JPS63146502A - マルチビ−ムアンテナ - Google Patents

マルチビ−ムアンテナ

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JPS63146502A
JPS63146502A JP29303786A JP29303786A JPS63146502A JP S63146502 A JPS63146502 A JP S63146502A JP 29303786 A JP29303786 A JP 29303786A JP 29303786 A JP29303786 A JP 29303786A JP S63146502 A JPS63146502 A JP S63146502A
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JP
Japan
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paraboloid
revolution
irradiation
beam antenna
antenna
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JP29303786A
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JPH0473881B2 (ja
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Ryuichi Iwata
岩田 龍一
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NEC Corp
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、1つのアンテナで静止軌道上の複数個の衛星
との同時通信を可能にするマルチビームアンテナに関す
る。
(従来の技術) 従来のマルチビームアンテナは、例えば第5図に示すよ
うに、複数(例えば3個)の1次放射器21、同22、
同23と、これらの1次放射器の放射電波をそれぞれ異
なる方向へ反射する回転放物面反射鏡5とからなり、1
次放射器21、同22、同23は回転放物面の焦点Fの
近傍に適宜距離離隔して配設されている。なお、各1次
放射器には、1次放射器21について例示するように、
給電部6と低雑音増幅器7が当該アンテナ軸の軸線方向
へ延在する如く配設されている。
(発明が解決しようとする問題点) しかし、第5図に示す従来のマルチビームアンテナにお
いては、回転放物面反射鏡5から放射されるビームの偏
移を大きくするには、1次放射器21、同22、同23
の配置間隔を広げる必要があるが、そうすると配置位置
が焦点Fから離れることになるので、回転放物面反射鏡
5の開口面における波面に乱れが生じアンテナ利得が低
下する。
また、1次放射器21等に直結される給電部6および低
雑音増幅器7はアンテナ軸の軸線方向に伸びるので、ア
ンテナ軸の軸長が長くなるという問題点がある。
本発明は、従来のこのような問題点に鑑みなされたもの
で、その目的は開口面における波面の乱れを大きくする
ことなく放射ビームの偏移を大きくでき、即ちアンテナ
効率の向上が図れ、併せてアンテナ軸の軸長の短縮化を
図り得るマルチビームアンテナを提供することにある。
(問題点を解決するための手段) 前記目的を達成するために、本発明のマルチビームアン
テナは次の如き構成を有する。
即ち、本発明のマルチビームアンテナは、複数個の1次
放射器と: この複数個の1次放射器のそれぞれの出射
電波の照射をそれぞれ対応して直接的に又は1つの平面
反射板を介して間接的に受ける複数個の照射領域を有し
、かつその複数個の照射領域のうち互いに隣接する照射
領域間では適宜な重なり部分が存し、その複数個の照射
領域のそれぞれはその照射電波を互いに異なる方向であ
ってその照射領域の曲面形状で定まる特定方向へ放射す
る1つの主反射鏡と; で構成されるマルチビームアン
テナであって; 前記主反射鏡の複数個の照射領域は、
互いの曲面形状を異にする複数個の回転放物面を前記複
数個の照射領域のそれぞれに対応して予め設定し、各照
射領域の曲面形状を与える曲面座標を当該照射領域に対
応する前記該当回転放物面の座標値と隣接照射領域に対
応する前記該当回転放物面の座標値との加重平均によっ
て設定し、かつ前記加重平均の重み付けを前記複数個の
1次放射器のそれぞれの放射電磁界が主反射鏡面上に形
成する開口面分布におけるその放射電磁界の強度の関数
でもって設定することによって形成してあることを特徴
とするマルチビームアンテナである。
(作 用) 次に、前記構成を有する本発明のマルチビームアンテナ
の作用を説明する。
1つの主反射鏡の複数個の照射領域のそれぞれの曲面形
状は、1主反射鏡1照射領域となる場合のその照射領域
の曲面形状である回転放物面に略等しい回転放物面とな
るから、その複数個の照射領域のうち互いに隣接する照
射領域間では適宜な重なり部分が存するも、各照射領域
は互いに独立した回転放物面反射鏡とみなすことができ
る。
従って、複数個の照射領域のそれぞれはその照射電波を
互いに異なる方向であってその照射領域の曲面形状で定
まる特定方向へ、即ち当該照射領域の曲面形状を与える
所定回転放物面の中心軸に平行な方向へ電波放射をする
ことができる。
このとき、放射ビームの偏移角は照射領域の曲面形状で
定まるから、偏移角を大きくしても開口面における波面
の乱れを大幅に低減させることができ、従ってアンテナ
能率が向上する。
また、1次放射器から主反射鏡を照射する場合、直接的
に照射することにすると各1次放射器は主反射鏡に向い
て配置されることになるので、従来と同様にアンテナ軸
長が長くなる。
しかし、1つの平面反射板を介して間接的に照射するこ
とにすれば、平面反射板は主反射鏡に対面する如く配置
され、かつ各1次放射器はアンテナ軸の軸回り方向にお
いて平面反射板に照射電波を斜め入射させる如く配置さ
れることになるから、アンテナ軸長を短縮化できる。
なお、複数個の1次放射器のそれぞれは、対応する照射
領域の曲面形状を与える所定回転放物面の焦点゛位置(
平面反射板が介在する場合には鏡像点位置)に配置され
るが、複数個の照射領域はそれぞれ異なる曲面形状とす
ることができるから、複数個の1次放射器の配置態様は
一定せず任意の態様となる。
以上説明したように、本発明のマルチビームアンテナに
よれば、1つの主反射鏡が有する複数個の照射領域は、
互いに隣接する照射領域間では適宜な重なり部分が存す
るも、各照射領域の曲面形状は加重平均操作によって1
上反射鏡1照射領域となる場合のその照射領域の曲面形
状である回転放物面と略等しい回転放物面とすることが
できるから、各照射領域は互いに独立した回転放物面反
射鏡とみなすことができる。従って、本発明によれば高
能率のマルチビームアンテナが構成できる。
また、複数個の1次放射器の照射電波を1つの平面反射
板を介して間接的に主反射鏡へ伝達することにより、ア
ンテナ軸長の短縮化が図れるという効果がある。
(実 施 例) 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。第1
図は本発明の第1実施例に係るマルチビームアンテナを
示す、この第1実施例に係るマルチビームアンテナは、
第1図(a)に示す如く、主反射鏡1と2個の1次放射
器21および同22とからなる2ビームアンテナである
第1図(a)において、主反射鏡1は、中央部に適宜な
重なり部分(イ)を有する2つの照射領域Aおよび同B
を有する。この照射領域Aおよび同Bはその曲面形状が
後述する加重平均の手法によって形成した略回転放物面
からなる。
ここに、軸Zは当該アンテナの中心軸である。
また軸Z、および同Zbは照射領域Aおよび同日の曲面
形状をなす回転放物面の中心軸であり、それらの軸上の
点F1、同Fbはそれぞれ焦点を示す。
図示例では再回転放物面の焦点距離はそれぞれ等しくし
である。そして、中心軸Z、と同Z、はそれぞれ中心軸
Zに対し角度δ/2傾斜し、また焦点F、と同Fbは距
離2dだけ離れているや1次放射器21は照射領域Aを
主に照射すべく焦点F、に配置し、また1次放射器22
は照射領域Bを主に照射すべく焦点Fbに配置しである
ところで、本実施例では、2ビームアンテナを1つの主
反射鏡1と2つの1次放射器21および同22とで構成
するのであるが、照射領域Aと同Bは若干の重なり部分
(イ)を存して離隔配置されるから、第1図(b)に示
す如く、照射領域Aを規定する回転放物面A′と照射領
域Bを規定する回転放物面B′とは若干ずれて設定され
ることになる。しかし、仮に主反射鏡1が回転放物面A
′と一致しているとすれば焦点F、から発する光線は主
反射鏡1で反射された後に中心軸Z1と平行な光線とな
る(ビームA放射方向)。
また、仮に主反射鏡1が回転放物面B′と一致している
とすれば焦点Fbから発する光線は主反射鏡1で反射さ
れた後に中心軸Z、と平行な光線となる(ビームB放射
方向)。
したがって、主反射鏡1の曲面形状として重なり部分(
イ)を除く照射領域A内では回転放物面A′に殆ど一致
し、また重なり部分(イ)を除く照射領域B内では回転
放物面B′に殆ど一致し、重なり部分(イ)では回転放
物面A′から回転放物面B′へ徐々に移り変わるような
形状に定めれば、中心軸Z、と同Zbの異なる2方向へ
電波放射を行うマルチビームアンテナを実現できること
になる。
そこで、主反射鏡1の曲面形状は次の如くして決定する
即ち、X軸、Y軸およびZ軸を第1図(a)に示す如く
定め、回転放物面A′および回転放物面B′をそれぞれ
(X、Y)の関数としてZ=f、(X、 Y)    
   −・−=−−−−(1’)Z= f b (X、
 Y)       〜−−・−一・−−−−(2)と
表す。また、1次放射器21および同22から放射され
た電波によって2軸に垂直な面上に生ずる主反射鏡面の
開口面分布の主反射鏡1上の点(X、Y)における放射
電界強度をそれぞれE。
(X、Y)、Eb(X、Y)としたとき、主反射鏡の曲
面座標Z (X、Y)は、f、(X、Y)とfb(X、
Y)のE、(X、Y)、Eb(X、Y)による加重平均
として例えば Z (X、Y)=胚U丑旧引柑奇屋皿 −−−−−−−=−(3) と定めることができる。
上記(3)式によれば、主反射鏡1は1次放射器21か
らの放射電界が1次放射器22からの放射電界よりも強
いところでは、即ち重なり部分(イ)を除く照射領域A
内では、回転放物面A′に近く、逆に1次放射器22か
らの放射電界の方が強いところでは、即ち重なり部分(
イ)を除く照射領域B内では、回転放物面B′に近く、
また両者の電界が等しいところでは、即ち重なり部分(
イ)内では回転放物面A′と同B′の中間の曲面となる
。つまり、全体的には重なり部分(イ)を含む照射領域
Aは回転放物面A′に略等しく、重なり部分(イ)を含
む照射領域Bは回転放物面B′に略等しくなるのであり
、それぞれ独立した回転放物面反射鏡とみなすことがで
きることになる。
従って、本発明によれば、従来の如き開口面における位
相誤差による能率低下を改善できるのである。
なお、前記式(3)では、加重平均の重み付けとして電
界強度の関数を用いたが、他に1次放射器の放射電力の
関数を用いることができる。
即ち、 と定めるのである。一般には、主反射鏡1の曲面形状は で定められる。ここで、glおよびg2は1次放射器2
1および同22からの放射電界E、および同E、の関数
、あるい+i放射電界E、と他のパラメータ、放射電界
Ebと他のパラメータの関数である。たとえば1次放射
器21と同22の使用周波数がそれぞれf、とf2と異
なる場合には、gt(E、)=f IEa    ’ 
    −m−・−−−(6)ga(Eb)=fzEb
         −−m−(7)となる。
次に、第2図は本発明の第2実施例に係るマルチビーム
アンテナを示す、第1実施例では、アンテナ中心軸Zに
対して1次放射器とこれに対応する照射領域が同じ側に
あったのに対し、この第2実施例では1次放射器とこれ
に対応する照射領域が中心軸Zに対して互いに反対側に
設定されている。その他は第1実施例と同様である。
次に、第3図は本発明の第3実施例に係るマルチビーム
アンテナを示す、この第3実施例では、前記第2実施例
において、主反射鏡1と2つの焦点F6および同Fbの
間に平面反射板4を配置し、1次放射器21および同2
2は焦点F、および同Fbの平面反射板4による鏡像点
の位置に平面反射板4に向けて配置しである。
このように構成することによって、1次放射器21およ
び同22から放射された電波は平面反射板4で反射され
た後に主反射鏡1に向かい、主反射鏡1で反射されて異
なる2方向に放射される。
平面反射板4は単に電波の進路を折り曲げる役目をして
おりマルチビームアンテナとしての動作原理は第1実施
例と同じである。平面反射板4を用いることにより、ア
ンテナの軸方向の長さを短くすることができる。
次に、第4図は本発明の第4実施例に係るマルチビーム
アンテナを示す、この第4実施例では3ビームアンテナ
の場合を示す、この場合の原理も第1実施例と同様であ
り、主反射鏡1は回転放物面A′、同B′、同C′の1
次放射器21.同22.同23からの放射電界による加
重平均となっている。
ここで回転放物面A′、同B′、同C′はそれぞれ異な
る焦点F1同Fb、同F0と異なる方向を向いた中心軸
Z□同Zb、同Z0を有している。
本発明は以上の説明かられかるように4ビ一ム以上の場
合についても同様に適用できる。
以上の説明では、複数個の焦点と複数個の回転放物面の
中心軸が同一平面上にある場合について説明したが、必
ずしもその必要はなく、たとえば、回転放物面A′およ
び同B′の中心軸Z、と同Zbが互いにねじれの関係に
あってもよい。
即ち、中心軸Z、と同Zbは同一平面内以外の任意方向
へ延在する場合でもよい、また、各中心軸と各1次放射
器とのなす角が等しい必要はない。
また各回転放物面の焦点距離が等しくなくてもよい、ま
た主反射鏡の外周形状についても任意でよい。
(発明の効果) 以上説明したように、本発明のマルチビームアンテナに
よれば、1つの主反射鏡が有する複数個の照射領域は、
互いに隣接する照射領域間では適宜な重なり部分が存す
るも、各照射領域の曲面形状は加重平均操作によって1
主反射鏡1照射領域となる場合のその照射領域の曲面形
状である回転放物面と略等しい回転放物面とすることが
できるから、各照射領域は互いに独立した回転放物面反
射鏡とみなすことができる。従って、本発明によれば高
能率のマルチビームアンテナが構成できる。
丈な、複数個の1次放射器の照射電波を1つの平面反射
鏡を介して間接的に主反射鏡へ伝達することにより、ア
ンテナ軸長の短縮化が図れるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例を示す図、第2図は本発明
の第2実施例を示す図、第3図は本発明の第3実施例(
平面反射板を用いた実施例)を示す図、第4図は本発明
の第4実施例(3ビームアンテナ)を示す図、第5図は
従来のマルチビームアンテナを示す図である。 1・・・・・・主反射鏡、 4・・・・・・平面反射板
、5・・・・・・回転放物面反射鏡、 6・・・・・・
給電部、7・・・・・・低雑音増幅器、 21,22.
23・・・・・・1次放射器、 A、B・・・・・・照
射領域、 Z・・・・・・アンテナ中心軸、 Z、・・
・・・・回転放物面A′の中心軸、Zb・・・・・・回
転放物面B′の中心軸、 Zc・・・・・・回転放物面
C′の中心軸。 代理人 弁理士  八 幡  義 博 本だ蛎の第1欠jヒイ列II釆うマルチじ−Aアンテナ
第  l 図 未発1秒第2実施伊動こ赤るマルキビームアンテナ第2
図 平面図 (b)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数個の1次放射器と;この複数個の1次放射器のそれ
    ぞれの出射電波の照射をそれぞれ対応して直接的に又は
    1つの平面反射板を介して間接的に受ける複数個の照射
    領域を有し、かつその複数個の照射領域のうち互いに隣
    接する照射領域間では適宜な重なり部分が存し、その複
    数個の照射領域のそれぞれはその照射電波を互いに異な
    る方向であってその照射領域の曲面形状で定まる特定方
    向へ放射する1つの主反射鏡と;で構成されるマルチビ
    ームアンテナであって;前記主反射鏡の複数個の照射領
    域は、互いの曲面形状を異にする複数個の回転放物面を
    前記複数個の照射領域のそれぞれに対応して予め設定し
    、各照射領域の曲面形状を与える曲面座標を当該照射領
    域に対応する前記該当回転放物面の座標値と隣接照射領
    域に対応する前記該当回転放物面の座標値との加重平均
    によって設定し、かつ前記加重平均の重み付けを前記複
    数個の1次放射器のそれぞれの放射電磁界が主反射鏡面
    上に形成する開口面分布におけるその放射電磁界の強度
    の関数でもって設定することによって形成してあること
    を特徴とするマルチビームアンテナ。
JP29303786A 1986-12-09 1986-12-09 マルチビ−ムアンテナ Granted JPS63146502A (ja)

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JPS63146502A true JPS63146502A (ja) 1988-06-18
JPH0473881B2 JPH0473881B2 (ja) 1992-11-24

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04108202A (ja) * 1990-08-28 1992-04-09 Nec Corp マルチビームアンテナ
JPWO2020256093A1 (ja) * 2019-06-20 2020-12-24

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US11769953B2 (en) 2019-06-20 2023-09-26 Nec Corporation Antenna device and method for designing same

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JPH0473881B2 (ja) 1992-11-24

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