JPS63119842A - 傾斜板式触媒充填反応装置 - Google Patents
傾斜板式触媒充填反応装置Info
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- JPS63119842A JPS63119842A JP26566786A JP26566786A JPS63119842A JP S63119842 A JPS63119842 A JP S63119842A JP 26566786 A JP26566786 A JP 26566786A JP 26566786 A JP26566786 A JP 26566786A JP S63119842 A JPS63119842 A JP S63119842A
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims abstract description 28
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/06—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds in tube reactors; the solid particles being arranged in tubes
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、化学プラントに用いられる多管式触媒充填反
応装置に関する。
応装置に関する。
管構造を有する反応管への触媒充填方法として、(1)
層内に何も入れないで充填する直接充填法、(2)セラ
ミックボール等による置換充填法がある。
層内に何も入れないで充填する直接充填法、(2)セラ
ミックボール等による置換充填法がある。
(1)の直接充填法の場合、触媒の落下速度が速いため
、触媒受けあるいは落下済みの触媒との衝突が激しく粉
化率が大きくなり、層内の空間率が減少し、それにより
圧損が大きくなる。
、触媒受けあるいは落下済みの触媒との衝突が激しく粉
化率が大きくなり、層内の空間率が減少し、それにより
圧損が大きくなる。
(2)の置換充填法の場合、触媒は安全であるが、前も
ってセラミックボール等を充填する必要があるため、充
填に手間と時間が掛る。
ってセラミックボール等を充填する必要があるため、充
填に手間と時間が掛る。
本発明は、上記のような問題を解消し、空間率を確保し
て圧損を小さくすると共に、触媒充填を容易にし、反応
器の大型化およびメンテナンス期間を短縮可能にした多
管式触媒充填反応装置を提供することを目的とする。
て圧損を小さくすると共に、触媒充填を容易にし、反応
器の大型化およびメンテナンス期間を短縮可能にした多
管式触媒充填反応装置を提供することを目的とする。
本発明は、反応管内に、長手方向に所定の間隔で交互に
互いに傾斜を逆にする傾斜板を設けたことを特徴とする
傾斜板式触媒充填反応装置に関する。
互いに傾斜を逆にする傾斜板を設けたことを特徴とする
傾斜板式触媒充填反応装置に関する。
〔実施例〕〔作用〕
第1図(4)の断面図と第1図(8)のa矢視の説明図
である第1図(6)によって本発明の詳細な説明する。
である第1図(6)によって本発明の詳細な説明する。
傾斜板取付は部材2と反応管3に囲まれた環状部に触媒
を充填するため、傾斜板取付は部材2に所定の一定間隔
(以下、取付ピッチ)で取り付けた傾斜板1を設ける。
を充填するため、傾斜板取付は部材2に所定の一定間隔
(以下、取付ピッチ)で取り付けた傾斜板1を設ける。
傾斜板1は、180c交互に配置する(すなわち、交互
に互いに傾斜を逆にして配置する)。
に互いに傾斜を逆にして配置する)。
傾斜板1の上部切欠きlは、触媒形状を考慮し、傾斜板
1上部裏側の充填密度を高めるために、触媒粒径の0〜
6倍とすることが望ましい。
1上部裏側の充填密度を高めるために、触媒粒径の0〜
6倍とすることが望ましい。
ここで0倍というのは切欠き無しを意味し、傾斜板1の
裏側の充填密度が保てるような触媒形状の場合は、切欠
き無しで充分である。なお、上部を切欠くのは上記のよ
うに触媒の充填密度を高めるためであり、下部はこの下
部と管壁とでできる角度により触媒の落下速度を抑制す
るために切欠きは設けない。
裏側の充填密度が保てるような触媒形状の場合は、切欠
き無しで充分である。なお、上部を切欠くのは上記のよ
うに触媒の充填密度を高めるためであり、下部はこの下
部と管壁とでできる角度により触媒の落下速度を抑制す
るために切欠きは設けない。
また、傾斜板1の傾斜角度aは、上述のように反応管s
内を落下する触媒が必ず傾斜板1から1つ下の傾斜板1
に落下するような角度で、しかも触媒の性状によって落
下速度を抑制し、触媒破損を最小とし、充填密度を最適
とする角度、例えば45°≦a≦80°の範囲が適当で
あるが、これは、触媒の種類に応じ変えることができる
。
内を落下する触媒が必ず傾斜板1から1つ下の傾斜板1
に落下するような角度で、しかも触媒の性状によって落
下速度を抑制し、触媒破損を最小とし、充填密度を最適
とする角度、例えば45°≦a≦80°の範囲が適当で
あるが、これは、触媒の種類に応じ変えることができる
。
傾斜板1の取付はピッチPも、上述のように触媒が必ず
傾斜板1から1つ下の傾斜板1に落下する、すなわち直
下の傾斜板1をバイパスしないようなピッチで、しかも
触媒の落下速度を抑制し、充填密度を確保しうるピッチ
、例えばP−250〜1000霞とすることが望ましい
。
傾斜板1から1つ下の傾斜板1に落下する、すなわち直
下の傾斜板1をバイパスしないようなピッチで、しかも
触媒の落下速度を抑制し、充填密度を確保しうるピッチ
、例えばP−250〜1000霞とすることが望ましい
。
更に1傾斜板1と反応管3の隙間は、触媒がバイパスし
ない程度の大きさ、例えば2〜1〇−とすることが望ま
しい。
ない程度の大きさ、例えば2〜1〇−とすることが望ま
しい。
上記の傾斜板1としては、多孔板、金網、平板等が使用
でき、傾斜板取付は部材2としては、管、丸棒、角棒等
が使用できる。
でき、傾斜板取付は部材2としては、管、丸棒、角棒等
が使用できる。
本発明は、上記のような構成とすることにより、触媒が
反応管s内を落下するときに必ず傾斜板1から1つ下の
傾斜板1へ落下するため、触媒は他の構成部材とではな
く触媒と衝突したり接触摩擦を生じることが多くなる。
反応管s内を落下するときに必ず傾斜板1から1つ下の
傾斜板1へ落下するため、触媒は他の構成部材とではな
く触媒と衝突したり接触摩擦を生じることが多くなる。
同一落下速度において、触媒同志が衝突したシ摩擦して
生じる粉化け、触媒が他の構成部材(多くは金属)と衝
突したシ摩擦して生じる粉化に比し極めて少ない。従っ
て、本発明によれば触媒粉化を防止することができるの
である。
生じる粉化け、触媒が他の構成部材(多くは金属)と衝
突したシ摩擦して生じる粉化に比し極めて少ない。従っ
て、本発明によれば触媒粉化を防止することができるの
である。
また、本発明は、触媒形状に応じて傾斜板1の上部を切
欠くため、触媒の充填密度を確実なものとすることがで
きる。
欠くため、触媒の充填密度を確実なものとすることがで
きる。
第2図は、第1図に示す本発明の構成例を適用した装置
全体の構成を示す図で、第S図は、参考のために従来の
触媒充填反応装置の全体構成を示す図である。
全体の構成を示す図で、第S図は、参考のために従来の
触媒充填反応装置の全体構成を示す図である。
触媒の充填操作は、第1.2図に示す本発明の場合、第
3図に示す従来の場合のいずれにおいても、第3図に示
すように、上部チャンネル11より、下部チャンネル1
2に設けた触媒受7に向けて反応管s内に触媒を直接落
下させる。
3図に示す従来の場合のいずれにおいても、第3図に示
すように、上部チャンネル11より、下部チャンネル1
2に設けた触媒受7に向けて反応管s内に触媒を直接落
下させる。
なお、第2,5図中の5は反応器本体、6は管板を示し
ている。
ている。
第4図に、本発明に基いて1本の管について行なった充
填実験の結果を示す。実験は、次の要領で行った。反応
管(5イ/テ管)、傾斜板堰付管19mφ、触媒充填高
さ20溝の反応管内に、S■φ孔を三角ピッチに配置し
て穿孔した多孔板からなる傾斜板を、第1図の構成で全
長に取付ピッチ250−で配置した。直径5諺。
填実験の結果を示す。実験は、次の要領で行った。反応
管(5イ/テ管)、傾斜板堰付管19mφ、触媒充填高
さ20溝の反応管内に、S■φ孔を三角ピッチに配置し
て穿孔した多孔板からなる傾斜板を、第1図の構成で全
長に取付ピッチ250−で配置した。直径5諺。
長さ5mの円柱状の触媒と上部より一括供給し反応管内
に充填した。触媒充填後、上部より通気しく流速1.6
%/8)、反応管の圧力分布を測定した。また、反応管
内の触媒を2慣毎にサンプリングし、触媒の破損状態を
測定した。触媒破損率(5500μ鶴以下の割合)は、
第4図から゛明らかなように、反応管全長に対し大した
差が無く、落下速度抑制の効果が大きいことが判る。ま
た、圧力損失も小さく、第4図から明らかなように管全
長に対し変化がなく、これは、局部的目詰シが無いこと
を示している。
に充填した。触媒充填後、上部より通気しく流速1.6
%/8)、反応管の圧力分布を測定した。また、反応管
内の触媒を2慣毎にサンプリングし、触媒の破損状態を
測定した。触媒破損率(5500μ鶴以下の割合)は、
第4図から゛明らかなように、反応管全長に対し大した
差が無く、落下速度抑制の効果が大きいことが判る。ま
た、圧力損失も小さく、第4図から明らかなように管全
長に対し変化がなく、これは、局部的目詰シが無いこと
を示している。
第5図に、比較のために従来の反応管への充填実験の結
果を示す。第5図の実験は、管の長さが10mであるこ
とと傾斜板が無いことを除くと、第4図に於ける実験と
同じ条件で行った。
果を示す。第5図の実験は、管の長さが10mであるこ
とと傾斜板が無いことを除くと、第4図に於ける実験と
同じ条件で行った。
第5図より明らかなように、従来の反応管では、触媒破
損率が反応管下部に行くに従って増大しており、それに
起因して圧力損失も管の下部で急激に増大していること
が判る。
損率が反応管下部に行くに従って増大しており、それに
起因して圧力損失も管の下部で急激に増大していること
が判る。
本発明によれば、傾斜板によシ触媒の落下速度を緩和す
ることができるため、触媒の粉化を防止でき、層内の均
一な空間率を確保し、圧損を減少させることができる。
ることができるため、触媒の粉化を防止でき、層内の均
一な空間率を確保し、圧損を減少させることができる。
また、触媒の充填時間を短縮することができる。
第1図は本発明装置の構造例を示す図、第2図は第1図
に示す本発明装置の構成例を適用した反応装置全体の構
成を示す図、第5図は従来装置の全体構成を示す図、f
JC4図は本発明に基づく反応管への充填実験結果を示
す図、第5図は従来の反応管への充填実験結果を示す図
である。 第1図 (A) CB) 第4図 触媒破損率(四t%/2す 第5図 触媒破損率(wt%/2m)
に示す本発明装置の構成例を適用した反応装置全体の構
成を示す図、第5図は従来装置の全体構成を示す図、f
JC4図は本発明に基づく反応管への充填実験結果を示
す図、第5図は従来の反応管への充填実験結果を示す図
である。 第1図 (A) CB) 第4図 触媒破損率(四t%/2す 第5図 触媒破損率(wt%/2m)
Claims (1)
- 反応管内に、長手方向に所定の間隔で交互に互いに傾斜
を逆にする傾斜板を設けたことを特徴とする傾斜板式触
媒充填反応装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26566786A JPH0638905B2 (ja) | 1986-11-10 | 1986-11-10 | 傾斜板式触媒充填反応装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26566786A JPH0638905B2 (ja) | 1986-11-10 | 1986-11-10 | 傾斜板式触媒充填反応装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63119842A true JPS63119842A (ja) | 1988-05-24 |
JPH0638905B2 JPH0638905B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=17420313
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26566786A Expired - Lifetime JPH0638905B2 (ja) | 1986-11-10 | 1986-11-10 | 傾斜板式触媒充填反応装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0638905B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102601838B1 (ko) * | 2019-04-22 | 2023-11-14 | 주식회사 엘지화학 | 촉매 입자 공급 장치 |
-
1986
- 1986-11-10 JP JP26566786A patent/JPH0638905B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0638905B2 (ja) | 1994-05-25 |
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Legal Events
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