JPS6268260A - Production control device - Google Patents
Production control deviceInfo
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- JPS6268260A JPS6268260A JP60206429A JP20642985A JPS6268260A JP S6268260 A JPS6268260 A JP S6268260A JP 60206429 A JP60206429 A JP 60206429A JP 20642985 A JP20642985 A JP 20642985A JP S6268260 A JPS6268260 A JP S6268260A
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- Japan
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- production
- progress
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- wafer
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Landscapes
- Multi-Process Working Machines And Systems (AREA)
- General Factory Administration (AREA)
- Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、生産制御技術、特に、多品種生産を制御する
技術に関し、例えば、半導体装置の製造に利用して有効
な技術に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to production control technology, particularly to technology for controlling multi-product production, and for example, to technology that is effective when used in the manufacture of semiconductor devices.
半導体装置の製造は多数の種類の製品を対象とし、しか
も、各品種が経る工程の組合せおよび順序が同一でなく
、生産管理が複雑になるため、コンピュータ等を利用し
て、各製品別の納期や進度状況等を把握し、定期的に各
１″！品別に各工程での処理開始時期（または完成時期
）や、送り先を指示する生産制御システムが採用されて
いる。Semiconductor device manufacturing targets many types of products, and the combination and order of processes that each product goes through is not the same, making production management complicated. A production control system has been adopted that monitors the process and progress of each product and periodically instructs the start time (or completion time) of each process for each item and the destination.
しかし、このような生産制御システムにおいては、生産
実績の遅れや歩溜りの変更等の発見が事後的になり、ま
た、発見後の挽回生産における対策が単純な増産処置し
か講じられないため、生産計画を完遂することができな
い場合が発生するという問題点があることが、本発明者
によって明らかにされた。However, in such a production control system, delays in production results or changes in yield are discovered after the fact, and the only countermeasures for recovery production after discovery are simple measures to increase production. The inventor of the present invention has revealed that there is a problem in that there are cases where the plan cannot be completed.
なお、多品種製品生産制御技術を述べである例としては
、特開昭５６−１１４６５０号公報および特開昭５５−
１６１７０１号公報がある。Examples of multi-product product production control technology include JP-A-56-114650 and JP-A-55-
There is a publication No. 161701.
本発明の目的は、生産計画を完遂させることができる生
産制御技術を提供することにある。An object of the present invention is to provide a production control technology that can complete a production plan.
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本別において開示される発明のうち代表的なものの梃要
を簡単に説明すれば、次の通りである。A brief explanation of the main features of typical inventions disclosed in this publication is as follows.
現在の生産状況から予測した生産実績と、予め計画され
た実績とを照合することによって、生産進行の度合を各
品種のそれぞれにつき各工程毎に判定し、この判定結果
を各品種および各工程相互について比較することによっ
て次段階の生産の優先順位を決定するとともに、生産の
進行を指示することによって、生産制御を各品種および
各工程毎に随時的に行わせ、生産の修正が生産遅れ等に
対して事前的に行うのと均等になるようにしたものであ
る。By comparing the production results predicted from the current production status with the previously planned results, the degree of production progress is judged for each process for each product type, and the results of this judgment are compared to each product type and each process. By comparing the values, the priority order for the next stage of production is determined, and by instructing the progress of production, production control can be performed as needed for each product type and each process, and production corrections can be made to prevent production delays. This is equivalent to doing it in advance.
第１図は本発明の一実施例である生産制御システムを示
す模式図、第２図はその作用を説明するための工程図、
第３図は同じく線図である。Fig. 1 is a schematic diagram showing a production control system which is an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a process diagram for explaining its operation,
FIG. 3 is also a diagram.
本実施例において、生産制御装置はコンピュータ等を用
いて構成されており、半導体装置の製造工場において、
多品種のウェハを製造するのを制御するものとして構成
されている。In this embodiment, the production control device is configured using a computer, etc., and in a semiconductor device manufacturing factory,
It is configured to control the manufacturing of various types of wafers.
ところで、ウェハはリソグラフィ一工程、拡散工程、蒸
着工程等のような複数種類のプロセスを何回も繰り返し
て、しかも、各段階で処理条件を変更調整されて製造さ
れる。また、異品種ウェハ相互間では処理条件が相違す
ることは勿論、プロセスの順序、組合せも相違すること
がある。By the way, wafers are manufactured by repeating multiple types of processes, such as a lithography process, a diffusion process, a vapor deposition process, etc., many times, and changing and adjusting the processing conditions at each stage. Further, not only the processing conditions may differ between wafers of different types, but also the order and combination of processes may differ.
そこで、説明を簡単にするため、互いに品種の異なる３
種類の第１〜第３ウェハｘ、ｙ、ｚが第２図に示されて
いるようなプロセス、工程順序および組合せによって生
産される場合を例として説明する。Therefore, in order to simplify the explanation, we will introduce three different types of
An example will be described in which the first to third types of wafers x, y, and z are produced by the process, step order, and combination shown in FIG.
なお、第２図中、Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄは各種プロセス（以下
、。Ａプロセス、Ｂプロセス・・・という）、Ａｉ、Ａ
２、Ａ３ ・・・は条件の異なる処理を行う処理部（
以下、ＡＩ処理部、Ａ２処理部・・・という。）をそれ
ぞれ水している。In Fig. 2, A, B, C, and D are various processes (hereinafter referred to as A process, B process, etc.), Ai, A
2, A3... is a processing unit (
Hereinafter, they will be referred to as the AI processing section, the A2 processing section, and so on. ) are watered respectively.
生産制御装置は、生産計画記憶手段としての記憶部ｌと
、生産実績予測手段としての予測部２と、生産進行度合
を判定する手段としての判定部３と、優先順位を決定し
指示する手段としての指令部４と、各プロセスを移行す
る時のウェハを数えて予測部２に報告するカウンタ５ａ
〜５ｄと、各処理部の単位期間当たりの処理ウェハ枚数
（以下、処理能力という。）および予想歩溜り等を予測
部２に報告する予測データ部６と、優先度を記録してお
き指令部４にそれを与える優先度設定部７と、指令部４
からの指令に基づ−いてウェハを移送する移送装置８と
、プロセス相互を移送する際に一時的にウェハを保管す
る保管部９と、これらを統括制御する中央処理ユニット
１０とを備えており、これらは後述する作用を実現する
ように構成されている。The production control device includes a storage section 1 as a production plan storage means, a prediction section 2 as a production performance prediction means, a determination section 3 as a means for determining the degree of production progress, and a means for determining and instructing priorities. a command unit 4, and a counter 5a that counts wafers when transferring each process and reports it to the prediction unit 2.
~5d, a prediction data unit 6 that reports the number of wafers processed per unit period (hereinafter referred to as processing capacity) and expected yield of each processing unit to the prediction unit 2, and a command unit that records priorities. a priority setting unit 7 that gives it to 4, and a command unit 4
It is equipped with a transfer device 8 that transfers wafers based on instructions from the process, a storage section 9 that temporarily stores wafers when transferring between processes, and a central processing unit 10 that centrally controls these. , these are configured to realize the functions described below.
次に作用を説明する。Next, the action will be explained.
予め、受注や販売計画等により立てられた各品種のウェ
ハｘ、ｙ、ｚに関する特定期間の生産計画が記憶部１に
適当な手段により記憶される。本実施例においては、あ
る同一期日における生産累計数がウェハＸ、Ｙ、、Ｚ共
に１００枚と、計画されているものとする。A production plan for a specific period for each type of wafer x, y, z, which is established in advance based on orders, sales plans, etc., is stored in the storage unit 1 by appropriate means. In this embodiment, it is assumed that the cumulative production number of wafers X, Y, and Z is planned to be 100 on a certain date.
生産中、各カウンタ５ａ〜５ｄは各Ａ〜Ｄプロセスを移
行するウェハＸ、Ｙ、Ｚの枚数を計数してそれらを予測
部２に適宜報告する。During production, each of the counters 5a to 5d counts the number of wafers X, Y, and Z undergoing each of the processes A to D, and reports them to the prediction unit 2 as appropriate.
予測部２は各カウンタ５ａ〜５ｄの仰告に基づき、各ウ
ェハＸ１Ｙ、、Ｚについての各Ａ−Ｄプロセスにおける
仕掛り枚数、並びに、各Ａ１〜Ｄ４処理部においてこれ
から処理すべきウェハ枚数を計算する。The prediction unit 2 calculates the number of wafers in progress in each A-D process for each wafer X1Y, . do.
さらに、予測部２は予測データ部６からウェハｘ、ｙ、
ｚがこれから通る各プロセスにおける処理部の処理能力
や予想歩溜り等に関する予漕１に必要なデータを取得し
、現在の生産実績状況のままで生産を継続したと仮定し
た場合の最終工程を経る時の生産累計を各プロセス毎に
予測する。この予測結果は生産進行度合判定部３に送ら
れる。Further, the prediction unit 2 uses the prediction data unit 6 to determine whether the wafers x, y,
Obtain the data necessary for pre-processing 1 regarding the processing capacity of the processing section, expected yield, etc. for each process that z will go through from now on, and go through the final process assuming that production continues with the current production performance status. Predict the cumulative production time for each process. This prediction result is sent to the production progress determination section 3.
例えば、Ａプロセスについての予測結果が、第１ウエハ
Ｘが９５枚、第２ウエハＹが１００枚、第３ウエハＺが
１１０枚、の如きである。For example, the prediction result for process A is 95 first wafers X, 100 second wafers Y, and 110 third wafers Z.
生産進行度合判定部３は計画記憶部１からの計画実績と
、予測部２からの前記予測実績とを照合することにより
、各ウェハＸＳＹ、、Ｚのそれぞれについて各Ａ、Ｂ、
Ｃ，Ｄプロセス毎の現在の生産進行状況を示す相対的な
進行度合を判定する。The production progress determination unit 3 compares the planned performance from the plan storage unit 1 with the predicted performance from the prediction unit 2, thereby determining each of the wafers A, B, B, and
The relative progress indicating the current production progress status of each process C and D is determined.
この結果は優先順位指令部４に送られる。This result is sent to the priority command unit 4.
この進行度合を示すものとしては、例えば、次式（１）
で示される指数が考えられる。（１）式中、Ｐは計画実
績、Ｑは予測実績、Ｒは生産進行指数とする。For example, the following formula (1) indicates the degree of progress:
The following index can be considered. (1) In the formula, P is the planned actual performance, Q is the predicted actual performance, and R is the production progress index.
Ｒ＝Ｑ／Ｐ・・・（１）
ちなみに、前記計画および予測例を当てはめると、プロ
セスＡにおける指数は、ウェハＸについてＲｘａ＝９５
／１００＝０．９５、第２ウエハＹについてＲｙａ＝１
００／１００＝１、第３ウエハＺについてＲｚａ＝１１
０／１ｏｏ＝１．１、の如きになる。R=Q/P...(1) By the way, applying the above plan and prediction example, the index in process A is Rxa=95 for wafer
/100=0.95, Rya=1 for second wafer Y
00/100=1, Rza=11 for third wafer Z
0/1oo=1.1.
優先順位指令部４は生産進行状況判定部３からの各指数
を、各ウェハｘ、ｙ、ｚのそれぞれについて各ＡＳＢ、
Ｃ，Ｄ、プロセス毎に比較することによって生産の優先
順位を決定し、以後の生産進行を移送装置ｔ８に指示す
る。The priority command unit 4 assigns each index from the production progress determination unit 3 to each ASB,
By comparing C, D, and each process, the priority of production is determined, and the subsequent progress of production is instructed to the transfer device t8.
例えば、Ａプロセスにおける各ウェハＸ、Ｙ、Ｚの指数
を単純に比較すれば、Ｒｘａ＜ＲｙａくＲｚａ、となり
、第１ウエハＸの生産が一番遅れているため、第１ウエ
ハＸが第１順位、第２ウエハＹが第２順位、第３ウエハ
Ｚが第３ｊｌｌＴ位とされることになる。For example, if we simply compare the indices of each wafer The second wafer Y is ranked second, and the third wafer Z is ranked third jllT.
ところが、このような進行状況指数相互の単純な比較だ
けでは生産の実情に妥当しない場合がある。その要因と
なる一例としては次のものが考えられる。However, such a simple comparison of progress indicators may not be appropriate to the actual state of production. The following can be considered as an example of the cause.
生産計画に急な変更があった場合。予想歩溜りと現実の
歩溜りとの間に予想外の変動が生じた場合。製造装置に
故障や保守点検等のような稼働停止期間が入る場合。If there is a sudden change in the production plan. When an unexpected change occurs between the expected yield and the actual yield. When manufacturing equipment undergoes a period of outage due to breakdowns, maintenance, etc.
そこで、このような点を考慮して優先度を設定しておき
、優先順位を決定する際に重み付けをして生産の実情に
妥当するような決定を行うことが望ましい。Therefore, it is desirable to set priorities in consideration of these points, and to weight them when determining the priorities so as to make decisions that are appropriate to the actual production situation.
例えば、Ｂプロセスにおいて、Ｂ４処理部に歩留りの悪
化があった場合、第３ウエハＺの順位が第２ウエハＹよ
りも繰り上がるような優先度を設定しておく。For example, in the B process, if there is a deterioration in yield in the B4 processing section, a priority is set such that the third wafer Z is moved up in rank over the second wafer Y.
移送装置８は指令部４からの指示に従って保管部９から
第１１［位のウェハＸをＣプロセスに移送し、また、第
２順位のウェハＺをＢプロセスに移送する。The transfer device 8 transfers the 11th wafer X from the storage unit 9 to the C process and also transfers the second wafer Z to the B process according to instructions from the command unit 4.
以後、生産は各ウェハのそれぞれについて各プロセス毎
に優先順位を決定しつつ連続的に実施されて行く。つま
り、生産制御は、第３図に示されているように各プロセ
ス毎に行われるため、生産修正が生産遅れ等に対して事
前的に行われるのと均等になる。Thereafter, production is carried out continuously while determining priorities for each process for each wafer. In other words, since production control is performed for each process as shown in FIG. 3, it is equivalent to making production corrections in advance for production delays and the like.
第３図において、実線直線は生産の進行の理想を示すも
のであり、破線曲線は本実施例にかかる生産制御による
生産進行を示すものである。In FIG. 3, the solid straight line represents the ideal progress of production, and the broken line curve represents the progress of production under the production control according to this embodiment.
第３図から明らかなように、本実施例によれば、生産を
理想直線に略沿って進行させることができる。As is clear from FIG. 3, according to this embodiment, production can proceed approximately along the ideal straight line.
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に服定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples above, the present invention is not limited to the Examples, and it should be noted that various changes can be made without departing from the gist of the invention. Not even.
例えば、生産実績予測手段は、各工程についてこれから
処理すべき製品の数量と、以後に経る工程における生産
能力および予想歩溜りに基づいて員終丁程における生産
実績を予測するに限らず、過去（例えば、一単位期間前
）の現実の実績によって予測するようにしてもよい。For example, the production performance prediction means not only predicts the production performance at the end of the production process based on the quantity of products to be processed from now on for each process, the production capacity and expected yield in subsequent processes, but also predicts the production performance in the past ( For example, the prediction may be made based on actual results one unit period ago).
優先順位を決定するに際して優先度を考慮するように構
成するに限らず、生産実績予測手段において生産の実情
が十分に加味されている場合等にむいては、これを省略
してもよい。The configuration is not limited to considering the priorities when determining the priorities, but this may be omitted in cases where the actual production situation is sufficiently taken into account in the production performance prediction means.
＋１１ 現在の生産状況から予測した生産実績と、予
め計画された実績とを照合することによって、生産の進
行の度合を各品種のそれぞれにつき各工程毎に判定し、
この判定結果を各品種および各工程相互について比較す
ることによって次段階の生産の優先順位を決定するとと
もに、生産の進行を指示することにより、生産制御を各
品種および各工程毎に随時的に行わせることができるた
め、生産の修正を生産遅れ等に対して事前的に行わせる
ことができ、生産計画を確実に達成させることができる
。+11 By comparing the production results predicted from the current production status with the previously planned results, the degree of production progress is determined for each process for each product type.
By comparing the judgment results for each product type and each process, the priority order for the next stage of production is determined, and by instructing the progress of production, production control is performed for each product type and each process as needed. Therefore, production corrections can be made in advance in response to production delays, etc., and the production plan can be reliably achieved.
（２）生産制御を各品種および各工程毎に随時的に行わ
せることにより、生産計画の変更、不良率の変化、製造
装置の故障等のような生産条件の変動に即応することが
できる。(2) By performing production control on an as-needed basis for each product and each process, it is possible to immediately respond to changes in production conditions such as changes in production plans, changes in defect rate, failures in manufacturing equipment, etc.
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるウェハの生産を制御
するのに適用した場合について説明したが、それに限定
されるものではなく、他の製品の生産制御、特に、他品
種を継続的に生産する場合に通用して優れた効果が得ら
れる。In the above explanation, the invention made by the present inventor was mainly applied to the application field of controlling the production of wafers, which is the background field of application, but it is not limited to this, and the invention is applied to the application of the invention to control the production of wafers. Excellent effects can be obtained for production control, especially when producing different types of products continuously.
第１図は本発明の一実施例である生産制御装置を示す模
式図、
第２図はその作用を説明するための工程図、第３図は同
じ（線図である。
Ｘ、Ｙ、Ｚ・・・ウェハ、ＡＳＢ、Ｃ，Ｄ・・・プロセ
ス、Ａ１〜Ｄ４・・・処理部、１・・・生産計画記憶部
、２・・・生産実績予測部、３・・・生産進行度合判定
部、４・・・優先順位指令部、５ｄ〜５ｄ・・・カウン
タ、６・・・予測データ部、７・・・優先度設定部、８
・・・移送装置、９・ ・保管部、１０・・・中央処理
ユニッ第 １ 図Fig. 1 is a schematic diagram showing a production control device that is an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a process diagram for explaining its operation, and Fig. 3 is the same (line diagram). ...Wafer, ASB, C, D...Process, A1-D4...Processing section, 1...Production plan storage section, 2...Production performance prediction section, 3...Production progress determination Part, 4... Priority order command part, 5d-5d... Counter, 6... Prediction data part, 7... Priority setting part, 8
...Transfer device, 9. -Storage section, 10...Central processing unit Fig. 1
Claims (1)
に関する計画を記憶している第１手段、現在の生産状況
から最終工程における生産実績を各品種および各生産工
程毎に予測する第２手段、第１手段からの計画実績と第
２手段からの予測実績とを照合することによって、各品
種および各工程毎の生産進行度合を判定する第３手段と
、第３手段による現在の生産進行度合を各品種相互およ
び各工程相互について比較することによって生産の優先
順位を決定し以後の生産進行を指示する第４手段とを備
えている生産制御装置。 ２、第２手段が、各工程についてこれから処理すべき製
品の数量と、以後に経る工程における生産能力および予
想歩溜りとに基づいて、最終工程における生産実績を予
測することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の生
産制御装置。 ３、第３手段が、予測生産実績／計画生産実績を現在の
生産進行度合とするように構成されていることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の生産制御装置。 ４、第４手段が、優先順位決定に際し、各品種間および
各工程間で優先度について差異を設定するように構成さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
生産制御装置。[Claims] 1. A first means for storing plans regarding production performance in the final process for multiple types of products, and predicting the production performance in the final process for each product type and each production process from the current production status. A second means, a third means for determining the degree of production progress for each product type and each process by comparing the planned actual results from the first means and the predicted actual results from the second means; and fourth means for determining production priority and instructing subsequent production progress by comparing the production progress for each product type and each process. 2. A patent claim characterized in that the second means predicts the production performance in the final process based on the quantity of products to be processed in each process, and the production capacity and expected yield in the subsequent process. The production control device according to item 1. 3. The production control device according to claim 1, wherein the third means is configured to set the predicted production performance/planned production performance as the current production progress level. 4. The production control device according to claim 1, wherein the fourth means is configured to set a difference in priority between each product type and between each process when determining the priority order. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60206429A JPS6268260A (en) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | Production control device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60206429A JPS6268260A (en) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | Production control device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6268260A true JPS6268260A (en) | 1987-03-28 |
Family
ID=16523229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60206429A Pending JPS6268260A (en) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | Production control device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6268260A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01169604A (en) * | 1987-12-18 | 1989-07-04 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | Automatic production dispatch system |
| JP2017045143A (en) * | 2015-08-24 | 2017-03-02 | 株式会社Sumco | Process planning system, apparatus, method, and program for silicon wafers |
| DE112017001790T5 (en) | 2016-03-30 | 2018-12-13 | Mitsubishi Electric Corporation | Magnetic sensor unit |
| US10634739B2 (en) | 2017-07-19 | 2020-04-28 | Mitsubishi Electric Corporation | Magnetic sensor device |
-
1985
- 1985-09-20 JP JP60206429A patent/JPS6268260A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01169604A (en) * | 1987-12-18 | 1989-07-04 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | Automatic production dispatch system |
| JP2017045143A (en) * | 2015-08-24 | 2017-03-02 | 株式会社Sumco | Process planning system, apparatus, method, and program for silicon wafers |
| DE112017001790T5 (en) | 2016-03-30 | 2018-12-13 | Mitsubishi Electric Corporation | Magnetic sensor unit |
| US10634739B2 (en) | 2017-07-19 | 2020-04-28 | Mitsubishi Electric Corporation | Magnetic sensor device |
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