JPS63126316A - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
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- JPS63126316A JPS63126316A JP61271844A JP27184486A JPS63126316A JP S63126316 A JPS63126316 A JP S63126316A JP 61271844 A JP61271844 A JP 61271844A JP 27184486 A JP27184486 A JP 27184486A JP S63126316 A JPS63126316 A JP S63126316A
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- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 2
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- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims 1
- 101150058725 ecl1 gene Proteins 0.000 abstract description 5
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- Logic Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、半導体集積回路装置技術、さらにはECL
(エミッタ結合論理)と入出力レベルの互換性を有す
るB i−0MO3(バイポーラ−CMOS複合論理回
路)型の半導体集積回路装置に適用して有効な技術に関
するもので、たとえば、周辺ECL型のB i−CMO
5RAMに利用して有効な技術に関するものである。
(エミッタ結合論理)と入出力レベルの互換性を有す
るB i−0MO3(バイポーラ−CMOS複合論理回
路)型の半導体集積回路装置に適用して有効な技術に関
するもので、たとえば、周辺ECL型のB i−CMO
5RAMに利用して有効な技術に関するものである。
[従来の技術]
最近、インターフェイス(I/F)部だけをECLで構
成し、内部回路部はCMOSあるいはB1−CMOSに
よる低消費電力型の回路で構成した半導体集積回路装置
が開発されている。
成し、内部回路部はCMOSあるいはB1−CMOSに
よる低消費電力型の回路で構成した半導体集積回路装置
が開発されている。
この種の複合型半導体集積回路装置は、たとえば、日経
マグロウヒル社刊行「日経エレクトロニクス 1986
年3月10日号(阻390)」1として注目されている
。
マグロウヒル社刊行「日経エレクトロニクス 1986
年3月10日号(阻390)」1として注目されている
。
ここで、本発明者は、上記技術が適用されたBi−CM
O9型半導体記憶装置について検討した。以下は、公知
とされた技術ではないが、本発明者によって検討された
技術であり、その概要は次のとおりである。
O9型半導体記憶装置について検討した。以下は、公知
とされた技術ではないが、本発明者によって検討された
技術であり、その概要は次のとおりである。
第4図は本発明者によって検討されたB i −CM
OS型記憶装置の要部における回路を示す。
OS型記憶装置の要部における回路を示す。
同図に示すB i−CMO3型O3Mは、先ず、アドレ
ス信号Ainなとの外部信号を受けるインターフェイス
(I/F)部がECLIによって構成されている。この
ECLIは、接地電位と負電源VEEとの間で動作し、
所定の基準電圧■3.によって定められる論理しきい値
をもつ。また、ECLIは、その内部に多数の定電流回
路Iaを有する。各定電流回路Iεはそれぞれ、バイポ
ーラ・トランジスタQP:、と抵抗Rεによって構成さ
れ、そのバイポーラ・トランジスタQεのベースに所定
の制御電圧Vcsを与えることにより、その制御電圧V
c5と抵抗Rεによって定められる一定の電流を流す。
ス信号Ainなとの外部信号を受けるインターフェイス
(I/F)部がECLIによって構成されている。この
ECLIは、接地電位と負電源VEEとの間で動作し、
所定の基準電圧■3.によって定められる論理しきい値
をもつ。また、ECLIは、その内部に多数の定電流回
路Iaを有する。各定電流回路Iεはそれぞれ、バイポ
ーラ・トランジスタQP:、と抵抗Rεによって構成さ
れ、そのバイポーラ・トランジスタQεのベースに所定
の制御電圧Vcsを与えることにより、その制御電圧V
c5と抵抗Rεによって定められる一定の電流を流す。
制御電圧VC3は、別に設けられた共通の基準電圧発生
回路5から供給される。
回路5から供給される。
上記ECLIで受けたECLレベルの信号は、レベル変
換回路2によってECLレベルからCMO8の論理レベ
ルに変換される。レベル変換された信号は、B i−C
MO3型O3回路3からなるデコーダ3によって論理処
理された後、Bi−CMO3型O3回路4からなるワー
ド線ドライバを選択駆動する。選択駆動されたワード線
ドライバは、ワード線WをL(低、レベル)からH(高
レベル)に駆動して、選択された行の記憶セルMを能動
化させる。記憶セルMはMO3素子によって構成されて
いる。この記憶セルMは、詳細な図示は省略するが、行
方向に布線されたワード線Wと列方向に布線されたデー
タ線DI、D2によって選択されるようになっている。
換回路2によってECLレベルからCMO8の論理レベ
ルに変換される。レベル変換された信号は、B i−C
MO3型O3回路3からなるデコーダ3によって論理処
理された後、Bi−CMO3型O3回路4からなるワー
ド線ドライバを選択駆動する。選択駆動されたワード線
ドライバは、ワード線WをL(低、レベル)からH(高
レベル)に駆動して、選択された行の記憶セルMを能動
化させる。記憶セルMはMO3素子によって構成されて
いる。この記憶セルMは、詳細な図示は省略するが、行
方向に布線されたワード線Wと列方向に布線されたデー
タ線DI、D2によって選択されるようになっている。
以上のように、外部との信号の授受が行われるインター
フェイス(1/F)部だけをECLIで構成する一方、
それ以外の内部回路部を電力消費の小さなり i−CM
O3およびM OS素子で構成することにより、全体的
な消費電力の低減が可能になるとともに、ECLとMO
Sのそれぞれの利点が活されるようになって、高速かつ
高集積のコ2憶装置が可能になる。
フェイス(1/F)部だけをECLIで構成する一方、
それ以外の内部回路部を電力消費の小さなり i−CM
O3およびM OS素子で構成することにより、全体的
な消費電力の低減が可能になるとともに、ECLとMO
Sのそれぞれの利点が活されるようになって、高速かつ
高集積のコ2憶装置が可能になる。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、上述した技術には、次のような問題点の
あることが本発明者によってあきらかとされた。
あることが本発明者によってあきらかとされた。
すなわち、上述したB i −CMO9型の記憶装置で
は、その内部回路部においては、Bi−CMO8および
MO3素子によってかなりの低消費電力化が達成されて
いる。しかし、そのインターフェイス(I/F)部を構
成するECLIにおいては、そのECLIの内部にて上
記定電流回路工Eなどによる多量の電流が常時流れてい
るため、かなりの電流を消費する。このため、せっかく
内部回路部の消費電力を低減させても、インターフェイ
ス(I/F)部での消費電力が依然として大きいために
、全体としては、なお大きな消費電力を要していた。
は、その内部回路部においては、Bi−CMO8および
MO3素子によってかなりの低消費電力化が達成されて
いる。しかし、そのインターフェイス(I/F)部を構
成するECLIにおいては、そのECLIの内部にて上
記定電流回路工Eなどによる多量の電流が常時流れてい
るため、かなりの電流を消費する。このため、せっかく
内部回路部の消費電力を低減させても、インターフェイ
ス(I/F)部での消費電力が依然として大きいために
、全体としては、なお大きな消費電力を要していた。
そこで、本発明者らは、記憶装置全体の時間平均的な消
費電力を低減させるために、その記憶装置が非選択の待
機状態にあるときにECLの動作電源だけを完全に遮断
すること、いわゆるパワーダウン方式を検討した。
費電力を低減させるために、その記憶装置が非選択の待
機状態にあるときにECLの動作電源だけを完全に遮断
すること、いわゆるパワーダウン方式を検討した。
しかし、このパワーダウン方式では、大電流を高速でス
イッチ制御するために比較的大掛かりなパワー制御回路
が必要となる。また、パワーダウン方式では、電源が一
旦完全に遮断されてしまうために、非選択から選択状懇
に切り換えられたときの動作の立ち上がりが遅くなって
しまい、そのパワーダウンの状態から立ち上がるまでの
起動時間が非選択から選択への切り換え時間よりも長く
かかってしまう、という別の問題を生じることもあきら
かとなった。
イッチ制御するために比較的大掛かりなパワー制御回路
が必要となる。また、パワーダウン方式では、電源が一
旦完全に遮断されてしまうために、非選択から選択状懇
に切り換えられたときの動作の立ち上がりが遅くなって
しまい、そのパワーダウンの状態から立ち上がるまでの
起動時間が非選択から選択への切り換え時間よりも長く
かかってしまう、という別の問題を生じることもあきら
かとなった。
本発明の目的は、インターフェイス(1/F)部にEC
Lを有するB i−CMO3型半導体集積回路装置の全
体的な消費電力を、比較的簡単かつ小規模な構成でもっ
て効果的に低減させられるようにする、という技術を提
供することにある。
Lを有するB i−CMO3型半導体集積回路装置の全
体的な消費電力を、比較的簡単かつ小規模な構成でもっ
て効果的に低減させられるようにする、という技術を提
供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
[問題点を解決するための手段]
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、インターフェイス(I/F)部を構成するE
CLの定電流回路に制御電圧を与える基準電圧発生回路
の動作を、待機モードを設定するために外部から与えら
れる制御信号によって制御させる、というものである。
CLの定電流回路に制御電圧を与える基準電圧発生回路
の動作を、待機モードを設定するために外部から与えら
れる制御信号によって制御させる、というものである。
[作用]
上記した手段によれば、待機モードにあるときは、この
待機モードを設定している制御信号によってECL内の
定電流回路の電流を定める制御電圧が制御される。これ
により、ECL内の定電流回路に流れる電流が制御され
て、ECLの動作電流の大部分が制御されるようになる
。この場合、ECLそのものの電源は投入されたままな
ので、ECLの動作の回復は、パワーダウン状態からの
回復よりも大幅に速く行われる。
待機モードを設定している制御信号によってECL内の
定電流回路の電流を定める制御電圧が制御される。これ
により、ECL内の定電流回路に流れる電流が制御され
て、ECLの動作電流の大部分が制御されるようになる
。この場合、ECLそのものの電源は投入されたままな
ので、ECLの動作の回復は、パワーダウン状態からの
回復よりも大幅に速く行われる。
以上のようにして、たとえば大電流をスイッチングする
ための大掛かりなパワー制御回路に依存することなく、
比較的簡単がっ小規模な構成を付加するだけでもって、
インターフェイス(1/F)部にECLを有するBi−
CMO3型O3体1fff回路装置の全体的な消費電力
を効果的に低減させる、という目的が達成される。
ための大掛かりなパワー制御回路に依存することなく、
比較的簡単がっ小規模な構成を付加するだけでもって、
インターフェイス(1/F)部にECLを有するBi−
CMO3型O3体1fff回路装置の全体的な消費電力
を効果的に低減させる、という目的が達成される。
[実施例]
以下、本発明の好適な実施例を図面に基づいて説明する
。
。
なお、各図中、同一符号は同一あるいは相当部分を示す
。
。
第1図はこの発明による技術が適用された半導体集積回
路装置の要部における回路を示す。
路装置の要部における回路を示す。
同図に示す半導体集積回路装置はB i −CM O8
型のスタチックRAMとして構成され、先ず、アドレス
信号Ainなどの外部信号を受けるインターフェイス(
I/F)部がECLIによって構成されている。このE
CLIは、接地電位と負電源VEEとの間で動作し、所
定の基準電圧VBBによって定められる論理しきい値を
もつ。また、FCLIは、その内部に多数の定電流回路
Iεを有する。各定電流回路Iεはそれぞれ、バイポー
ラ・トランジスタQEと抵抗REによって構成され、そ
のバイポーラ・トランジスタQEのベースに所定の制御
電圧vc5を与えることにより、その制御電圧VC3と
抵抗Rtによって定められる一定の電流を流す。制御電
圧VC3は、別に設けられた共通の基準電圧発生回路5
から供給される。
型のスタチックRAMとして構成され、先ず、アドレス
信号Ainなどの外部信号を受けるインターフェイス(
I/F)部がECLIによって構成されている。このE
CLIは、接地電位と負電源VEEとの間で動作し、所
定の基準電圧VBBによって定められる論理しきい値を
もつ。また、FCLIは、その内部に多数の定電流回路
Iεを有する。各定電流回路Iεはそれぞれ、バイポー
ラ・トランジスタQEと抵抗REによって構成され、そ
のバイポーラ・トランジスタQEのベースに所定の制御
電圧vc5を与えることにより、その制御電圧VC3と
抵抗Rtによって定められる一定の電流を流す。制御電
圧VC3は、別に設けられた共通の基準電圧発生回路5
から供給される。
上記ECLIで受けたECLレベルの信号は、レベル変
換回路2によってBCLレベルからCMOSの論理レベ
ルに変換される。レベル変換回路2はMOS)ランリス
タによって構成されている。
換回路2によってBCLレベルからCMOSの論理レベ
ルに変換される。レベル変換回路2はMOS)ランリス
タによって構成されている。
レベル変換された信号は、B 1−CMOS型論理回路
3からなるデコーダ3によって論理処理された後、B
i−CMO3型O3回路からなるワード線ドライバ4を
選択駆動する。B i−CMOS型論理回路3.4は、
その入力論理部がCMOSトランジスタによって構成さ
れ、その最終出力段がバイポーラ・トランジスタによっ
て構成されている。
3からなるデコーダ3によって論理処理された後、B
i−CMO3型O3回路からなるワード線ドライバ4を
選択駆動する。B i−CMOS型論理回路3.4は、
その入力論理部がCMOSトランジスタによって構成さ
れ、その最終出力段がバイポーラ・トランジスタによっ
て構成されている。
選択駆動されたワード線ドライバ4は、ワード線WをL
(低レベル〉がらH(高レベル)に駆動して、選択され
た行の記憶セルMを能動化させる。記憶セルMはMO3
素子(電界効果素子)によって構成されている。この記
憶セルMは、詳細な図示は省略するが、行方向に布線さ
れたワード線Wと列方向に布線されたデータ線Di、D
2によって選択されるようになっている。
(低レベル〉がらH(高レベル)に駆動して、選択され
た行の記憶セルMを能動化させる。記憶セルMはMO3
素子(電界効果素子)によって構成されている。この記
憶セルMは、詳細な図示は省略するが、行方向に布線さ
れたワード線Wと列方向に布線されたデータ線Di、D
2によって選択されるようになっている。
以上のようにして、外部との信号の授受が行われるイン
ターフェイス(I/F)部だけがECLlで構成される
一方、それ以外の内部回路部は電力消費の小さなり 1
−CMOSおよびMO3素子で構成されている。
ターフェイス(I/F)部だけがECLlで構成される
一方、それ以外の内部回路部は電力消費の小さなり 1
−CMOSおよびMO3素子で構成されている。
ここで、第1図に示したB i−CMO3型O3チック
RAMでは、上述した構成に加えて、上記基準電圧発生
回路5を制御する制御回路6が設けられている。この制
御回路6は、外部がら記憶装置を待機モードに設定する
制御信号すなわちここではチップ選択信号面によって動
作し、その選択信号面が能動状態(CS=” L” )
のときには基準電圧発生回路5を動作させて上記制御電
圧V(5を出力させる一方、その選択信号面が非能動状
態(已=”′H“)のときには基準電圧発生回路5の動
作を制御して上記制御電圧VC5を遮断させるように構
成されている。
RAMでは、上述した構成に加えて、上記基準電圧発生
回路5を制御する制御回路6が設けられている。この制
御回路6は、外部がら記憶装置を待機モードに設定する
制御信号すなわちここではチップ選択信号面によって動
作し、その選択信号面が能動状態(CS=” L” )
のときには基準電圧発生回路5を動作させて上記制御電
圧V(5を出力させる一方、その選択信号面が非能動状
態(已=”′H“)のときには基準電圧発生回路5の動
作を制御して上記制御電圧VC5を遮断させるように構
成されている。
次に動作について説明する。
記憶装置が外部からアクセスされて、アドレス信号AL
nとともにチップ選択信号面が与えられたときには、基
準電圧発生回路5から制御電圧Vasが発せられ、これ
によってECLl内の定電流回路IEに所定の定電流が
流れるようになって、そのECLIが動作状態になる。
nとともにチップ選択信号面が与えられたときには、基
準電圧発生回路5から制御電圧Vasが発せられ、これ
によってECLl内の定電流回路IEに所定の定電流が
流れるようになって、そのECLIが動作状態になる。
一方、記憶装置がアクセスされずに待機モードにあると
きには、チップ選択信号Sが非能動状態(面= ” H
” )になっていることによって制61電圧VCsの供
給が停止され、ECLl内の定電流回路II:に電流が
流れなくなる。これにより、ECLlの動作電流の大部
分が、大きな時間遅れをともなうことなく直ちに遮断さ
れるようになる。
きには、チップ選択信号Sが非能動状態(面= ” H
” )になっていることによって制61電圧VCsの供
給が停止され、ECLl内の定電流回路II:に電流が
流れなくなる。これにより、ECLlの動作電流の大部
分が、大きな時間遅れをともなうことなく直ちに遮断さ
れるようになる。
この場合、ECLIの本来の動作電源は投入されたまま
であり、そのECLl内の定電流回路IEの制御電圧V
c5だけがオン・オフ制御されることによってECLI
の動作電流が制御される。このようにしてECLIの動
作電流を制御することにより、そのECLIの動作の回
復は、全体の動作電源を遮断してしまうパワーダウン状
態からの回復よりも、大幅に速く行われるようになる。
であり、そのECLl内の定電流回路IEの制御電圧V
c5だけがオン・オフ制御されることによってECLI
の動作電流が制御される。このようにしてECLIの動
作電流を制御することにより、そのECLIの動作の回
復は、全体の動作電源を遮断してしまうパワーダウン状
態からの回復よりも、大幅に速く行われるようになる。
以上のようにして、大電流をスイッチングするための大
掛かりなパワー制御回路に依存することなく、比較的簡
単かつ小規模な構成を付加するだけでもって、インター
フェイス(I/F)部をなすECLlの不要時における
電流消費を抑えることができる。これによって、半導体
集積回路装置の全体的な消費電力を効果的に低減させる
ことができるようになる。
掛かりなパワー制御回路に依存することなく、比較的簡
単かつ小規模な構成を付加するだけでもって、インター
フェイス(I/F)部をなすECLlの不要時における
電流消費を抑えることができる。これによって、半導体
集積回路装置の全体的な消費電力を効果的に低減させる
ことができるようになる。
第2図は上記基準電圧発生回路5および制御回路6の部
分の詳細に実施例を示す。
分の詳細に実施例を示す。
同図において、基準電圧発生回路5は、バイポーラ・ト
ランジスタQ51.Q52.抵抗R51、R52,R5
3,R54、ダイオードD51、D52などによって構
成され、ダイオードD51とバイポーラ・トランジスタ
Q51によって定電圧を分圧し、この定電圧をバイポー
ラ・トランジスタQ52から出力するようになっている
。
ランジスタQ51.Q52.抵抗R51、R52,R5
3,R54、ダイオードD51、D52などによって構
成され、ダイオードD51とバイポーラ・トランジスタ
Q51によって定電圧を分圧し、この定電圧をバイポー
ラ・トランジスタQ52から出力するようになっている
。
制御回路6は、バイポーラ・l・ランリスタQ61と定
電流回路I61によるエミッタフォロワと、バイポーラ
・トランジスタQ62.Q63および定電流回路I62
による差動回路によって構成される。そして、この差動
回路をなす一方のバイポーラ・トランジスタQ63のコ
レクタが基準電圧発生回路5内に接続されている。
電流回路I61によるエミッタフォロワと、バイポーラ
・トランジスタQ62.Q63および定電流回路I62
による差動回路によって構成される。そして、この差動
回路をなす一方のバイポーラ・トランジスタQ63のコ
レクタが基準電圧発生回路5内に接続されている。
チップ選択信号面は、タイミング信号発生回路7に入力
されるとともに、上記制御回路6にも入力されるように
なっている。
されるとともに、上記制御回路6にも入力されるように
なっている。
チップ選択信号面が能動状fi (C9=” L” )
のときには、差動出力側のバイポーラ・トランジスタQ
62がオフ(OFF)状態となり、このとき基準電圧発
生回路5は制御回路6の干渉を受けずに正常に動作して
所定の制御電圧VC3を出力する。
のときには、差動出力側のバイポーラ・トランジスタQ
62がオフ(OFF)状態となり、このとき基準電圧発
生回路5は制御回路6の干渉を受けずに正常に動作して
所定の制御電圧VC3を出力する。
一方、チップ選択信号面が非能動状M(cs=”H″)
のとき、つまり記憶装置が待機モードにあるときには、
差動出力側のバイポーラ・トランジスタQ62がオン〈
ON)状態に駆動される。すると、このオン(ON)状
態となったバイポーラ・l・ランリスタQ62によって
、基準電圧発生回路5内にて分圧される電圧が負側電源
■εε側にクランプされる。これによって、基準電圧発
生回路5の出力である制御電圧Vcsが遮断される。
のとき、つまり記憶装置が待機モードにあるときには、
差動出力側のバイポーラ・トランジスタQ62がオン〈
ON)状態に駆動される。すると、このオン(ON)状
態となったバイポーラ・l・ランリスタQ62によって
、基準電圧発生回路5内にて分圧される電圧が負側電源
■εε側にクランプされる。これによって、基準電圧発
生回路5の出力である制御電圧Vcsが遮断される。
第3図は上記基準電圧発生回路5および制御回路6の部
分の別の実施例を示す。
分の別の実施例を示す。
第2図に示したものとの相違点だけを示すと、この実施
例では、基準電圧発生回路5内にて定電圧を分圧するた
めの電流がpチャンネルM OS 1−ランリスタM5
1を介して供給されるようになっている。そして、この
MOSトランジスリス51のゲートに制御回路6の出力
が入力されるようになっている。
例では、基準電圧発生回路5内にて定電圧を分圧するた
めの電流がpチャンネルM OS 1−ランリスタM5
1を介して供給されるようになっている。そして、この
MOSトランジスリス51のゲートに制御回路6の出力
が入力されるようになっている。
制御回路6の方は、差動回路の出力側パイボーラ・トラ
ンジスタQ63のコレクタにプルアップ抵抗R61が接
続されている。それ以外は第2図に示したものと同様で
ある。
ンジスタQ63のコレクタにプルアップ抵抗R61が接
続されている。それ以外は第2図に示したものと同様で
ある。
この実施例では、チップ選択信号面が非能動状態(面=
′”H°゛)になると、基準電圧発生回路5内のMoS
トランジスリス51がオフ(OFF)状態にされること
によって、制御電圧VC5が遮断されるようになってい
る。
′”H°゛)になると、基準電圧発生回路5内のMoS
トランジスリス51がオフ(OFF)状態にされること
によって、制御電圧VC5が遮断されるようになってい
る。
以上、本発明者によってなされた発明を実施例にもとづ
き具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。たとえば、デコーダ
などの周辺回路の一部もECLで構成してもよい。
き具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。たとえば、デコーダ
などの周辺回路の一部もECLで構成してもよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体記憶装置に適
用した場合について説明したが、それに限定されるもの
ではなく、たとえば、演算プロセッサあるいは通信コン
トローラなどの機能をもつ半導体集積回路装置などにも
適用できる。
をその背景となった利用分野である半導体記憶装置に適
用した場合について説明したが、それに限定されるもの
ではなく、たとえば、演算プロセッサあるいは通信コン
トローラなどの機能をもつ半導体集積回路装置などにも
適用できる。
少なくとも、待機モードを有する条件のものには適用で
きる。
きる。
[発明の効果コ
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
すなわち、インターフェイス(I/F)部にECLを有
するB i−CMO3型半導体集積回路装置の全体的な
消費電力を、比較的簡単かつ小規模な構成でもって効果
的に低減させることができる、という効果が得られる。
するB i−CMO3型半導体集積回路装置の全体的な
消費電力を、比較的簡単かつ小規模な構成でもって効果
的に低減させることができる、という効果が得られる。
第1図はこの発明による技術が適用された半導体記憶装
置の要部における回路の一実施例を示す図、 第2図は第1図に示した回路の一部における一実施例を
示す図、 第3図は第1図に示した回路の一部における別の実施例
を示す図、 第4図はこの発明に先立って検討された半導体記憶装置
の要部における回路を示す図である。 1・・・インターフェイス(I/F)部をなすECL(
エミッタ結合論理)、It ・・・定電流回路、VO2
・・・制御電圧、2・・・レベル変換回路、3.4−−
−Bi−CMO8型O8回路、5・・・基準電圧発生回
路、6・・・制御回路、M・・・記憶セル、面・・・チ
ップ選択信号(待機モード設定信号)。 第 1 図 第 2 図 第 3 図
置の要部における回路の一実施例を示す図、 第2図は第1図に示した回路の一部における一実施例を
示す図、 第3図は第1図に示した回路の一部における別の実施例
を示す図、 第4図はこの発明に先立って検討された半導体記憶装置
の要部における回路を示す図である。 1・・・インターフェイス(I/F)部をなすECL(
エミッタ結合論理)、It ・・・定電流回路、VO2
・・・制御電圧、2・・・レベル変換回路、3.4−−
−Bi−CMO8型O8回路、5・・・基準電圧発生回
路、6・・・制御回路、M・・・記憶セル、面・・・チ
ップ選択信号(待機モード設定信号)。 第 1 図 第 2 図 第 3 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、インターフェイス部にECL(エミッタ結合論理)
が形成され、内部回路部にECL以外の低消費電力型の
回路が形成され、外部からの制御信号によって設定され
る待機モードを有する半導体集積回路装置であって、上
記ECL内の定電流回路に制御電圧を与える基準電圧発
生回路の動作を上記制御信号によって制御する制御回路
を有することを特徴とする半導体集積回路装置。 2、上記内部回路部の主要部が、電界効果素子によって
構成される記憶素子とバイポーラーCMOS複合論理回
路による周辺回路とからなる記憶回路であることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の半導体集積回路装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61271844A JPS63126316A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | 半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61271844A JPS63126316A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | 半導体集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63126316A true JPS63126316A (ja) | 1988-05-30 |
Family
ID=17505661
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61271844A Pending JPS63126316A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63126316A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0269021A (ja) * | 1988-07-22 | 1990-03-08 | Siemens Ag | Ecl―cmos変換器 |
JPH02237218A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-19 | Hitachi Ltd | 出力バッファ回路 |
JPH03220816A (ja) * | 1990-01-26 | 1991-09-30 | Mitsubishi Electric Corp | Ecl―ttl変換回路 |
US5278465A (en) * | 1990-11-06 | 1994-01-11 | Nec Corporation | Semiconductor integrated circuit device having ECL gate group circuits and gate voltage control circuits |
US5287019A (en) * | 1990-11-06 | 1994-02-15 | Fujitsu Limited | ECL to CMOS level conversion circuit |
-
1986
- 1986-11-17 JP JP61271844A patent/JPS63126316A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0269021A (ja) * | 1988-07-22 | 1990-03-08 | Siemens Ag | Ecl―cmos変換器 |
JPH02237218A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-19 | Hitachi Ltd | 出力バッファ回路 |
JPH03220816A (ja) * | 1990-01-26 | 1991-09-30 | Mitsubishi Electric Corp | Ecl―ttl変換回路 |
US5278465A (en) * | 1990-11-06 | 1994-01-11 | Nec Corporation | Semiconductor integrated circuit device having ECL gate group circuits and gate voltage control circuits |
US5287019A (en) * | 1990-11-06 | 1994-02-15 | Fujitsu Limited | ECL to CMOS level conversion circuit |
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