JPS63247716A - Beam converter - Google Patents

Beam converter

Info

Publication number
JPS63247716A
JPS63247716A JP62081023A JP8102387A JPS63247716A JP S63247716 A JPS63247716 A JP S63247716A JP 62081023 A JP62081023 A JP 62081023A JP 8102387 A JP8102387 A JP 8102387A JP S63247716 A JPS63247716 A JP S63247716A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
intensity distribution
parallel
light
reflected
collimator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62081023A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kaoru Yasukawa
薫 安川
Hironori Goto
後藤 広則
Osamu Ueno
修 上野
Hiroyuki Hotta
宏之 堀田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP62081023A priority Critical patent/JPS63247716A/en
Publication of JPS63247716A publication Critical patent/JPS63247716A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Head (AREA)

Abstract

PURPOSE:To convert a luminous intensity distribution of a beam cross section to a round shape from that of an elliptical shape by a simple constitution, and also, with high accuracy, by constituting a converting part for reflecting parallel beams from a semiconductor laser, of two or more parallel reflecting surfaces. CONSTITUTION:This device is constituted of a semiconductor laser 1, a collimator 3 for converting an output light 2 of this laser 1 to parallel beams 4, a converting part 20 for reflecting an output light of the collimator 3 and obtaining a prescribed luminous intensity distribution, and an objective lens 5. This converting part 20 is constituted of a light transmissive parallel plane plate having two or more parallel reflecting surfaces. In this converting part 20, a reflecting surface 21 and 22 exist. When a beam 4 of an elliptical luminous intensity distribution, which has passed through the laser 1 and the collimator 3 is made incident on the converting part 20, the same elliptical beam is reflected in both the reflecting surface 21 and the reflecting surface 22. However, when these reflected light beams and a reflected light by a multipath reflection are superposed, the luminous intensity distribution of its beam cross section comes near a round shape. In such a way, the luminous intensity distribution of the beam cross section can be converted to a round shape.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、光ディスク等の光学的情報の記録や再生を行
う装置に使用されるビーム変換装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The present invention relates to a beam conversion device used in a device for recording and reproducing optical information such as an optical disk.

「従来の技術」 光ディスク等の光学的情報の記録装置においては、その
情報記録媒体に、記録すべき情報に対応する一定の凹凸
を設けている。この装置は、この凹凸に対して光ビーム
を照射し、その反射光の強度変化から記録された情報の
読み取りを行っている。
"Prior Art" In optical information recording devices such as optical discs, the information recording medium is provided with certain irregularities corresponding to the information to be recorded. This device irradiates the unevenness with a light beam and reads recorded information from changes in the intensity of the reflected light.

この読み取りのための光源には、一般に、半導体レーザ
が使用されている。ところで、従来一般に使用されてい
る半導体レーザは、通常そのファーフィールドバタン、
すなわち、ビーム断面の光強度分布が楕円形になってい
ることはよ(知られている。
A semiconductor laser is generally used as a light source for this reading. By the way, conventionally commonly used semiconductor lasers usually have a far-field baton,
In other words, it is well known that the light intensity distribution in the cross section of the beam is elliptical.

光学的情報の記録再生装置に使用される光ヘッドは一般
に、第9図に示すように、半導体レーザ1から出力され
る発散光2を、コリメータレンズ3を用いて平行ビーム
4に変換し、これを対物レンズ5を用いて情報記録媒体
6上に結像するようにしている。しかし、先に説明した
ように、半導体レーザ1のビーム断面の光強度分布が楕
円形のため、平行ビームのA−A断面も同様の強度分布
4Aを示し、対物レンズ5の収束光7のスポットの強度
分布がその先軸に対して真円形にならない。
As shown in FIG. 9, an optical head used in an optical information recording/reproducing device generally converts a diverging beam 2 output from a semiconductor laser 1 into a parallel beam 4 using a collimator lens 3. is imaged onto an information recording medium 6 using an objective lens 5. However, as explained earlier, since the light intensity distribution of the beam cross section of the semiconductor laser 1 is elliptical, the A-A cross section of the parallel beam also shows a similar intensity distribution 4A, and the spot of the convergent light 7 of the objective lens 5 The intensity distribution is not perfectly circular with respect to its tip axis.

このために、情報記録媒体6からの情報の読み取り誤り
等を生じていた。また、このレーザビームを用いた情報
の書き込みも行われているが、情報記録媒体6に対して
、情報を正確に記録することが難しいという難点があっ
た。
This has caused errors in reading information from the information recording medium 6. Although information has also been written using this laser beam, there is a problem in that it is difficult to accurately record information on the information recording medium 6.

「発明が解決しようとする問題点」 こういった問題を解決するために従来、例えば第1O図
に示すように、2個のシリンドリカルレンズ8.9から
構成されたアナモフィック光学系10を、コリメータレ
ンズ3と対物レンズ5との間に挿入し、平行ビーム4′
のA−A断面の光強度分布4’Aを楕円形から真円形に
変換していた。
"Problems to be Solved by the Invention" In order to solve these problems, conventionally, for example, as shown in FIG. 3 and the objective lens 5, and the parallel beam 4'
The light intensity distribution 4'A of the AA cross section was converted from an ellipse to a perfect circle.

また、第11図に示すように、コリメータレンズ3と対
物レンズ5との間に、断面が楔形のプリズム11.12
を挿入して、A−A断面の光強度分布4’Aを楕円形か
ら真円形に変換していた(モダン・オプティカル・エン
ジニアリング W、J。
In addition, as shown in FIG.
was inserted to convert the light intensity distribution 4'A on the A-A cross section from an ellipse to a perfect circle (Modern Optical Engineering W, J.

スミス(1966)P239〜241)。Smith (1966) P239-241).

ところが第10図や第11図に示すような従来の装置で
は、コリメータレンズ3と対物レンズ5との間に挿入す
るアナモフィック光学系10は、その構成が比較的複雑
で、装置を大型化し、また、その調整も容易でないとい
う欠点があった。
However, in conventional devices as shown in FIGS. 10 and 11, the anamorphic optical system 10 inserted between the collimator lens 3 and the objective lens 5 has a relatively complicated structure, making the device large and complicated. However, the disadvantage is that the adjustment is not easy.

本発明は以上の点に着目してなされたもので、比較的小
型の光学系により、ビーム断面からみた光強度分布を楕
円形から真円形に変換することのできるビーム変換装置
を提供することを目的とするものである。
The present invention has been made with attention to the above points, and an object of the present invention is to provide a beam conversion device that can convert the light intensity distribution seen from the beam cross section from an elliptical shape to a perfect circular shape using a relatively small optical system. This is the purpose.

「問題点を解決するための手段」 本発明のビーム変換装置は、半導体レーザと、この半導
体し−ザの出力光を平行ビームにするコリメータと、そ
のコリメータの出力光を反射して、所定の光強度分布の
反射光を得る変換部とを有し、この変換部は、2以上の
平行な反射面を有する光透過性の平行平面板から成り、
上記各反射面はこれらに対して斜めに入射した上記平行
ビームを反射し合成して上記所定の光強度分布の反射光
を出力することを特徴とするものである。
"Means for Solving the Problems" The beam conversion device of the present invention includes a semiconductor laser, a collimator that converts the output light of the semiconductor laser into a parallel beam, and a collimator that reflects the output light of the collimator to form a predetermined beam. a converting unit for obtaining reflected light with a light intensity distribution, the converting unit consisting of a light-transmissive parallel plane plate having two or more parallel reflecting surfaces;
Each of the reflecting surfaces reflects and combines the parallel beams that are obliquely incident thereon, and outputs reflected light having the predetermined light intensity distribution.

なお、上記半導体レーデは、可干渉性の低い出力光を出
力するものであることが好ましい。
Note that the semiconductor radar preferably outputs output light with low coherence.

「作用」 以上の装置は、半導体レーザの出力光をコリメータを用
いて平行ビームにした後、その出力光を平行平面板に斜
めに入射させ、ビーム断面の光強度分布を変換するよう
にしている。この平行平面板においては、入射光が、そ
の平行な2以上の反射面でそれぞれ反射して出力する。
"Operation" The above device converts the output light of a semiconductor laser into a parallel beam using a collimator, and then makes the output light obliquely incident on a parallel plane plate to transform the light intensity distribution in the beam cross section. . In this parallel plane plate, incident light is reflected by two or more parallel reflecting surfaces and output.

このとき、その反射光は互いに位置ずれする。平行平面
板に入射した光が平行な反射面間で多重反射をした後に
出射すると、その反射光の位置ずれ量はさらに大きくな
る。このような反射光を合成すると、見掛は上のビーム
断面の光強度分布が真円形に近くなる。
At this time, the reflected lights are shifted from each other. When the light incident on the plane-parallel plate undergoes multiple reflections between the parallel reflecting surfaces and then exits, the amount of positional deviation of the reflected light becomes even larger. When such reflected lights are combined, the light intensity distribution in the upper beam cross section appears to be close to a perfect circle.

「実施例」 第1図は本発明のビーム変換装置の実施例を示す概略構
成図である。
Embodiment FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of a beam conversion device of the present invention.

図において、この装置は、半導体レーザ1と、この半導
体レーザ1の出力光2を平行ビーム4にするコリメータ
3と、そのコリメーク3の出力光を反射して、所定の光
強度分布の反射光を得る変換部20と、この反射光を情
報記録媒体6に集光する対物レンズ5とから構成されて
いる。この変換部20は、ガラス板等の、平行な2以上
の反射面を有する光透過性の平行平面板から構成されて
いる。この変換部20には、第1の反射面21と、第2
の反射面22とが存在する。この実施例においては、変
換部20に入射した平行ビーム4は、第1の反射面21
において反射する一方、変換部20の内部に進入し、第
2の反射面22において反射した後、第1の反射面21
を経て対物レンズ5に向かう。
In the figure, this device includes a semiconductor laser 1, a collimator 3 that converts the output light 2 of the semiconductor laser 1 into a parallel beam 4, and a collimator 3 that reflects the output light of the collimator 3 to produce reflected light with a predetermined light intensity distribution. and an objective lens 5 that focuses this reflected light onto an information recording medium 6. The conversion unit 20 is composed of a light-transmissive parallel plane plate having two or more parallel reflecting surfaces, such as a glass plate. This converter 20 includes a first reflective surface 21 and a second reflective surface 21 .
There is a reflective surface 22. In this embodiment, the parallel beam 4 incident on the converter 20 is directed to the first reflecting surface 21.
while entering the inside of the converting section 20 and being reflected at the second reflecting surface 22, the first reflecting surface 21
It then goes to the objective lens 5.

さらにこの実施例においては、変換部20に入射した平
行ビームは、第1の反射面21を透過して第2の反射面
22に向かい、そこで反射したのち第1の反射面21へ
入射し、再びここで反射し、また第2の反射面22へ向
かうというように反射を繰り返し、いわゆる多重反射を
行う。
Furthermore, in this embodiment, the parallel beam incident on the converter 20 passes through the first reflective surface 21 and heads toward the second reflective surface 22, and after being reflected there, enters the first reflective surface 21, The light is reflected here again and then again towards the second reflecting surface 22, repeating the reflection, resulting in so-called multiple reflection.

第2図は、第1図のコリメータ3を出力した平行ビーム
4のA−A断面の光強度分布を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing the light intensity distribution of the parallel beam 4 outputted from the collimator 3 of FIG. 1 in the AA cross section.

このグラフのX軸は第1図に示すように、A−Δ断面に
おいて、図面の上方に向かう方向の線で、y軸は紙面に
垂直な向きの線である。このような楕円形の光強度分布
のビームが変換部20に入射すると、第1図の反射面2
1においても、第2の反射面22においても、同様の楕
円形のビームが反射される。しかも、これらの反射光お
よび多重反射による反射光とを重ね合わせると、そのビ
ーム断面の光強度分布がX軸方向に引き伸ばされて、真
円形に近付(。これが本発明のビーム変換装置の動作原
理である。
As shown in FIG. 1, the X-axis of this graph is a line directed upward in the drawing in the A-Δ cross section, and the y-axis is a line perpendicular to the plane of the paper. When a beam with such an elliptical light intensity distribution enters the conversion unit 20, the reflection surface 2 in FIG.
1 and the second reflecting surface 22, similar elliptical beams are reflected. Moreover, when these reflected lights and the reflected lights due to multiple reflections are superimposed, the light intensity distribution of the beam cross section is stretched in the X-axis direction and approaches a perfect circle (this is the operation of the beam conversion device of the present invention). It is the principle.

第3図には、このようなビームの重なり合いの状態を示
した。
FIG. 3 shows such a state of overlapping beams.

X軸とy軸との交点すなわち原点を中心とする楕円形の
ビ・−ム41は、変換部20に入射した平行ビームのう
ち、最初に第1の反射面21において反射したビームで
ある。そのすぐ隣の楕円形のビーム42は、第1の反射
面2Iを透過し、第2の反射面22に入射して、そこで
反射して第1の反射面21に向かいここを透過して出力
したビームである。その隣のビーム43は、第2の反射
面22、第1の反射面21、第2の反射面22、という
順に3回多重反射をして出力されたビームである。これ
らのビーム41〜45・・・はそれぞれ互いに間@Sだ
け離れて、等ピッチで並んでいる。
An elliptical beam 41 centered at the intersection of the X-axis and the y-axis, that is, the origin, is a beam that is first reflected at the first reflecting surface 21 among the parallel beams incident on the converter 20. The elliptical beam 42 immediately adjacent thereto passes through the first reflective surface 2I, enters the second reflective surface 22, is reflected there, heads toward the first reflective surface 21, transmits there, and is output. It is a beam that has been The beam 43 next to it is a beam that is multiple-reflected three times in the order of the second reflecting surface 22, the first reflecting surface 21, and the second reflecting surface 22 and is output. These beams 41 to 45... are spaced apart from each other by a distance @S and are lined up at equal pitches.

ここで、第1の反射面2Iの反射率をα、第2の反射面
22の反射率をβ、変換部20の屈折率をn1厚さをd
1平行ビーム4の変換部20への入射角をθとすると、
そのビームの間隔Sは、次の式によって表すことができ
る。
Here, the reflectance of the first reflective surface 2I is α, the reflectance of the second reflective surface 22 is β, the refractive index of the converter 20 is n1, the thickness is d
If the incident angle of one parallel beam 4 to the conversion unit 20 is θ, then
The beam spacing S can be expressed by the following equation.

s =2d −jan (sin−’(sinθ/n)
 ) cosθまた、X軸に沿うビーム断面の光強度分
布に着目すると、変換後の平行ビーム4′の光強度分布
I(x)は、変換部20に入射する平行ビーム4の光強
度分布をf (x)とすると、次の式で表すことができ
る。
s = 2d -jan (sin-'(sinθ/n)
) cos θ Also, focusing on the light intensity distribution in the beam cross section along the (x), it can be expressed by the following formula.

I(X>  = s αf(x)+β(1−α)2f(
x −S ’)+β2α(1−a)2f(x −2s)
 + ・・−= a f (X) +(1−a)4  
β11f11−1(xs)この光強度分布1 (x)を
、第4図に縦軸に光強度をとって示した。
I(X> = s αf(x)+β(1-α)2f(
x −S′)+β2α(1−a)2f(x−2s)
+ ・・−= a f (X) + (1-a) 4
β11f11-1(xs) This light intensity distribution 1 (x) is shown in FIG. 4 with the light intensity plotted on the vertical axis.

この式1 (x)において、α、βの値と、ビームの間
隔Sとを適当に選択することにより、変換部20に角度
θで入射した楕円形のビームを真円形に近いビームに変
換することが可能になる。その具体例を次の実施例によ
り説明する。
In this equation 1 (x), by appropriately selecting the values of α and β and the beam spacing S, the elliptical beam incident on the conversion unit 20 at an angle θ is converted into a nearly perfect circular beam. becomes possible. A specific example thereof will be explained using the following example.

変換部20に使用した平行平面板の第1の反射面21の
反射率αを38.2%、第2の反射面の反射率βを10
0%、平行平面板の屈折率nを1.5、厚さdを3mm
、入射角θを45°とする。
The reflectance α of the first reflecting surface 21 of the parallel plane plate used in the converter 20 is 38.2%, and the reflectance β of the second reflecting surface is 10.
0%, the refractive index n of the parallel plane plate is 1.5, and the thickness d is 3 mm.
, the incident angle θ is 45°.

このような条件のもとに入射光のX軸に沿う光強度分布
をf (x’) ==e)(p (−2x2/22)と
すると、第5図に示すように、変換後の平行ビームの光
強度分布I (x)が求められる。
Under these conditions, if the light intensity distribution of the incident light along the X-axis is f (x') ==e)(p (-2x2/22), then the converted The light intensity distribution I (x) of the parallel beam is determined.

このグラフをみてわかるように、ビーム断面の光強度分
布がX軸に沿う方向に約1.7倍に拡大されている。実
際には、このような条件で各パラメータを選定したとき
が最も効果的な真円形に近いビームが得られた。
As can be seen from this graph, the light intensity distribution in the cross section of the beam is expanded approximately 1.7 times in the direction along the X axis. In reality, when each parameter was selected under these conditions, the most effective beam nearly perfectly circular was obtained.

通常、光ディスクに使用されるビーム変換装置は、半導
体レーザから出力される光ビームを90゜曲げて方向転
換するようにしている。従って、従来のビーム変換装置
の光路変更用ミラーを、本発明において紹介した変換部
に置き換えれば、ただちに本発明の実施をすることがで
きる。その場合、方向転換とビーム変換を一挙に行うた
め装置の大型化を防止できる効果がある。
Generally, a beam conversion device used for an optical disk changes the direction of a light beam output from a semiconductor laser by bending it by 90 degrees. Therefore, the present invention can be implemented immediately by replacing the optical path changing mirror of the conventional beam converting device with the converting section introduced in the present invention. In this case, the direction change and beam conversion are performed at the same time, which has the effect of preventing the device from becoming larger.

ところで、このように光ビームの光路を90゜折り曲げ
る場合のほか、第6図に示すように、半導体レーザから
出力されたビーム4を、2個の変換部20.20′を使
用して直線的にガイドするようにしてもよい。
By the way, in addition to bending the optical path of the light beam by 90 degrees as described above, as shown in FIG. It may also be possible to guide the

以上説明したような変換部は、比較的小型にすることが
可能で、しかも調整部分が無いため取り扱いが簡単であ
る。
The converting unit as described above can be made relatively compact and is easy to handle since there are no adjustment parts.

「変形例」 本発明のビーム変換装置は以上の実施例に限定されない
"Modification" The beam conversion device of the present invention is not limited to the above embodiment.

第7図には、本発明のビーム変換装置に使用する変換部
20の別の実施例を示した。
FIG. 7 shows another embodiment of the converter 20 used in the beam converter of the present invention.

この変換部20は、先に説明した平行平面板を2枚重ね
て構成している。この場合、第1の反射面21と第2の
反射面22と第3の反射面23とが形成される。この変
換部20へ入射した平行ビーム4は、第1の反射面21
で反射するものと、第1の反射面21を透過して第2の
反射面22で反射するものと、第1の反射面21と第2
の反射面22とを透過して第3の反射面23で反射する
ものと、第1の反射面21と第2の反射面22の間で多
重反射するものと、第2の反射面22と第3の反射面2
3の間で多重反射するものとに分散して、これらの反射
光が互いに重なり合ったビニムに変換される。
This conversion section 20 is constructed by stacking two parallel plane plates described above. In this case, a first reflective surface 21, a second reflective surface 22, and a third reflective surface 23 are formed. The parallel beam 4 incident on this converter 20 is directed to the first reflecting surface 21
One is reflected by the first reflective surface 21, the other is transmitted through the first reflective surface 21 and reflected by the second reflective surface 22, and the first reflective surface 21 and the second reflective surface
One is transmitted through the reflective surface 22 and reflected at the third reflective surface 23, the other is multiple reflected between the first reflective surface 21 and the second reflective surface 22, and the second reflective surface 22. Third reflective surface 2
The reflected light is multi-reflected between the three beams, and these reflected lights are converted into vinyl overlapping each other.

第8図には、この第7図の実施例に示した変換部20の
各反射面で反射した反射光41〜45・・・の個々の強
度分布を示した。。
FIG. 8 shows the individual intensity distributions of the reflected lights 41 to 45 reflected by the respective reflecting surfaces of the converter 20 shown in the embodiment of FIG. 7. .

これらの反射光41〜45・・・を合成すれば、第、5
図に示したものと同様に、X軸方向に引き伸ばされたビ
ームが得られる。なお、本発明においては、このように
平行な2以上の反射面で反射したビームを合成するので
、これらのビームが互いに干渉するようでは、干渉縞が
生じて、逆効果になってしまう。従って、コヒーレント
ないわゆるシングルモードのビームを出力するレーザを
使用するのは好ましくない。すなわち、マルチモードの
可干渉性の低いビームを出力する半導体レーザを使用す
ることが望ましい。
If these reflected lights 41 to 45... are combined, the fifth
A beam elongated in the X-axis direction is obtained, similar to that shown in the figure. In the present invention, since the beams reflected by two or more parallel reflecting surfaces are combined, if these beams were to interfere with each other, interference fringes would occur, resulting in an adverse effect. Therefore, it is not preferable to use a laser that outputs a coherent so-called single mode beam. That is, it is desirable to use a semiconductor laser that outputs a multimode beam with low coherence.

「発明の効果」 以上説明した本発明のビーム変換装置によれば、簡単な
構成でかつ高精度にビーム断面の光強度分布を楕円形の
ものから真円形に変換でき、記録媒体上の情報を忠実に
再生し、あるいは、記録媒体上に情報を確実に記録する
ことが可能になる。もちろん、使用部品が特殊でないた
め、その製造コストを充分に低くすることができる。
"Effects of the Invention" According to the beam converting device of the present invention described above, the light intensity distribution of the beam cross section can be converted from an elliptical shape to a perfect circle with a simple configuration and with high precision, and information on a recording medium can be converted into a perfect circle. It becomes possible to faithfully reproduce information or to reliably record information on a recording medium. Of course, since the parts used are not special, the manufacturing cost can be sufficiently reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明のビーム変換装置の実施例を示す概略構
成図、第2図はそのコリメータから出力されたビームの
A−A断面からみた光強度分布、第3図は変換部で変換
後のビームのB−B断面内での光強度分布、第4図は縦
軸に光強度をとったX軸に沿う光強度分布を示したグラ
フ、第5図はそのより具体的な実施例の光強度分布を示
したグラフ、第6図は本発明の変形例を示す概略構成図
、第7図は本発明の別の実施例における変換部の概略構
成図、第8図は第7図の実施例に示した変換部の各反射
面で反射した反射光の個々の強度分布を示したグラフ、
第9図と第1O図と第11図とは、それぞれ従来のビー
ム変換装置の一例を示す概略構成図である。 1・・・・・・半導体レーザ、 3・・・・・・コリメータ、 4・・・・・・平行ビーム、 20・・・・・・変換部。 出  願  人 富士ゼロックス株式会社 代  理  人
Figure 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of the beam conversion device of the present invention, Figure 2 is the light intensity distribution of the beam output from the collimator as seen from the A-A cross section, and Figure 3 is after conversion by the conversion unit. Fig. 4 is a graph showing the light intensity distribution along the X-axis with light intensity on the vertical axis, and Fig. 5 is a graph showing a more specific example. A graph showing the light intensity distribution, FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing a modified example of the present invention, FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a conversion section in another embodiment of the present invention, and FIG. A graph showing the individual intensity distribution of reflected light reflected by each reflecting surface of the conversion unit shown in the example,
FIG. 9, FIG. 1O, and FIG. 11 are schematic configuration diagrams each showing an example of a conventional beam conversion device. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Semiconductor laser, 3... Collimator, 4... Parallel beam, 20... Conversion section. Applicant: Fuji Xerox Co., Ltd. Agent

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、半導体レーザと、この半導体レーザの出力光を平行
ビームにするコリメータと、そのコリメータの出力光を
反射して、所定の光強度分布の反射光を得る変換部とを
有し、この変換部は、2以上の平行な反射面を有する光
透過性の平行平面板から成り、前記各反射面はこれらに
対して斜めに入射した前記平行ビームを反射し合成して
前記所定の光強度分布の反射光を出力することを特徴と
するビーム変換装置。 2、前記半導体レーザは、可干渉性の低い出力光を出力
するものであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載のビーム変換装置。
[Claims] 1. A semiconductor laser, a collimator that converts the output light of the semiconductor laser into a parallel beam, and a conversion unit that reflects the output light of the collimator to obtain reflected light with a predetermined light intensity distribution. The conversion unit is made of a light-transmissive parallel plane plate having two or more parallel reflecting surfaces, and each of the reflecting surfaces reflects and synthesizes the parallel beams that are obliquely incident thereon. A beam conversion device characterized in that it outputs reflected light with a predetermined light intensity distribution. 2. The beam conversion device according to claim 1, wherein the semiconductor laser outputs output light with low coherence.
JP62081023A 1987-04-03 1987-04-03 Beam converter Pending JPS63247716A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62081023A JPS63247716A (en) 1987-04-03 1987-04-03 Beam converter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62081023A JPS63247716A (en) 1987-04-03 1987-04-03 Beam converter

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63247716A true JPS63247716A (en) 1988-10-14

Family

ID=13734881

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62081023A Pending JPS63247716A (en) 1987-04-03 1987-04-03 Beam converter

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63247716A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02179934A (en) * 1988-12-29 1990-07-12 Sony Corp Optical pickup
JP2004518107A (en) * 2000-04-26 2004-06-17 ライカ ジオシステムズ アクチエンゲゼルシャフト Optical distance measuring device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02179934A (en) * 1988-12-29 1990-07-12 Sony Corp Optical pickup
JP2004518107A (en) * 2000-04-26 2004-06-17 ライカ ジオシステムズ アクチエンゲゼルシャフト Optical distance measuring device
JP4753341B2 (en) * 2000-04-26 2011-08-24 ライカ ジオシステムズ アクチエンゲゼルシャフト Optical distance measuring instrument

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05144076A (en) Optical scanning head
EP0776002A2 (en) Integrated optical pickup system capable of reading optical disks of different thicknesses
JPS63247716A (en) Beam converter
KR20020047863A (en) Solid immersion mirror type objective lens and optical pickup apparatus employing it
JP3300536B2 (en) Displacement measuring device and optical pickup
JP3303250B2 (en) Displacement measuring device and optical pickup
JPH0482032A (en) Optical information recording and reproducing head
JP2000275567A (en) Beam shaping optical system and recording and reproducing device
JPS63129529A (en) Optical pickup head
JPH04263131A (en) Beam shaping apparatus
JPS63191328A (en) Optical head device
JPH03120624A (en) Optical pickup device
KR900007143B1 (en) Optical head unit
JPH01251439A (en) Light source unit
JPH0679380B2 (en) Focus error detector
JPS61223704A (en) Formation of hologram lens
JPS58137141A (en) Focus detecting method
JPH1153754A (en) Optical pickup
JPH1166593A (en) Light spot generator for storage medium
JPH0512700A (en) Optical head device
JPH0533466B2 (en)
JPS63223538A (en) Interference measuring instrument
JPH05165390A (en) Image storage device
JPH02195536A (en) Optical head device
JPH01241033A (en) Optical waveguide device