JPS63249106A - Production of color filter - Google Patents
Production of color filterInfo
- Publication number
- JPS63249106A JPS63249106A JP62082984A JP8298487A JPS63249106A JP S63249106 A JPS63249106 A JP S63249106A JP 62082984 A JP62082984 A JP 62082984A JP 8298487 A JP8298487 A JP 8298487A JP S63249106 A JPS63249106 A JP S63249106A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color
- film
- electrodeposition
- transparent conductive
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 11
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 2
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-naphthalen-1-ylethylamino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CCNC(=O)CCC(=O)O)=CC=CC2=C1 CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001045 blue dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920002457 flexible plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000001046 green dye Substances 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000001044 red dye Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、カラーフィルタの製造方法に関し、特にカ
ラー液晶ディスプレイに用いるのに適したカラーフィル
タを高分子電着法により製造する方法の改良に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] This invention relates to a method for manufacturing a color filter, and in particular to an improvement in a method for manufacturing a color filter suitable for use in a color liquid crystal display by a polymer electrodeposition method. .
カラー液晶ディスプレイに用いられるカラーフィルタは
、高分子電着法により製造することができる。ここで用
いられる高分子電着法は、色素を分散させた水溶性高分
子が電気化学的に不溶化して電極上に析出する現象を利
用するものであり、その水溶性高分子としてアニオン形
が主に使用される。従来の高分子電着法による製造法は
、先ずガラス基板上に例えばＩＴＯ（■ｎ２０３十をホ
ト・エツングにより加工して、カラーフィルタの下地と
なる多数の画素単位の電極（画素電極）と、同一の色に
着色すべき画素電極に対応する給電端子と、同一の色に
着色すべき画素電極およびこれに対応する給電端子を互
いに接続する給電線とを構成するパターンを形成する。Color filters used in color liquid crystal displays can be manufactured by polymer electrodeposition. The polymer electrodeposition method used here utilizes the phenomenon in which a water-soluble polymer in which a dye is dispersed is electrochemically insolubilized and deposited on an electrode, and the anionic form of the water-soluble polymer is Mainly used. In the conventional manufacturing method using the polymer electrodeposition method, first, for example, ITO (■n2030) is processed by photo etching on a glass substrate to form a large number of pixel unit electrodes (pixel electrodes) that will serve as the base of the color filter. A pattern is formed that includes power supply terminals corresponding to pixel electrodes to be colored in the same color and power supply lines that connect the pixel electrodes to be colored in the same color and the corresponding power supply terminals to each other.
次に赤、（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）の着色のための高
分子電着を順次行う。各色の着色のための高分子電着は
、それぞれ対応する給電端子を電源に接続することによ
り、それぞれの色に着色すべき画素電極と、これらに対
向するように配された透明電極との間に電圧を印加して
高分子電着により当該色の着色膜を画素電極上に析出さ
せる。最後に着色膜を熱処理硬化（例えば約１００℃、
１０分間）させる。Next, polymer electrodeposition for coloring red, (R), blue (B), and green (G) is performed in sequence. Polymer electrodeposition for coloring each color is performed by connecting the corresponding power supply terminals to a power source, which connects the pixel electrodes to be colored in each color and the transparent electrodes arranged to face them. A voltage is applied to deposit a colored film of the relevant color on the pixel electrode by polymer electrodeposition. Finally, the colored film is cured by heat treatment (e.g. about 100℃,
10 minutes).
得られたカラーフィルタの例を第２図および第３図に示
す。この例のカラーフィルタ２０は、赤、青および緑の
三色からなり、第２図に示すようにカラーフィルタの下
地となる画素電極２１ａ、２２ａおよびｂ、２３ａＳｂ
およびｃ、３１ａ。Examples of the obtained color filters are shown in FIGS. 2 and 3. The color filter 20 in this example consists of three colors, red, blue and green, and as shown in FIG. 2, the pixel electrodes 21a, 22a and b, 23aSb and
and c, 31a.
ｂ、およびＣ１３２ａ、ｂおよびＣ等とそれ等の画素電
極に接続した給電線端子２１．２２．２３および３１等
とこれらを互いに接続する給電線５０が、ガラス基板５
の上に所定のパターンを有するように形成されている。b, and C132a, b, and C, etc., and the feed line terminals 21, 22, 23, and 31, etc. connected to their pixel electrodes, and the feed line 50 that connects these to each other are connected to the glass substrate 5.
It is formed to have a predetermined pattern on it.
互いに接続された画素電極にはそれぞれの色の着色膜Ｒ
，Ｇ、Ｂが、例えば、画素電極３１ａ、ｂおよびＣの上
面には、赤色の着色膜Ｒが、第３図の断面図に示すよう
に形成されている。A colored film R of each color is formed on the pixel electrodes connected to each other.
, G, and B, for example, a red colored film R is formed on the upper surfaces of the pixel electrodes 31a, b, and C, as shown in the cross-sectional view of FIG.
上記の高分子電着法により製造する方法では、給電線を
必要とし、その給電線は画素電極と接続されていなけれ
ばならないために、多くの場合、画素電極と同じ材料が
用いられている。しかしながら、給電線を配置して電着
するとき、この給電線の許容抵抗値の上限はせいぜい数
にΩであり、それ以上の抵抗値となると電極の着色膜の
膜厚は薄くなる。従って、大面積のカラーフィルタを製
造する場合、給電線の抵抗値が小さい基板周辺部の着色
膜は厚くなり、給電線の抵抗値が大きい基゛板中央部の
着色膜は薄くなって、色ムラあるカラーフィルタとなる
恐れがある。更に、給電線のパターンが一定の面積を占
有するので、より高密度化されたカラーフィルタを設計
することの妨げになる。The method of manufacturing using the polymer electrodeposition method described above requires a power supply line, and the power supply line must be connected to the pixel electrode, so in many cases, the same material as the pixel electrode is used. However, when a power supply line is arranged and electrodeposited, the upper limit of the allowable resistance value of the power supply line is at most several ohms, and if the resistance value exceeds this value, the thickness of the colored film of the electrode becomes thin. Therefore, when manufacturing a large-area color filter, the colored film on the periphery of the substrate, where the resistance of the feeder line is low, becomes thicker, and the colored film on the center of the substrate, where the resistance of the feeder line is high, becomes thinner. There is a risk that the color filter will be uneven. Furthermore, the feed line pattern occupies a certain area, which hinders the design of higher density color filters.
この発明は上述の背景に基づきなされたものであり、そ
の目的とするところは、色ムラがなく、より密度の高い
カラーフィルタを製造する方法を提供することである。This invention was made based on the above-mentioned background, and its purpose is to provide a method for manufacturing a color filter with higher density and no color unevenness.
本発明のカラーフィルタの製造方法は、（ａ）異なる色
の画素フィルタ層が混在したカラーフィルタの製造方法
において、（ｂ）透明導電膜上にホトエツチングによっ
て窓を有するレジストパターンを形成し、（ｃ）上記透
明導電膜を一方の電極として一つの色の色素を含有する
溶液を用いて、高分子電着を行なうことにより、上記窓
の部分に１つの色の画素フィルタ層を形成し、（ｄ）上
記（１））および（ｃ）のステップを異なる色の色素を
含有する溶液を用いてくり返すことにより異なる色の画
素フィルタ層を順次形成することを特徴とするものであ
る。The method for manufacturing a color filter of the present invention includes (a) a method for manufacturing a color filter in which pixel filter layers of different colors are mixed, (b) forming a resist pattern having windows on a transparent conductive film by photoetching, and (c) ) A pixel filter layer of one color is formed in the window portion by performing polymer electrodeposition using the transparent conductive film as one electrode and a solution containing a dye of one color, and (d ) The method is characterized in that pixel filter layers of different colors are sequentially formed by repeating steps (1)) and (c) above using solutions containing dyes of different colors.
この発明のカラーフィルタの製造方法は、上記の様に構
成されているので、同一の色が施されるべき画素領域に
レジストパターンの窓が形成されて、この部分では透明
導電膜が露出しておりこの露出面が電着法における電極
として作用する。一方、全面に拡がる透明導電膜が電極
の給電線として作用する。従って、基板の中央部とその
周辺部との電着条件が同様になる。この結果、出来上が
るカラーフィルタの色ムラがなくなる。Since the color filter manufacturing method of the present invention is configured as described above, resist pattern windows are formed in pixel areas to which the same color is to be applied, and the transparent conductive film is exposed in these areas. The exposed surface of the cage acts as an electrode in the electrodeposition method. On the other hand, the transparent conductive film that spreads over the entire surface acts as a power supply line for the electrodes. Therefore, the electrodeposition conditions for the central part of the substrate and the peripheral part thereof are the same. As a result, color unevenness in the resulting color filter is eliminated.
以下、この発明の一実施例として、赤色、緑色、青色の
三色のカラーフィルタを製造する場合を例にとって、そ
の各工程における基板の断面を示す第１図を参照してよ
り詳細に説明する。Hereinafter, as an example of the present invention, a case where a color filter of three colors of red, green, and blue is manufactured will be explained in more detail with reference to FIG. 1 showing a cross section of a substrate in each step. .
このフィルタは、第４図に示すように、赤（Ｒ）、緑（
Ｇ）、青（Ｂ）の三色の画素フィルタ層が混在したもの
で、かつこれらが同一の規則的配列を有するものである
。この実施例によれば、まず、ガラス基板、可とう性プ
ラスチック基板などの透明基板５の全面若しくは部分面
状に透明導電膜１を形成する（第１図（Ａ））。その透
明導電膜１は、一般にＮＥＳＡ膜（酸化スズ膜）または
ＩＴＯ膜（酸化スズを含有する酸化インジウム膜）と呼
ばれる金属酸化物被膜で形成する。次に透明導電膜１上
にホトレジスト２を塗布する（第１図（Ａ））。そして
、このレジスト２を所定のホトマスク３によりホト・エ
ッチングして、第１の色（例えば赤）が施されるべき画
素領域に窓即ち開口を有するレジストパターン４を形成
する。This filter has red (R), green (
The pixel filter layer is a mixture of pixel filter layers of three colors, G) and blue (B), and has the same regular arrangement. According to this embodiment, first, a transparent conductive film 1 is formed on the entire or partial surface of a transparent substrate 5 such as a glass substrate or a flexible plastic substrate (FIG. 1(A)). The transparent conductive film 1 is formed of a metal oxide film generally called a NESA film (tin oxide film) or an ITO film (indium oxide film containing tin oxide). Next, a photoresist 2 is applied on the transparent conductive film 1 (FIG. 1(A)). This resist 2 is then photo-etched using a predetermined photomask 3 to form a resist pattern 4 having windows or openings in pixel areas to which a first color (for example, red) is to be applied.
即ち透明導電膜の表面にホトレジストを塗布し、（第１
図（Ｂ））、所定のホトマスクによりレジストを露光現
像し、エッチャントによりレジストの露光部分を除去し
て、同一の色が施されるべき部分に窓を有するレジスト
パターンを形成する（第１図（ｃ））。この工程で用い
られるホトマスクの形状、寸法、パターンなどは、その
目的に応じて適宜選択することができる。That is, a photoresist is applied to the surface of the transparent conductive film (first
(B)), the resist is exposed and developed using a predetermined photomask, and the exposed portions of the resist are removed using an etchant to form a resist pattern having windows in the areas to which the same color is to be applied (Fig. 1 (B)). c)). The shape, dimensions, pattern, etc. of the photomask used in this step can be appropriately selected depending on the purpose.
次に、上記の工程で得られたレジストパターンの窓の部
分即ち透明導電膜が露出している部分に、色素含有高分
子からなる着色膜Ｒを高分子電着法で形成する（第１図
（Ｄ））。この高分子電着法において、透明導電膜を電
源の正極に配置し、図示しない、対向配置された同一材
料の板を電源の負極に接続して、所定の色素を分散させ
た水溶性高分子を電気化学的に不溶化して、透明導電膜
露出面上にその色素を含有した高分子の膜で構成される
着色膜即ち画素フィルタ層を析出させる。その水溶性高
分子にはアニオン形が主に使用される。Next, a colored film R made of a dye-containing polymer is formed by polymer electrodeposition on the window portion of the resist pattern obtained in the above step, that is, the exposed portion of the transparent conductive film (see Fig. 1). (D)). In this polymer electrodeposition method, a transparent conductive film is placed on the positive electrode of a power source, and a plate of the same material (not shown) placed oppositely is connected to the negative electrode of the power source, and a water-soluble polymer in which a predetermined dye is dispersed is is electrochemically insolubilized to deposit a colored film, ie, a pixel filter layer, composed of a polymer film containing the dye on the exposed surface of the transparent conductive film. The anionic form of the water-soluble polymer is mainly used.
着色膜の形成後、不要となったレジストを除去し、着色
膜６のパターンのみを残す（第１図（Ｅ））。After forming the colored film, the unnecessary resist is removed, leaving only the pattern of the colored film 6 (FIG. 1(E)).
次に、上記第１図（Ｂ）の工程で用いたホトマスクを、
所定距離だけ移動し、赤色の色素の代りに緑色の色素を
用いること以外、上記と同様の工程を繰返す（第１図（
Ｆ〜Ｉ））。ホトマスクの移動距離は、所望のカラーフ
ィルタの密度によって定まるものである。次に上記のホ
トマスクを再び所定距離だけ移動し、青色の色素を用い
て、上記と同様の工程を繰返し、第１図（Ｊ）に示す構
造を得る。Next, the photomask used in the step of FIG. 1(B) above,
Move a predetermined distance and repeat the same process as above, except using green dye instead of red dye (see Figure 1).
F-I)). The moving distance of the photomask is determined by the desired color filter density. Next, the above photomask is moved again by a predetermined distance and the same steps as above are repeated using blue dye to obtain the structure shown in FIG. 1(J).
最後に、以上のようにして、三色の着色膜が被着された
カラーフィルタを熱処理して硬化させる。Finally, the color filter coated with the three colored films as described above is cured by heat treatment.
このようにして、第４図に示すような三色のモザイク状
のカラーフィルタが得られる。In this way, a tricolor mosaic color filter as shown in FIG. 4 is obtained.
以上、詳細に説明したように、本発明の製造方法によれ
ば、全面に拡がった透明導電膜を電着の際の給電線およ
び電極として用いるので、いずれの画素電極にも同じ電
着条件で着色膜を形成することができ、色ムラのない高
表示品質のカラーフィルタを製造することができる。ま
た、従来のように、特別の給電線パターンを設ける必要
がなくなるので、カラーフィルタの密度を高めることが
可能にする。As explained above in detail, according to the manufacturing method of the present invention, since the transparent conductive film spread over the entire surface is used as the power supply line and electrode during electrodeposition, all pixel electrodes are coated under the same electrodeposition conditions. A colored film can be formed, and a color filter with high display quality without color unevenness can be manufactured. Furthermore, unlike in the past, it is no longer necessary to provide a special feeder line pattern, making it possible to increase the density of color filters.
第１図（Ａ）〜（Ｊ）はこの発明の製造方法の実施例の
各工程を示す断面図、第２図は従来の製造法により得ら
れるカラーフィルタの平面図、第３図は従来の製造法に
より得られるカラーフィルタの、第２図の■−■線に沿
う断面図、第４図はこの発明の実施例により得られるカ
ラーフィルタの平面図である。
１・・・透明導電膜、 ２・・・レジスト、３・・
・マスク、 ４・・・レジストパターン、５
・・・透明基板、 Ｒ，Ｇ、Ｂ・・・着色膜、２
１．２２．２３．３１・・・給電端子。
か 力゛之ス＆才瓦
５： 力゛ラス基羞救Figures 1 (A) to (J) are cross-sectional views showing each step of an embodiment of the manufacturing method of the present invention, Figure 2 is a plan view of a color filter obtained by a conventional manufacturing method, and Figure 3 is a cross-sectional view of a color filter obtained by a conventional manufacturing method. FIG. 2 is a sectional view taken along the line ■-■ of FIG. 2, and FIG. 4 is a plan view of the color filter obtained by the embodiment of the present invention. 1...Transparent conductive film, 2...Resist, 3...
・Mask, 4...Resist pattern, 5
...Transparent substrate, R, G, B...Colored film, 2
1.22.23.31...Power supply terminal. Power and talent 5: Power and talent 5: Power and talent
Claims (1)
フィルタの製造方法において、 （ｂ）透明導電膜上にホト・エッチングによって窓を有
するレジストパターンを形成し、 （ｃ）上記透明導電膜を一方の電極として、一つの色の
色素を含有する溶液を用いて高分子電着を行なうことに
より、上記窓の部分に１つの色の画素フィルタ層を形成
し、 （ｄ）上記（ｂ）および（ｃ）のステップを異なる色の
色素を含有する溶液を用いてくり返すことにより異なる
色の画素フィルタ層を順次形成することを特徴とするカ
ラーフィルタの製造方法。 ２、上記異なる色の画素フィルタ層は互いに同一の規則
的くり返しの配列を有し、上記ホト・エッチングにおい
て、すべての色の画素フィルタ層について同一のホトマ
スクが、各色ごとに所定距離ずつずらして用いられるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。[Claims] 1. (a) A method for manufacturing a color filter in which pixel filter layers of different colors are mixed, (b) forming a resist pattern having windows on a transparent conductive film by photo-etching, (c) ) A pixel filter layer of one color is formed in the window portion by performing polymer electrodeposition using the transparent conductive film as one electrode using a solution containing a dye of one color, (d ) A method for producing a color filter, characterized in that pixel filter layers of different colors are sequentially formed by repeating steps (b) and (c) above using solutions containing dyes of different colors. 2. The pixel filter layers of different colors have the same regular repeating arrangement, and in the photo-etching, the same photomask is used for all the pixel filter layers of each color, shifted by a predetermined distance for each color. A method according to claim 1, characterized in that:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62082984A JPS63249106A (en) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | Production of color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62082984A JPS63249106A (en) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | Production of color filter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63249106A true JPS63249106A (en) | 1988-10-17 |
Family
ID=13789479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62082984A Pending JPS63249106A (en) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | Production of color filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63249106A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992014172A1 (en) * | 1991-02-01 | 1992-08-20 | Nippon Paint Co., Ltd. | Method for manufacturing multiple color display device |
| JPH09302500A (en) * | 1996-05-09 | 1997-11-25 | Ind Technol Res Inst | Manufacture of color filter by means of electrodeposition coating having anion property |
| KR100491434B1 (en) * | 1997-06-20 | 2005-08-01 | 소니 가부시끼 가이샤 | Manufacturing method of color filter |
-
1987
- 1987-04-06 JP JP62082984A patent/JPS63249106A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992014172A1 (en) * | 1991-02-01 | 1992-08-20 | Nippon Paint Co., Ltd. | Method for manufacturing multiple color display device |
| JPH09302500A (en) * | 1996-05-09 | 1997-11-25 | Ind Technol Res Inst | Manufacture of color filter by means of electrodeposition coating having anion property |
| KR100491434B1 (en) * | 1997-06-20 | 2005-08-01 | 소니 가부시끼 가이샤 | Manufacturing method of color filter |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH021A (en) | Color filter | |
| EP0224040B1 (en) | Liquid crystal color display device and its manufacturing process | |
| JPS61245106A (en) | Production of color filter | |
| JPH0549967B2 (en) | ||
| JPS63249106A (en) | Production of color filter | |
| JPS61272720A (en) | Production of color filter | |
| JPS6279421A (en) | Color liquid crystal display body | |
| JPH06167608A (en) | Production of color filter | |
| EP0295329B1 (en) | Liquid crystal color display device | |
| JPS63144390A (en) | Manufacture of display device | |
| JPS61270701A (en) | Production of color filter | |
| JPH0524493B2 (en) | ||
| JPS63249107A (en) | Production of color filter | |
| JPS61281220A (en) | Production of color filter | |
| JP3281739B2 (en) | Manufacturing method of electrodeposition color filter | |
| KR950008936B1 (en) | Color filter and its manufacturing method | |
| JPH07146407A (en) | Manufacture of color filter | |
| JPH06235811A (en) | Production of color filter | |
| JPS6370828A (en) | Matrix type liquid crystal display device and its production | |
| JP2745544B2 (en) | Manufacturing method of TFT type liquid crystal display device | |
| JP2828024B2 (en) | Manufacturing method of color filter | |
| JPH0261601A (en) | Manufacture of color filter | |
| JPS6355523A (en) | Production of multi-color display device | |
| JPH0713013A (en) | Formation of color filter and black mask | |
| JPH06208018A (en) | Production of color filter |