JPS63225455A - イオンビ−ム中性化装置 - Google Patents
イオンビ−ム中性化装置Info
- Publication number
- JPS63225455A JPS63225455A JP5952287A JP5952287A JPS63225455A JP S63225455 A JPS63225455 A JP S63225455A JP 5952287 A JP5952287 A JP 5952287A JP 5952287 A JP5952287 A JP 5952287A JP S63225455 A JPS63225455 A JP S63225455A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shield
- ion beam
- filament
- shield electrode
- electronic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 title claims description 22
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 13
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 RM1 Ion Chemical class 0.000 description 1
- 241000270666 Testudines Species 0.000 description 1
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、原子、もしくは分子イオンビームの電荷を
中性化するイオンビーム中性化装置に関するものである
。
中性化するイオンビーム中性化装置に関するものである
。
第3図は従来のイオンビームを中和する装置(以後、中
和器と呼ぶ)の構成断面−であり、図において、(1)
は電子を放出するフィラメントであり、第1屯源(2)
で加熱され、第2電源(3)により電位が与えられる。
和器と呼ぶ)の構成断面−であり、図において、(1)
は電子を放出するフィラメントであり、第1屯源(2)
で加熱され、第2電源(3)により電位が与えられる。
(4)はフィラメント(1)から放電された熱)−電子
が外周部に拡散するのを防止する電子シールド電極であ
り、第3屯源(5)により負4位が与えられる。(6)
はイオンビーム軸道内で電子が試料(7)とは逆方向に
拡散するのを防止するシールド電極であり、第4 電源
(8)により負電位が与えられる。
が外周部に拡散するのを防止する電子シールド電極であ
り、第3屯源(5)により負4位が与えられる。(6)
はイオンビーム軸道内で電子が試料(7)とは逆方向に
拡散するのを防止するシールド電極であり、第4 電源
(8)により負電位が与えられる。
(9)は試料台、Qdはイオンビームである。αυは試
料表面におけるイオンの電荷を中和する中和器である。
料表面におけるイオンの電荷を中和する中和器である。
■はイオンビーム用アパーチャである。
次に動作について説明する。中和器αυに入射したイオ
ンビームαOは極く近接して設けられたフィラメント(
])から放出された電子を、両者の電位差が零になるま
でイオンビームαG内に引き込み、中和器0υ近傍のイ
オンビームα0は中性化される。この場合の中性化とは
、イオンビーム00円の個々のイオンが電子と結合し完
全な中性粒子になっていることではない。イオンビーム
00円でのイオン密度とy4子密度が等しい状態にあり
、イオンはビームとして動作し、電子は7u子として動
作しながら、電子はイオンビーム自身が形成する正電場
中で捕獲された状態(以後、プラズマ状態と呼ぶ)を言
う。
ンビームαOは極く近接して設けられたフィラメント(
])から放出された電子を、両者の電位差が零になるま
でイオンビームαG内に引き込み、中和器0υ近傍のイ
オンビームα0は中性化される。この場合の中性化とは
、イオンビーム00円の個々のイオンが電子と結合し完
全な中性粒子になっていることではない。イオンビーム
00円でのイオン密度とy4子密度が等しい状態にあり
、イオンはビームとして動作し、電子は7u子として動
作しながら、電子はイオンビーム自身が形成する正電場
中で捕獲された状態(以後、プラズマ状態と呼ぶ)を言
う。
内部がプラズマ状態にある中和器Oυに第2亀流(3)
で負4位を与えると、試料(7)との間にm位勾配が生
じ、プラズマ内の電子は試料(7)方向に移動する。今
、イオンビーム00内のイオン密度と電子密度が等しい
ので、試料(7ンへの電子の移動速度とイオンビームQ
Gの入射速度を同じになるように第2[&f (3)で
電子の移動速度をコントロールすれは、試料(7)に到
達するイオンと電子の数が等しくなり、試料(7)表面
で中和される。この現象を数式で簡単に表わすと、中和
に必要な電子の移動エネルギーEe%電子の質量m%電
子の移動速度Ve、イオンの入射エネルギーEhイオン
の質RM1イオンの入射速度VBとすると、Ee=
m%’6”、 Ei = 1MVi2 であり、V
6 ” V i の条件からEe=7Ei が成立
つ。
で負4位を与えると、試料(7)との間にm位勾配が生
じ、プラズマ内の電子は試料(7)方向に移動する。今
、イオンビーム00内のイオン密度と電子密度が等しい
ので、試料(7ンへの電子の移動速度とイオンビームQ
Gの入射速度を同じになるように第2[&f (3)で
電子の移動速度をコントロールすれは、試料(7)に到
達するイオンと電子の数が等しくなり、試料(7)表面
で中和される。この現象を数式で簡単に表わすと、中和
に必要な電子の移動エネルギーEe%電子の質量m%電
子の移動速度Ve、イオンの入射エネルギーEhイオン
の質RM1イオンの入射速度VBとすると、Ee=
m%’6”、 Ei = 1MVi2 であり、V
6 ” V i の条件からEe=7Ei が成立
つ。
即ち入射イオン種が変っても、上式の関係が成立つため
、中和が可能である。
、中和が可能である。
又、イオン照射に伴なう試料(7)からの2次璽子放出
で生ずる試料(7)の正帯電も、電子の移動エネルギー
を高くし、放出される2次電子量と同量の電子を中和器
αυから供給することにより解消され、試料(7)表面
の中和が保たれる。
で生ずる試料(7)の正帯電も、電子の移動エネルギー
を高くし、放出される2次電子量と同量の電子を中和器
αυから供給することにより解消され、試料(7)表面
の中和が保たれる。
更に、試料(7ンに正帯電による1ど位変励が生じた場
合、14位変動に応じて電子の移動エネルギーも変化し
、常に自動的に電子量が調整される。
合、14位変動に応じて電子の移動エネルギーも変化し
、常に自動的に電子量が調整される。
なお、電子シールド電極(4)は、フィラメント(1)
に対し負電位を印加しているので、電子が外周囲へ拡散
することを防止し、効率良くイオンビームQOへ電子を
供給するとともに、試料(7)へ直接電子が入射するこ
とを防止する。そしてシールド電極(6)はイオンビー
ム00円の電子がイオン源口方向に移動するのを防止す
るとともに、イオンビームαG内の電子を効率良く試料
(7)方向へ供給する役目を持つ。アパーチャ(2)は
イオンビーム00が中和i10nに直接光らないように
・さえぎる。
に対し負電位を印加しているので、電子が外周囲へ拡散
することを防止し、効率良くイオンビームQOへ電子を
供給するとともに、試料(7)へ直接電子が入射するこ
とを防止する。そしてシールド電極(6)はイオンビー
ム00円の電子がイオン源口方向に移動するのを防止す
るとともに、イオンビームαG内の電子を効率良く試料
(7)方向へ供給する役目を持つ。アパーチャ(2)は
イオンビーム00が中和i10nに直接光らないように
・さえぎる。
従来のイオンビーム中性化装置は以上のように構成され
ているので、フィラメント(1)から発生する熱は、フ
ィラメント(1)を囲んでいる電子シールドt4#L極
(4)により熱シールドされるが、フィラメント(1)
から電子シールド電極(4)を介して中和器Oυを収納
する真空箱(−示せず)への熱放射のため、フィラメン
ト(1)を所望の温度に加熱するために多大の2g力を
必要とする問題点があった。
ているので、フィラメント(1)から発生する熱は、フ
ィラメント(1)を囲んでいる電子シールドt4#L極
(4)により熱シールドされるが、フィラメント(1)
から電子シールド電極(4)を介して中和器Oυを収納
する真空箱(−示せず)への熱放射のため、フィラメン
ト(1)を所望の温度に加熱するために多大の2g力を
必要とする問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、フィラメントを所望の温度に加熱するために
、フィラメントへ供給する電力を小さくすることができ
る装置を得ることを目的とする。
たもので、フィラメントを所望の温度に加熱するために
、フィラメントへ供給する電力を小さくすることができ
る装置を得ることを目的とする。
この発明に係るイオンビーム中性化装置は、フィラメン
トの外周側に配設され、第1シールド及びその第1シー
ルドの外周側に配置された第2シールドから構成された
電子シールド電極を設けたものである。
トの外周側に配設され、第1シールド及びその第1シー
ルドの外周側に配置された第2シールドから構成された
電子シールド電極を設けたものである。
この発明におけるイオンビーム中性化装置は、電子シー
ルド電極を第1シールドと第2シールドで構成したため
、熱シールドとして有効に働き。
ルド電極を第1シールドと第2シールドで構成したため
、熱シールドとして有効に働き。
フィラメントから電子シールド電極を介しての熱放射を
少くする。
少くする。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図において、(1)は電子を放出するフィラメント、(
2)はフィラメント(1)の加熱用電源、(3)はフィ
ラメント(1)に電位を与えるための電源、(6)はイ
オンビーム軸道内で電子が試料(7)とは逆方向に拡散
するのを防止するシールド電極で、第41を源(8)に
より負電位が与えられる。(9)は試料台、αOはイオ
ンビーム、(6)は試料表面におけるイオンの電荷を中
和する中和器である。的は第1シールド(41a)とそ
の第1シールド(41a)の外周側に配置された第2シ
ールド(41b)から構成された電子シールド電極でフ
ィラメント(1)の熱シールドを兼ね、第3wt源(5
)により負電位が与えられる。第2図、第3図は電子シ
ールド劃1Dの斜視図、縦断面図を示し、図は一例とし
て、第1シールド(41a)、第2シールド(41b)
は耐熱性に優れたモリブデン板を使用してそれぞれ円筒
状に形成され、それら各両端部にツメ(41c)、 (
41d)が設けられ、両端部にドーナツ状の薄い円板(
41e)を取り付け1円板(41e)に設けた復数の穴
に第1シールド(41a)、第2シールド(41b)の
各ツメ(41c)、 (41d)を嵌め込みて折り曲げ
て一体構造の電子シールド電極(財)が構成される。
図において、(1)は電子を放出するフィラメント、(
2)はフィラメント(1)の加熱用電源、(3)はフィ
ラメント(1)に電位を与えるための電源、(6)はイ
オンビーム軸道内で電子が試料(7)とは逆方向に拡散
するのを防止するシールド電極で、第41を源(8)に
より負電位が与えられる。(9)は試料台、αOはイオ
ンビーム、(6)は試料表面におけるイオンの電荷を中
和する中和器である。的は第1シールド(41a)とそ
の第1シールド(41a)の外周側に配置された第2シ
ールド(41b)から構成された電子シールド電極でフ
ィラメント(1)の熱シールドを兼ね、第3wt源(5
)により負電位が与えられる。第2図、第3図は電子シ
ールド劃1Dの斜視図、縦断面図を示し、図は一例とし
て、第1シールド(41a)、第2シールド(41b)
は耐熱性に優れたモリブデン板を使用してそれぞれ円筒
状に形成され、それら各両端部にツメ(41c)、 (
41d)が設けられ、両端部にドーナツ状の薄い円板(
41e)を取り付け1円板(41e)に設けた復数の穴
に第1シールド(41a)、第2シールド(41b)の
各ツメ(41c)、 (41d)を嵌め込みて折り曲げ
て一体構造の電子シールド電極(財)が構成される。
次にこの発明の動作について説明する。第1図において
、フィラメント(1)は第1[1f(2)による加熱で
熱電子を放出し、イオンビームαOはこの熱電子の中を
通過することにより中性化される。このとき第1シール
ド(41a) 、第2シールド(41b)からなる電子
シールド電極0υはフィラメント(1)に対して有効な
熱シールドとなり、電子シールド電極ゆを介しての熱放
射を減じることができ、フィラメント(1)は効率よく
加熱される。また、周辺部に与える熱の影響を少なくす
ることができ、装置の長寿命化に効果がある。
、フィラメント(1)は第1[1f(2)による加熱で
熱電子を放出し、イオンビームαOはこの熱電子の中を
通過することにより中性化される。このとき第1シール
ド(41a) 、第2シールド(41b)からなる電子
シールド電極0υはフィラメント(1)に対して有効な
熱シールドとなり、電子シールド電極ゆを介しての熱放
射を減じることができ、フィラメント(1)は効率よく
加熱される。また、周辺部に与える熱の影響を少なくす
ることができ、装置の長寿命化に効果がある。
尚、上記実施例では電子シールド電極(転)の第1シー
ルド(418) 、第2シールド(41b)にモリブデ
ン板を用いたが、耐熱性に優れた材質であれば、例えば
グラファイトやタンタルを使用してもよい。
ルド(418) 、第2シールド(41b)にモリブデ
ン板を用いたが、耐熱性に優れた材質であれば、例えば
グラファイトやタンタルを使用してもよい。
また、上記実施例では電子シールド電極が第1シールド
と第2シールドからなる二重構造の場合について説明し
たが、三重構造またはそれ以上の多重構造にしてもよい
。また、電子シールド電極に開口部を設け、フィラメン
ト引出し口としてもよい。また、電子シールド電極は分
割された円弧状や角状であってもよい。また、フィラメ
ントを加熱する第111!源は交流電源でもよい。
と第2シールドからなる二重構造の場合について説明し
たが、三重構造またはそれ以上の多重構造にしてもよい
。また、電子シールド電極に開口部を設け、フィラメン
ト引出し口としてもよい。また、電子シールド電極は分
割された円弧状や角状であってもよい。また、フィラメ
ントを加熱する第111!源は交流電源でもよい。
また、第4図〜第6図に示す別の発明の実施例・のよう
に、電子シールド電極0ηの第1シールド(41a)と
第2シールド(41b)との間に例えばセラミックスか
らなる耐熱性ガイド(6)をそれる間の両端部に配設し
、その耐熱性ガイド(6)により電子シールド電極(ロ
)が支持されて補強され、熱変形が防止される。
に、電子シールド電極0ηの第1シールド(41a)と
第2シールド(41b)との間に例えばセラミックスか
らなる耐熱性ガイド(6)をそれる間の両端部に配設し
、その耐熱性ガイド(6)により電子シールド電極(ロ
)が支持されて補強され、熱変形が防止される。
また、第7図に示すように、耐熱性ガイド(転)を第1
シールド(41a)の内周側にも配置してもよく、ある
いは第2シールド(41b)の外周側に配置するように
してもよく、必要に応じた組合せで配置させるようにし
てもよい。
シールド(41a)の内周側にも配置してもよく、ある
いは第2シールド(41b)の外周側に配置するように
してもよく、必要に応じた組合せで配置させるようにし
てもよい。
また、上記実施例では耐熱性ガイドがセラミックスから
なる場合について説明したが、耐熱性に優れた材質であ
れば1例えばモリブデン、タンタルやタングステン等か
らなる耐熱性ガイドししてもよい。
なる場合について説明したが、耐熱性に優れた材質であ
れば1例えばモリブデン、タンタルやタングステン等か
らなる耐熱性ガイドししてもよい。
以上のようにこの発明によれば、フィラメントの外周側
に配設され、第1シールド及びそノ第1シールドの外周
側に配置した第2シールドから構成された電子シールド
電極を設けたことにより、フィラメントの熱効率が良く
なり、フィラメントに供給する電力を小さくすることが
できる。また、耐熱性ガイドにより電子シールド電極の
熱変形を防止することができる。
に配設され、第1シールド及びそノ第1シールドの外周
側に配置した第2シールドから構成された電子シールド
電極を設けたことにより、フィラメントの熱効率が良く
なり、フィラメントに供給する電力を小さくすることが
できる。また、耐熱性ガイドにより電子シールド電極の
熱変形を防止することができる。
第1図はこの発明の一実施例によるイオンビーム中性化
装置を示す構成図、第2図は第1図の電子シールド電極
の構造を示す斜視図、第3図は第2図の縦断面図、第4
図は別の発明の一実施例によるイオンビーム中性化装置
を示す構成断面図、第5図は第4図の電子シールド電極
の構造を示す斜視図、第6図は第5図の縦断面図、第7
図は別の発明の他の実施例を示す縦断面図、第3図は従
来のイオンビーム中性化装置を示す構成断面図である。 図において、(1)はフィラメント、GOはイオンビー
ム、Oυは電子シールド電極、(6)は耐熱性ガイドで
ある。 なお図中同一符号は同一または相当部分を示す。
装置を示す構成図、第2図は第1図の電子シールド電極
の構造を示す斜視図、第3図は第2図の縦断面図、第4
図は別の発明の一実施例によるイオンビーム中性化装置
を示す構成断面図、第5図は第4図の電子シールド電極
の構造を示す斜視図、第6図は第5図の縦断面図、第7
図は別の発明の他の実施例を示す縦断面図、第3図は従
来のイオンビーム中性化装置を示す構成断面図である。 図において、(1)はフィラメント、GOはイオンビー
ム、Oυは電子シールド電極、(6)は耐熱性ガイドで
ある。 なお図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (6)
- (1)フィラメントを加熱し、そこから放出される熱電
子により、イオンビームを中性化するイオンビーム中性
化装置において、上記フィラメントの外周側に配設され
、第1シールド及びその第1シールドの外周側に配置さ
れた第2シールドから構成された電子シールド電極を備
えたことを特徴とするイオンビーム中性化装置。 - (2)電子シールド電極に開口部を設け、フィラメント
引出し口としたことを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載のイオンビーム中性化装置。 - (3)電子シールド電極が周方向に分割された円弧状で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のイオ
ンビーム中性化装置。 - (4)電子シールド電極の第1シールド、第2シールド
の両端部にドーナツ状円板を取り付けて一体構造とした
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第3項の
何れかに記載のイオンビーム中性化装置。 - (5)フィラメントを加熱し、そこから放出される熱電
子により、イオンビームを中性化するイオンビーム中性
化装置において、上記フィラメントの外周側に配設され
、第1シールド及びその第1シールドの外周側に配置さ
れた第2シールドから構成された電子シールド電極と、
この電子シールド電極を支持する耐熱性ガイドとを備え
たことを特徴とするイオンビーム中性化装置。 - (6)は耐熱性ガイドはセラミックスからなることを特
徴とする特許請求の範囲第5項記載のイオンビーム中性
化装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5952287A JPS63225455A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | イオンビ−ム中性化装置 |
US07/165,957 US4886971A (en) | 1987-03-13 | 1988-03-09 | Ion beam irradiating apparatus including ion neutralizer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5952287A JPS63225455A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | イオンビ−ム中性化装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63225455A true JPS63225455A (ja) | 1988-09-20 |
Family
ID=13115681
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5952287A Pending JPS63225455A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | イオンビ−ム中性化装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63225455A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05205691A (ja) * | 1992-01-27 | 1993-08-13 | Nec Yamagata Ltd | イオン注入装置 |
-
1987
- 1987-03-13 JP JP5952287A patent/JPS63225455A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05205691A (ja) * | 1992-01-27 | 1993-08-13 | Nec Yamagata Ltd | イオン注入装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4886971A (en) | Ion beam irradiating apparatus including ion neutralizer | |
US5576549A (en) | Electron generating assembly for an x-ray tube having a cathode and having an electrode system for accelerating the electrons emanating from the cathode | |
KR101469915B1 (ko) | X선관 | |
WO1992003837A1 (en) | X-ray tube | |
US5206895A (en) | X-ray tube | |
TW385477B (en) | Filament for ion implanter plasma shower | |
JP3075534B2 (ja) | 高い照射均一性を有する高エミッタンス電子ソース | |
JPH0531260B2 (ja) | ||
KR100479372B1 (ko) | 플라즈마 발생용 토로이드형 필라멘트 | |
JPS63225455A (ja) | イオンビ−ム中性化装置 | |
US2640949A (en) | Electron source | |
US6359968B1 (en) | X-ray tube capable of generating and focusing beam on a target | |
JPS63472A (ja) | 真空成膜装置 | |
KR20210021671A (ko) | 방사각이 확장된 x선관 | |
JPH10321119A (ja) | 熱電子放出フィラメントおよび熱電子放出装置 | |
JP3064201B2 (ja) | 高速原子線源及びこれを用いた加工装置 | |
JPH0713168Y2 (ja) | アーク放電管 | |
JP2511991B2 (ja) | シンクロトロン放射光発生装置 | |
JPH0665200B2 (ja) | 高速原子線源装置 | |
JP2001313197A (ja) | 冷却機能付き光照射式静電気除去装置 | |
JP2774352B2 (ja) | イオンビーム照射装置 | |
JP2016225228A (ja) | 荷電粒子加速器 | |
JPH0275139A (ja) | イオン注入装置 | |
Oettinger et al. | Pulse‐laser‐irradiated high‐brightness photoelectron source | |
JPS60214529A (ja) | X線発生装置 |