JPS63191317A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体にかかわり、より詳細には大容量
、高密度記録用磁気ディスクに間するもので、表面に潤
滑性の優れた保護層を具備した磁気記録媒体の製造方法
に関する。
、高密度記録用磁気ディスクに間するもので、表面に潤
滑性の優れた保護層を具備した磁気記録媒体の製造方法
に関する。
一般に磁気記録装置では、記録再生用磁気ヘッドと磁気
記録媒体(ディスク)とから構成される。該、磁気記録
装置ではコンタクトφスタート・ストップ(CS S)
方式により記録再生が行なわれている。このため記録再
生用磁気ヘッドと磁気記録媒体(ディスク)は互いに静
―或いは動的接触乃至押圧下で作動するため、接触摩擦
状態が現出する。即ち磁気記録媒体では磁性薄膜層を保
護するべく、表面に保護皮膜を被覆し、保護層を形成す
ることが望ましい、この保護層はその目的とするところ
からいわゆる耐ヘッドクラツシユ性、耐摩耗性、潤滑性
、耐環境性、及び下地磁性体に対する磁気特性に影響を
与えない等々の特性を具備していなければならない、さ
らに保護層の重要な機能には磁気記録媒体と記録再生用
ヘッド間に生じる接触摩擦力を極力小さくする、即ち摩
擦係数を小さくすることが要求される。これらの要求を
満たすために、比較的硬質ですぐれた耐摩耗性を有する
5i021iをスパッタ法或いはスピンニート法で形成
し、この上に液体タイプの潤滑剤(例えばパーフルオロ
ポリエーテル類)を塗布する方法が提案されている(特
開昭58−185029 ) 。
記録媒体(ディスク)とから構成される。該、磁気記録
装置ではコンタクトφスタート・ストップ(CS S)
方式により記録再生が行なわれている。このため記録再
生用磁気ヘッドと磁気記録媒体(ディスク)は互いに静
―或いは動的接触乃至押圧下で作動するため、接触摩擦
状態が現出する。即ち磁気記録媒体では磁性薄膜層を保
護するべく、表面に保護皮膜を被覆し、保護層を形成す
ることが望ましい、この保護層はその目的とするところ
からいわゆる耐ヘッドクラツシユ性、耐摩耗性、潤滑性
、耐環境性、及び下地磁性体に対する磁気特性に影響を
与えない等々の特性を具備していなければならない、さ
らに保護層の重要な機能には磁気記録媒体と記録再生用
ヘッド間に生じる接触摩擦力を極力小さくする、即ち摩
擦係数を小さくすることが要求される。これらの要求を
満たすために、比較的硬質ですぐれた耐摩耗性を有する
5i021iをスパッタ法或いはスピンニート法で形成
し、この上に液体タイプの潤滑剤(例えばパーフルオロ
ポリエーテル類)を塗布する方法が提案されている(特
開昭58−185029 ) 。
しかるに5i02保護膜上に液体潤滑剤を塗布しただけ
では、磁気記録装置(HDA)内の昇温により、液体潤
滑剤分子が蒸発したり、磁気記録媒体(ディスク)の高
速回転により分子がスピンオフし、ヘッドクラッシュに
いたるなど潤滑表面の長期信頼性に欠ける。
では、磁気記録装置(HDA)内の昇温により、液体潤
滑剤分子が蒸発したり、磁気記録媒体(ディスク)の高
速回転により分子がスピンオフし、ヘッドクラッシュに
いたるなど潤滑表面の長期信頼性に欠ける。
かかる欠点を除くため、アミノシランを介して5102
保護膜と液体タイプの潤滑剤を化学的に結合させ、固定
する方法も提案されている(昭和81年度電子通信学会
総会予稿集P、1−18? ) 、この場合、5i02
保護膜上に数〜50人程度の膜厚にてアミメジラン層を
形成する方法としてはスピンニート法或いは浸漬法など
が用いられる。しかるにこれらを実施する場合において
、溶剤中に溶解されたアミノシランの反応活性の制御は
極めて難かしく、量産工程での生産性の点から実用性に
問題があった。
保護膜と液体タイプの潤滑剤を化学的に結合させ、固定
する方法も提案されている(昭和81年度電子通信学会
総会予稿集P、1−18? ) 、この場合、5i02
保護膜上に数〜50人程度の膜厚にてアミメジラン層を
形成する方法としてはスピンニート法或いは浸漬法など
が用いられる。しかるにこれらを実施する場合において
、溶剤中に溶解されたアミノシランの反応活性の制御は
極めて難かしく、量産工程での生産性の点から実用性に
問題があった。
前述の問題点を解消し、保護層として良好な諸特性、特
に保護層表面の潤滑性の長期信頼性に富んだ保護層及び
潤滑層を有する磁気記録媒体を、量産工程にても実現可
能な方法により製造するため研究を重ねた結果、酸化物
磁性薄膜上にスピンコード法により5i(OH)n溶液
を塗布し、100〜180℃程度の低温で一次熱処理を
施して5i02となした後、少なくとも一つの極性基を
有するパーフルオロポリエーテルを塗布する方法の適用
が実用上有効であることを見い出した。
に保護層表面の潤滑性の長期信頼性に富んだ保護層及び
潤滑層を有する磁気記録媒体を、量産工程にても実現可
能な方法により製造するため研究を重ねた結果、酸化物
磁性薄膜上にスピンコード法により5i(OH)n溶液
を塗布し、100〜180℃程度の低温で一次熱処理を
施して5i02となした後、少なくとも一つの極性基を
有するパーフルオロポリエーテルを塗布する方法の適用
が実用上有効であることを見い出した。
本発明の特徴及び技術的手段、方法などについて以下詳
細に記述する0本発明における非磁性基板は陽極酸化に
より形成されたアルマイト膜を表面に有するアルミニウ
ム及びアルミニウム合金基板などの他、ガラス、セラミ
ックス及び樹脂基板であっても良い、いずれの場合にも
磁気ディスク用基板としての機械的、材質的な面等の諸
特性を具備し、基板表面は鏡面仕上げ又はそれに準する
仕上げ処理によりRmaxが0.02 p層以下の平滑
性を有し、洗浄性にも優れたものであることが必要であ
る。磁性媒体はスパッタ及び熱処理等により鉄を主成分
とした酸化物磁性薄膜であり、成膜方法としては、酸素
雰囲気中での反応性スパッタリング等により鉄(Fe)
を主成分とする非磁性へマグイト(α−Fe20s)膜
を形成した後1選元によりFe3 04とした後酸化し
てγ−Fe2 03とする等の工程を経て強磁性酸化物
を得る方法、及び、スパッタリング雰囲気の制御による
反応スパッタリングにより、直接強磁性酸化物マグネタ
イト(Fe3 04)を形成した後、酸化処理等の工程
を経てマグヘマタイト(γ−Fe203)を得る方法な
どいずれであっても良い、この酸化物磁性薄膜上にスピ
ンコード法により5i(0)1)4溶液を塗布し、10
0〜180℃の低温での熱処理を行ない5i02皮膜と
する。 5i02膜の厚さは、情報の記録、読出し等
を行なう上でのヘッドと媒体間のギャップを少なくする
上から薄い方が好ましいが、保M!膜としての機能の面
からは若干の厚みを持つことが必要であり、より具体的
には10()〜800人程度が望ましい、スピンコード
法によりSi(OH)4溶液を塗布して低温処理のみを
施した状態での5i02膜は膜中にシラノール基(Si
−OH)を多く残存する。
細に記述する0本発明における非磁性基板は陽極酸化に
より形成されたアルマイト膜を表面に有するアルミニウ
ム及びアルミニウム合金基板などの他、ガラス、セラミ
ックス及び樹脂基板であっても良い、いずれの場合にも
磁気ディスク用基板としての機械的、材質的な面等の諸
特性を具備し、基板表面は鏡面仕上げ又はそれに準する
仕上げ処理によりRmaxが0.02 p層以下の平滑
性を有し、洗浄性にも優れたものであることが必要であ
る。磁性媒体はスパッタ及び熱処理等により鉄を主成分
とした酸化物磁性薄膜であり、成膜方法としては、酸素
雰囲気中での反応性スパッタリング等により鉄(Fe)
を主成分とする非磁性へマグイト(α−Fe20s)膜
を形成した後1選元によりFe3 04とした後酸化し
てγ−Fe2 03とする等の工程を経て強磁性酸化物
を得る方法、及び、スパッタリング雰囲気の制御による
反応スパッタリングにより、直接強磁性酸化物マグネタ
イト(Fe3 04)を形成した後、酸化処理等の工程
を経てマグヘマタイト(γ−Fe203)を得る方法な
どいずれであっても良い、この酸化物磁性薄膜上にスピ
ンコード法により5i(0)1)4溶液を塗布し、10
0〜180℃の低温での熱処理を行ない5i02皮膜と
する。 5i02膜の厚さは、情報の記録、読出し等
を行なう上でのヘッドと媒体間のギャップを少なくする
上から薄い方が好ましいが、保M!膜としての機能の面
からは若干の厚みを持つことが必要であり、より具体的
には10()〜800人程度が望ましい、スピンコード
法によりSi(OH)4溶液を塗布して低温処理のみを
施した状態での5i02膜は膜中にシラノール基(Si
−OH)を多く残存する。
この上に少なくとも1つの極性基を有するパーフルオロ
ポリエーテルオリゴマーの液体潤滑剤を数X〜50ス程
度コートし、80℃程度の温度で乾燥すると溶媒が揮散
し、 5i02膜中のシラノール基と潤滑剤の極性基
が化学的又は水素結合により結合し、 5i02保護膜
上に液体潤滑剤が固定される。
ポリエーテルオリゴマーの液体潤滑剤を数X〜50ス程
度コートし、80℃程度の温度で乾燥すると溶媒が揮散
し、 5i02膜中のシラノール基と潤滑剤の極性基
が化学的又は水素結合により結合し、 5i02保護膜
上に液体潤滑剤が固定される。
この後、 5i02膜は再び250〜300℃の高温
にて5〜15分間焼成し、膜生成シラノール基は脱水縮
合反応により、シロキサン結合(Si−0−9i)させ
、5i02保護膜の強度を補強する。上記の方法にて形
成した、パーフルオロポリエーテル固定5i02保護膜
(潤滑剤固定保護膜)は、磁気記録装置(HDA)内の
昇温による潤滑剤の蒸発や、磁気ディスクの高速回転に
よる、潤滑剤のスピンオフなどを起こさず、潤滑表面の
長期信頼性において充分効果を発揮する。
にて5〜15分間焼成し、膜生成シラノール基は脱水縮
合反応により、シロキサン結合(Si−0−9i)させ
、5i02保護膜の強度を補強する。上記の方法にて形
成した、パーフルオロポリエーテル固定5i02保護膜
(潤滑剤固定保護膜)は、磁気記録装置(HDA)内の
昇温による潤滑剤の蒸発や、磁気ディスクの高速回転に
よる、潤滑剤のスピンオフなどを起こさず、潤滑表面の
長期信頼性において充分効果を発揮する。
本発明で使用するパーフルオロポリエーテル類としては
F+CFCF20)−nC2F5 (但しn
= 10〜90)CF3 F−GCF、、0+r+C2F5(但しn=10〜15
0)CF3(但しm = 10〜50) n = 10〜150) (但しm=10〜70) n=10〜150) なる分子式を有するポリエーテルオリゴマーで、該オリ
ゴマーが少なくとも1つの極性基が末端結合されたもの
である。該ポリエーテルオリゴマーの内で粘度の温度依
存性が少ないこと或いは蒸気圧の低いことという点を考
慮すれば分子量は大きいものが望ましいが、分子量が大
きくなり過ぎると、 5i02保護膜上に潤滑剤を均一
に塗布及び固定することが困難となるので、分子量とし
ては1000〜8000程度のものが適当である0本発
明に使用するための有効な末端極性基としては一〇〇〇
H2−GOORl−ROR、−RO)l 、−Nl2、
−NHROHl−NCO、−C0NH2、−NHR、−
C)to等が挙げられる。
= 10〜90)CF3 F−GCF、、0+r+C2F5(但しn=10〜15
0)CF3(但しm = 10〜50) n = 10〜150) (但しm=10〜70) n=10〜150) なる分子式を有するポリエーテルオリゴマーで、該オリ
ゴマーが少なくとも1つの極性基が末端結合されたもの
である。該ポリエーテルオリゴマーの内で粘度の温度依
存性が少ないこと或いは蒸気圧の低いことという点を考
慮すれば分子量は大きいものが望ましいが、分子量が大
きくなり過ぎると、 5i02保護膜上に潤滑剤を均一
に塗布及び固定することが困難となるので、分子量とし
ては1000〜8000程度のものが適当である0本発
明に使用するための有効な末端極性基としては一〇〇〇
H2−GOORl−ROR、−RO)l 、−Nl2、
−NHROHl−NCO、−C0NH2、−NHR、−
C)to等が挙げられる。
5i02膜上のパーフルオロポリエーテル類はヘッドと
磁気記録媒体との間の潤滑性を良好に保つと共に、ヘッ
ドと磁気記録媒体との間の吸着現象を起こさないことが
必要である。従って該パーフルオロポリエーテル類の皮
膜は、膜厚はできるだけ薄く(数〜50大)しかも塗り
むら等の欠陥部分が無(5i02膜上に均一な膜厚で被
覆された後、 5i02膜に固定されなければならない
、この様な状態を実現するためには該パーフルオロポリ
エーテルを熱的及び化学的安定性に優れ、沸点の適当に
高い(100℃以上)フッ素系溶剤にo、ooot〜1
.0%zt%程度に希釈し、スピンコード又は浸漬法に
より 5i02膜上に塗布することにより達成される。
磁気記録媒体との間の潤滑性を良好に保つと共に、ヘッ
ドと磁気記録媒体との間の吸着現象を起こさないことが
必要である。従って該パーフルオロポリエーテル類の皮
膜は、膜厚はできるだけ薄く(数〜50大)しかも塗り
むら等の欠陥部分が無(5i02膜上に均一な膜厚で被
覆された後、 5i02膜に固定されなければならない
、この様な状態を実現するためには該パーフルオロポリ
エーテルを熱的及び化学的安定性に優れ、沸点の適当に
高い(100℃以上)フッ素系溶剤にo、ooot〜1
.0%zt%程度に希釈し、スピンコード又は浸漬法に
より 5i02膜上に塗布することにより達成される。
かかる塗布方法においては、該溶液の温度、粘度、或い
は塗布時の回転速度又は引き上げ速度、又は塗布後の余
剰分や溶剤を除去する等の後処理により、条件が決定さ
れ、適宜選択して使用する。
は塗布時の回転速度又は引き上げ速度、又は塗布後の余
剰分や溶剤を除去する等の後処理により、条件が決定さ
れ、適宜選択して使用する。
酸化物磁性膜上に5i02保護膜を形成した後、潤滑剤
の揮散を防止するためアミノシランを介して5i02保
護膜と液体タイプの潤滑剤を固定する方法ではアミノシ
ランの活性を制御してアミノシラン層を薄く均一に再現
性良く、形成することは量産性の点から問題があった。
の揮散を防止するためアミノシランを介して5i02保
護膜と液体タイプの潤滑剤を固定する方法ではアミノシ
ランの活性を制御してアミノシラン層を薄く均一に再現
性良く、形成することは量産性の点から問題があった。
しかるに本発明の方法によれば、アミノシランを介する
ことなく。
ことなく。
5i02保護膜上に液体タイプの潤滑剤が固定され、量
産時にも実用可能な方法にて、潤滑表面の長期信頼性の
優れた磁気記録媒体が製造できる。
産時にも実用可能な方法にて、潤滑表面の長期信頼性の
優れた磁気記録媒体が製造できる。
以下実施例により、本発明の特徴を詳細に説明する。
ディスク用アルミニウム基板上に陽極酸化処理にてアル
マイト膜を形成し、表面研磨加工により、表面を(Rm
ax≧0.02xm )平滑に仕上げ、その上に、反応
スパッタリング法にてFeを主成分とする酸化物磁性薄
膜(Fe304H桑)を0.13μmを形成し、さらに
大気中酸化処理(300℃、3時間焼成)によりγ−F
e2 03磁性膜に変換した。
マイト膜を形成し、表面研磨加工により、表面を(Rm
ax≧0.02xm )平滑に仕上げ、その上に、反応
スパッタリング法にてFeを主成分とする酸化物磁性薄
膜(Fe304H桑)を0.13μmを形成し、さらに
大気中酸化処理(300℃、3時間焼成)によりγ−F
e2 03磁性膜に変換した。
上記処理方法により作成したγ−Fe203薄膜デイス
クについて、以下の如く、保護膜、表面潤滑処理を行な
った。
クについて、以下の如く、保護膜、表面潤滑処理を行な
った。
γ−Fe2 03磁性薄膜上にスピンコード法によりS
i(OH)4溶液を塗布した後、150℃にて3時間電
気炉中で焼成を行なって膜中にミラノール基(Si−O
H)が多く残存する膜厚200λ程度の5i02膜を形
成した。次いで、カルボン酸−〇〇〇〇を末端極性基に
持つ分子量4000程度のパーフルオロポリエーテルを
ツー/素糸溶剤にQ、005wt%に希釈し、スピンコ
ードの方法にて塗布した。80℃で10分間乾燥したの
ち280℃にて10分間焼成した。
i(OH)4溶液を塗布した後、150℃にて3時間電
気炉中で焼成を行なって膜中にミラノール基(Si−O
H)が多く残存する膜厚200λ程度の5i02膜を形
成した。次いで、カルボン酸−〇〇〇〇を末端極性基に
持つ分子量4000程度のパーフルオロポリエーテルを
ツー/素糸溶剤にQ、005wt%に希釈し、スピンコ
ードの方法にて塗布した。80℃で10分間乾燥したの
ち280℃にて10分間焼成した。
以上のように保護膜、表面潤滑層を形成した各ディスク
について以下のような測定を行なった。
について以下のような測定を行なった。
磁気記録媒体と記録再生用磁気へラドが起動時及び停止
時に接触状態を現出するコンタクト・スタート・ストッ
プ(CS S)方式による記録再生動作を繰り返し行な
い、前記各ディスク面のキズの有無、膜の剥離、摩耗等
の表面状態の観察及びその際ヘッドとディスク間の動摩
擦係数及び出力電流値等の電磁変換特性等の変化、又C
8S前後のヘッドとディスクとの摩擦係数の変化も測定
した。
時に接触状態を現出するコンタクト・スタート・ストッ
プ(CS S)方式による記録再生動作を繰り返し行な
い、前記各ディスク面のキズの有無、膜の剥離、摩耗等
の表面状態の観察及びその際ヘッドとディスク間の動摩
擦係数及び出力電流値等の電磁変換特性等の変化、又C
8S前後のヘッドとディスクとの摩擦係数の変化も測定
した。
又、耐環境試験として相対湿度80%、温度80℃の環
境下で50日放置した際の摩擦係数及びパーフルオロポ
リエーテル層の膜厚の変化、その時のエラー数の増加率
を測定した。
境下で50日放置した際の摩擦係数及びパーフルオロポ
リエーテル層の膜厚の変化、その時のエラー数の増加率
を測定した。
これらの結果を表1に記する。
比較のため従来技術によるSi(OH)4を高温処理す
る技術アミノシランを利用する技術で磁気記録媒体を作
成し特性を比較した。
る技術アミノシランを利用する技術で磁気記録媒体を作
成し特性を比較した。
比較例1
γ−Fe2 03磁性薄膜上にスピンコード法によりS
i(OH)4溶液を塗布し、300℃、3時間電気炉中
で焼成を行ない、脱水縮合反応により膜厚200λ程度
の5i02膜を形成した0次いで、末端極性基としてカ
ルボン酸−COOHを持ち、分子量4000程度(7)
パーフルオロポリエーテルオリゴマーの液体潤滑剤をフ
ッ素系溶剤に0.005賛t%に希釈し、スピンコード
法により該5i02保護膜上に塗布した。80°Cで乾
燥し溶媒を飛ばして、潤滑膜とした。
i(OH)4溶液を塗布し、300℃、3時間電気炉中
で焼成を行ない、脱水縮合反応により膜厚200λ程度
の5i02膜を形成した0次いで、末端極性基としてカ
ルボン酸−COOHを持ち、分子量4000程度(7)
パーフルオロポリエーテルオリゴマーの液体潤滑剤をフ
ッ素系溶剤に0.005賛t%に希釈し、スピンコード
法により該5i02保護膜上に塗布した。80°Cで乾
燥し溶媒を飛ばして、潤滑膜とした。
この磁気記録媒体につき実施例と同様の試験をし、結果
を表1に示す。
を表1に示す。
比較例2
比較例1と同様の方法で5i02保護膜を形成した後、
7 ミ/ シラ7NH2CH2CH2NH(CH2)
35i(OCH3)3を0.05wt%漬度に溶解し
たN−ブタノール溶液をスピンコードし、 100℃で
加熱してSiO2保!IIIと7ミノシラン層をシロキ
サン結合させた0次いで、カルボン酸−COOHを末端
極性基に持つ、パーフルオロポリエーテルを比較例1と
同様の方法にて塗布した。80℃で乾燥して溶媒を飛ば
して、潤滑膜とした。
7 ミ/ シラ7NH2CH2CH2NH(CH2)
35i(OCH3)3を0.05wt%漬度に溶解し
たN−ブタノール溶液をスピンコードし、 100℃で
加熱してSiO2保!IIIと7ミノシラン層をシロキ
サン結合させた0次いで、カルボン酸−COOHを末端
極性基に持つ、パーフルオロポリエーテルを比較例1と
同様の方法にて塗布した。80℃で乾燥して溶媒を飛ば
して、潤滑膜とした。
この磁気記録媒体につき実施例と同様の試験を行ない、
結果を表1に併記した。
結果を表1に併記した。
(以下余白)
表 1
〔発明の効果〕
以上詳述したことから明らかなように、本発明の方法に
よれば5i02保護膜との間に中間物質層を介すること
なく、保護膜上に潤滑剤が固定され、長期信頼性に優れ
た潤滑表面を有する磁気記録媒体を製造することができ
る゛。
よれば5i02保護膜との間に中間物質層を介すること
なく、保護膜上に潤滑剤が固定され、長期信頼性に優れ
た潤滑表面を有する磁気記録媒体を製造することができ
る゛。
また、公知の7ミノシラン結合法のように反応活性の制
御といった困難な手法を用いることなく、同等の信頼性
を有する潤滑膜が安価に製造できるので実用的効果はき
わめて大きい。
御といった困難な手法を用いることなく、同等の信頼性
を有する潤滑膜が安価に製造できるので実用的効果はき
わめて大きい。
Claims (2)
- (1)磁性薄膜上にテトラハイドロキシシラン(Si(
OH)_4)溶液を塗布し、100〜180℃の温度で
熱処理した後、この上に少なくとも一つの極性基を有す
るパーフルオロポリエーテル類からなる潤滑剤をコート
したのち250〜300℃で熱処理することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。 - (2)パーフルオロポリエーテル類が分子量1000〜
8000のオリゴマーであり、該ポリエーテル類の少な
くとも1つの末端極性基が−CO_2R、−ROR、−
ROH、−NH−R−OH、−NH_2、−NCOであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2249987A JPS63191317A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2249987A JPS63191317A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63191317A true JPS63191317A (ja) | 1988-08-08 |
Family
ID=12084435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2249987A Pending JPS63191317A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63191317A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03153645A (ja) * | 1989-11-01 | 1991-07-01 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 薄膜ディスクの潤滑方法 |
EP0515687A1 (en) * | 1990-10-25 | 1992-12-02 | Ebara Corporation | Gas dynamic bearing |
-
1987
- 1987-02-04 JP JP2249987A patent/JPS63191317A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03153645A (ja) * | 1989-11-01 | 1991-07-01 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 薄膜ディスクの潤滑方法 |
EP0515687A1 (en) * | 1990-10-25 | 1992-12-02 | Ebara Corporation | Gas dynamic bearing |
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