JPS6255207B2 - - Google Patents
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- JPS6255207B2 JPS6255207B2 JP58036653A JP3665383A JPS6255207B2 JP S6255207 B2 JPS6255207 B2 JP S6255207B2 JP 58036653 A JP58036653 A JP 58036653A JP 3665383 A JP3665383 A JP 3665383A JP S6255207 B2 JPS6255207 B2 JP S6255207B2
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- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 39
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 29
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 17
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 238000010549 co-Evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 2
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 229910020647 Co-O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020704 Co—O Inorganic materials 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/658—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing oxygen, e.g. molecular oxygen or magnetic oxide
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
最近、高密度記録の可能な新しい磁気記録方式
として、垂直磁気記録方式と光磁気記録方式が注
目され、研究されているが、これら方式に用いら
れる媒体は、垂直方向に磁気異方性を備え且つ
Ku⊥２πMs2或はHc⊥＞Hc，Br⊥＞Brの
条件を満足したいわゆる垂直磁化膜を使用する必
要がある。
として、垂直磁気記録方式と光磁気記録方式が注
目され、研究されているが、これら方式に用いら
れる媒体は、垂直方向に磁気異方性を備え且つ
Ku⊥２πMs2或はHc⊥＞Hc，Br⊥＞Brの
条件を満足したいわゆる垂直磁化膜を使用する必
要がある。
従来、知られているように、CoはHCP構造の
Ｃ軸方向に大きな結晶磁気異方性を有して居り、
この性質を利用して垂直磁化膜を得ようとする
と、膜面に対してＣ軸がほとんど垂直になるよ
うに結晶配向していること結晶磁気異方性Ku
が薄膜の垂直方向の反磁界２πMs2より大きいこ
との２つの条件を満足させる必要がある。しかし
Co薄膜では、飽和磁化Msの値が大きいため、前
記の条件が満たされておらず、垂直磁化膜とは
ならない。
Ｃ軸方向に大きな結晶磁気異方性を有して居り、
この性質を利用して垂直磁化膜を得ようとする
と、膜面に対してＣ軸がほとんど垂直になるよ
うに結晶配向していること結晶磁気異方性Ku
が薄膜の垂直方向の反磁界２πMs2より大きいこ
との２つの条件を満足させる必要がある。しかし
Co薄膜では、飽和磁化Msの値が大きいため、前
記の条件が満たされておらず、垂直磁化膜とは
ならない。
本発明は、かゝる点に鑑み、新しいCo―Ｏ形
式の垂直磁化膜をもつ垂直磁気記録体を提供する
もので、非磁性基材面に、直接、又は軟磁性薄膜
層を介してCo―15〜50at％Ｏの組成から成る垂
直磁化膜を備えたことを特徴とする。
式の垂直磁化膜をもつ垂直磁気記録体を提供する
もので、非磁性基材面に、直接、又は軟磁性薄膜
層を介してCo―15〜50at％Ｏの組成から成る垂
直磁化膜を備えたことを特徴とする。
更に第２発明は、上記の新規な垂直磁気記録体
の製造法を提供するもので、非磁性基材面に、又
は予めその面に形成した軟磁性薄膜層の面に、実
質上垂直に入射するようにCo原子を真空蒸着さ
せると同時にO2ガスを導入して、Co―15〜50at
％Ｏの組成から成る垂直磁化膜を形成するように
したことを特徴とする。
の製造法を提供するもので、非磁性基材面に、又
は予めその面に形成した軟磁性薄膜層の面に、実
質上垂直に入射するようにCo原子を真空蒸着さ
せると同時にO2ガスを導入して、Co―15〜50at
％Ｏの組成から成る垂直磁化膜を形成するように
したことを特徴とする。
次に本発明の実施例につき説明する。
第１図は、本発明を実施する真空蒸着装置を示
し、真空ポンプに１側に於て接続する容器１内に
回転冷却キヤン２とその直下に電子ビーム蒸発源
３を設け、その上部両側に巻解しローラー４と巻
取りローラー５とを配設し、該ローラー４に巻き
つけた非磁性基材として、例えば、ロール状の
PETテープ基材ａを、冷却キヤン２の周面をそ
の回動と共に回動走行しローラー５に巻き取られ
るようにした。本発明によれば、容器１内に酸素
を導入するための供給管６を備える。図示の例で
は、これを走行テープａ面の近傍で開口する長手
のものとした。７は、蒸発源直上に対向する冷却
キヤン２の最下面を残して水平に配置した防着板
を示し、これにより、蒸発源３からの蒸発Co原
子がテープ基材に対して実質上垂直に入射蒸着す
るようにした。
し、真空ポンプに１側に於て接続する容器１内に
回転冷却キヤン２とその直下に電子ビーム蒸発源
３を設け、その上部両側に巻解しローラー４と巻
取りローラー５とを配設し、該ローラー４に巻き
つけた非磁性基材として、例えば、ロール状の
PETテープ基材ａを、冷却キヤン２の周面をそ
の回動と共に回動走行しローラー５に巻き取られ
るようにした。本発明によれば、容器１内に酸素
を導入するための供給管６を備える。図示の例で
は、これを走行テープａ面の近傍で開口する長手
のものとした。７は、蒸発源直上に対向する冷却
キヤン２の最下面を残して水平に配置した防着板
を示し、これにより、蒸発源３からの蒸発Co原
子がテープ基材に対して実質上垂直に入射蒸着す
るようにした。
本装置を使用し、先づ、１×10-5トール以下ま
で容器１内を排気した後、蒸発材料ｂ、即ちCo
を電子ビーム加熱により一定速度で蒸発させ、１
方該供給管６より、O2ガスを導入させて一定速
度で走行するテープ基材ａ面に垂直蒸着を行ない
Co―Ｏ蒸着膜を得るが、この場合、O2ガスの導
入を種々の分圧になるようにO2ガス導入量を
種々変化させて各種組成割合のCo―Ｏ蒸着膜を
もつ磁気記録体を製造した。その膜厚は、テープ
基材の走行速度を変化させる等で1000Å〜10000
Åの範囲に作成した。かゝる種々のCo―Ｏ組成
をもつ蒸着膜につき磁気特性を測定し、第２図
Ａ，Ｂ，Ｃに示すCo―Ｏ組成と磁気特性の関係
を得た。この結果から分かるように、Ｏ成分が増
加すると共に垂直方向の保磁力Hc⊥と残留磁束
密度Br⊥が上昇し、Ｏが15at％以上になると両者
とも面内の保磁力Hcと残留磁束密度Brより
大きくなり、垂直磁化膜が得られる。然し乍らＯ
が50at％を越えると、飽和磁化Msの値が０とな
り磁性を失なつてしまう。第３図は、本発明の代
表的なCo―36at％Ｏ組成から成る垂直磁化膜の
ヒステリシス曲線を示し、完全な垂直磁化膜にな
つていることが分る。
で容器１内を排気した後、蒸発材料ｂ、即ちCo
を電子ビーム加熱により一定速度で蒸発させ、１
方該供給管６より、O2ガスを導入させて一定速
度で走行するテープ基材ａ面に垂直蒸着を行ない
Co―Ｏ蒸着膜を得るが、この場合、O2ガスの導
入を種々の分圧になるようにO2ガス導入量を
種々変化させて各種組成割合のCo―Ｏ蒸着膜を
もつ磁気記録体を製造した。その膜厚は、テープ
基材の走行速度を変化させる等で1000Å〜10000
Åの範囲に作成した。かゝる種々のCo―Ｏ組成
をもつ蒸着膜につき磁気特性を測定し、第２図
Ａ，Ｂ，Ｃに示すCo―Ｏ組成と磁気特性の関係
を得た。この結果から分かるように、Ｏ成分が増
加すると共に垂直方向の保磁力Hc⊥と残留磁束
密度Br⊥が上昇し、Ｏが15at％以上になると両者
とも面内の保磁力Hcと残留磁束密度Brより
大きくなり、垂直磁化膜が得られる。然し乍らＯ
が50at％を越えると、飽和磁化Msの値が０とな
り磁性を失なつてしまう。第３図は、本発明の代
表的なCo―36at％Ｏ組成から成る垂直磁化膜の
ヒステリシス曲線を示し、完全な垂直磁化膜にな
つていることが分る。
上記の製法に於て、Coの蒸発速度を変化させ
て本発明のCo―15〜50at％Ｏ組成の膜を得るに
は、O2ガス導入量も適当に変化させるようにす
る。この関係は、基材への両原子の入射頻度にほ
ぼ比例しているので、Co蒸発量が増加するとO2
分圧を増加させる必要がある。第２図Ｃから明ら
かなように、本発明のCo―15〜50at％Ｏ組成か
ら成る垂直磁化膜は、垂直方向の保磁力Hc⊥の
値は400〜1000Oe程度で、垂直磁気記録体として
は最も良好な値である。
て本発明のCo―15〜50at％Ｏ組成の膜を得るに
は、O2ガス導入量も適当に変化させるようにす
る。この関係は、基材への両原子の入射頻度にほ
ぼ比例しているので、Co蒸発量が増加するとO2
分圧を増加させる必要がある。第２図Ｃから明ら
かなように、本発明のCo―15〜50at％Ｏ組成か
ら成る垂直磁化膜は、垂直方向の保磁力Hc⊥の
値は400〜1000Oe程度で、垂直磁気記録体として
は最も良好な値である。
従来のCo―Cr組成から成る垂直磁化膜をもつ
磁気記録体は、蒸着法によるときは、200〜300℃
に基板を加熱した条件下でこの加熱基板にCoと
Crの原子を蒸着せしめることが必須である。こ
れに対し、本発明によれば、基材を加熱する必要
なく、水冷キヤンで基材を積極的に冷却し或は未
加熱の常温の場合でも垂直磁化膜が得られ、従来
のように、基材材質が耐熱性のものに限定されポ
リイミドフイルム等の高価なプラスチツクフイル
ムしか使用できない不利を解消し、基材の材料は
限定されず、耐熱性のない材料、安価なPETフ
イルム等でも使用でき有利である。本発明は、基
材を冷却しないで常温でも又、加熱した状態でも
良好な垂直磁化膜が得られる。
磁気記録体は、蒸着法によるときは、200〜300℃
に基板を加熱した条件下でこの加熱基板にCoと
Crの原子を蒸着せしめることが必須である。こ
れに対し、本発明によれば、基材を加熱する必要
なく、水冷キヤンで基材を積極的に冷却し或は未
加熱の常温の場合でも垂直磁化膜が得られ、従来
のように、基材材質が耐熱性のものに限定されポ
リイミドフイルム等の高価なプラスチツクフイル
ムしか使用できない不利を解消し、基材の材料は
限定されず、耐熱性のない材料、安価なPETフ
イルム等でも使用でき有利である。本発明は、基
材を冷却しないで常温でも又、加熱した状態でも
良好な垂直磁化膜が得られる。
又、従来Co―Cr垂直磁化膜では、蒸着法で作
成しようとすると、Cr組成の制御が困難で長時
間に亘り均一な垂直磁化膜を得ることが困難で、
又カーリングが非常に激しく生ずるに対し、本発
明によれば、Coの蒸着速度とO2ガス導入量を一
定に保てば良いので、極めて容易に長時間に亘つ
て均一な垂直磁化膜基材上に形成でき、又カーリ
ングをほとんど生じないので、フロツピーデイス
ク、磁気テープへの応用には極めて有利である。
成しようとすると、Cr組成の制御が困難で長時
間に亘り均一な垂直磁化膜を得ることが困難で、
又カーリングが非常に激しく生ずるに対し、本発
明によれば、Coの蒸着速度とO2ガス導入量を一
定に保てば良いので、極めて容易に長時間に亘つ
て均一な垂直磁化膜基材上に形成でき、又カーリ
ングをほとんど生じないので、フロツピーデイス
ク、磁気テープへの応用には極めて有利である。
本発明のCo―Ｏ薄膜が垂直磁化特性を発生す
る原因は充分明らかでないが次のように考えられ
る。
る原因は充分明らかでないが次のように考えられ
る。
即ち、基材面に対して垂直にCo原子を入射さ
せて蒸着すると、垂直方向にHCP構造のＣ軸を
配向した柱状粒子構造の薄膜が作成される。この
際、真空容器内にO2ガスを導入すると、蒸着Co
原子の１部が酸化され、Co―Ｏ或はこれに近い
酸化物を同時に析出し、Co粒子の周囲をその非
強磁性酸化物で覆つた膜構造になるものと考えら
れる。従つて、このCo柱状粒子は、結晶異方性
の他に形状磁気異方性も加わつて居り、垂直磁気
異方性を向上させている。以上のような１部酸化
の膜構造になると、膜全体の平均の飽和磁化の値
は低下するので、Ku⊥２πMs2と云う条件が
満足され、垂直磁化特性が得られていると考えら
れる。又、Co柱状粒子の粒径は、数百Å〜数千
Å程度と考えられ、金属微粒状になつているの
で、高い保磁力も得られる。
せて蒸着すると、垂直方向にHCP構造のＣ軸を
配向した柱状粒子構造の薄膜が作成される。この
際、真空容器内にO2ガスを導入すると、蒸着Co
原子の１部が酸化され、Co―Ｏ或はこれに近い
酸化物を同時に析出し、Co粒子の周囲をその非
強磁性酸化物で覆つた膜構造になるものと考えら
れる。従つて、このCo柱状粒子は、結晶異方性
の他に形状磁気異方性も加わつて居り、垂直磁気
異方性を向上させている。以上のような１部酸化
の膜構造になると、膜全体の平均の飽和磁化の値
は低下するので、Ku⊥２πMs2と云う条件が
満足され、垂直磁化特性が得られていると考えら
れる。又、Co柱状粒子の粒径は、数百Å〜数千
Å程度と考えられ、金属微粒状になつているの
で、高い保磁力も得られる。
本発明の上記Co―Ｏ垂直磁化膜には、他の元
素を微量に混入することは差支えない。又Coに
固溶する元素でHCP構造に害を与えない元素、
例えばCr，Ｖ，Mo，Ｗ，Rh，Ti，Re等の微量
の混入も差支えない。
素を微量に混入することは差支えない。又Coに
固溶する元素でHCP構造に害を与えない元素、
例えばCr，Ｖ，Mo，Ｗ，Rh，Ti，Re等の微量
の混入も差支えない。
又、垂直磁気記録方式においては、垂直磁化膜
と非磁性基材面との間にパーマロイ、Fe，Co，
Co―Zr非晶質膜等の比較的軟質磁性を示し、飽
和磁化の大きい磁性体の薄膜を介在させると、記
録電流を小さくでき又再生出力を増大できるの
で、本発明によれば、予め、非磁性基材面に軟磁
性薄膜層を形成した後、その薄膜層の上面に、例
えば、上記の実施例に従い、所定のCo―Ｏ組成
の垂直磁化膜を形成することにより、該軟磁性薄
膜層の介入した本発明垂直磁気記録体を製造する
ことができる。
と非磁性基材面との間にパーマロイ、Fe，Co，
Co―Zr非晶質膜等の比較的軟質磁性を示し、飽
和磁化の大きい磁性体の薄膜を介在させると、記
録電流を小さくでき又再生出力を増大できるの
で、本発明によれば、予め、非磁性基材面に軟磁
性薄膜層を形成した後、その薄膜層の上面に、例
えば、上記の実施例に従い、所定のCo―Ｏ組成
の垂直磁化膜を形成することにより、該軟磁性薄
膜層の介入した本発明垂直磁気記録体を製造する
ことができる。
又、本発明は、フロツピーデイスクに応用する
場合、その基材の片面又は両面に、直接又は該軟
磁性薄膜層の介在した前記所定のCo―Ｏ組成の
垂直磁化膜を形成した本発明の垂直磁気記録体を
製造するようにしてもよい。
場合、その基材の片面又は両面に、直接又は該軟
磁性薄膜層の介在した前記所定のCo―Ｏ組成の
垂直磁化膜を形成した本発明の垂直磁気記録体を
製造するようにしてもよい。
このように本発明によるときは、Co―15〜
50at％Ｏ組成から成るCo―Ｏ組成に薄膜により
良好な垂直磁化膜をもつ垂直磁気記録体が得ら
れ、その製造法は、非磁性基材面に、直接又は軟
磁性薄膜層を介して、Coを蒸着する際、O2ガス
を導入して上記所定のCo―Ｏ組成の垂直磁化膜
を形成するようにしたので、従来のCo―Cr垂直
磁化膜の製造と異なり、均一な垂直磁化膜を長時
間に亘り作成でき、能率良く大量生産でき、又基
材を加熱する必要がなく、常温で安価な基材を使
用しても良好な垂直磁化膜が得られる等の効果を
有する。
50at％Ｏ組成から成るCo―Ｏ組成に薄膜により
良好な垂直磁化膜をもつ垂直磁気記録体が得ら
れ、その製造法は、非磁性基材面に、直接又は軟
磁性薄膜層を介して、Coを蒸着する際、O2ガス
を導入して上記所定のCo―Ｏ組成の垂直磁化膜
を形成するようにしたので、従来のCo―Cr垂直
磁化膜の製造と異なり、均一な垂直磁化膜を長時
間に亘り作成でき、能率良く大量生産でき、又基
材を加熱する必要がなく、常温で安価な基材を使
用しても良好な垂直磁化膜が得られる等の効果を
有する。
第１図は、本発明の製造法を実施する装置の１
例の截断側面線図、第２図Ａ，Ｂ，Ｃは各種Co
―Ｏ組成と磁気特性との関係を示す図、第３図
は、本発明垂直磁化膜の１例のヒステリシス曲線
図を示す。 １…容器、ａ…テープ基材、３…蒸発源、ｂ…
蒸発材料Co、４，５…ローラー、６…酸素ガス
供給管、７…防着板。
例の截断側面線図、第２図Ａ，Ｂ，Ｃは各種Co
―Ｏ組成と磁気特性との関係を示す図、第３図
は、本発明垂直磁化膜の１例のヒステリシス曲線
図を示す。 １…容器、ａ…テープ基材、３…蒸発源、ｂ…
蒸発材料Co、４，５…ローラー、６…酸素ガス
供給管、７…防着板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 非磁性基材面に、直接、又は軟磁性薄膜層を
介してCo―15〜50at％Ｏの組成から成る垂直磁
化膜を備えたことを特徴とする垂直磁気記録体。 ２ 非磁性基材面に、又は予めその面に形成した
軟磁性薄膜層の面に、実質上垂直に入射するよう
にCo原子を真空蒸着させると同時にO2ガスを導
入して、Co―15〜50at％Ｏの組成から成る垂直
磁化膜を形成するようにしたことを特徴とする垂
直磁気記録体の製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58036653A JPS59162622A (ja) | 1983-03-08 | 1983-03-08 | 垂直磁気記録体並にその製造法 |
| EP84301530A EP0122030B1 (en) | 1983-03-08 | 1984-03-08 | A magnetic recording member and a manufacturing method for such a member |
| DE8484301530T DE3465647D1 (en) | 1983-03-08 | 1984-03-08 | A magnetic recording member and a manufacturing method for such a member |
| US07/412,535 US5024854A (en) | 1983-03-08 | 1989-09-22 | Method of manufacturing perpendicular type magnetic recording member |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58036653A JPS59162622A (ja) | 1983-03-08 | 1983-03-08 | 垂直磁気記録体並にその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59162622A JPS59162622A (ja) | 1984-09-13 |
| JPS6255207B2 true JPS6255207B2 (ja) | 1987-11-18 |
Family
ID=12475810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58036653A Granted JPS59162622A (ja) | 1983-03-08 | 1983-03-08 | 垂直磁気記録体並にその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59162622A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS615425A (ja) * | 1984-06-19 | 1986-01-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS6199924A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JP2579184B2 (ja) * | 1987-03-30 | 1997-02-05 | 日立マクセル株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JP2546268B2 (ja) * | 1987-05-22 | 1996-10-23 | ソニー株式会社 | 垂直磁気記録媒体 |
| US5792564A (en) * | 1993-03-10 | 1998-08-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Perpendicular recording medium and magnetic recording apparatus |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5654635A (en) * | 1979-10-08 | 1981-05-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Vertical magnetic recording medium |
| JPS5724022A (en) * | 1980-07-16 | 1982-02-08 | Toshiba Corp | Production of magnetic recording substance |
| JPS5729770A (en) * | 1980-07-25 | 1982-02-17 | Nakaya Shoji Kk | Hinge |
| JPS57113417A (en) * | 1980-12-29 | 1982-07-14 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| JPS59140629A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-13 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
-
1983
- 1983-03-08 JP JP58036653A patent/JPS59162622A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5654635A (en) * | 1979-10-08 | 1981-05-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Vertical magnetic recording medium |
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| JPS59140629A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-13 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59162622A (ja) | 1984-09-13 |
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