JPS6294270A - Abrasive tape - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To minimize number of flaws formed on the surface of a magnetic head, when polished, by providing an electric conductive layer, which is adapted to release static electricity, over the whole of one surface of a non-magnetic supporting member, and forming an abrasive layer on the above layer. CONSTITUTION:For releasing a static electricity generated on an abrasive tape, an electric conductive layer 2 is provided between a supporting member 1 and an abrasive member 3, while the static electricity, which is generated by the sliding motion of the abrasive tape against a magnetic head 4, is released through the electric conductive layer 2 for minimizing the possibility that dusts mill adhere to the abrasive layer 3, to avoid the generation of flaws on the tape sliding face of the magnetic head 4.

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録再生装置の磁気ヘッドの研磨に用いる
研１窮テープに関し、とくにビデオ用あるいは高級オー
ディオ用の磁気ヘッドの平滑仕上に用いる研磨テープに
関するものである。Detailed Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a polishing tape used for polishing a magnetic head of a magnetic recording/reproducing device, and in particular to a polishing tape used for smoothing a magnetic head for video or high-end audio. It's about tape.

（従来技術） ビデオ用あるいは高級オーディオ用磁気ヘッド等はテー
プ１習動面の平滑性がとくに要求されるため、一般に磁
気ヘッドを製作する際粗削りの後研磨テープを用いてテ
ープ摺動面を平滑に仕上げている。このような研磨テー
プは可撓性を有する非磁性支持体上に微細な研磨粒子等
を結合剤により接着したものであるから磁気ヘッドのテ
ープ接触面の曲面形状になじんでこの面をｆ＃密に研磨
仕上することができる。(Prior art) Magnetic heads for video or high-end audio require smoothness of the sliding surface of the tape, so generally when manufacturing a magnetic head, a polishing tape is used to smooth the sliding surface of the tape after rough cutting. It is being completed. This kind of abrasive tape is made by bonding fine abrasive particles etc. onto a flexible non-magnetic support using a binder, so it adapts to the curved shape of the tape contact surface of the magnetic head, making this surface close to f#. Can be polished to a finish.

しかしながら、このような研磨テープでは磁気ヘッドを
長時間摺動されることにより静電気が発生し、空気中に
浮遊するシリカ等の塵埃がテープ表面に付着するためこ
の研磨テープと磁気ヘッドとの間にはさまった塵埃が磁
気ヘッドのテープ１習動面を傷つけるという問題があっ
た。とくに温度が低いときは大きな静電気が発生し上記
問題は深刻なものとなっていた。However, with such abrasive tapes, static electricity is generated when the magnetic head is slid over a long period of time, and dust such as silica floating in the air adheres to the tape surface, causing a gap between the abrasive tape and the magnetic head. There is a problem in that the trapped dust damages the tape 1 driving surface of the magnetic head. Particularly when the temperature is low, a large amount of static electricity is generated, making the above problem even more serious.

（発明の目的） 本発明は上記問題を解決するためになされたものであり
、静電気による塵埃付着を回避して、磁気ヘッドのテー
プ１習動面を傷つけることなく磁気ヘッドを研磨し得る
研磨テープを提供することを目的とするものである。(Object of the Invention) The present invention has been made to solve the above problems, and provides an abrasive tape capable of polishing a magnetic head without damaging the driving surface of the tape 1 of the magnetic head while avoiding dust adhesion due to static electricity. The purpose is to provide the following.

（発明の構成） 本発明の研磨テープは、可撓性を有する非磁性支持体の
少なくとも片面全面に、静電気を逃がす導電層を形成し
、その上に磁気ヘッドを研磨するための研磨剤を含む研
磨層を形成してなることを特徴とするものである。(Structure of the Invention) The polishing tape of the present invention includes a conductive layer for dissipating static electricity formed on at least one entire surface of a flexible non-magnetic support, and an abrasive for polishing a magnetic head on the conductive layer. It is characterized by forming a polishing layer.

上記研磨テープは、いわゆるテープ形状のもののほか、
広くディスク形状あるいはシート形状のものも含むもの
とする。In addition to the so-called tape-shaped polishing tape,
It broadly includes disc-shaped or sheet-shaped ones.

なお、上記導Ｎ層は例えばポリカチオン系樹脂あるいは
第４仮アンモニウムｊ福樹脂等の導電性樹り旨により形
成される。The conductive N layer is formed of a conductive resin such as polycationic resin or quaternary ammonium resin.

（発明の効果） 本発明の研磨テープによれば、磁気ヘットとテープとの
摺動により発生した静電気を導電層により逃がすことか
できるから、塵埃の多い環境においてもこれらの塵埃か
テープ表面に引きよせられることはない。これにより、
従来テープ表面に付着した塵埃がテープと磁気ヘッドと
の間に侠まるごとによりつけられていたヘッド面の傷を
憧めて少なくすることができる。(Effects of the Invention) According to the abrasive tape of the present invention, static electricity generated by sliding between the magnetic head and the tape can be dissipated through the conductive layer, so even in a dusty environment, this dust is not attracted to the tape surface. You won't be turned away. This results in
It is possible to greatly reduce scratches on the head surface, which were conventionally caused by dust adhering to the tape surface and moving between the tape and the magnetic head.

（実施態様） 以上、本発明の実＃ｆＡ態様について詳細に説明する。(Embodiment) The actual #fA aspect of the present invention will now be described in detail.

本発明の実施態様による研磨テープは第１図に示すよう
に、可撓性を有する非磁性支持体１と、この支持体１上
に形成された導電層２と、この導電層２上に形成された
研磨層３から構成されている。導電層２はポリカチオン
系樹脂あるいは第４級アンモニウム塩樹脂等の導電性樹
脂を含んだもので形成されている。また、研磨層３は、
ω１磨剤。As shown in FIG. 1, the polishing tape according to the embodiment of the present invention includes a flexible non-magnetic support 1, a conductive layer 2 formed on the support 1, and a conductive layer 2 formed on the conductive layer 2. The polishing layer 3 is made up of a polished polishing layer 3. The conductive layer 2 is formed of a material containing a conductive resin such as a polycationic resin or a quaternary ammonium salt resin. Moreover, the polishing layer 3 is
ω1 polishing agent.

結合剤（バインダー）とＴＪ１滑剤を混練して形成した
ものである。この研磨剤はＯｒ　ｚ　０３　、　Ａ９Ｊ
ｚ０３　、Ｓ！　Ｃ等のモース硬度８以上の大きい硬度
を有するもので形成されている。上記結合剤は研磨剤を
支持体１に結着させるもので、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体、ニトロセルロース、エポキシ樹脂、イソシアネ
ー１〜化合物、ポリアミドおよびこれらを混合したもの
等が好適なものとして使用される。また、潤滑剤はシリ
コンオイル等からなる。It is formed by kneading a binder and TJ1 lubricant. This abrasive is Or z 03, A9J
z03, S! It is made of a material having a high hardness of 8 or more on the Mohs hardness scale, such as C. The binder binds the abrasive to the support 1, and includes vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic acid copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, Suitable examples include nitrocellulose, epoxy resin, isocyanate 1-compounds, polyamide, and mixtures thereof. Further, the lubricant is made of silicone oil or the like.

磁気ヘッド４のテープ摺動面を研磨する際は、磁気ヘッ
ド４を挾む２つの位置に配されたリール（図示されてい
ない）の一方から使方へこの研磨テープを定速で走行さ
せ、磁気ヘッド４に研磨層３を（昼勤させる。このとぎ
研磨層３表面から突出した硬い研磨剤により、磁気ヘッ
ド４のテープ摺動面が平滑に研＠される。この研磨剤は
その目的に応じて粒子径を調節すればよく、例えば粗仕
上であ机ば１６μＴｒＬ〜１μｍ程度、最終仕上であれ
ば１μｍ〜０．３μ而程度とすればよい。When polishing the tape sliding surface of the magnetic head 4, the polishing tape is run at a constant speed from one side of the reel (not shown) placed at two positions sandwiching the magnetic head 4. The polishing layer 3 is applied to the magnetic head 4 during daytime. The hard polishing agent protruding from the surface of the polishing layer 3 polishes the tape sliding surface of the magnetic head 4 smoothly. This polishing agent is used for the purpose. The particle size may be adjusted accordingly; for example, for a rough finish, it may be about 16 μTrL to 1 μm, and for a final finish, it may be about 1 μm to 0.3 μm.

ところで上述したように磁気ヘッド４と研磨テープは一
定時間に亘って摺動されるため、この研磨テープには静
電気が発生し、この静電気が除去されない場合にはテー
プ表面にシリカ等の空気中に浮遊する塵埃が付着する。By the way, as mentioned above, since the magnetic head 4 and the polishing tape slide for a certain period of time, static electricity is generated on the polishing tape, and if this static electricity is not removed, silica etc. will be deposited in the air on the tape surface. Floating dust adheres.

このようなｊｙ埃かテープ表面に何着すると、この塵埃
が磁気ヘッド４と研磨テープの間に挾まりこのテープが
動くにしたがって磁気ヘッド表面に傷がつけられ、磁気
ヘッドの特性は劣化する。When such dust settles on the tape surface, it gets caught between the magnetic head 4 and the abrasive tape, and as the tape moves, the surface of the magnetic head is scratched and the characteristics of the magnetic head are deteriorated.

そこで、本発明にあいでは研Ｉ暑テープに生じた静電気
を逃がすため第１図および第２図に示すように支持体１
の研磨層３との間に導電層２を設Ｃブている。第２図か
られかるように、本実施態様の研磨テープは支持体１．
研磨層３がそれぞれ約３８μｍ、　１０μｍの厚さを有
するにうに形成されており、これら両者に挾まれた導電
層２は約１．５μｍの比較的うすい層で形成されている
。しかし、ここに示す各層の厚みは代表例であって必ず
しもこれに限られるものではない。本発明の研磨テープ
はこの導電層２により上記静電気を逃がすことができる
ので研磨層３に塵埃が付着する虞れが小さく、したがっ
て磁気ヘッドのテープ摺動面にはほとんど傷がつかない
。Therefore, in the present invention, in order to release the static electricity generated in the heat tape, a support 1 is used as shown in FIGS. 1 and 2.
A conductive layer 2 is provided between the polishing layer 3 and the polishing layer 3. As can be seen from FIG. 2, the abrasive tape of this embodiment has a support 1.
The polishing layer 3 is formed to have a thickness of about 38 μm and 10 μm, respectively, and the conductive layer 2 sandwiched between these layers is formed as a relatively thin layer of about 1.5 μm. However, the thickness of each layer shown here is a typical example and is not necessarily limited to this. Since the abrasive tape of the present invention can dissipate the static electricity through the conductive layer 2, there is little risk of dust adhering to the abrasive layer 3, and therefore the tape sliding surface of the magnetic head is hardly scratched.

なお、上記非磁性支持体１としては例えばポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート
が用いられる。Incidentally, as the non-magnetic support 1, for example, polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate is used.

なお、前述した導電性樹脂に代え、界面活性剤（たとえ
ばカチオン系）とプラスチック樹脂との混合物により導
電層２を形成してもよい。Note that the conductive layer 2 may be formed of a mixture of a surfactant (for example, cationic) and a plastic resin instead of the conductive resin described above.

次に実施例を挙げて説明する。Next, an example will be given and explained.

実施例 厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
支持体上に、ポリカチオン系樹脂もしくは第４＠アンモ
ニウム塩樹脂からなる導電層を１．５μ瓦の厚さにて形
成し、ざらにその上に下記の塗布組成の混合液を３８μ
ｍの厚さで塗布して研磨テープ１を作った。なお、以下
の説明において部はすべて重量部を示す。Example Polyethylene terephthalate (PET) with a thickness of 38 μm
A conductive layer made of a polycationic resin or a quaternary ammonium salt resin is formed on the support to a thickness of 1.5 μm, and a 38 μm layer of a mixed solution having the following coating composition is roughly applied on top of the conductive layer.
A polishing tape 1 was prepared by applying the polishing tape to a thickness of m. In the following description, all parts indicate parts by weight.

塗布液組成 ・Ｃｒ　２０３　　　　　　　　　　　　　　””　３
００部・塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体・・・４
６．４部（共重合比＝７：３、重合度＝　４００）・エ
ポキシ樹脂　　　　　　　　　　・・・・・・２８．３
部（ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンの反応生成
物、分子量−９００、エポキシ当量＝４６０〜５２０１
水酸基含有量−０，２９％、Ｃｈｅｌｌ　　Ｑｉｌ　　
Ｃｏ、　　エピコート１００１）・シリコンオイル　　
　　　　　　　・・・・・・１．０部（ジメチルポリシ
クロキサン） ・イソシアネート化合物　　　　　　・・・・・・５．
６部（アモルの２，４−トリレンジイソシアネート化合
物と１モルのトリメチロールプロパンの反応生成物の７
５重量％酢酸エチル溶液ＢａＶｅｒＡ、　Ｇ、の［）ｅ
ｓｍｏｄｕｒ　Ｌ　−７５＞・酢酸ブチル　　　　　　
　　　　　・・・・・・８００部比較例 上記実施例に対する比較例として上記実施例と略同様の
支持体上に、上記実施例と略同様の塗布組成の混合液を
直接塗布して研磨テープ２を作った。支持体と塗布層の
厚さは実施例と等しい厚さで形成した。すなわち、この
研磨テープ２は研磨テープ１から導電層を除去したもの
である。なお、本比較例は、特開昭５３−１０２０１７
＠公報に開示されたサンプノいα４１と同様のものであ
る。Coating liquid composition: Cr 203 ”” 3
00 parts Vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer...4
6.4 parts (copolymerization ratio = 7:3, degree of polymerization = 400) Epoxy resin 28.3
parts (reaction product of bisphenol A and epichlorohydrin, molecular weight -900, epoxy equivalent = 460-5201
Hydroxyl group content -0.29%, Chell Qil
Co, Epicoat 1001) Silicone oil
...1.0 part (dimethylpolycycloxane) - Isocyanate compound ...5.
6 parts (7 parts of the reaction product of a mole of 2,4-tolylene diisocyanate compound and 1 mole of trimethylolpropane)
5 wt% ethyl acetate solution BaVerA, G, [)e
smodur L-75>・Butyl acetate
800 parts Comparative Example As a comparative example to the above example, a polishing tape 2 was prepared by directly applying a liquid mixture having substantially the same coating composition as that of the above example onto a support substantially similar to that of the above example. Had made. The thickness of the support and the coating layer were the same as in the example. That is, this polishing tape 2 is obtained by removing the conductive layer from the polishing tape 1. Note that this comparative example is based on Japanese Patent Application Laid-Open No. 53-102017.
It is similar to the Sanpuno α41 disclosed in the @ publication.

以上の実施例と比較例の各研磨テープによりフェライト
ヘッドの研磨仕上を行ない、その債のフェライトヘッド
表面の傷を調べた。その際、研磨時におけるフェライト
ヘッドの置かれた雰囲気中の湿度を１０％、　４０％、
７０％、　９０％と変化させ、それぞれの場合について
調べた。なお、気温は２３℃の一定温度に保った。その
結果を下表に示す。Ferrite heads were polished using the polishing tapes of the above Examples and Comparative Examples, and scratches on the surfaces of the ferrite heads were examined. At that time, the humidity in the atmosphere in which the ferrite head was placed during polishing was adjusted to 10%, 40%,
The ratio was varied to 70% and 90%, and each case was investigated. Note that the air temperature was kept constant at 23°C. The results are shown in the table below.

上表かられかるように、本実施例により磁気ヘッド表面
を研磨した際に表面につく傷の数を極めて少なくするこ
とができる。そして、この効果は低湿環境下においてと
くに顕著である。As can be seen from the above table, according to this example, the number of scratches on the magnetic head surface can be extremely reduced when the surface is polished. This effect is particularly noticeable in a low humidity environment.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第１図は磁気ヘッドの研磨時における、本発明の一実施
態様による研磨テープの断面図であり、第２図は第１図
の研磨テープの一部を拡大して示す断面図である。 １・・・非磁性支持体（ＰＥＴ） ２・・・導　電　層　　　３・・・塗布層（研磨層）４
・・・磁気ヘッド 第１図 第２図 （自　発）手続ネｆＪｉ　Ｊ、Ｅ書 特許庁長官　殿　　　　　　　　　　　昭和６１年１月
９日１、事件の表示 研磨テープ ３、補正をする者 事件との関係　　　　　特許出願人 任　所　　　神奈川県南足柄市中沼２１０番地名　称　
　　　富士写真フィルム株式会社４、代理人 東京都港区六本木５丁目２番１号 ６、補正により増加する発明の数　　　な　　し７、補
正の対象　　　明細書の「発明の詳細な説明」の欄８、
補正の内容 １）明細書第３頁第２行 「湿度」を「湿度」と訂正する。 ２）同第６頁第３行FIG. 1 is a sectional view of an abrasive tape according to an embodiment of the present invention during polishing of a magnetic head, and FIG. 2 is an enlarged sectional view of a part of the abrasive tape of FIG. 1. 1... Nonmagnetic support (PET) 2... Conductive layer 3... Coating layer (polishing layer) 4
...Magnetic Head Figure 1 Figure 2 (Voluntary) Procedure Nef Ji J, E, Commissioner of the Patent Office, January 9, 1986 1. Indication of the case Polishing tape 3. Person making the amendment Relationship with the case Patent applicant address: 210 Nakanuma, Minamiashigara City, Kanagawa Prefecture Name:
Fuji Photo Film Co., Ltd. 4, Agent 5-2-1-6 Roppongi, Minato-ku, Tokyo Number of inventions to be increased by the amendment None 7 Subject of the amendment ``Detailed description of the invention'' column 8 of the specification;
Contents of the amendment 1) "Humidity" in the second line of page 3 of the specification is corrected to "humidity". 2) Page 6, line 3

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）可撓性を有する非磁性支持体の少なくとも片面全
面に、導電層および研磨層がこの順に積層されてなるこ
とを特徴とする研磨テープ。(1) A polishing tape characterized in that a conductive layer and a polishing layer are laminated in this order on at least one entire surface of a flexible non-magnetic support. （２）前記導電層が、ポリカチオン系樹脂および第４級
アンモニウム塩樹脂の少なくとも１種からなる導電性樹
脂を含み、前記研磨層がモース硬度８以上の研磨粒子を
含むことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の研磨
テープ。(2) A patent characterized in that the conductive layer contains a conductive resin made of at least one of a polycationic resin and a quaternary ammonium salt resin, and the polishing layer contains polishing particles having a Mohs hardness of 8 or more. An abrasive tape according to claim 1.