JPS625936A - フツ素含有芳香族化合物および防菌防黴剤 - Google Patents
フツ素含有芳香族化合物および防菌防黴剤Info
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- JPS625936A JPS625936A JP13612685A JP13612685A JPS625936A JP S625936 A JPS625936 A JP S625936A JP 13612685 A JP13612685 A JP 13612685A JP 13612685 A JP13612685 A JP 13612685A JP S625936 A JPS625936 A JP S625936A
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- Japan
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- mol
- compound
- synthesis example
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- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、 産業上の利用分野
本発明は一般式
(式中Rは水素またはメチル基、Aは一0CH2CH2
−1硫黄または−0−C−1YおよびZはフッ素または
−CN、nは1,2.3または4の整数をそれぞれ表わ
す。) で示されるフッ素含有芳香族化合物および該化合物を有
効成分として含有する防菌防黴剤に関する。
−1硫黄または−0−C−1YおよびZはフッ素または
−CN、nは1,2.3または4の整数をそれぞれ表わ
す。) で示されるフッ素含有芳香族化合物および該化合物を有
効成分として含有する防菌防黴剤に関する。
本発明化合物は、各種工業製品およびその原材料等の防
菌防黴剤として有用な文献未記載の新規化合物である。
菌防黴剤として有用な文献未記載の新規化合物である。
口、従来の技術及び問題点
従来、・・ロケ゛ン化芳香族ジニトリルは殺真菌剤、殺
細菌剤および線虫撲滅剤および除草剤として生物学的活
性を表わすことは知られている(日本国特許出願公告昭
4l−11358)。また、4−アルコキシ−2,5,
6−)リクロロイソフタロニトリル化合物は抗カビ剤と
して公知となっている(日本国特許公開昭5O−121
424)。
細菌剤および線虫撲滅剤および除草剤として生物学的活
性を表わすことは知られている(日本国特許出願公告昭
4l−11358)。また、4−アルコキシ−2,5,
6−)リクロロイソフタロニトリル化合物は抗カビ剤と
して公知となっている(日本国特許公開昭5O−121
424)。
しかし、ハロケゝン化芳香族ジニトリルおよび4−アル
コキシ−2,5,6−ドリクロロインフタロニトリル化
合物を防黴剤として各種コーティング剤に配合して使用
する際親和性が一般に乏しいため、前記の防黴剤は配合
物から分離、沈降したり、コーティング塗膜からブリー
ディングを起し、その結果防黴効果の持続性が低下する
などの欠点を有している。
コキシ−2,5,6−ドリクロロインフタロニトリル化
合物を防黴剤として各種コーティング剤に配合して使用
する際親和性が一般に乏しいため、前記の防黴剤は配合
物から分離、沈降したり、コーティング塗膜からブリー
ディングを起し、その結果防黴効果の持続性が低下する
などの欠点を有している。
また従来のクロル化イソフタロニトリルや4−アルコキ
シ−2,5,6−ドリクロロイソフタロニトリルなどの
塩素系防黴剤は紫外線や熱の影響を受けて品質が劣化し
て経口的に変色する傾向があり美観上屋外用途に適さな
いという欠点を有している。
シ−2,5,6−ドリクロロイソフタロニトリルなどの
塩素系防黴剤は紫外線や熱の影響を受けて品質が劣化し
て経口的に変色する傾向があり美観上屋外用途に適さな
いという欠点を有している。
近年、各種工業製品およびその原材料等に対する細菌、
黴、酵母等の微生物による被害が問題視されている。こ
れらは美観上または保健衛生上の被害とともに工業製品
等の性能および品質を低下せしめるものであり、その防
止対策として、防菌防黴効果が大きく、広い抗菌ス被り
トルを示し、かつ製品の用途に応じた諸性質(耐水性、
耐熱性、耐光性、分解性、安定性等)を有する防菌防黴
剤の開発が求められている。
黴、酵母等の微生物による被害が問題視されている。こ
れらは美観上または保健衛生上の被害とともに工業製品
等の性能および品質を低下せしめるものであり、その防
止対策として、防菌防黴効果が大きく、広い抗菌ス被り
トルを示し、かつ製品の用途に応じた諸性質(耐水性、
耐熱性、耐光性、分解性、安定性等)を有する防菌防黴
剤の開発が求められている。
ハ0問題点を解決するための手段
本発明者らは上記の要件を満たす新規な防菌防黴剤の開
発を目的に各種のインフタロニ) IJル系化合物を合
成し、それらの化合物の抗菌活性に関する研究を進める
中で、本発明化合物のすぐれた防菌防黴特性を発見し、
本発明を完成させた。
発を目的に各種のインフタロニ) IJル系化合物を合
成し、それらの化合物の抗菌活性に関する研究を進める
中で、本発明化合物のすぐれた防菌防黴特性を発見し、
本発明を完成させた。
本発明化合物について代表的なものを例示すれば表−1
の如くである。
の如くである。
本発明の化合物の製造法としては
R
(a)ニ一般式 CT(2=C−C−(A)n−T((
I)(式中、Rは水素またはメチル基、Aは曹
1 H O−CH2−CH2,0−CH−CH,、または0CH
2−CH−CH2、nは1. 、2 、3¥I8たは4
の整数を表わす。)で示される化合物とテトラフルオロ
インフタロニトリル壕りはペンタフルオロベンゾニトリ
ルトヲ反応させる方法。
I)(式中、Rは水素またはメチル基、Aは曹
1 H O−CH2−CH2,0−CH−CH,、または0CH
2−CH−CH2、nは1. 、2 、3¥I8たは4
の整数を表わす。)で示される化合物とテトラフルオロ
インフタロニトリル壕りはペンタフルオロベンゾニトリ
ルトヲ反応させる方法。
CT(3
(b):HO(CH2CH20)nHおよびHO(CH
2−CH−0)nH(式中、nは1.2.3または4の
整数を表わす。) で示されるジオール類またはH3CH2CH20H。
2−CH−0)nH(式中、nは1.2.3または4の
整数を表わす。) で示されるジオール類またはH3CH2CH20H。
CH3
謬
Hs(cH2cH2o)2H,HscH2−6H−oH
々どのメルカプトアルコール類とテトラフルオロインフ
タロニトリルまたは波ンタフルオロベンゾニトリルとを
反応させた後、アクリル酸またはメタクリル酸(以後両
者を合せて(メタ)アクリル酸と称す。)または(メタ
)アクリル酸ハライドによりエステル化する方法。
々どのメルカプトアルコール類とテトラフルオロインフ
タロニトリルまたは波ンタフルオロベンゾニトリルとを
反応させた後、アクリル酸またはメタクリル酸(以後両
者を合せて(メタ)アクリル酸と称す。)または(メタ
)アクリル酸ハライドによりエステル化する方法。
(C):テトラフルオロイソフタロニトリルまたはペン
タフルオロベンゾニトリルを加水分解して2.4.5−
トリフルオロ−6−ヒトロキシイソフタロニトリルまた
は2,3,5.6−チトラブルオロー4−ヒドロキシベ
ンゾニトリルとした後、エチレンオキシドまたはブロー
レンオキシドを付加して、一般式 %式% 3および4の整数を表わす。) で表わされる化合物を合成し、次−で方法(b)におけ
るエステル化法を用いる方法。
タフルオロベンゾニトリルを加水分解して2.4.5−
トリフルオロ−6−ヒトロキシイソフタロニトリルまた
は2,3,5.6−チトラブルオロー4−ヒドロキシベ
ンゾニトリルとした後、エチレンオキシドまたはブロー
レンオキシドを付加して、一般式 %式% 3および4の整数を表わす。) で表わされる化合物を合成し、次−で方法(b)におけ
るエステル化法を用いる方法。
C12)
(a) ニー<メタフルオロ安息香酸、方法(C)にお
ける2、4.5−1−リフルオロ−6−ヒトロキシイソ
フタロニトリルまたは2,3,5.6−テトラフルオロ
−4−ヒドロキシベンゾニトリルとグリシジル(メタ)
アクリレートとを反応させる方法などが挙げられる。
ける2、4.5−1−リフルオロ−6−ヒトロキシイソ
フタロニトリルまたは2,3,5.6−テトラフルオロ
−4−ヒドロキシベンゾニトリルとグリシジル(メタ)
アクリレートとを反応させる方法などが挙げられる。
方法(、)および方法(b)におけるテトラフルオロイ
ソフタロニトリルまたはペンタフルオロベンゾニトリル
と一般式■の化合物、ジオール類およびメルカプトアル
コール類との反応は無溶媒または溶媒の存在下に混合す
ることにより行うことができる。溶媒としては非プロト
ン性の溶媒が使用出来、タトエハベンゼン、トルエン、
キシレン、ヘキサンなどの炭化水素類、クロロホルム、
四塩化炭素、エチレンジクロライド等の塩素系溶媒、エ
チルニーfル、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケ)・ン類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル類、アセトニトリル、プロピオニトリル
、ベンゾニトリル等のニトリル類、ジメチルホルムアミ
ド、ツメチルスルホキシドなどが挙げられる。
ソフタロニトリルまたはペンタフルオロベンゾニトリル
と一般式■の化合物、ジオール類およびメルカプトアル
コール類との反応は無溶媒または溶媒の存在下に混合す
ることにより行うことができる。溶媒としては非プロト
ン性の溶媒が使用出来、タトエハベンゼン、トルエン、
キシレン、ヘキサンなどの炭化水素類、クロロホルム、
四塩化炭素、エチレンジクロライド等の塩素系溶媒、エ
チルニーfル、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケ)・ン類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル類、アセトニトリル、プロピオニトリル
、ベンゾニトリル等のニトリル類、ジメチルホルムアミ
ド、ツメチルスルホキシドなどが挙げられる。
これらのうち特に好ましい溶媒はアセトニトリル、ベン
ゾニトリル等のニトリル系溶媒、クエチレングリコール
・ツメチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類である
。
ゾニトリル等のニトリル系溶媒、クエチレングリコール
・ツメチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類である
。
反応温度は通常0から50℃であり、好ましくは10℃
〜30℃である。
〜30℃である。
さらに上記反応は塩基または塩の存在下に行い反応を促
進することができる。塩基または塩としては苛性ソーダ
、苛性カリのような苛性アルカリ類、炭酸カリ、炭酸ソ
ーダのような炭酸塩類、トリメチルアミン、ピリジン、
1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−
7(以後DBUと称す)のような3級アミン類、フッ化
カリウム、フッ化ナトリウム等のフッ化物が挙げられる
。これらのうち好ましいものは3級アミンおよびフッ化
物である。これらの塩基または塩の使用量は通常テトラ
フルオロイソフタロニトリルまたは被ンタフルオロペン
ゾニトリル1モルに対シて、0.095モル〜10.0
モル、好ましくは0.01モル〜5.0モルさらに好ま
しくは0.1モル−2,0モルである。
進することができる。塩基または塩としては苛性ソーダ
、苛性カリのような苛性アルカリ類、炭酸カリ、炭酸ソ
ーダのような炭酸塩類、トリメチルアミン、ピリジン、
1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−
7(以後DBUと称す)のような3級アミン類、フッ化
カリウム、フッ化ナトリウム等のフッ化物が挙げられる
。これらのうち好ましいものは3級アミンおよびフッ化
物である。これらの塩基または塩の使用量は通常テトラ
フルオロイソフタロニトリルまたは被ンタフルオロペン
ゾニトリル1モルに対シて、0.095モル〜10.0
モル、好ましくは0.01モル〜5.0モルさらに好ま
しくは0.1モル−2,0モルである。
0.005モルより少い場合には触媒効果が少くまた1
0.0モルより多い場合には副反応により収率が低下す
るので好捷しくない。
0.0モルより多い場合には副反応により収率が低下す
るので好捷しくない。
方法(、)においてテトラフルオロイソフタロニトリル
またはペンタフルオロベンゾニトリルに対スる一般式(
1)の化合物の反応モル比はテトラフルオロイソフタロ
ニトリルまたは被ンタフルオロペンゾニトリル1モルに
対し、通常0.7モル〜1.5モル、好ましくは1.0
モル〜1.3モルである。0.7モルより少い場合およ
び1.5モルより多い場合、未反応原料が残るかあるい
は副生物が生じ精製工程が必要となり好ましくない。
またはペンタフルオロベンゾニトリルに対スる一般式(
1)の化合物の反応モル比はテトラフルオロイソフタロ
ニトリルまたは被ンタフルオロペンゾニトリル1モルに
対し、通常0.7モル〜1.5モル、好ましくは1.0
モル〜1.3モルである。0.7モルより少い場合およ
び1.5モルより多い場合、未反応原料が残るかあるい
は副生物が生じ精製工程が必要となり好ましくない。
方法色)においてテトラフルオロイソフタロニトリルま
たはペンタフルオロ被ンゾニトリルに対するジオール類
またはメルカプトアルコール類の反応モル比はテトラフ
ルオロイソフタロニトリルまたはペンタフルオロベンゾ
ニトリル1モルに対しく15) 通常0.7モル〜2.0モル、好ましくは1.0〜1.
5モル使用される。
たはペンタフルオロ被ンゾニトリルに対するジオール類
またはメルカプトアルコール類の反応モル比はテトラフ
ルオロイソフタロニトリルまたはペンタフルオロベンゾ
ニトリル1モルに対しく15) 通常0.7モル〜2.0モル、好ましくは1.0〜1.
5モル使用される。
方法(b)においてテトラフルオロイソフタロニトリル
またはペンタフルオロベンゾニトリルとジオール類また
はメルカプトアルコール類との反応生成物を(メタ)ア
クリル酸または(メタ)アクリル酸ハライドによりエス
テル化する方法は通常の方法を用いることができる。
またはペンタフルオロベンゾニトリルとジオール類また
はメルカプトアルコール類との反応生成物を(メタ)ア
クリル酸または(メタ)アクリル酸ハライドによりエス
テル化する方法は通常の方法を用いることができる。
すなわち(メタ)アクリル酸を使用する場合には、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、エチ
レンジクロライド等の溶媒の存在下または非存在下に、
硫酸、パラトルエンスルホン酸、スルホン酸型イオン交
換樹脂等の触媒の存在下、通常70℃〜150℃、好ま
しくは80℃〜130℃にてエステル化を行う。(メタ
)アクリル酸・・ライドな使用する場合には、上記の溶
媒の存在下または非存在下に通常−10℃〜80℃、好
ましくは一5℃〜60℃にて反応を行う。この際苛性カ
リ、苛性ソーダのようなアルカリ、ピリジン、トリエチ
ルアミン、DBU等の3級アミン類の存在下に反応を行
うことができる。これらアルカリ、3級アミン順の使用
量は(メタ)アクリル酸ハライド1モルに対し通常05
〜20モル、好丑しくば0,8〜15モル使用される。
ゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、エチ
レンジクロライド等の溶媒の存在下または非存在下に、
硫酸、パラトルエンスルホン酸、スルホン酸型イオン交
換樹脂等の触媒の存在下、通常70℃〜150℃、好ま
しくは80℃〜130℃にてエステル化を行う。(メタ
)アクリル酸・・ライドな使用する場合には、上記の溶
媒の存在下または非存在下に通常−10℃〜80℃、好
ましくは一5℃〜60℃にて反応を行う。この際苛性カ
リ、苛性ソーダのようなアルカリ、ピリジン、トリエチ
ルアミン、DBU等の3級アミン類の存在下に反応を行
うことができる。これらアルカリ、3級アミン順の使用
量は(メタ)アクリル酸ハライド1モルに対し通常05
〜20モル、好丑しくば0,8〜15モル使用される。
テトラフルオロイソフタロニトリル捷りは波ンタフルオ
ロペンゾニトリルとジオール類捷たはメルカプ)・アル
コール類との反応生成物に対する(メタ)アクリル酸ま
たは(ツタ)アクリル酸ハライドの使用量は前者1モル
に対し、通常08〜20モル、好丑しくは10〜15モ
ルである。
ロペンゾニトリルとジオール類捷たはメルカプ)・アル
コール類との反応生成物に対する(メタ)アクリル酸ま
たは(ツタ)アクリル酸ハライドの使用量は前者1モル
に対し、通常08〜20モル、好丑しくは10〜15モ
ルである。
方法(c)においてテトラフルオロイソフタロニトリル
丑たはにンタフルオロベンゾニトリルな加水分解する方
法としては、苛性アルカリの存在下せたは非存在下にテ
トラフルオロイソフタロニトリル〜60℃で反応させる
ことにより容易に2.4.5 −トリフルオロ−6−ヒ
ドロキフイソフタロニトリル丑たは2,3,5.6−チ
トラフルオロー4ーヒドロキシベンゾニトリルを得るこ
とができる。得られたヒドロキシニトリル類にアルギレ
ンオキシドを付加する方法としては、苛性ソーダ、苛性
カリ、ナトリウムメチラート等のアルカリ触媒、トリエ
チルアミン、DBU、トリエチレンジアミンなどのアミ
ン触媒、デトラメチルアンモニウムクロライドのよう々
第4級アンモニウム塩触媒等の存在下、通常50℃〜1
70℃の温度で常圧− 1. O kg/cm2の加圧
下に行う方法を用いることができる。この反応において
ベンゼン、トルエン、エチレンノクロライド、アセトニ
トリル、ジグライム、その他の溶媒を使用することがで
きる。
丑たはにンタフルオロベンゾニトリルな加水分解する方
法としては、苛性アルカリの存在下せたは非存在下にテ
トラフルオロイソフタロニトリル〜60℃で反応させる
ことにより容易に2.4.5 −トリフルオロ−6−ヒ
ドロキフイソフタロニトリル丑たは2,3,5.6−チ
トラフルオロー4ーヒドロキシベンゾニトリルを得るこ
とができる。得られたヒドロキシニトリル類にアルギレ
ンオキシドを付加する方法としては、苛性ソーダ、苛性
カリ、ナトリウムメチラート等のアルカリ触媒、トリエ
チルアミン、DBU、トリエチレンジアミンなどのアミ
ン触媒、デトラメチルアンモニウムクロライドのよう々
第4級アンモニウム塩触媒等の存在下、通常50℃〜1
70℃の温度で常圧− 1. O kg/cm2の加圧
下に行う方法を用いることができる。この反応において
ベンゼン、トルエン、エチレンノクロライド、アセトニ
トリル、ジグライム、その他の溶媒を使用することがで
きる。
方法(d)においてペンタフルオロ安息香酸、2,4。
5 − ト’)フルオロ−6−ヒトロキシイソフタロニ
トリルまたは2,3,5.6−チトラフルオロー4ーヒ
ドロキシベンゾニトリルとグリシツル(メタ)アクリレ
ートとを反応させる方法としては、方法(a)において
使用できる溶媒の存在下又は非存在下、苛性ソーダ、苛
性カリ、ナトリウムメチラート等のアルカリ触媒、l・
リエチルアミン、トリエチレンジアミン、DBU等のア
ミン触媒、テトラメチルアンモニウムクロライド、ラウ
リル・ジメチルベンジルアンモニウムクロライド等の第
4級アンモニウム塩触媒の存在下に通常50〜150℃
、好ましくは60〜130℃にて反応させる方法が挙げ
られる。
トリルまたは2,3,5.6−チトラフルオロー4ーヒ
ドロキシベンゾニトリルとグリシツル(メタ)アクリレ
ートとを反応させる方法としては、方法(a)において
使用できる溶媒の存在下又は非存在下、苛性ソーダ、苛
性カリ、ナトリウムメチラート等のアルカリ触媒、l・
リエチルアミン、トリエチレンジアミン、DBU等のア
ミン触媒、テトラメチルアンモニウムクロライド、ラウ
リル・ジメチルベンジルアンモニウムクロライド等の第
4級アンモニウム塩触媒の存在下に通常50〜150℃
、好ましくは60〜130℃にて反応させる方法が挙げ
られる。
本発明の化合物を製造する際、(メタ)アクリル酸およ
びその誘導体が使用される工程においては通常重合禁止
剤を使用することが好ましい。重合禁止剤としてはハイ
ドロキノン、メチルハイドロキノン、ベンゾキノン、ハ
イドロギノンモノメチルエーテル、フェノール、フェノ
チアジン、ニトロベンゼン、イオウ、各種の銅塩及びア
ミン類など通常の使用されるものを用いることができる
。
びその誘導体が使用される工程においては通常重合禁止
剤を使用することが好ましい。重合禁止剤としてはハイ
ドロキノン、メチルハイドロキノン、ベンゾキノン、ハ
イドロギノンモノメチルエーテル、フェノール、フェノ
チアジン、ニトロベンゼン、イオウ、各種の銅塩及びア
ミン類など通常の使用されるものを用いることができる
。
以下合成例により本発明を説明する。
合成例1 2,4. − ・ジシアノ−3,5.6
− トリフルオロフェノキシエチルアクリレート (化合物届1) テトラフルオロイソフタロニトリル1/10.9(0.
7mol)、ヒドロキシエチルアクIJ V−1− 9
0 g( 0.7 7 mol )、フッ化カリウム
58.9(]、、Omol )及び重合防止剤としてメ
チルハイドロキノン 704gをアセトニトリル3 0 0 ml中で室温で
15時間反応させた。アセトニトリルを留去し、水50
0mlを加え、良く攪拌した後、油層(上層)と水層(
下層)に分離した。水層をクロロホルムにより抽出し、
油層に加える。その混合液を水で3回洗滌し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、クロロホルムを留去し化合物扁1を
2 1. 1 # (純度90tl))を得た。収率9
8係。
− トリフルオロフェノキシエチルアクリレート (化合物届1) テトラフルオロイソフタロニトリル1/10.9(0.
7mol)、ヒドロキシエチルアクIJ V−1− 9
0 g( 0.7 7 mol )、フッ化カリウム
58.9(]、、Omol )及び重合防止剤としてメ
チルハイドロキノン 704gをアセトニトリル3 0 0 ml中で室温で
15時間反応させた。アセトニトリルを留去し、水50
0mlを加え、良く攪拌した後、油層(上層)と水層(
下層)に分離した。水層をクロロホルムにより抽出し、
油層に加える。その混合液を水で3回洗滌し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、クロロホルムを留去し化合物扁1を
2 1. 1 # (純度90tl))を得た。収率9
8係。
’ 9Fnrnr ( CCL4 ) :δ 2 6.
0 ( d 、JFF”’9.OHz − I F )
4 0、8 ( d 、 JF,=1−6.0Hz 、
1. F )7 6、3 ( da t 、 JFF
= 1 6.0Hz tJFF=9.Q Hz S 1
−F )IR(neat):2260(CAN)、17
30(C=C)。
0 ( d 、JFF”’9.OHz − I F )
4 0、8 ( d 、 JF,=1−6.0Hz 、
1. F )7 6、3 ( da t 、 JFF
= 1 6.0Hz tJFF=9.Q Hz S 1
−F )IR(neat):2260(CAN)、17
30(C=C)。
1 6 5 5 ( C=C )
合成例2 2,4−ジシアノ−3.5.6 − トリフ
ルオロフェノキシエトキシエチルアクリレ ート(化合物煮2) テトラフルオロイソフタロニトリル140g( 0.
7 mol )、ヒドロキシエトキシエチルアクリレ−
)1. 23,!7 ( 0.77mol )を用い、
合成例1と同様にして化合物扁2が235.5g(純度
96係)を得た。収率95係。
ルオロフェノキシエトキシエチルアクリレ ート(化合物煮2) テトラフルオロイソフタロニトリル140g( 0.
7 mol )、ヒドロキシエトキシエチルアクリレ−
)1. 23,!7 ( 0.77mol )を用い、
合成例1と同様にして化合物扁2が235.5g(純度
96係)を得た。収率95係。
19Fnmr(CC64):δ 26.1 (d t
JFF−9,2Hz 、 I F )40.8 (d、
JFF−15,6Hz 、 I F )76.6 (
dat 、 JFF=15.6 Hz 。
JFF−9,2Hz 、 I F )40.8 (d、
JFF−15,6Hz 、 I F )76.6 (
dat 、 JFF=15.6 Hz 。
J、、=9.2 Hz # I F )IR(neat
):’2240(c=N)、1740(C’=O) 。
):’2240(c=N)、1740(C’=O) 。
1655(C=C)
合成例32,4−ジシアノ−3,5,6−トリフルオロ
フエノキシエトキシエトキシエチル アクリレート (化合物煮3) テトラフルオロイソフタロニトリル145’(0,07
mol )、ヒドロキシエトキシエトキシエチルアクリ
レート15.7.!7(0,077mol )を用い、
合成例1と同様にして化合物A3が266g(純度95
係)得られた。収率94係。
フエノキシエトキシエトキシエチル アクリレート (化合物煮3) テトラフルオロイソフタロニトリル145’(0,07
mol )、ヒドロキシエトキシエトキシエチルアクリ
レート15.7.!7(0,077mol )を用い、
合成例1と同様にして化合物A3が266g(純度95
係)得られた。収率94係。
19Fnmr (CCl4 ) :δ 27.1 (d
t JF r−8,9Hz t I F )41.8
(d、 Jpp=15.2Hz 、 I F )77
.1 (dat 、 J、F=19.1Hz。
t JF r−8,9Hz t I F )41.8
(d、 Jpp=15.2Hz 、 I F )77
.1 (dat 、 J、F=19.1Hz。
JFF=8.9 Hz、 I F )
IR(neat):2240(CN)、1740(C=
C)。
C)。
1655(C−C)
合成例42,4−ジシアノ−3,5,6−トリフルオロ
フェノキシ−3,6,9−)リオキサウンデシルアクリ
レート (化合物扁4)テトラフルオロイソフタロニト
リル14g(o、o 7 mol )、ヒドロキシ−3
,6,9−トリオキサウンデシルアクリレ−)19.1
g(0,077mol)を用い、合成例1と同様にして
化合物&4が29.7g(純度94幅)得られた。収率
93係。
フェノキシ−3,6,9−)リオキサウンデシルアクリ
レート (化合物扁4)テトラフルオロイソフタロニト
リル14g(o、o 7 mol )、ヒドロキシ−3
,6,9−トリオキサウンデシルアクリレ−)19.1
g(0,077mol)を用い、合成例1と同様にして
化合物&4が29.7g(純度94幅)得られた。収率
93係。
19Fnmr(CCl4):δ 27.2 (d +
J、F=9.IR7、1,F )42、O(d、 J、
、=15.5Hz 、 I F )77.4 (ddt
、、Jよ=19.0゜JFF=9.1 Hz 、 I
F )IR(neat):2240(CN)、174
0(C=C)。
J、F=9.IR7、1,F )42、O(d、 J、
、=15.5Hz 、 I F )77.4 (ddt
、、Jよ=19.0゜JFF=9.1 Hz 、 I
F )IR(neat):2240(CN)、174
0(C=C)。
1655(C=C)
合成例52,4−ジシアノ−3,5,6−)リフルオロ
フェノキシイソゾロピルアクリレー ト (化合物&5) 合成例1に於いて、ヒドロキシエチルアクリレート90
gの代りにヒPロキシイソプロビルアクリレー)100
g(0,77mol )を用い合成例1と同様にして化
合物A5が216.!7(純度95係〕得られた。収率
94係。
フェノキシイソゾロピルアクリレー ト (化合物&5) 合成例1に於いて、ヒドロキシエチルアクリレート90
gの代りにヒPロキシイソプロビルアクリレー)100
g(0,77mol )を用い合成例1と同様にして化
合物A5が216.!7(純度95係〕得られた。収率
94係。
19Fnmr (CCl4) :δ 25.8 (d
、 J、、=103Hz 、 I F )40.5 (
d 、 JFF=18.4Hz 、 I F )75.
5 (dat 、 J、、=18.4 Hz 。
、 J、、=103Hz 、 I F )40.5 (
d 、 JFF=18.4Hz 、 I F )75.
5 (dat 、 J、、=18.4 Hz 。
JFF=10.3Hz 、 I P )IR(neat
):2240(CN) 、1.720(Co)−165
5(C=C) 合成例6 3−(2,,1−ジシアノ−3,5,6−)
リフルオロフェノキシ)−2−ヒドロキ シプロピルアクリレート (化合物扁9)テトラフルオ
ロインフタロニトリル140.9(0,7mol)、水
酸化カリウム40 g (0,7mol )を水200
0m1に入れ、1.5時間加熱還流した。
):2240(CN) 、1.720(Co)−165
5(C=C) 合成例6 3−(2,,1−ジシアノ−3,5,6−)
リフルオロフェノキシ)−2−ヒドロキ シプロピルアクリレート (化合物扁9)テトラフルオ
ロインフタロニトリル140.9(0,7mol)、水
酸化カリウム40 g (0,7mol )を水200
0m1に入れ、1.5時間加熱還流した。
冷却後、濃塩酸で中和してエーテルで抽出した。
抽出液を水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去後、得られた結晶をクロロホルムから再結晶しテ2,
4..5− )リフルオロ−6−ヒトロキシイソフタロ
ニトリルを106.!7(収率76係)得た。2,4.
5− )リフルオロ−6−ヒトロキシイソフタロニトリ
ル99 ji (0,5mol )をアセトニトリル3
00m1IC溶解し、グリシジルアクリレート64 g
(0,5mol )、テトラエチルアンモニウムクロ
ライド0.5g及び重合防止剤としてメチルハイドロキ
ノン0.5g、加え80℃で6時間加熱後水にあけ、塩
化メチレンにより2回抽出し、水洗部・乾燥後、塩化メ
チレンを留去し、化合物A9を152.P(純度92%
)得た。収率86係。
去後、得られた結晶をクロロホルムから再結晶しテ2,
4..5− )リフルオロ−6−ヒトロキシイソフタロ
ニトリルを106.!7(収率76係)得た。2,4.
5− )リフルオロ−6−ヒトロキシイソフタロニトリ
ル99 ji (0,5mol )をアセトニトリル3
00m1IC溶解し、グリシジルアクリレート64 g
(0,5mol )、テトラエチルアンモニウムクロ
ライド0.5g及び重合防止剤としてメチルハイドロキ
ノン0.5g、加え80℃で6時間加熱後水にあけ、塩
化メチレンにより2回抽出し、水洗部・乾燥後、塩化メ
チレンを留去し、化合物A9を152.P(純度92%
)得た。収率86係。
19Fnmr(CHCL3):δ 27.4. (d
、 JFF=8.8Hz 、 I F )42.0 (
d 、 J、、=15.3Hz 、’ I F )71
.8(ddt、JF2−15.3H2゜JPF= 8.
8 Hz m I F )IR(neat):2260
(C=N)、1730(C=C)。
、 JFF=8.8Hz 、 I F )42.0 (
d 、 J、、=15.3Hz 、’ I F )71
.8(ddt、JF2−15.3H2゜JPF= 8.
8 Hz m I F )IR(neat):2260
(C=N)、1730(C=C)。
1655crn(C=C)
合成例72,4−ジシアノ−3,5,6−トリフルオロ
フエノキシエチルメタアクリレート (化合物煮10) 合成例1に於いて、ヒドロキシエチルアクリレー1−9
0 gの代りにヒドロキシェチルメタアクリ17−)1
00g(0,77mol )を用い合成例1と同様にし
て化合物應10が21.7 g(純度96係〕得られた
。収率96%。
フエノキシエチルメタアクリレート (化合物煮10) 合成例1に於いて、ヒドロキシエチルアクリレー1−9
0 gの代りにヒドロキシェチルメタアクリ17−)1
00g(0,77mol )を用い合成例1と同様にし
て化合物應10が21.7 g(純度96係〕得られた
。収率96%。
19Fnmr(CCt4):δ 25.5 (d 、J
I、、F==9.9)(z 、I F )40.0 (
d 、 JFF=16.0Hz 、 I F )75.
5 (da t 、 J、、=1−6.0 Hz 。
I、、F==9.9)(z 、I F )40.0 (
d 、 JFF=16.0Hz 、 I F )75.
5 (da t 、 J、、=1−6.0 Hz 。
JFF−9,9H2)
合成例82,4−ノ/アノ−3,5,6−)リフルオロ
フェノキシイソプロVルメタアクリ レート (化合物塵14) 合成例1に於いて、ヒドロキンエチルアクリレ−)90
.jiの代りにヒドロキンイソノロピルメタアクリレー
ト]−] ]、 g (0,77mo1. )を用い、
合成例1と同様にして化合物j614が220g(純度
95係)得られた。収率92係。
フェノキシイソプロVルメタアクリ レート (化合物塵14) 合成例1に於いて、ヒドロキンエチルアクリレ−)90
.jiの代りにヒドロキンイソノロピルメタアクリレー
ト]−] ]、 g (0,77mo1. )を用い、
合成例1と同様にして化合物j614が220g(純度
95係)得られた。収率92係。
19Fnmr(CCt4):δ 25.8 (d 、J
FF=1.0.3 Hz 、1 F )40.5 (d
、 JFF=1.8.4Hz 、 I F)75.5
(ddt 、 JFF=18.4Hz 。
FF=1.0.3 Hz 、1 F )40.5 (d
、 JFF=1.8.4Hz 、 I F)75.5
(ddt 、 JFF=18.4Hz 。
JFF=1.0.3Hz 、 ]、 F )合成例92
,4−ジシアノ−3,5,6−)リフルオロフェニルチ
オエチルアクリレート (化合物&19) テトラフルオロイソフタロニトリル5.0g(25mm
o1.)をアセトニトリル25m1に溶解し、フッ化カ
リウム2.18 g(37,5mmol )を加える。
,4−ジシアノ−3,5,6−)リフルオロフェニルチ
オエチルアクリレート (化合物&19) テトラフルオロイソフタロニトリル5.0g(25mm
o1.)をアセトニトリル25m1に溶解し、フッ化カ
リウム2.18 g(37,5mmol )を加える。
氷冷し、2−メルカプトエタ/−ル2.66m1(37
,5mmol )を滴下し、滴下後室温で8時間攪拌す
る。
,5mmol )を滴下し、滴下後室温で8時間攪拌す
る。
水を加えて酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾
燥後濃縮し、酢酸エチルより再結晶化して2.4− ノ
ンアノー3,5.6− )リフルオロフェニルチオエタ
ノールを5.29F(収率81係)得た。
燥後濃縮し、酢酸エチルより再結晶化して2.4− ノ
ンアノー3,5.6− )リフルオロフェニルチオエタ
ノールを5.29F(収率81係)得た。
2.4−ジンアノ−3,5,6−1−リフルオロフェニ
ルチオエタノール0.52 g (2mrnol )を
乾燥したTHFに溶解し、メチルハイドロキノン0.0
1.!9を加え、水冷攪拌下でアクリル酸クロライド0
.24m1! (3mrno+ )を加え、さらにピリ
ジン0.24g(3mmol)を含むTHF溶液を滴下
した。室温で1時間攪拌後水を加え、酢酸エチルで抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去し、シリカケ
゛ルクロマトグラフィーにて精製し、化合物應19を0
.38.9(純度96係〕得た。収率58係。
ルチオエタノール0.52 g (2mrnol )を
乾燥したTHFに溶解し、メチルハイドロキノン0.0
1.!9を加え、水冷攪拌下でアクリル酸クロライド0
.24m1! (3mrno+ )を加え、さらにピリ
ジン0.24g(3mmol)を含むTHF溶液を滴下
した。室温で1時間攪拌後水を加え、酢酸エチルで抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去し、シリカケ
゛ルクロマトグラフィーにて精製し、化合物應19を0
.38.9(純度96係〕得た。収率58係。
19Fnmr(アセトン):δ 24.7 (d 、
−一11.3Hz t 1F)4 o、 7 (d =
JFr=1. &8 Hz −]、F )52.7
(dd、 JFF=11..3Hz 。
−一11.3Hz t 1F)4 o、 7 (d =
JFr=1. &8 Hz −]、F )52.7
(dd、 JFF=11..3Hz 。
JFF=1.8.8 H7、I F )合成例10 3
.−Jメタフルオロベンゾイルオキシ−2−ヒドロキシ
プロピルアクリ レート (化合物塵35) ペンタフルオロベンゾイックアシノド4.29(0,0
2mol )を50 mlのアセトニトリルにて溶解し
、メチルハイドロキノン0.02.9を加えグリシノル
アクリレート2.8 ji (0,022mol )、
テトラエチルアンモニウムクロライドO,]、、9を加
え、80℃にて5時間攪拌後水にあけ、塩化メチレンに
て抽出し、水洗滌後、硫酸マグネシウムにて乾燥後溶媒
を留去し、化合物j635を6.3.9(純度95係)
得た。収率88係。
.−Jメタフルオロベンゾイルオキシ−2−ヒドロキシ
プロピルアクリ レート (化合物塵35) ペンタフルオロベンゾイックアシノド4.29(0,0
2mol )を50 mlのアセトニトリルにて溶解し
、メチルハイドロキノン0.02.9を加えグリシノル
アクリレート2.8 ji (0,022mol )、
テトラエチルアンモニウムクロライドO,]、、9を加
え、80℃にて5時間攪拌後水にあけ、塩化メチレンに
て抽出し、水洗滌後、硫酸マグネシウムにて乾燥後溶媒
を留去し、化合物j635を6.3.9(純度95係)
得た。収率88係。
19Fnmr(CDCl2):δ 58.35(ddd
、2F)69.00(t、t、IF) 80.60(ddd、2F) 合成例1.1.3−−!!ンタフルオロベンゾイルオキ
シー2−ヒドロキシノロピルメタア クリレート (化合物焦36) 合成例10に於いてグリシジルアクリレートの代りにグ
リシツルメタアクリレ−1−3,1,&(0,022m
ol )を用い、合成例11と同様の方法で化合物煮3
6を64g(純度93係)を得た。収率84係。
、2F)69.00(t、t、IF) 80.60(ddd、2F) 合成例1.1.3−−!!ンタフルオロベンゾイルオキ
シー2−ヒドロキシノロピルメタア クリレート (化合物焦36) 合成例10に於いてグリシジルアクリレートの代りにグ
リシツルメタアクリレ−1−3,1,&(0,022m
ol )を用い、合成例11と同様の方法で化合物煮3
6を64g(純度93係)を得た。収率84係。
19Fnm r (CDCl3 ) :δ 58.27
(add、2F)68.80(t、t、IF) 80.61. (ddd 、 2F) 合成例124−シアノ−2,3,5,6−テトラフルオ
ロフエノキシエチルアクリレート (化合物煮53) ペンタフルオロベンゾニトリル7.7.9(0,04m
ol)をアセトニトリルにとかし、水酸化カリウム(純
度85係) 2.9 j9 (0,044−mol )
及びメチルハイドロキノン0.02.9を加え、ヒドロ
キシエチルアクリレート5.1. ji (0,044
,mol )を室C28) 温にて攪拌下部下し、その′=1ま5時間攪拌した。
(add、2F)68.80(t、t、IF) 80.61. (ddd 、 2F) 合成例124−シアノ−2,3,5,6−テトラフルオ
ロフエノキシエチルアクリレート (化合物煮53) ペンタフルオロベンゾニトリル7.7.9(0,04m
ol)をアセトニトリルにとかし、水酸化カリウム(純
度85係) 2.9 j9 (0,044−mol )
及びメチルハイドロキノン0.02.9を加え、ヒドロ
キシエチルアクリレート5.1. ji (0,044
,mol )を室C28) 温にて攪拌下部下し、その′=1ま5時間攪拌した。
アセトニトリルな留去復水にあけ、塩化メチレンにて抽
出し、水洗部を行い、硫酸マグネシウムにて乾燥後、塩
化メチレンを留去し、化合物& 53を11.2g(純
度96係)得た。収率93係。
出し、水洗部を行い、硫酸マグネシウムにて乾燥後、塩
化メチレンを留去し、化合物& 53を11.2g(純
度96係)得た。収率93係。
19Fnmr:δ 57.O(d 、JFF 1 o
、 3 H7−2F)76.5(d、 rt
、2F)合成例134−シアノ−2,3,5,6−テト
ラフルオロフエノキシエチルメタアクリレ ート(化合物A 57 ) 合成例12に於いて、ヒドロキシエチルアクリレートの
代りにヒドロキシメタアクリレート5,7.9(0,0
44mol)を用い、合成例13と同様の方法にて化合
物塵57を12.3g(純度94係〕得た。収率95係
。
、 3 H7−2F)76.5(d、 rt
、2F)合成例134−シアノ−2,3,5,6−テト
ラフルオロフエノキシエチルメタアクリレ ート(化合物A 57 ) 合成例12に於いて、ヒドロキシエチルアクリレートの
代りにヒドロキシメタアクリレート5,7.9(0,0
44mol)を用い、合成例13と同様の方法にて化合
物塵57を12.3g(純度94係〕得た。収率95係
。
19Fnmr(neat) :δ 57.0 (d 、
JFF−10,3Hz 、 2F )76.3(d、
u 、2F)合成例144−シアノ−2,
3,5,6−テトラフルオロフエニルチオエチルアクリ
レー ト (化合物煮69) ペンタフルオロベンゾニトリル5.8 g(0,03m
ol)をアセトニトリルにとかし、フ、化カリウム2.
2.?(0,043mol )を加え、水冷下2−メル
カゾトエタノール3.0m1(0,042rnol )
を滴下し、室温で5時間攪拌した。アセトニトリルを留
去して、水にあけ、酢酸エチルにて抽出し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶剤を留去して、4−’/ 7 /
−2t3t5t6−テトラフルオロフエニルチオエタノ
ールを6.4g(収率85係)を得た。
JFF−10,3Hz 、 2F )76.3(d、
u 、2F)合成例144−シアノ−2,
3,5,6−テトラフルオロフエニルチオエチルアクリ
レー ト (化合物煮69) ペンタフルオロベンゾニトリル5.8 g(0,03m
ol)をアセトニトリルにとかし、フ、化カリウム2.
2.?(0,043mol )を加え、水冷下2−メル
カゾトエタノール3.0m1(0,042rnol )
を滴下し、室温で5時間攪拌した。アセトニトリルを留
去して、水にあけ、酢酸エチルにて抽出し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶剤を留去して、4−’/ 7 /
−2t3t5t6−テトラフルオロフエニルチオエタノ
ールを6.4g(収率85係)を得た。
4−シアノ−2,3,5,6−テトラフルオロフエニル
チオエタノール5.Q l (0,02mol )をT
HF Kとかし、水冷下アクリル酸クロライド0.24
ml(0,03mol )を加え、さらにピリジン0
.24gを含むTHF溶液を滴下し、室温で1時間攪拌
抜水を加え、メチレンクロライドにて抽出し、水洗を2
回行った後、硫酸マグネシウムにて脱水し、溶剤を留去
して化合物煮69が5.2.9(純度88係)を得た。
チオエタノール5.Q l (0,02mol )をT
HF Kとかし、水冷下アクリル酸クロライド0.24
ml(0,03mol )を加え、さらにピリジン0
.24gを含むTHF溶液を滴下し、室温で1時間攪拌
抜水を加え、メチレンクロライドにて抽出し、水洗を2
回行った後、硫酸マグネシウムにて脱水し、溶剤を留去
して化合物煮69が5.2.9(純度88係)を得た。
収率75係。
19Fnmr(CDCl2):δ 52.00(m、2
F)53.25(m、2F) 実施例152.4−ジシアノ−3,5,6−)リフルオ
ロフェノキシアクリレート (化合物A35) 合成例1に於いて、ハイドロオキシエチルアクリレート
の代りにアクリル酸50 、!i’ (0,7mol
)を用い合成例1と同様にして、化合物A 85が17
1.9(純度95係)得られた。収率92係。
F)53.25(m、2F) 実施例152.4−ジシアノ−3,5,6−)リフルオ
ロフェノキシアクリレート (化合物A35) 合成例1に於いて、ハイドロオキシエチルアクリレート
の代りにアクリル酸50 、!i’ (0,7mol
)を用い合成例1と同様にして、化合物A 85が17
1.9(純度95係)得られた。収率92係。
” l;’nmr(CDCl3/ d6− DMSO)
:δ22.6 (d t JFF二10.7Hz #
I F )36.4(d、JFF−18,4H3,I
F)66.5 (aa 、 、rFIP= 10.7
Hz 。
:δ22.6 (d t JFF二10.7Hz #
I F )36.4(d、JFF−18,4H3,I
F)66.5 (aa 、 、rFIP= 10.7
Hz 。
J、F=18.4Hz 、 I F )IR(neat
):2250(C=N)、1780(C=0)+164
0(C=C) 実施例16 2.4−・ジシアノ−3,5,6−)リフ
ルオロフェノキシメタアクリレート (化合物塵86) 合成例1に於いて、ハイドロオキシエチルアクリレート
の代りにメタアクリル酸60.9(0,7mol )を
用い、合成例1と同様にして、化合物煮C21) 86が179.9(純度98係)得られた。収率94係
。
):2250(C=N)、1780(C=0)+164
0(C=C) 実施例16 2.4−・ジシアノ−3,5,6−)リフ
ルオロフェノキシメタアクリレート (化合物塵86) 合成例1に於いて、ハイドロオキシエチルアクリレート
の代りにメタアクリル酸60.9(0,7mol )を
用い、合成例1と同様にして、化合物煮C21) 86が179.9(純度98係)得られた。収率94係
。
19Fnmr(CDCl3):δ 23.O(d、Jr
F−10L2 Hz z I F)36.9 (d 、
J、、=18.4.Hz 、 I F )66.8
(dd 、 JF、”’10.2Hz 。
F−10L2 Hz z I F)36.9 (d 、
J、、=18.4.Hz 、 I F )66.8
(dd 、 JF、”’10.2Hz 。
JFF””18.4Hz 、 I F )IR(nea
t):2245(C=N)、1770(C=C)。
t):2245(C=N)、1770(C=C)。
1635(C=C)
なお、合成例の中で、 Fnmrは外部標準としてトリ
フルオロ酢酸、使用して測定した値である。
フルオロ酢酸、使用して測定した値である。
又、 F’nmrの分析値の単位は12 ppm、I’
Rの分析値の単位はff1−’である。
Rの分析値の単位はff1−’である。
本発明化合物を有効成分として含有する薬剤は顕著な抗
カビ作用、抗細菌作用を有し、作用スペクトルが広い点
で優れている。
カビ作用、抗細菌作用を有し、作用スペクトルが広い点
で優れている。
この発明の薬剤は、有効成分である上記に説明した新規
な化合物の1種または2種以上を使用目的によって適用
することによってすぐれた治療効果(本薬剤を有害カビ
、細菌類の発生部所に直接適用して発現する効果)及び
予防効果(有害カビ、細菌類の発生の予想される部所に
適用して発現する効果)を挙げることができる。
な化合物の1種または2種以上を使用目的によって適用
することによってすぐれた治療効果(本薬剤を有害カビ
、細菌類の発生部所に直接適用して発現する効果)及び
予防効果(有害カビ、細菌類の発生の予想される部所に
適用して発現する効果)を挙げることができる。
この発明の有効成分である化合物な防菌防黴剤として使
用する形態はその化合物自体をそのit使用することが
できる。オだ基剤と製剤して粉剤、水和剤、錠剤、油剤
、乳剤、ガス剤、エヤゾール(煙霧剤)、燻煙剤々どの
剤型として用いることができる。
用する形態はその化合物自体をそのit使用することが
できる。オだ基剤と製剤して粉剤、水和剤、錠剤、油剤
、乳剤、ガス剤、エヤゾール(煙霧剤)、燻煙剤々どの
剤型として用いることができる。
−に記基剤としては固体、液体あるいは気体のいずれで
もよく、またこれらを組合わせてもよい。
もよく、またこれらを組合わせてもよい。
薬剤の具体例としては、固体基剤ではタルク、りV −
、カオリン、けい藻土、炭酸力ルンウム、塩素酸カリウ
ム、シリカ、硝石、木粉、ニトロセルロース、殿粉、小
麦粉、大豆粉、アラビアゴムなどが挙げられる。
、カオリン、けい藻土、炭酸力ルンウム、塩素酸カリウ
ム、シリカ、硝石、木粉、ニトロセルロース、殿粉、小
麦粉、大豆粉、アラビアゴムなどが挙げられる。
液体基剤としては、水、有機票媒が挙げられる。
KK 機溶fNにハヘンゼン、トルエン、キシレン、ケ
ロシン、ノーゼル油、燃料油、石油、ナフサの如き炭化
水素。アセトン、メチルエチルケトンおよび/クロヘギ
サノンの如きケトン。四塩化炭素、クロロホルム、トリ
クロロエチレン、ノや−クロロエチレンの如き塩素化炭
化水素、アミルアセテ−1・およびブチルアセテート。
ロシン、ノーゼル油、燃料油、石油、ナフサの如き炭化
水素。アセトン、メチルエチルケトンおよび/クロヘギ
サノンの如きケトン。四塩化炭素、クロロホルム、トリ
クロロエチレン、ノや−クロロエチレンの如き塩素化炭
化水素、アミルアセテ−1・およびブチルアセテート。
エチレングリコールのモノアルギルエーテル例えばモノ
メチルエーテル、モノエチルエーテルなど。メタノール
、エタノール、イソゾロパノール、アミルアルコールの
如きアルコール等がある。
メチルエーテル、モノエチルエーテルなど。メタノール
、エタノール、イソゾロパノール、アミルアルコールの
如きアルコール等がある。
また気体の基剤としては、空気、窒素、炭酸ガス、フレ
オン、プロ・々ン、ブタン等が挙げられる。
オン、プロ・々ン、ブタン等が挙げられる。
この発明の使用形態は必ずしも上述の剤型に限定される
ものではないことはいう寸でもない。
ものではないことはいう寸でもない。
この発明の防菌防黴剤は、工業製品及び工業材料に悪影
響を与える微生物、例えば、菌類、藻類、・ぐクチリア
類およびスライムの有機体に対しても有効である。その
主なものを例示すれば以下のものが挙げられる。
響を与える微生物、例えば、菌類、藻類、・ぐクチリア
類およびスライムの有機体に対しても有効である。その
主なものを例示すれば以下のものが挙げられる。
工業製品及び工業材料に悪影響を布える微生物Baci
llus spp、 + 5taphylococcu
s Spp、 tEscherichia spp、
+ Pseudomonas spp、 。
llus spp、 + 5taphylococcu
s Spp、 tEscherichia spp、
+ Pseudomonas spp、 。
5erratia spp、 、 Alternari
a spp、 rAspergillus spp、
、 Penicillium spp、 。
a spp、 rAspergillus spp、
、 Penicillium spp、 。
Cladosporium 5pp−+ Muco
r spp、 。
r spp、 。
Rh1zopus 5pp−+ Gliocladiu
m 5pp−。
m 5pp−。
Eurotium spp、 + Aureoba
sidium 81)I)、 #Chaetomi
um spp、 、Fusarium spp、
rMyrothecium spp、 、Rhod
otorula spp、tSaccharomyc
es spp+この発明の防菌防黴剤は、有効成分の
濃度を微生物の種類にもよるが1〜11000pp、好
ましくは10〜500 ppmの濃度に調製して使用す
ることにより、工業製品及び工業材料を微生物の被害か
ら保護することもできる。
sidium 81)I)、 #Chaetomi
um spp、 、Fusarium spp、
rMyrothecium spp、 、Rhod
otorula spp、tSaccharomyc
es spp+この発明の防菌防黴剤は、有効成分の
濃度を微生物の種類にもよるが1〜11000pp、好
ましくは10〜500 ppmの濃度に調製して使用す
ることにより、工業製品及び工業材料を微生物の被害か
ら保護することもできる。
この発明による防菌防黴剤は、微生物により悪影響を受
けうる工業製品及び工業材料例えば、プラスチック、シ
ラスター、じゅうたん、接着剤、乳化液、塗料、コーテ
ィング剤、皮革、にかわ、木材、織物、紙及び厚紙を微
生物の功撃または破壊から保護することができる。また
工業材料と関連して生産工場の一部分、例えば微生物に
よって悪影響を受ける冷却水循環系及び冷却用潤滑油循
r2へ) 環系も言及することができる。
けうる工業製品及び工業材料例えば、プラスチック、シ
ラスター、じゅうたん、接着剤、乳化液、塗料、コーテ
ィング剤、皮革、にかわ、木材、織物、紙及び厚紙を微
生物の功撃または破壊から保護することができる。また
工業材料と関連して生産工場の一部分、例えば微生物に
よって悪影響を受ける冷却水循環系及び冷却用潤滑油循
r2へ) 環系も言及することができる。
二・ 発明の効果
以下、本発明化合物の効果を具体的に説明するため、代
表的な試験例を示す。但し、これらは単なる例示であり
、本発明の適用例はこれらのみに限られ々いことは言う
までもない。
表的な試験例を示す。但し、これらは単なる例示であり
、本発明の適用例はこれらのみに限られ々いことは言う
までもない。
試験例−1寒天希釈法による菌糸に対する抗菌スベク)
・ル試験 所定濃度の各薬剤を含んだジャガイモ寒天培地を4トリ
皿に10m1流し固化した後、あらかじめ同平板培地に
培養した各供試菌の菌叢先端部分を直径8欄のコルクポ
ーラ−で打ちぬき、薬剤含有培地上に接種し、28℃の
恒温室に3日間放置した後、発育の有無を調査し、最小
阻止濃度(MIC)を測定した。但し、連数は4連とす
る。
・ル試験 所定濃度の各薬剤を含んだジャガイモ寒天培地を4トリ
皿に10m1流し固化した後、あらかじめ同平板培地に
培養した各供試菌の菌叢先端部分を直径8欄のコルクポ
ーラ−で打ちぬき、薬剤含有培地上に接種し、28℃の
恒温室に3日間放置した後、発育の有無を調査し、最小
阻止濃度(MIC)を測定した。但し、連数は4連とす
る。
/QG)
〈試験例−1結果〉
菌名
A : Penicillium funicu
losumB : Aspergillus nige
rC: Fusarium proliferatum
D : Gliocladium virens
E : Rh1zopus 5tolonifer参考
:テトラクロルイソフタロニトリル試験例−2寒天希釈
画線法による胞子に対する、 抗菌スペクトル試験 所定濃度の各薬剤を含んだジャガイモ寒天培地をベトリ
皿に10m1流し固化した後、あらかじめ同培地に培養
した各供試菌の胞子懸濁液(40個の胞子/X400
1視野〕を1白金耳ずつ画線状に接種し、28℃の恒温
室に3日間放置した後発育の有無を調査し、最小阻止濃
度(MIC)を測定した。
losumB : Aspergillus nige
rC: Fusarium proliferatum
D : Gliocladium virens
E : Rh1zopus 5tolonifer参考
:テトラクロルイソフタロニトリル試験例−2寒天希釈
画線法による胞子に対する、 抗菌スペクトル試験 所定濃度の各薬剤を含んだジャガイモ寒天培地をベトリ
皿に10m1流し固化した後、あらかじめ同培地に培養
した各供試菌の胞子懸濁液(40個の胞子/X400
1視野〕を1白金耳ずつ画線状に接種し、28℃の恒温
室に3日間放置した後発育の有無を調査し、最小阻止濃
度(MIC)を測定した。
但し、連数は4連とする。
(37〕
〈試験例−2結果〉
菌名
A : Penicillium funiculos
umB : Aspergillus nigerC:
Fusarium proliferatumD :
Gliocladium virensE : Rh
1zopus 5tolonifer参考:テトラクロ
ルインフタロニトリル〈試験例−3〉 防黴テストおよび変色テスト 1、防黴試験方法 メチルメタクリレートコポリマーのアセトン溶液に対し
て、コーリマーに対して1幅(重量比)の本発明の防黴
剤を添加した均一な配合液をポリエステルフィルムに塗
布・乾燥後、フィルムを4m×4crnの正方形に切断
し試験片とした。
umB : Aspergillus nigerC:
Fusarium proliferatumD :
Gliocladium virensE : Rh
1zopus 5tolonifer参考:テトラクロ
ルインフタロニトリル〈試験例−3〉 防黴テストおよび変色テスト 1、防黴試験方法 メチルメタクリレートコポリマーのアセトン溶液に対し
て、コーリマーに対して1幅(重量比)の本発明の防黴
剤を添加した均一な配合液をポリエステルフィルムに塗
布・乾燥後、フィルムを4m×4crnの正方形に切断
し試験片とした。
試験方法:■Fusarium 5olani −−−
・・ATCC11712■Penicillium c
itrinum −−IFO−6352■Altern
aria alternata −−ATCC116
12■C1adosperium cladospor
iodes −IFO−63484菌種の胞子混合懸濁
液として使用。
・・ATCC11712■Penicillium c
itrinum −−IFO−6352■Altern
aria alternata −−ATCC116
12■C1adosperium cladospor
iodes −IFO−63484菌種の胞子混合懸濁
液として使用。
培 養:26℃±2.14日間
判定基準:
2、変色テスト
壁紙用塩ビペーストに対し重量比で0.5%の本発明の
防黴剤を添加混合した。混合液を隠ペイ率試験紙(ハン
チイングチヤード紙JIS K−5400)に塗布し、
120℃×5分間乾燥して試験片を作く試験結果〉 ○:変色なし ×:淡黄色に変色 ××=黄色に変色 本発明のフッ素含有芳香族化合物は優れた防菌防黴効果
を有し、その持続性が優れていると共に日光、紫外線等
にさらされた場合でも変色しにくいという特長を有して
いる。さらに本発明の化合物は各種の重合体用のモノマ
ーとして使用することができる。これらの単独重合体、
共重合体は塗料、インキ、その他コーティング剤、電気
絶縁塗料、生体適合性樹脂、機能性膜材料としても利用
できる。
防黴剤を添加混合した。混合液を隠ペイ率試験紙(ハン
チイングチヤード紙JIS K−5400)に塗布し、
120℃×5分間乾燥して試験片を作く試験結果〉 ○:変色なし ×:淡黄色に変色 ××=黄色に変色 本発明のフッ素含有芳香族化合物は優れた防菌防黴効果
を有し、その持続性が優れていると共に日光、紫外線等
にさらされた場合でも変色しにくいという特長を有して
いる。さらに本発明の化合物は各種の重合体用のモノマ
ーとして使用することができる。これらの単独重合体、
共重合体は塗料、インキ、その他コーティング剤、電気
絶縁塗料、生体適合性樹脂、機能性膜材料としても利用
できる。
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは水素またはメチル基、Aは−OCH_2CH
_2−、▲数式、化学式、表等があります▼または▲数
式、化学式、表等があります▼、Xは酸素、 硫黄または▲数式、化学式、表等があります▼、Yおよ
びZはフッ素または−CN、nは1、2、3または4の
整数をそれぞれ表わす。) で示されるフッ素含有芳香族化合物。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは水素またはメチル基、Aは−OCH_2CH
_2−、▲数式、化学式、表等があります▼または▲数
式、化学式、表等があります▼、Xは酸素、 硫黄または▲数式、化学式、表等があります▼、Yおよ
びZはフッ素または−CN、nは1、2、3または4の
整数をそれぞれ表わす。) で示されるフッ素含有芳香族化合物を有効成分として含
有する防菌防黴剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13612685A JPS625936A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | フツ素含有芳香族化合物および防菌防黴剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13612685A JPS625936A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | フツ素含有芳香族化合物および防菌防黴剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS625936A true JPS625936A (ja) | 1987-01-12 |
Family
ID=15167911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13612685A Pending JPS625936A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | フツ素含有芳香族化合物および防菌防黴剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS625936A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0890579A1 (en) * | 1996-03-29 | 1999-01-13 | Daikin Industries, Limited | Process for fluorinating cellulosic materials and fluorinated cellulosic materials |
KR100740994B1 (ko) * | 2006-03-30 | 2007-07-20 | 한국화학연구원 | 가교 가능한 과불소화 디(메타)아크릴계 화합물과 이를함유한 광중합성 조성물 및 이를 이용한 광중합성 막 |
US10696471B2 (en) | 2017-10-31 | 2020-06-30 | Medline Industries, Inc. | Enclosure for gloves with antimicrobial ink coating and methods for making the same |
WO2022209973A1 (ja) * | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 三井化学株式会社 | 歯科材料用組成物、歯科材料及び抗菌用組成物 |
-
1985
- 1985-06-24 JP JP13612685A patent/JPS625936A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0890579A1 (en) * | 1996-03-29 | 1999-01-13 | Daikin Industries, Limited | Process for fluorinating cellulosic materials and fluorinated cellulosic materials |
EP0890579A4 (en) * | 1996-03-29 | 2000-03-22 | Daikin Ind Ltd | METHOD FOR FLUORINATING CELLULOSE-CONTAINING MATERIALS AND THE FLUORINATED CELLULOSE-CONTAINING MATERIALS |
US6293972B1 (en) | 1996-03-29 | 2001-09-25 | Daikin Industries Ltd. | Process for fluorinating cellulosic materials and fluorinated cellulosic materials |
KR100740994B1 (ko) * | 2006-03-30 | 2007-07-20 | 한국화학연구원 | 가교 가능한 과불소화 디(메타)아크릴계 화합물과 이를함유한 광중합성 조성물 및 이를 이용한 광중합성 막 |
US10696471B2 (en) | 2017-10-31 | 2020-06-30 | Medline Industries, Inc. | Enclosure for gloves with antimicrobial ink coating and methods for making the same |
WO2022209973A1 (ja) * | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 三井化学株式会社 | 歯科材料用組成物、歯科材料及び抗菌用組成物 |
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