JPS6265424A - エツチング終点検出方法 - Google Patents
エツチング終点検出方法Info
- Publication number
- JPS6265424A JPS6265424A JP20426485A JP20426485A JPS6265424A JP S6265424 A JPS6265424 A JP S6265424A JP 20426485 A JP20426485 A JP 20426485A JP 20426485 A JP20426485 A JP 20426485A JP S6265424 A JPS6265424 A JP S6265424A
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- JP
- Japan
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- time
- spectral intensity
- intensity waveform
- end point
- offset
- Prior art date
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- Pending
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、エツチング終点検出方法に関するものである
。
。
ガスプラズマを利用しエツチングさnる試料のエツチン
グ終点を分光強度波形の変化をモニタして検出する方法
としては1例えば、特開昭59−28340号公報に記
載のような1分光強度波形をエツチング開始時よりモニ
タし終点検出時点までの間−こその都度オフセット量、
ゲイン量を調整するようにしたものが知られている。
グ終点を分光強度波形の変化をモニタして検出する方法
としては1例えば、特開昭59−28340号公報に記
載のような1分光強度波形をエツチング開始時よりモニ
タし終点検出時点までの間−こその都度オフセット量、
ゲイン量を調整するようにしたものが知られている。
しかし、このような方法では、1つの試料のエツチング
中にその都度オフセット量、ゲイン量を調整するため、
演算機能、アナログ値への変換速度の高走化が必要とな
り、エツチング終点検出操作が複雑化し装匠が高価番こ
なるといった問題がある。
中にその都度オフセット量、ゲイン量を調整するため、
演算機能、アナログ値への変換速度の高走化が必要とな
り、エツチング終点検出操作が複雑化し装匠が高価番こ
なるといった問題がある。
本発明の目的は、1つの試料のエツチング中にその都度
補正することなしに第1回目の分光強度波形とIJn回
目の分光強度波形とを比較しその差分な第n+1回目に
補正するようにすることで。
補正することなしに第1回目の分光強度波形とIJn回
目の分光強度波形とを比較しその差分な第n+1回目に
補正するようにすることで。
演算機能、アナログ値への変換速度の高速化を不要にで
きエツチング終点検出操作を容易化できるエツチング終
点検出方法を提供することにある。
きエツチング終点検出操作を容易化できるエツチング終
点検出方法を提供することにある。
本発明は、ガスプラズマを利用しエツチングさnろ試料
の工雫チング終点を分光強度波形の変化をモニタして検
出する方法において、第1回目のH配分光強度波形と@
n100オフセット、ゲインWI4整徨の前配分光強度
波形とを比較し、該比較による差分で第n+1回目の前
配分光強度波形が第1回目の前配分光強度波形と一致す
るようにディジタル値を変化させオフセット、ゲインを
変更することを特徴とするもので、1つの試料のエツチ
ング中にその都度補正することなしに111回目の分光
強度波形と第n回目の分光強度波形とを比較しその差分
な95 n + 1回目盛こ補正することにしたもので
ある。
の工雫チング終点を分光強度波形の変化をモニタして検
出する方法において、第1回目のH配分光強度波形と@
n100オフセット、ゲインWI4整徨の前配分光強度
波形とを比較し、該比較による差分で第n+1回目の前
配分光強度波形が第1回目の前配分光強度波形と一致す
るようにディジタル値を変化させオフセット、ゲインを
変更することを特徴とするもので、1つの試料のエツチ
ング中にその都度補正することなしに111回目の分光
強度波形と第n回目の分光強度波形とを比較しその差分
な95 n + 1回目盛こ補正することにしたもので
ある。
え明
本年票の1実施例を第1図。第2図にて説明する。
第1図は回路構成で示し1分光強度波形人力1にアニュ
アルオフセット用可変抵抗器4よりの入力及びコンピュ
タ8よりのディジタル量をアナログ値に変換するD /
A変換器6よりの出力を加算し、その値を、アニュア
ル調整用可変抵抗器3を有するゲインアブブ2Iこ取嘔
〕込み、その出力をコンピュータ8からのテ゛ジタルl
+こよりゲイルな変。
アルオフセット用可変抵抗器4よりの入力及びコンピュ
タ8よりのディジタル量をアナログ値に変換するD /
A変換器6よりの出力を加算し、その値を、アニュア
ル調整用可変抵抗器3を有するゲインアブブ2Iこ取嘔
〕込み、その出力をコンピュータ8からのテ゛ジタルl
+こよりゲイルな変。
換するプログラマブルゲインアンプ5を経由してA/D
変換器7に入力する。A/D変換″!A7のデジタル出
力値はコンピュータ8Iこ取り込みコンピュータ8によ
り終点判定を行ない、出力9に終点判定結果、波形信号
等を出力する。
変換器7に入力する。A/D変換″!A7のデジタル出
力値はコンピュータ8Iこ取り込みコンピュータ8によ
り終点判定を行ない、出力9に終点判定結果、波形信号
等を出力する。
次に制御方法な男2図により説明でる。スタート特番ご
はマニュアルでオフセット、ゲインを調整し、その状態
で分光強度波形をモニタし、終点判定を実施する(終点
判定が出来る様マニュアルでゲイン、オフセットを調整
する)。
はマニュアルでオフセット、ゲインを調整し、その状態
で分光強度波形をモニタし、終点判定を実施する(終点
判定が出来る様マニュアルでゲイン、オフセットを調整
する)。
第2回目はF1回目と同一の条件で判定し、その時の終
点判定用の分光強度波形が第1回目と異なっていnば、
その偏差をコンビ、−夕8で計算し、オフセット用D/
A変換器6及びプログラマブルゲインアンプ5へのデー
タを変更し1分光強度波形が第1回目のそれと同一とな
る様補正する。
点判定用の分光強度波形が第1回目と異なっていnば、
その偏差をコンビ、−夕8で計算し、オフセット用D/
A変換器6及びプログラマブルゲインアンプ5へのデー
タを変更し1分光強度波形が第1回目のそれと同一とな
る様補正する。
補正したのち第3回目の判定を開始する。その後第3回
目での偏差を$4回目用にフィードバックすることを行
ないn回目をn+1回目にフィードバックし、分光強度
波形が変化した場合1こも第1回目の分光強度波形とほ
ぼ同一となる様にする。
目での偏差を$4回目用にフィードバックすることを行
ないn回目をn+1回目にフィードバックし、分光強度
波形が変化した場合1こも第1回目の分光強度波形とほ
ぼ同一となる様にする。
本実施例では1次のような効果が得られる。
(1)1つの試料のエツチング中にその都度補正するこ
となしに第1回目の分光強度波形と!In回目の分光強
度波形とを比較しその差分を第n + 1回目に補正す
るようにしているので、エツチング終点検出操作を容易
化できると共に、装置価格を低減できる。
となしに第1回目の分光強度波形と!In回目の分光強
度波形とを比較しその差分を第n + 1回目に補正す
るようにしているので、エツチング終点検出操作を容易
化できると共に、装置価格を低減できる。
(2)初期に分光強度波形なm察しながらオフセット、
ゲインを調整することができる。
ゲインを調整することができる。
(3)多数回のエツチングにおいてもモニタ入力がほぼ
一定となり終点検出が容易となる。
一定となり終点検出が容易となる。
本発明は1以上説明したように、1つの試料のエツチン
グ中にその都度補正することなしに第1回目の分光強度
波形と@n100分光強度波形とを比較しその差分な第
n +1回目に補正するようにしているので、演算機能
、アナログ値への便換速度の高速化を不要にで偽、ニラ
壬ング終点検出操作な容易化で卜るという効平t、(あ
る。
グ中にその都度補正することなしに第1回目の分光強度
波形と@n100分光強度波形とを比較しその差分な第
n +1回目に補正するようにしているので、演算機能
、アナログ値への便換速度の高速化を不要にで偽、ニラ
壬ング終点検出操作な容易化で卜るという効平t、(あ
る。
第1図は1本発明を実施したエツチング終点検出9%の
一例を示す回路構成図、第2図は、N1図の装置を用い
た制御方法の70−チ、f−)・である。
一例を示す回路構成図、第2図は、N1図の装置を用い
た制御方法の70−チ、f−)・である。
Claims (1)
- 1 ガスプラズマを利用しエッチングされる試料のエッ
チング終点を分光強度波形の変化をモニタして検出する
方法において、第1回目の前記分光強度波形と第n回目
のオフセット、ゲイン調整後の前記分光強度波形とを比
較し、該比較による差分で第n+1回目の前記分光強度
波形が第1回目の前配分光強度波形と一致するようにデ
ィジタル値を変化させオフセット、ゲインを変更するこ
とを特徴とするエッチング終点検出方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20426485A JPS6265424A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | エツチング終点検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20426485A JPS6265424A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | エツチング終点検出方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6265424A true JPS6265424A (ja) | 1987-03-24 |
Family
ID=16487583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20426485A Pending JPS6265424A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | エツチング終点検出方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6265424A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63254732A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-21 | Hitachi Ltd | エッチング終点判定方法 |
JPH01235336A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-20 | Hitachi Ltd | エッチング終点判定装置 |
JPH01241127A (ja) * | 1988-03-23 | 1989-09-26 | Hitachi Ltd | エッチング終点判定方法 |
US5118378A (en) * | 1989-10-10 | 1992-06-02 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for detecting an end point of etching |
JP2002329230A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Oki Electric Ind Co Ltd | 自動取引装置 |
-
1985
- 1985-09-18 JP JP20426485A patent/JPS6265424A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63254732A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-21 | Hitachi Ltd | エッチング終点判定方法 |
JPH01235336A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-20 | Hitachi Ltd | エッチング終点判定装置 |
JPH01241127A (ja) * | 1988-03-23 | 1989-09-26 | Hitachi Ltd | エッチング終点判定方法 |
US5118378A (en) * | 1989-10-10 | 1992-06-02 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for detecting an end point of etching |
JP2002329230A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Oki Electric Ind Co Ltd | 自動取引装置 |
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