JPS6316907B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6316907B2 JPS6316907B2 JP57046122A JP4612282A JPS6316907B2 JP S6316907 B2 JPS6316907 B2 JP S6316907B2 JP 57046122 A JP57046122 A JP 57046122A JP 4612282 A JP4612282 A JP 4612282A JP S6316907 B2 JPS6316907 B2 JP S6316907B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electronic components
- double
- cleaning
- rod
- electronic component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 20
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 20
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 6
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 238000010981 drying operation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、半田付け処理後の双脚型電子部品の
脚部の洗浄、乾燥作業を電子部品を整列化した状
態で行うことができる双脚型電子部品の洗浄又は
乾燥装置における固定装置に関するものである。
脚部の洗浄、乾燥作業を電子部品を整列化した状
態で行うことができる双脚型電子部品の洗浄又は
乾燥装置における固定装置に関するものである。
従来から、DIP型ICなどの双脚型電子部品にお
けるリード部分、即ち、脚部への半田付け並びに
洗浄、乾燥作業などの各処理、それぞれが独立し
た工程で行われているため製品の均一な仕上がり
と整列化が困難であり、又特に最近の電子部品の
高密度実装時においては、上記半田付け後の洗
浄、乾燥処理を整列化された状態で行い、自動的
に供給する必要があるので、この目的に適う機能
を具備した洗浄並びに乾燥装置における電子部品
の固定装置の出現がのぞまれていた。
けるリード部分、即ち、脚部への半田付け並びに
洗浄、乾燥作業などの各処理、それぞれが独立し
た工程で行われているため製品の均一な仕上がり
と整列化が困難であり、又特に最近の電子部品の
高密度実装時においては、上記半田付け後の洗
浄、乾燥処理を整列化された状態で行い、自動的
に供給する必要があるので、この目的に適う機能
を具備した洗浄並びに乾燥装置における電子部品
の固定装置の出現がのぞまれていた。
本発明は、かかる現況に鑑みてなされたもので
あり、半田付け処理後の双脚型電子部品の洗浄、
乾燥を整列化させた状態で行うことのできる双脚
型電子部品の洗浄又は乾燥装置を提供することを
目的とし、その要旨とするところは、上方開口の
筐体内に回転手段に関係づけた中心軸を設け、該
中心軸の両側にエンドプレートを相対向して固定
するとともに、両エンドプレート間に上記中心軸
と平行になるような状態で、一定間隔毎に複数の
レール杆を架設し、このレール杆上には双脚型電
子部品を載置する為の載置台を取付けるとともに
載置台上面に相対面する位置には電子部品の樹脂
部分を押圧する押え杆を配置した構成となし、前
記載置台上に双脚型電子部品を整列状態で載置す
るとともに押え杆にて樹脂部分の外表面を押圧し
ながらエンドプレートを回転させて、電子部品の
洗浄、乾燥を行うことができる電子部品の固定装
置を提供するにある。
あり、半田付け処理後の双脚型電子部品の洗浄、
乾燥を整列化させた状態で行うことのできる双脚
型電子部品の洗浄又は乾燥装置を提供することを
目的とし、その要旨とするところは、上方開口の
筐体内に回転手段に関係づけた中心軸を設け、該
中心軸の両側にエンドプレートを相対向して固定
するとともに、両エンドプレート間に上記中心軸
と平行になるような状態で、一定間隔毎に複数の
レール杆を架設し、このレール杆上には双脚型電
子部品を載置する為の載置台を取付けるとともに
載置台上面に相対面する位置には電子部品の樹脂
部分を押圧する押え杆を配置した構成となし、前
記載置台上に双脚型電子部品を整列状態で載置す
るとともに押え杆にて樹脂部分の外表面を押圧し
ながらエンドプレートを回転させて、電子部品の
洗浄、乾燥を行うことができる電子部品の固定装
置を提供するにある。
以下、本発明の詳細を図示した実施例に基づい
て説明する。
て説明する。
第1図において、槽中の外枠1の両側壁内面に
固定した軸受に回転時の中心軸となるメインシヤ
フト2を配し、該シヤフト2の長さ方向両側には
円形のエンドプレート3,3を相対向させて固定
し、両エンドプレート3,3の周端間にはレール
間4,4……を一定ピツチで架設するとともに該
レール杆上面には双脚型電子部品を載置する為の
平面視略H型の型材よりなる載置台5を配置して
いる。
固定した軸受に回転時の中心軸となるメインシヤ
フト2を配し、該シヤフト2の長さ方向両側には
円形のエンドプレート3,3を相対向させて固定
し、両エンドプレート3,3の周端間にはレール
間4,4……を一定ピツチで架設するとともに該
レール杆上面には双脚型電子部品を載置する為の
平面視略H型の型材よりなる載置台5を配置して
いる。
又、それぞれのレール杆4には該レール杆4に
長さ方向に沿つてシヤフト6をレール杆4の側面
に設けた軸受に軸着するとともに、シヤフト6に
は該シヤフト6から上方へ突出した腕杆7,7a
を固定している。又、腕杆7,7aには載置台5
上面に載置された多数の双脚型電子部品の樹脂外
面を同時に押圧する押え杆8が、レール杆4の載
置台5上面に対面して、レール杆4と平行となる
ように固定されている。又シヤフト6の一端には
シヤフト6を回転させて押え杆8を電子部品の樹
脂表面から離脱させる為のレバー10を突設して
いる。更に、シヤフト6の両端近傍にはコ字状の
開放レバー9が取付けられ、且つ該開放レバー9
の遊端側にはメインシヤフト2又はエンドプレー
ト3との間に引張りバネSを張設して腕杆7,7
aにシヤフト6を回転中心とした第2図中右廻り
方向の押圧力を付与している。電子部品を載置台
5上に配置したり取り外したりする際には、開放
レバー9は図中想像線で示した位置に移動し、且
つこのとき腕杆7,7aは第2図中左側に回転し
て押え杆8は電子部品の表面の押圧状態を解除す
る。尚、第2図では電子部品の押圧機構は最上位
置のレール杆4についてのみ取り付けられた状態
が描かれているが、実際は全てのレール杆4につ
いて同様の機構が取付けられている。
長さ方向に沿つてシヤフト6をレール杆4の側面
に設けた軸受に軸着するとともに、シヤフト6に
は該シヤフト6から上方へ突出した腕杆7,7a
を固定している。又、腕杆7,7aには載置台5
上面に載置された多数の双脚型電子部品の樹脂外
面を同時に押圧する押え杆8が、レール杆4の載
置台5上面に対面して、レール杆4と平行となる
ように固定されている。又シヤフト6の一端には
シヤフト6を回転させて押え杆8を電子部品の樹
脂表面から離脱させる為のレバー10を突設して
いる。更に、シヤフト6の両端近傍にはコ字状の
開放レバー9が取付けられ、且つ該開放レバー9
の遊端側にはメインシヤフト2又はエンドプレー
ト3との間に引張りバネSを張設して腕杆7,7
aにシヤフト6を回転中心とした第2図中右廻り
方向の押圧力を付与している。電子部品を載置台
5上に配置したり取り外したりする際には、開放
レバー9は図中想像線で示した位置に移動し、且
つこのとき腕杆7,7aは第2図中左側に回転し
て押え杆8は電子部品の表面の押圧状態を解除す
る。尚、第2図では電子部品の押圧機構は最上位
置のレール杆4についてのみ取り付けられた状態
が描かれているが、実際は全てのレール杆4につ
いて同様の機構が取付けられている。
本実施例では、レバー10に図示しないシリン
ダ等の駆動源を関係づけ、該レバー10をシヤフ
ト6を中心にして回転させることにより、押え杆
8の電子部品表面からの解除を行つている。
ダ等の駆動源を関係づけ、該レバー10をシヤフ
ト6を中心にして回転させることにより、押え杆
8の電子部品表面からの解除を行つている。
上記槽内には、洗浄装置においては、第2図に
示すように、槽下部に洗浄水噴霧用のパイプ11
を配しており、該槽長手方向に沿つた外枠1より
も低く形成された内壁12が形成されている。こ
れは、洗浄水をオーバーフローさせるもので、例
えば双脚型電子部品の脚部に対する半田付け後の
洗浄を行う1槽又は複数槽の槽内および槽間に洗
浄水を順次循環させるものである。
示すように、槽下部に洗浄水噴霧用のパイプ11
を配しており、該槽長手方向に沿つた外枠1より
も低く形成された内壁12が形成されている。こ
れは、洗浄水をオーバーフローさせるもので、例
えば双脚型電子部品の脚部に対する半田付け後の
洗浄を行う1槽又は複数槽の槽内および槽間に洗
浄水を順次循環させるものである。
一方、乾燥装置においては、第3図に示すよう
に槽の外枠1に対して傾斜状に保温壁16が両側
に設けられている。又、槽下部には第4図のよう
に熱風パイプ13が設けられており、別の位置に
設置した熱風発生器14からの熱風をフレキシブ
ルホース15を通し導入するようになつている。
に槽の外枠1に対して傾斜状に保温壁16が両側
に設けられている。又、槽下部には第4図のよう
に熱風パイプ13が設けられており、別の位置に
設置した熱風発生器14からの熱風をフレキシブ
ルホース15を通し導入するようになつている。
上記洗浄装置から乾燥装置への双脚型電子部品
の送給手段、およびそれらの前工程と次工程への
移送は、双脚型電子部品を整列化させた状態で挟
持できるクランプ装置が使用されるが、このクラ
ンプ装置は、洗浄、乾燥装置の上部の固定部材に
取り付けられている。
の送給手段、およびそれらの前工程と次工程への
移送は、双脚型電子部品を整列化させた状態で挟
持できるクランプ装置が使用されるが、このクラ
ンプ装置は、洗浄、乾燥装置の上部の固定部材に
取り付けられている。
即ち、第5図で示すように、半田処理後の双脚
型電子部品はクランプ装置のチヤツク爪17でそ
の両側端を挟持して整列させた後、レール杆4上
の載置台5に静置させる。次いで、腕杆7,7a
を引張りバネSの張力により回転させて押え杆8
の下面で電子部品の樹脂表面を押圧する。この状
態でレール杆4をエンドプレート3,3とともに
メインシヤフト2を中心にして回転させ、電子部
品の脚部を洗浄するものである。
型電子部品はクランプ装置のチヤツク爪17でそ
の両側端を挟持して整列させた後、レール杆4上
の載置台5に静置させる。次いで、腕杆7,7a
を引張りバネSの張力により回転させて押え杆8
の下面で電子部品の樹脂表面を押圧する。この状
態でレール杆4をエンドプレート3,3とともに
メインシヤフト2を中心にして回転させ、電子部
品の脚部を洗浄するものである。
洗浄処理を終えた電子部品は、押え杆8の開放
動作に対応して再びクランプ装置で挟持し、乾燥
工程へと移送される。
動作に対応して再びクランプ装置で挟持し、乾燥
工程へと移送される。
次に本発明の適用例を記載する。
第6図は、双脚型電子部品の自動半田処理工程
の概略図であり、供給部20から供給される双脚
型電子部品は、例えば放射状に配置されたエツチ
ング槽、水洗槽、フラツクス槽、半田槽等からな
る半田付け処理部Pを経て取出部21に移送さ
れ、上記クランプ装置で整列化された状態で挟持
されて第1洗浄槽22の載置台に静置固定後洗浄
される。
の概略図であり、供給部20から供給される双脚
型電子部品は、例えば放射状に配置されたエツチ
ング槽、水洗槽、フラツクス槽、半田槽等からな
る半田付け処理部Pを経て取出部21に移送さ
れ、上記クランプ装置で整列化された状態で挟持
されて第1洗浄槽22の載置台に静置固定後洗浄
される。
以後、同様に順次第2洗浄槽23、第3洗浄槽
24を経て、第1乾燥槽25に移送される。又、
第1乾燥槽25に移送された双脚型電子部品は、
更に第2乾燥槽26に移送された後、トレー27
に整列化され収容される。
24を経て、第1乾燥槽25に移送される。又、
第1乾燥槽25に移送された双脚型電子部品は、
更に第2乾燥槽26に移送された後、トレー27
に整列化され収容される。
本発明の双脚型電子部品の洗浄又は乾燥装置は
上記のように構成されているので、次のような効
果を奏するものである。
上記のように構成されているので、次のような効
果を奏するものである。
(1) 多数の双脚型電子部品を整列状態で固定する
ことが可能で、該状態を維持したまま、ドラム
を回転させて電子部品の洗浄を行うことができ
る。
ことが可能で、該状態を維持したまま、ドラム
を回転させて電子部品の洗浄を行うことができ
る。
(2) 電子部品の載置し得る載置台を設けているの
で電子部品を安定して載置することが可能であ
り、特に載置台の形状を平面視略H形状とした
ときには電子部品の脚部の損傷を皆無とするこ
とができる。
で電子部品を安定して載置することが可能であ
り、特に載置台の形状を平面視略H形状とした
ときには電子部品の脚部の損傷を皆無とするこ
とができる。
第1図、第2図、第3図及び第4図は本発明に
かかる装置の説明図、第5図はクランプ装置のチ
ヤツク爪で双脚型電子部品を挟持した状態を示す
説明図、第6図は双脚型電子部品の半田付け処理
工程を示す概略図である。 3:エンドプレート、4:レール杆、5:載置
台、8:押え杆、9:開放レバー、10:レバ
ー、11,13:パイプ、12:内壁、16:保
温壁、22,23,24:洗浄槽、25,26:
乾燥槽。
かかる装置の説明図、第5図はクランプ装置のチ
ヤツク爪で双脚型電子部品を挟持した状態を示す
説明図、第6図は双脚型電子部品の半田付け処理
工程を示す概略図である。 3:エンドプレート、4:レール杆、5:載置
台、8:押え杆、9:開放レバー、10:レバ
ー、11,13:パイプ、12:内壁、16:保
温壁、22,23,24:洗浄槽、25,26:
乾燥槽。
Claims (1)
- 1 上方開口の筐体内に設けた回転手段に関係づ
けた中心軸の両側にエンドプレートを相対向して
取付け、両エンドプレート間には複数のレール杆
を一定間隔をあけて架設するとともに、それぞれ
のレール杆上には双脚型電子部品用の載置台を設
置し、且つ載置台に対面する位置にはレール杆の
長さ方向に長くされ且つ載置台上の双脚型電子部
品の樹脂部分外面を押圧し得る押え杆をレール杆
に対して平行状態を維持して側設してなる双脚型
電子部品の洗浄又は乾燥装置における固定装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57046122A JPS58162040A (ja) | 1982-03-23 | 1982-03-23 | 双脚型電子部品の洗浄又は乾燥装置における固定装置 |
DE8383102678T DE3364325D1 (en) | 1982-03-23 | 1983-03-18 | A holding apparatus for use in cleaner or dryer for dual pin type electronic parts |
EP83102678A EP0090286B1 (en) | 1982-03-23 | 1983-03-18 | A holding apparatus for use in cleaner or dryer for dual pin type electronic parts |
US06/636,808 US4526185A (en) | 1982-03-23 | 1984-08-03 | Holding apparatus for use in cleaner or dryer for dual pin type electronic parts |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57046122A JPS58162040A (ja) | 1982-03-23 | 1982-03-23 | 双脚型電子部品の洗浄又は乾燥装置における固定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58162040A JPS58162040A (ja) | 1983-09-26 |
JPS6316907B2 true JPS6316907B2 (ja) | 1988-04-11 |
Family
ID=12738181
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57046122A Granted JPS58162040A (ja) | 1982-03-23 | 1982-03-23 | 双脚型電子部品の洗浄又は乾燥装置における固定装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4526185A (ja) |
EP (1) | EP0090286B1 (ja) |
JP (1) | JPS58162040A (ja) |
DE (1) | DE3364325D1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0352204U (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-21 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6136363U (ja) * | 1984-07-31 | 1986-03-06 | 株式会社 タムラ製作所 | 被はんだ付け物整列支持用の治具 |
JPS61212048A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-20 | Ideya:Kk | 電子部品の保持装置 |
US5531236A (en) * | 1994-06-01 | 1996-07-02 | Kempka; Steven N. | Directed flow fluid rinse trough |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1884309A (en) * | 1927-11-21 | 1932-10-25 | Delcoremy Corp | Machine for surfacing the rubbing blocks of the circuit breaker levers of ignition timers |
US2156453A (en) * | 1936-07-06 | 1939-05-02 | Alfred E Hamilton | Grinding machine |
US2572364A (en) * | 1948-03-31 | 1951-10-23 | Ibm | Automatic grinding machine |
US2691254A (en) * | 1950-03-16 | 1954-10-12 | Robbins Edward Stanley | Tile sizing machine and method |
US2972997A (en) * | 1956-04-09 | 1961-02-28 | Libbey Owens Ford Glass Co | Apparatus for cleaning surfaces |
US3583363A (en) * | 1969-03-05 | 1971-06-08 | Air Reduction | Substrate support apparatus |
US3749058A (en) * | 1971-07-26 | 1973-07-31 | Ion Equipment Corp | Rotary substrate holder assembly |
DE3028536C2 (de) * | 1980-07-28 | 1983-01-05 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Vorrichtung zur Halterung von kreisförmigen Substratscheiben und ihre Verwendung |
-
1982
- 1982-03-23 JP JP57046122A patent/JPS58162040A/ja active Granted
-
1983
- 1983-03-18 DE DE8383102678T patent/DE3364325D1/de not_active Expired
- 1983-03-18 EP EP83102678A patent/EP0090286B1/en not_active Expired
-
1984
- 1984-08-03 US US06/636,808 patent/US4526185A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0352204U (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-21 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0090286B1 (en) | 1986-07-02 |
JPS58162040A (ja) | 1983-09-26 |
EP0090286A1 (en) | 1983-10-05 |
US4526185A (en) | 1985-07-02 |
DE3364325D1 (en) | 1986-08-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS648700B2 (ja) | ||
JPH10501926A (ja) | 構成部分配置機械内にプリント配線板を位置決めする方法及びこの方法のための構成部分配置機械 | |
JPS6316907B2 (ja) | ||
JPS6194606A (ja) | スライドフアスナ−の検査装置 | |
US5425840A (en) | Automated process for making flexible plates from a sheet introduced sensitive side facing upwards and device for implementing the process | |
JPH07130637A (ja) | 半導体製造装置 | |
KR930008223Y1 (ko) | 번인 언로딩장치 | |
JPH0798302B2 (ja) | 平面研磨装置 | |
JP2000005706A (ja) | 回転洗浄用部品搬送治具構造 | |
JPH0135504B2 (ja) | ||
CA2010480C (en) | Method and apparatus for facilitating loading of a panel processing machine and positioning of artwork on a work surface thereon | |
SU1169832A1 (ru) | Устройство дл печати на цилиндрических издели х | |
JP3499750B2 (ja) | パレット | |
JPS6059747A (ja) | 半導体ウエ−ハの処理装置 | |
KR910000017B1 (ko) | 전자부품의 보유지지장치 | |
JPH04206592A (ja) | クランプの液切り方法並びに該方法の実施に使用するローディング装置及び乾燥装置 | |
JPH0159072B2 (ja) | ||
JP2714423B2 (ja) | プリント配線板の反り矯正装置 | |
JPS6027468A (ja) | 半田デイツプ装置 | |
TW202122276A (zh) | 網版印刷裝置及網版印刷方法 | |
JPH06252072A (ja) | 基板処理装置 | |
JPS6313336B2 (ja) | ||
JPS5271876A (en) | Apparatus for washing test tubes | |
JPS61212470A (ja) | 電子部品の洗浄乾燥装置 | |
JPS58220142A (ja) | 光化学処理によつて作られた印刷版を処理する装置 |