岩倉義男二栗田恵輔著、「
反応性高分子」第170頁(講淡社刊)等の総説引例の
公知文献等に詳細に記載されている。
講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔V〕」第25
35頁(丸善株式会社刊)、岩倉義男二栗田恵輔著、「
反応性高分子」第170頁(講淡社刊)等の総説引例の
公知文献等に詳細に記載されている。
本発明の一般式(1)〜(V)及びラクトン環基を含有
する重合体成分の総量は、重合体中の30〜100重量
%であり、好ましくは40〜85重景%である。
する重合体成分の総量は、重合体中の30〜100重量
%であり、好ましくは40〜85重景%である。
又一般式(r)、(I[)、(III)の置換基含有の
重合体成分と一般式(TV)、(V)の置換基含有の重
合体成分の比率は、99.5〜0.5: o、s〜99
.5重量比、好ましくは80〜20720〜80重量比
である。
重合体成分と一般式(TV)、(V)の置換基含有の重
合体成分の比率は、99.5〜0.5: o、s〜99
.5重量比、好ましくは80〜20720〜80重量比
である。
又本発明の樹脂の分子量は103〜10S、好ましくは
5×10″〜105である。
5×10″〜105である。
以下に本発明の一般式(1)〜(V)及びラクトン環を
置換基として含有する重合体成分の具体例を挙げるが、
本発明の範囲はこれらに限定されるものではない0本発
明に用いられる樹脂において、少なくとも以下に例示す
る化合物群AとBは共重合体成分として各々1種以上の
組合せで用いられる。
置換基として含有する重合体成分の具体例を挙げるが、
本発明の範囲はこれらに限定されるものではない0本発
明に用いられる樹脂において、少なくとも以下に例示す
る化合物群AとBは共重合体成分として各々1種以上の
組合せで用いられる。
具体例A群:分解により少なくとも1つのヒドロキシル
基を生成する置換基を含有す る例 A−1) イCl!−CH+ C00(CHz÷1−05t(CHs)iA−2) CH3 +coz−c→ Coo (CH辻「05i(CH3) :IA−3) CHs ■ (CH2−CH Coo(CJI辻「0−3i(OCHs)xA−4) CH。
基を生成する置換基を含有す る例 A−1) イCl!−CH+ C00(CHz÷1−05t(CHs)iA−2) CH3 +coz−c→ Coo (CH辻「05i(CH3) :IA−3) CHs ■ (CH2−CH Coo(CJI辻「0−3i(OCHs)xA−4) CH。
(C)1.−CH
C00CHICHCH!0COCF!
■
0COCF s
A−5)
A−6)
A−7)
A−8)
A−9)
A−10)
A−11)
A−12)
H3
A−13)
A−14)
A−15)
A−16)
CH。
A−17)
A−18)
CH3
A−19)
A−20)
イCHz CHCH−CHz÷
CHt CHi
A−21)
CH。
(CHt−C→
A−22)
CH1
+CI!−C→
■
A−23)
+CHI−Cl→
■
A−24)
A−26)
A−27)
A−28)
CHl
具体例B群二分解により少なくとも1つのカルボキシル
基を生成する置換基を含有す る例 B−1) CHl (CHl−C→ C00CHiCFs B −2) B −3) CHl B −4) CHs (CHx C−) 酵 Coo(CHx)!0CO(CIりtcOO3i (C
Hs)3B −5) B −6) CHs B −7) B −8) (CHs Cl→ C0NH(CHs)tcOO5i(CHs)富0CH! B −9) B−10) B−11) ■ (CHmC−) B−12) CHl (CHt C−シ B−13) CH。
基を生成する置換基を含有す る例 B−1) CHl (CHl−C→ C00CHiCFs B −2) B −3) CHl B −4) CHs (CHx C−) 酵 Coo(CHx)!0CO(CIりtcOO3i (C
Hs)3B −5) B −6) CHs B −7) B −8) (CHs Cl→ C0NH(CHs)tcOO5i(CHs)富0CH! B −9) B−10) B−11) ■ (CHmC−) B−12) CHl (CHt C−シ B−13) CH。
!
(CHz C−Y
B−14)
CHs
−ECL−C−+
嘩
C4H9−C−C−0
CH3
具体例C群:分解により少なくとも1つのヒドロキシル
基と少なくとも1つのカルボ キシル基を生成する置換基を含有す る例 C−1) CH2 (CIl□−〇−升 C−2) CI。
基と少なくとも1つのカルボ キシル基を生成する置換基を含有す る例 C−1) CH2 (CIl□−〇−升 C−2) CI。
一+CO!−C−)−
C00CHzCHCHzOCO(CHz)3COOCF
3■ 0−5i(CHs)3 C−3) L 番 (CHI−C−ト C00CHiCHCIIzOCOCHzCHCHzCO
OCFs0COCFs 0COCF3C−4
) C−5) C−6) C−7) C−8) − 11゛ 本発明に使用される樹脂とともに、従来公知の樹脂を併
用することができる0例えば、シリコーン樹脂、アルキ
ッド樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレ
ン−ブタジェン樹脂、アクリル樹脂等があげられる。
3■ 0−5i(CHs)3 C−3) L 番 (CHI−C−ト C00CHiCHCIIzOCOCHzCHCHzCO
OCFs0COCFs 0COCF3C−4
) C−5) C−6) C−7) C−8) − 11゛ 本発明に使用される樹脂とともに、従来公知の樹脂を併
用することができる0例えば、シリコーン樹脂、アルキ
ッド樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレ
ン−ブタジェン樹脂、アクリル樹脂等があげられる。
本発明の樹、脂は、有機溶剤に溶解又は分散しても良く
、更には水系エマルジョンでも使用できる。
、更には水系エマルジョンでも使用できる。
従って本発明の樹脂の他に任意に水溶性の樹脂を併用す
ることができ、例えば、PVA、カルボキシPVAのよ
うな変性PVA、!粉及びその誘導体、CMC,ヒドロ
キシエチルセルロース、カゼイン、ゼラチン、ポリビニ
ルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、スチ
レン−マレイン酸共重合体等の水溶性樹脂が使用できる
。
ることができ、例えば、PVA、カルボキシPVAのよ
うな変性PVA、!粉及びその誘導体、CMC,ヒドロ
キシエチルセルロース、カゼイン、ゼラチン、ポリビニ
ルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、スチ
レン−マレイン酸共重合体等の水溶性樹脂が使用できる
。
これらの水溶性樹脂を併用する場合には、耐水化剤を用
いることが好ましく、耐水化剤として、例えばグリオキ
ザール、メラミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムア
ルデヒド樹脂等のアミノプラストの初期縮合物、メチロ
ール化ポリアミド樹脂のような変性ポリアミド樹脂、ポ
リアミド・ポリアミン・エピクロルヒドリン付加物、ポ
リアミドエピクロルヒドリン樹脂、変性ポリアミドポリ
イミド樹脂等が挙げられる。
いることが好ましく、耐水化剤として、例えばグリオキ
ザール、メラミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムア
ルデヒド樹脂等のアミノプラストの初期縮合物、メチロ
ール化ポリアミド樹脂のような変性ポリアミド樹脂、ポ
リアミド・ポリアミン・エピクロルヒドリン付加物、ポ
リアミドエピクロルヒドリン樹脂、変性ポリアミドポリ
イミド樹脂等が挙げられる。
本発明の樹脂と、公知の樹脂とは任意の割合で混合する
ことができるが、全樹脂量中の本発明の官能基(分解に
よりヒドロキシル基を生成する官能基と分解によりカル
ボキシル基を生成する官能基がそれぞれ少なくとも1種
存在する場合には譲歩なくとも2種の官能基、及び/又
は分解によりヒドロキシル基とカルボキシル基を生成す
る官能基が少なくとも1種存在する場合には譲歩なくと
も1種の官能基をいう)の成分は含有量が40〜100
重量%、好ましくは45重量%以上含有されている必要
がある。
ことができるが、全樹脂量中の本発明の官能基(分解に
よりヒドロキシル基を生成する官能基と分解によりカル
ボキシル基を生成する官能基がそれぞれ少なくとも1種
存在する場合には譲歩なくとも2種の官能基、及び/又
は分解によりヒドロキシル基とカルボキシル基を生成す
る官能基が少なくとも1種存在する場合には譲歩なくと
も1種の官能基をいう)の成分は含有量が40〜100
重量%、好ましくは45重量%以上含有されている必要
がある。
本発明の官能基の成分の含有量が40重景%より少ない
と、得られた平版印刷用原版は、不感脂化液・浸し水に
よる不感脂化処理により生ずる親水性が充分でなく、印
刷時の汚れが発生する。
と、得られた平版印刷用原版は、不感脂化液・浸し水に
よる不感脂化処理により生ずる親水性が充分でなく、印
刷時の汚れが発生する。
本発明の画像受理層の他の構成成分として、無機顔料が
使用され、該無機顔料として、例えばカオリンクレー、
炭酸カルシウム、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、アルミナ等が挙げられる。
使用され、該無機顔料として、例えばカオリンクレー、
炭酸カルシウム、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、アルミナ等が挙げられる。
画像受理層中の結着樹脂/顔料の割合は材料の種類及び
顔料の場合は更にその粒径によって異なるが、一般に重
量比で1/(0,5〜5)、好ましくはl/(0,8〜
2.5)程度が適当である。
顔料の場合は更にその粒径によって異なるが、一般に重
量比で1/(0,5〜5)、好ましくはl/(0,8〜
2.5)程度が適当である。
その偽画像受理層には、膜強度をより向上させるために
架橋剤を添加してもよい、架橋剤としては、通常用いら
れる塩化アンモニウム、を機過酸化物、金属石けん、有
機シラン、ポリウレタンの架橋剤、エポキシ樹脂の硬化
剤等を用いることができる。具体的には、山下晋三、金
子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年
)等に記載されている。
架橋剤を添加してもよい、架橋剤としては、通常用いら
れる塩化アンモニウム、を機過酸化物、金属石けん、有
機シラン、ポリウレタンの架橋剤、エポキシ樹脂の硬化
剤等を用いることができる。具体的には、山下晋三、金
子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年
)等に記載されている。
本発明に使用される支持体としては、上質紙、湿潤強化
紙、ポリエステルフィルムのようなプラスチックフィル
ム、アルミ板のような金属板等が挙げられる。
紙、ポリエステルフィルムのようなプラスチックフィル
ム、アルミ板のような金属板等が挙げられる。
本発明では支持体と画像受理層との間に耐水性及び層間
接着性を向上する目的で中間層を、また画像受理層とは
反対の支持体面にカール防止を目的としてバックコート
層を設けることができる。
接着性を向上する目的で中間層を、また画像受理層とは
反対の支持体面にカール防止を目的としてバックコート
層を設けることができる。
ここで中間層はアクリル樹脂、スチレン−ブタジェン共
重合体、メタアクリル酸エステル−ブタジェン共重合体
、アクリロニートリル〜ブタジェン共重合体、エチレン
−酢酸ビニル共重合体等のエマルジョン型樹脂;エポキ
シ樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリ
酢酸ビニル等の溶剤型樹脂;前述のような水溶性樹脂等
の少くとも1種を主成分として構成されるが、必要に応
じて無機顔料や耐水化剤を添加することができる。
重合体、メタアクリル酸エステル−ブタジェン共重合体
、アクリロニートリル〜ブタジェン共重合体、エチレン
−酢酸ビニル共重合体等のエマルジョン型樹脂;エポキ
シ樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリ
酢酸ビニル等の溶剤型樹脂;前述のような水溶性樹脂等
の少くとも1種を主成分として構成されるが、必要に応
じて無機顔料や耐水化剤を添加することができる。
バンクコート層の構成も中間層とほぼ同様である。
PPC製版として用いられる場合には、本発明の印刷原
版の地汚れをいっそう低減するため、印刷原版としての
体積固有抵抗が101@〜1013Ω1となるように、
更に画像受理層、中間層及び/又はバックコート層に誘
電剤を添加することができる。
版の地汚れをいっそう低減するため、印刷原版としての
体積固有抵抗が101@〜1013Ω1となるように、
更に画像受理層、中間層及び/又はバックコート層に誘
電剤を添加することができる。
誘電剤としては無機系のものでも有機系のものでもよく
、無機系のものではNa、 K、 Li、 Mg、 Z
n。
、無機系のものではNa、 K、 Li、 Mg、 Z
n。
Go、 Ni等の1価又は多価金属の塩が、また有機系
のものではポリビニルベンジルトリメチルアンモニウム
クロライド、アクリル樹脂変性四級アンモニウム塩等の
高分子カチオン導電剤や高分子スルホン酸塩のような高
分子アニオン導電剤が挙げられる。これらの導電剤の添
加量は各層に使用されるバインダー量の3〜40重量%
、好ましくは5〜20重量%である。
のものではポリビニルベンジルトリメチルアンモニウム
クロライド、アクリル樹脂変性四級アンモニウム塩等の
高分子カチオン導電剤や高分子スルホン酸塩のような高
分子アニオン導電剤が挙げられる。これらの導電剤の添
加量は各層に使用されるバインダー量の3〜40重量%
、好ましくは5〜20重量%である。
本発明の平版印刷用原版を作るには一般に、支持体の一
方の面に、必要あれば中間層成分を含む水性液を塗布乾
燥して中間層を形成後、画像受理層成分を含む水性液を
塗布乾燥して画像受理層を形成し、更に必要あれば他方
の面にバックコート層成分を含む水性液を塗布乾燥して
バックコート層を形成すればよい、なお画像受理層、中
間層、バックコート層の各付着量は夫々1〜30g/r
rf、5〜20g/r+?、5〜20g/rdが適当で
ある。
方の面に、必要あれば中間層成分を含む水性液を塗布乾
燥して中間層を形成後、画像受理層成分を含む水性液を
塗布乾燥して画像受理層を形成し、更に必要あれば他方
の面にバックコート層成分を含む水性液を塗布乾燥して
バックコート層を形成すればよい、なお画像受理層、中
間層、バックコート層の各付着量は夫々1〜30g/r
rf、5〜20g/r+?、5〜20g/rdが適当で
ある。
(実施例)
以下に本発明の実施例を示すが、本発明の範囲がこれら
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
実施例1
n−ブチルメタクリレート40g1具体例A−2)に相
当する単量体20g、具体例B−1)に相当する単量体
40g及びトルエン400gの混合溶液を窒素気流下温
度75℃に加温した後、^、1.B、N、 1.0gを
加え8時間反応した。得られた共重合体の分子量は55
000であった。
当する単量体20g、具体例B−1)に相当する単量体
40g及びトルエン400gの混合溶液を窒素気流下温
度75℃に加温した後、^、1.B、N、 1.0gを
加え8時間反応した。得られた共重合体の分子量は55
000であった。
次に、上質紙の一方の間に裏面層及び他方の面に中間層
が設けられた支持体の中間層の上に、上記の共重合体3
5g、(エチルメタクリレート/アクリル酸(95/
5 )重量比〕共重合体5g、酸化亜鉛200 g及び
トルエン300 gの混合物をボールミル中で2時間分
散して得た分散物を、乾燥付着量が18g/n?となる
様にワイヤーバーで塗布し、110℃で1分間乾燥し、
平版印刷用原版を作製した。
が設けられた支持体の中間層の上に、上記の共重合体3
5g、(エチルメタクリレート/アクリル酸(95/
5 )重量比〕共重合体5g、酸化亜鉛200 g及び
トルエン300 gの混合物をボールミル中で2時間分
散して得た分散物を、乾燥付着量が18g/n?となる
様にワイヤーバーで塗布し、110℃で1分間乾燥し、
平版印刷用原版を作製した。
この原版を、不感脂化処理液〔富士写真フィルム側型E
LP−EX )でエツチングプロセンサーに1回通して
処理し、これに蒸留水2μlの水滴を乗せ、形成された
水との接触角をゴニオメータ−で測定した所、13°で
あった。尚、不感脂化処理前は105 ’であった。こ
のことは、本発明の原版の画像受理層の非画像部が、親
油性から親水性に変化したことを示す(通常、印刷時に
非画像部が印刷地汚れ、点状汚れ等を発生しない親水化
の度合は、水との接触角で20″以下であることが必要
である)。
LP−EX )でエツチングプロセンサーに1回通して
処理し、これに蒸留水2μlの水滴を乗せ、形成された
水との接触角をゴニオメータ−で測定した所、13°で
あった。尚、不感脂化処理前は105 ’であった。こ
のことは、本発明の原版の画像受理層の非画像部が、親
油性から親水性に変化したことを示す(通常、印刷時に
非画像部が印刷地汚れ、点状汚れ等を発生しない親水化
の度合は、水との接触角で20″以下であることが必要
である)。
次に、市販のPPCで製版し、得られた原版を上記と同
様の条件で不感脂化処理を行ない、印刷用原版を得た。
様の条件で不感脂化処理を行ない、印刷用原版を得た。
得られた原版の画像部の濃度は1.0以上であり、非画
像部の地力プリもなく、画像部の画質も鮮明であった。
像部の地力プリもなく、画像部の画質も鮮明であった。
これをオフセント印刷機(ハマダスターー製ハマダスタ
ー5oosx型)にかけ上質紙上に印刷した。 5oo
o枚を越えても印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の
画質に問題を生じなかった。
ー5oosx型)にかけ上質紙上に印刷した。 5oo
o枚を越えても印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の
画質に問題を生じなかった。
更に上記原版を用いて、環境条件を30℃、80%RH
として、市販のPPCで製版した所、得られた原版の画
像は、画像部の濃度は1.0以上有り非画像部の地力ブ
リもなく、画像部の画質も鮮明であった。これを上記と
同様に印刷した所、5000枚を印刷しても問題なかっ
た。
として、市販のPPCで製版した所、得られた原版の画
像は、画像部の濃度は1.0以上有り非画像部の地力ブ
リもなく、画像部の画質も鮮明であった。これを上記と
同様に印刷した所、5000枚を印刷しても問題なかっ
た。
以上の如く、本原版は、高温多湿の条件下でもPPC製
版の画質を劣化させなかった。
版の画質を劣化させなかった。
実施例2〜4
実施例1と同様の重合条件で下表−1の共重合体を製造
した。
した。
上記各樹脂を、実施例1の樹脂の代わりに用いた他は、
実施例1と同様に操作して、平版印刷用原版を作製した
。
実施例1と同様に操作して、平版印刷用原版を作製した
。
実施例1と同様にして、水との接触角PPC製版後の画
質及び印刷結果について、表−2に記した。
質及び印刷結果について、表−2に記した。
表−2
実施例10
下記組成の本発明め樹脂(J)の20%エマルジッン水
?g 液400 g 、ポリビニルアルコール10%水
溶液(クラレ■製pv^−117) 200g及び〔
酸化亜鉛/シリカ(2/8)重量比〕20%混合分散液
400gの混合物をボールミル中で1時間分散して得た
分散物を、実施例1と同一の支持体の中間層の上に、ワ
イヤーバーで、乾燥付着量が8g/−となる様に塗布し
、130℃で2分間乾燥し、平版印刷用原版を作製した
。
?g 液400 g 、ポリビニルアルコール10%水
溶液(クラレ■製pv^−117) 200g及び〔
酸化亜鉛/シリカ(2/8)重量比〕20%混合分散液
400gの混合物をボールミル中で1時間分散して得た
分散物を、実施例1と同一の支持体の中間層の上に、ワ
イヤーバーで、乾燥付着量が8g/−となる様に塗布し
、130℃で2分間乾燥し、平版印刷用原版を作製した
。
(樹月日 (J ) )
I I IC0OC
nH*(n) C00CLCHCHJCO(CL)t
cOo Si CJv(t)O−5r(CHs>s
CL 実施例1と同様に処理して印刷した所、印刷物の画像部
は鮮明で、非画像部の地力ブリのない印刷物が2000
枚以上得られた。
nH*(n) C00CLCHCHJCO(CL)t
cOo Si CJv(t)O−5r(CHs>s
CL 実施例1と同様に処理して印刷した所、印刷物の画像部
は鮮明で、非画像部の地力ブリのない印刷物が2000
枚以上得られた。
(発明の効果)
本発明によれば、地汚れの発生が良好に抑制されるとと
もに良好な耐剛力を併せもっ画描型平版印刷用原版を得
ることができる。
もに良好な耐剛力を併せもっ画描型平版印刷用原版を得
ることができる。
Claims (1)
- 支持体上に画像受理層を有する直描型平版印刷用原版
において、該画像受理層の結着剤の主成分として含有さ
れる少なくとも1種の樹脂に含有される1以上の官能基
が、分解により少なくとも1つのヒドロキシル基及び少
なくとも1つのカルボキシル基を生成するものであるこ
とを特徴とする直描型平版印刷用原版。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8982287A JPS63256492A (ja) | 1987-04-14 | 1987-04-14 | 直描型平版印刷用原版 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8982287A JPS63256492A (ja) | 1987-04-14 | 1987-04-14 | 直描型平版印刷用原版 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63256492A true JPS63256492A (ja) | 1988-10-24 |
Family
ID=13981447
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8982287A Pending JPS63256492A (ja) | 1987-04-14 | 1987-04-14 | 直描型平版印刷用原版 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63256492A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5225316A (en) * | 1990-11-26 | 1993-07-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | An imagable article comprising a photosensitive composition comprising a polymer having acid labile pendant groups |
US5552260A (en) * | 1992-11-30 | 1996-09-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Shoot and run printing materials |
JP2013166960A (ja) * | 2008-02-06 | 2013-08-29 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 化合物および高分子化合物 |
JP2015038072A (ja) * | 2009-09-18 | 2015-02-26 | Jsr株式会社 | アルカリ解離性基を有する重合性の化合物 |
US8980524B2 (en) | 2010-01-05 | 2015-03-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive resist composition and method of forming resist pattern |
US9513548B2 (en) | 2009-09-18 | 2016-12-06 | Jsr Corporation | Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer and polymerizable compound |
-
1987
- 1987-04-14 JP JP8982287A patent/JPS63256492A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5225316A (en) * | 1990-11-26 | 1993-07-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | An imagable article comprising a photosensitive composition comprising a polymer having acid labile pendant groups |
US5314785A (en) * | 1990-11-26 | 1994-05-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosensitive materials |
US5552260A (en) * | 1992-11-30 | 1996-09-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Shoot and run printing materials |
JP2013166960A (ja) * | 2008-02-06 | 2013-08-29 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 化合物および高分子化合物 |
JP2015038072A (ja) * | 2009-09-18 | 2015-02-26 | Jsr株式会社 | アルカリ解離性基を有する重合性の化合物 |
US9513548B2 (en) | 2009-09-18 | 2016-12-06 | Jsr Corporation | Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer and polymerizable compound |
US10048586B2 (en) | 2009-09-18 | 2018-08-14 | Jsr Corporation | Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer and polymerizable compound |
US8980524B2 (en) | 2010-01-05 | 2015-03-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive resist composition and method of forming resist pattern |
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