JPS63222005A - 粗製液体硫黄の精製方法 - Google Patents

粗製液体硫黄の精製方法

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JPS63222005A JP62051997A JP5199787A JPS63222005A JP S63222005 A JPS63222005 A JP S63222005A JP 62051997 A JP62051997 A JP 62051997A JP 5199787 A JP5199787 A JP 5199787A JP S63222005 A JPS63222005 A JP S63222005A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ1発明の目的 産業上の利用分野 この発明は、主としてクラウス法により硫化水素(H2
S)と二酸化!黄(SO2)から製造される、硫化水素
及びポリ硫化水素(H2SX:Xは2以」二の数)を含
有する粗製液体硫黄の精製方法に関するものである。
クラウス装置からの元素硫黄は液体状で生産されること
から、この形態で貯蔵あるいは輸送されて工業的に使用
されている。
しかし、クラウス法からの液体硫黄中には、その生成過
程においてH2S及びH2SXがH2Sに換算して通常
200〜800ppm溶存しており、これらが貯蔵又は
輸送中に液体硫黄中から気化、拡散するため、人体への
影響は勿論1ガス爆発などの危険性があるので、これら
を減少させる必要がある。
従来の技術 液体硫黄中に溶存しているH2S及びH2SXを除去す
る方法としては、これまで各種の方法が開発されている
。主としてH2Sを物理的に除く方法や、H2S及びH
2SXを同時に除去する物理化学的方法も既に開示され
ている。この中で主なものの要点を記載すると下記の通
りである。
■、主としてH2Sを除去する方法 ■液体硫黄を噴流で障害物に衝突させ霧状に分散させて
H2Sを物理的に除く(特公昭48−10308号)。
■クラウス装置からの排ガス(テールガス)を生成液体
硫黄と向流接触させてH2Sを物理的に除く(特公昭5
6−7966号)。
Il、H2S及びH2SXを同時に除去する方法■生成
液体硫黄をクラウス反応器からの最終残留ガスで吹き掃
ってH2Sを除去し、更に窒素化合物としてアンモニア
、アミン等を液体硫黄に添加してH2SXをH2Sに変
換して除去する(#公開56−52847号)。
■クラウス装置からの生成液体硫黄に酸化性ガス(少量
の二酸化硫黄を添加)を若干の加圧で導入することによ
りH2SをSに転換し、そして窒素化合物としてアミン
類を添加しH2SXをH2Sに変換して除去する(特公
昭56−45842号)。
■クラウス法からの液体硫黄をアルミナ又はコバルト−
モリブデン含浸アルミナからなる触媒と接触させると同
時に、空気又は酸素富化空気でパージすることによりH
2S及びH2SXを除去する(特公昭59−40762
号)。
■液体硫黄を、Ni−No系触媒の存在下、酸素含有ガ
ス又は窒素ガスと接触させることによりH2S及びH2
SXを除去する(特開昭61−256904け)。
」二記の従来技術において、■−■、■は硫化水素の除
去が主体になり、H2SXが残存し易い。
■−■、■は窒素化合物を液体硫黄に添加してH2SX
をH2Sに変換して除去するものであるが、その処理時
間が長く、かつ添加物が不純物として硫黄中に残存する
■−■、■はH2SXをH2Sと5x−tに分解する触
媒及びパージガスの選択を主とする技術である。
通常、液体硫黄中に溶解しているH2Sはスイープガス
を吹き込んでパージすることにより比較的に容易に除去
することが出来るが、全硫化水素の50%以1−を占め
るH2SXは分解してH2Sの形態にしなければパージ
できず、しかもその分解速度が遅いため、適当な触媒を
用いて下記式によるH2Sと5x−tへの分解を促進す
る。
H2SX  :  H2S+5X−1(1)]−記反応
は平衡反応であるため、生成したH2Sを系外へ排出し
なければ分解が進行しない。
そこで従来は触媒の存在下で分解生成したH2Sを直ち
にパージするため、接触装置をすべて外部に特設しスイ
ープガスの同時吹き込みを行っていたが、硫黄の融点及
び粘度の特性−に通常120〜160℃の制約条件下で
操作することを要求されるので、運転時の温度管理に十
分な注意を必要とし、また触媒交換、設置場所、装置費
、熱経済等の面で不利を免れなかった。
発明が解決しようとする問題点 本発明は、従来法の欠点を解決した、粗製液体硫黄中に
含有されているH2S及びH2SXを効率的に除去する
液体硫黄の精製方法を提供することを目的とする。
口0発明の構成 問題を解決するための手段 木発明者等は、液体硫黄の貯槽内で精製を行うと、触媒
作用によるH2SXのH2Sと5X−1への分解と、ス
イープガスとの接触によZ、H2Sの除去とは別個に行
ってもよく、触媒の踊りを防ぎつつ運転が容易になると
ともに、触媒交換、空間利用、装置費、熱経済等の面で
も効率的であることを見出し本発明を完成した。
本発明に係る硫化水素及びポリ硫化水素を含有する粗製
液体硫黄の精製方法は、ポリ硫化水素分解濠を有するr
lii体触媒を売場した触媒容器を液体硫黄貯槽内に設
置し、粗製液体硫黄を貯槽に導入し上記触媒容器中を通
過させて固体触媒と接触させる傍ら、スイープガスを貯
槽内に送入して液体硫黄と接触させた後排出することを
特徴とする。
この際、一度触媒容器を通過させた液体硫黄を触媒容器
に循環して固体触媒と繰り返し接触させるようにしても
よい。また複数の触媒容器を通過させてもよい。
スイープガスと液体硫黄との接触は、貯槽の液体硫黄の
表面積が十分に広くてスイープガスとの接触が良好なら
ばスイープガスを液体硫黄の表面−I−を通過させる程
度の接触でもよいが、貯槽内の液体M 黄を貯槽の気相
中でスプレーするか、スイープガスを液体硫黄中にバブ
リングするかして、スイープガスと液体硫黄との接触を
密にする方が好ましい。もちろん両者を(l用してもよ
い。
スイープガスとしては空気、スチーム、窒素、あるいは
クラウス装置テールガス処理(例えばスコツト法)のオ
フガス又はクラウス装置のインシネレータ−オフガス等
H2Sの含有量が1.5%以下のガスが使用される。
貯槽内に設置する触媒容器としては、円筒、角型等信れ
の形状でもよく、また網状容器なども適宜選択使用する
ことが出来る。
ここで使用される触媒の組成は特に限定されるものでな
く、前記特開昭61−256904号で提案しているN
i−Mo系触媒のほか何れの固体触媒でも使用できる。
形状については、常時液体硫黄中での反応であり、その
摩耗を避けるため球状が好ましく、その径は1〜15m
m程度のものが好ましい。
触媒層における反応温度、即ち貯槽温度は液体硫黄の特
性から120〜160℃の範囲に保持することが重要で
ある。クラウス装置の硫黄凝縮器出口の液体硫黄の一時
貯槽を本発明で使用する貯槽にすることが設備の節約や
熱的観点から最も経済的である。反応圧、力は通常常圧
乃至若干の加圧下で行なう。
以下本発明方法を添付図面に従って具体的に説明するが
、本発明は図示した例に限定されるものではない。
第1図は本発明方法の実施態様の一例を説明するための
図である。液体硫黄を貯蔵する半地下断熱貯槽lの中に
Ni−Mo系等の固体触媒2を充填した触媒容器3が設
置してあり、クラウス装置からの粗製液体硫黄を供給管
4から触媒容器3へ供給して触媒容器中を通過させ固体
触媒2に接触させ、さらに循環用ポンプ5により貯槽内
の液体硫黄を触媒容器3に循環し固体触媒2に繰り返し
接触させるようにしである。貯槽lの4二部側壁にはス
イープガス送入管6、反対側の側壁にはスイープガス排
出管7が接続されている。ざらに貯槽の一部は堰板8で
仕切られて精製液体硫黄貯留室9となり、精製液体硫黄
排出用ポンプ10が設置されている。
このほか、貯槽内の液体硫黄の温度を保持するための加
熱器(図示せず)が適宜の場所に設けである。
ポンプ5により循環される貯槽l内の液体硫黄は触媒容
器3の上方でスプレーされて触媒容器内の固体触媒2に
繰り返し接触する。その際、液体硫黄中(7)H2SX
はH2Sと5X−1に分解され。
分解により生じたH2Sは次にスプレーされた時に気化
してスイープガス流により排出される。
このような循環により、液体硫黄中のH2SとH2SX
は著しく減少する。
このようにして液体硫黄中のH2Sは放出されて枡スイ
ープガスと共に排出管7から排出され、インシネレータ
−等で処理される。
供給管4から送入されるクラウス装置からの粗製液体硫
黄に見合う量の精製液体硫黄は堰板8をオーバーフロー
して精製液体硫黄貯留室9に移動し、排出用ポンプ10
により槽外へ移送される。
液体硫黄を循環するポンプ5及び精製液体硫黄の排出用
ポンプlOは、貯槽外、貯槽内側れの設置でもよいが、
液体硫黄の温度管理の面からは貯槽内に液中ポンプを設
置して使用することが好ましい。
第2図は本発明方法の実施態様の他の例を説IJIする
ための図である。スイープガスガス送入管6が貯461
の底部に導かれ、ノズル61からスイーブガスガスを液
体硫黄中にバブリングするようにしである以外は第1図
に示した装置とほぼ同様である。このようにすればH2
Sのパージ効率が高くなる。
なおこの際、触媒容器の下方からスイープガスを送入す
ると触媒が踊り易くなり、これを防ぐため触媒容器の上
方からガスを送入しようとすると特別の加圧、密閉装置
を必要とする。
第3図は他の実施態様を示すもので、中空円筒11の周
囲に触媒容器3を設置し、中空円筒11の下部に設けた
ノズル61からスイープガスガスを液体硫黄中にバブリ
ングすると、液体m黄は気泡に伴なわれて中空円筒中を
上昇し、中空円筒の上縁をオーバーフローして触媒容器
3に入る。このようにすれば液体硫黄を循環するポンプ
が不要になる。
触媒容器を液体硫黄貯槽内に設置される触媒容器の数は
1個に限定されるものではなく、2個又はそれ以上であ
ってもよい。
第4図の場合は、網状の側壁を有する触媒容器31.3
2及び33を貯槽1を仕切るように間隔をおいて併設し
、供給管4からの粗製液体硫黄が触媒容器31.32.
33を順次通過するように配置しである。スイープガス
ガスのノズル61は触媒容器の前後に配置する。この場
合も液体硫黄を循環するポンプは不要である。
第5図は貯槽1を−L方から見た図で、貯槽l内に触媒
容器31.32.33を隣接して設置し、供給管4から
の粗製液体硫黄が各触媒容器を交互に逆方向に通過する
ような通路を設け、スイープガスガスのノズル61は粗
製液体硫黄の通路部分に配置しである。
[実施例] Ni−Mo系の3mmΦ球形の固体触媒層(充填量50
文)を有する触媒容器を内部に設置した第2図に示した
ような実験装置に、クラウス装置から150℃の液体硫
黄を200文張り込んだ。
この液体硫黄中の全H2Sは320ppm、うちH2S
Xは210ppmであった。次いで液diポンプで液体
硫黄を501 / Hrの割合で触媒層に循環接触させ
ると共に、スイープガスとして空気1000 N l 
/ Hrを供給した。
反応後1昨間後、5時間後、及び10時間後に液体硫黄
中の全H2S及びH2SXを分析した結果を第1表に示
す。
[比較例1 触媒容器に3mmΦ球形のガラスピーズ50文充填した
以外は、実施例1で使用したのと同じ実験装置にクラウ
ス装置から150℃の液体硫黄を2001張り込んだ。
この液体硫黄中の全H2Sは310ppm、うちH2S
Xは200PPmであった。次いで液中ポンプで液体硫
黄を50立/Hrの割合で触媒容器中のガラスピーズ層
に循環接触させるとともに、スイープガスとして空気1
00ON見/ Hrを供給した。
反応後1時間後、5時間後、及び10時間後に液体硫黄
中の全H2S及びH2SXを分析した結果を第1表に示
す。
(以下余白) 第1表 第1表に示した結果から1lJJらかなように、貯槽内
の液体硫黄を固f′、、触媒に接触させる傍ら、スイー
プガスを液体硫黄に接触させた場合、液体硫黄を固体触
媒に接触させない場合に比し、ポリ硫化水素の分解と全
H2Sの減少が顕著である。
m月 本発明方法においては、H2Sで飽和され且つH2SX
も含有する粗製液体′ti、黄が、貯槽内に存在し、精
製が進行して溶存H2Sが少なくなった大量の液体硫黄
により希釈され、H2SXの分解によって生成したH2
Sが触媒表面から除去され易くなるため、前記 H2SX  ヰ H2S+5X−1(1)の平衡が右側
に移動し易い状jEになり、しかもその際、逆反応によ
るH2SXの生成反応速度は温度依存性が高く、通常の
貯槽内温度であればその生成を抑制できる。そこでスイ
ープガスを貯槽内に送入して液体硫黄と接触させH2S
をパージすることにより効率的にH2SXも分解除去で
きるものと思われる。
ハ9発明の効果 (1)触媒層を液体硫黄貯槽内に設置したので、運転管
理及び触媒交換が容易であるう′えに、装置の敷地面積
の減少、装置費、熱ロス等の低減が計られる。
(2)液体硫黄貯槽内でポリ硫化水素の触媒による分解
と、分解により生成された硫化水素のスイープガスによ
る除去を別々に行うことによって、貯槽内へのスイープ
ガスの送入が容易であると共に、触媒の踊りなどによる
摩耗が殆どなく、また触媒に対してのスイープガスの制
約を受す、硫化水素の含有量が1.5%以五のガスなら
どのようなガスでも利用出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、第3図、第4図及び第5図はいずれも
本発明の実施態様を説明するための図である。 ■=液体硫黄貯槽  2:固体触媒 3.31,32,33:触媒容器 4;粗製液体硫黄供給v 5:循環用ポンプ6:スイー
プガス送入管 61:同ノズル7:スイーブガス排出管
 8:堰板 9:精製液体硫黄貯留室

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ポリ硫化水素分解能を有する固体触媒を充填した触
    媒容器を液体硫黄貯槽内に設置し、粗製液体硫黄を貯槽
    に導入し上記触媒容器中を通過させて固体触媒と接触さ
    せる傍ら、スイープガスを貯槽内に送入して液体硫黄と
    接触させた後排出することを特徴とする硫化水素及びポ
    リ硫化水素を含有する粗製液体硫黄の精製方法。 2 貯槽内の液体硫黄を触媒容器に循環して固体触媒と
    繰り返し接触させる特許請求の範囲第1項記載の粗製液
    体硫黄の精製方法。 3 貯槽内の液体硫黄を貯槽の気相中でスプレーするこ
    とによりスイープガスと液体硫黄との接触を密にする特
    許請求の範囲第1項又は第2項記載の粗製液体硫黄の精
    製方法。 4 スイープガスを貯槽内の液体硫黄中にバブリングす
    ることによりスイープガスと液体硫黄との接触を密にす
    る特許請求の範囲第1項又は第2項記載の粗製液体硫黄
    の精製方法。
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