JPS625105A - 導波型光変位センサ - Google Patents
導波型光変位センサInfo
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- JPS625105A JPS625105A JP14263885A JP14263885A JPS625105A JP S625105 A JPS625105 A JP S625105A JP 14263885 A JP14263885 A JP 14263885A JP 14263885 A JP14263885 A JP 14263885A JP S625105 A JPS625105 A JP S625105A
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- waveguide
- optical waveguide
- optical
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の要約
光干渉のための少なくとも2つの光導波路が基板に形成
されており、この基板の光導波路の出射端と被測定物体
上の反射面との間にレンズ手段がそれぞれ設けられ、こ
れらのレンズ手段によって上記出射端から出射される信
号光がコリメートされるとともに、上記反射面からの反
射光が集光され、さらに上記少なくとも2つの光導波路
の一方に位相シフト手段が設けられていることを特徴と
する導波−型光変位センサ。
されており、この基板の光導波路の出射端と被測定物体
上の反射面との間にレンズ手段がそれぞれ設けられ、こ
れらのレンズ手段によって上記出射端から出射される信
号光がコリメートされるとともに、上記反射面からの反
射光が集光され、さらに上記少なくとも2つの光導波路
の一方に位相シフト手段が設けられていることを特徴と
する導波−型光変位センサ。
発明の背景
この発明は、基板上に光導波路を用いてマイケルソン干
渉計を作製し、基板上の反射面で反射する参照光と基板
外の被測定物体上の反射面で反射する信号光との干渉に
よる光強度変化に基づいて被測定物体の変位量を計測す
る導波型光変位センサに関する。
渉計を作製し、基板上の反射面で反射する参照光と基板
外の被測定物体上の反射面で反射する信号光との干渉に
よる光強度変化に基づいて被測定物体の変位量を計測す
る導波型光変位センサに関する。
このような導波型光変位センサにおいては、基板の3次
元光導波路から出射する信号光が拡散することは避けら
れず、したがって被測定物体の反射面で反射して基板の
光導波路に戻りかつ入射する光の量が少なくなってしま
うという問題がある。被測定物体の変位量がきわめてわ
ずか(たとえば数十μm程度)であればかなりの反射光
量が基板の光導波路に戻るが、被測定物体の変位が大き
くなるともはや測定可能な量の信号光が得られなくなっ
てしまう。
元光導波路から出射する信号光が拡散することは避けら
れず、したがって被測定物体の反射面で反射して基板の
光導波路に戻りかつ入射する光の量が少なくなってしま
うという問題がある。被測定物体の変位量がきわめてわ
ずか(たとえば数十μm程度)であればかなりの反射光
量が基板の光導波路に戻るが、被測定物体の変位が大き
くなるともはや測定可能な量の信号光が得られなくなっ
てしまう。
また、従来の導波型光変位センサでは被測定物体の変位
の方向を判別することはできなかった。
の方向を判別することはできなかった。
発明の概要
この発明は、変位n1定距離が長くかつ変位方向の判別
の可能な導波型光変位センサを提供することを目的とす
る。
の可能な導波型光変位センサを提供することを目的とす
る。
この発明による導波型光変位センサは、光干渉のための
少なくとも2つの光導波路が形成された基板、この基板
の光導波路の出射端と被測定物体上の反射面との間にそ
れぞれ設けられ、上記出射端から出力される信号光をコ
リメートするためのおよび上記反射面での反射光を集光
するための2つのレンズ手段、上記少なくとも2つの光
導波路の一方に設けられた導波光の位相シフト手段、な
らびに参照光を得るために、基板の光導波路端面に形成
された反射手段を備えていることを特徴とする。
少なくとも2つの光導波路が形成された基板、この基板
の光導波路の出射端と被測定物体上の反射面との間にそ
れぞれ設けられ、上記出射端から出力される信号光をコ
リメートするためのおよび上記反射面での反射光を集光
するための2つのレンズ手段、上記少なくとも2つの光
導波路の一方に設けられた導波光の位相シフト手段、な
らびに参照光を得るために、基板の光導波路端面に形成
された反射手段を備えていることを特徴とする。
信号光と参照光とが基板の光導波路を伝播する過程でこ
れらの2つの光が干渉し、これらの2つの光の位相差に
応じた強度の干渉光が得られる。
れらの2つの光が干渉し、これらの2つの光の位相差に
応じた強度の干渉光が得られる。
参照先の位相は常に一定であり、信号光の位相は被測定
物体の位置によって変化する。したがって干渉光の強度
変化により被測定物体の変位量が測定される。
物体の位置によって変化する。したがって干渉光の強度
変化により被測定物体の変位量が測定される。
上記2つのレンズ手段により、基板の2つの光導波路か
ら出射する信号光がそれぞれコリメートされて被測定物
体上の反射面にあたり、この反射面からの反射光は上記
レンズ手段により集光されて基板の光導波路にそれぞれ
入射する。基板の光導波路にそれぞれ入射する信号光の
光量は被測定物体が大きく変位してもほとんど変動しな
いので、長い測定距離を得ることができる。
ら出射する信号光がそれぞれコリメートされて被測定物
体上の反射面にあたり、この反射面からの反射光は上記
レンズ手段により集光されて基板の光導波路にそれぞれ
入射する。基板の光導波路にそれぞれ入射する信号光の
光量は被測定物体が大きく変位してもほとんど変動しな
いので、長い測定距離を得ることができる。
上記少なくとも2つの光導波路の一方には位相シフト手
段が設けられている。したがって9両光導波路から得ら
れる干渉光強度の周期的な変化は、上記位相シフト手段
によって強制的にシフトされた位相に対応する位相量だ
け相互にずれている。この2つの干渉光の位相のずれに
より被測定物体の移動方向を判別することが可能となる
。
段が設けられている。したがって9両光導波路から得ら
れる干渉光強度の周期的な変化は、上記位相シフト手段
によって強制的にシフトされた位相に対応する位相量だ
け相互にずれている。この2つの干渉光の位相のずれに
より被測定物体の移動方向を判別することが可能となる
。
基板の光導波路端面に形成される反射手段は金属薄膜の
蒸着等により実現することができる。この金属薄膜の厚
さを変えることにより金属薄膜で反射する光の光量、す
なわち参照光強度を制御することができる。参照光強度
を信号光の強度とほぼ同じ程度にすることにより干渉光
の光強度変化の消光比をよくすることができる。消光比
がよければ後段の光信号処理が容易となる。
蒸着等により実現することができる。この金属薄膜の厚
さを変えることにより金属薄膜で反射する光の光量、す
なわち参照光強度を制御することができる。参照光強度
を信号光の強度とほぼ同じ程度にすることにより干渉光
の光強度変化の消光比をよくすることができる。消光比
がよければ後段の光信号処理が容易となる。
実施例の説明
第1図はこの発明による導波型光変位センサの一例を、
第2図は変位測定システムの全体をそれぞれ示している
。
第2図は変位測定システムの全体をそれぞれ示している
。
基板1.たとえばL i N b OaにTLを熱拡散
することにより2つの非対称X分岐型光導波路10、2
0が形成されている。光導波路10は4つの光導波路1
1〜14を含み、光導波路10はこれらの光導波路11
−14がそれらの一端でX字状に結合することにより構
成されており、光導波路12の巾は他の光導波路11.
13.14の巾よりも狭くつくられている。光導波路2
0も同じように4つの光導波路21〜24から構成され
ている。そして、光導波路11と21とがその入力端で
共通に形成され、それぞれのX字詰合部に向ってY字状
に分岐している。このような非対称X分岐型光導波路の
詳細は、導波形光ビーム・スプリッタとして特開昭58
−202406 (特願昭57−86178)に開示さ
れている。
することにより2つの非対称X分岐型光導波路10、2
0が形成されている。光導波路10は4つの光導波路1
1〜14を含み、光導波路10はこれらの光導波路11
−14がそれらの一端でX字状に結合することにより構
成されており、光導波路12の巾は他の光導波路11.
13.14の巾よりも狭くつくられている。光導波路2
0も同じように4つの光導波路21〜24から構成され
ている。そして、光導波路11と21とがその入力端で
共通に形成され、それぞれのX字詰合部に向ってY字状
に分岐している。このような非対称X分岐型光導波路の
詳細は、導波形光ビーム・スプリッタとして特開昭58
−202406 (特願昭57−86178)に開示さ
れている。
この実施例に関連する範囲でこの非対称X分岐型光導波
路10(同20も同じ)の動作を説明すると次のように
なる。光導波路11を伝播する光は2つの光導波路13
と14に等しく分岐して進行していく。光導波路13と
14をX字詰合部に向って伝播する光は、これらの光の
位相が等しい場合には光導波路11に戻る。光導波路1
3と14の光が逆位相(位相が180”異なる)場合に
はこれらの光は光導波路・12に進む。したがって、光
導波路12には光導波路13.14をX字詰合部に向う
光の位相差に応じた強度の光が得られる。
路10(同20も同じ)の動作を説明すると次のように
なる。光導波路11を伝播する光は2つの光導波路13
と14に等しく分岐して進行していく。光導波路13と
14をX字詰合部に向って伝播する光は、これらの光の
位相が等しい場合には光導波路11に戻る。光導波路1
3と14の光が逆位相(位相が180”異なる)場合に
はこれらの光は光導波路・12に進む。したがって、光
導波路12には光導波路13.14をX字詰合部に向う
光の位相差に応じた強度の光が得られる。
上述の説明は、光導波路11.12と光導波路13゜1
4とを交換しても同じようにあてはまる。
4とを交換しても同じようにあてはまる。
光導波路11と21の共通入力端の端部には入力用光フ
ァイバ31が、光導波路12.22の端部には出力用光
ファイバ32.33がそれぞれ接続されている。
ァイバ31が、光導波路12.22の端部には出力用光
ファイバ32.33がそれぞれ接続されている。
入力用光ファイバ31としては偏波面保存光ファイバが
用いられている。レーザ光源41からのレーザ光がアイ
ソレータ42およびレンズ43を介して光ファイバ31
に導入される。アイソレータ42はレーザ41から光フ
ァイバ31への光の進行を許し、これとは逆方向に進む
光を遮断するものであり、光の偏波方向に基づいてこの
作用を行なう。出力用光ファイ/<32.33としては
マルチモード光ファイバが用いられている。これらの光
ファイバ32.33+:よりて導かれる出力光は受光素
子44A、44Bにそれぞれ入射し、それらの光強度を
表わす電気信号にそれぞれ変換される。
用いられている。レーザ光源41からのレーザ光がアイ
ソレータ42およびレンズ43を介して光ファイバ31
に導入される。アイソレータ42はレーザ41から光フ
ァイバ31への光の進行を許し、これとは逆方向に進む
光を遮断するものであり、光の偏波方向に基づいてこの
作用を行なう。出力用光ファイ/<32.33としては
マルチモード光ファイバが用いられている。これらの光
ファイバ32.33+:よりて導かれる出力光は受光素
子44A、44Bにそれぞれ入射し、それらの光強度を
表わす電気信号にそれぞれ変換される。
基板1の光導波路13.23の端面にはAuを蒸着する
ことにより反射膜2が形成されている。非対称X分岐型
光導波路10において、光導波路11に導かれかつ光導
波路13と14に等しく分岐した光のうち光導波路13
を進む光はこの反射膜2で反射してX字詰合部に向う。
ことにより反射膜2が形成されている。非対称X分岐型
光導波路10において、光導波路11に導かれかつ光導
波路13と14に等しく分岐した光のうち光導波路13
を進む光はこの反射膜2で反射してX字詰合部に向う。
この光が参照光である。参照光の強度は反射膜スの膜厚
により定めることができる。非対称X分岐型光導波路2
0においても、光導波路23から同様にして参照光を得
ることができる。
により定めることができる。非対称X分岐型光導波路2
0においても、光導波路23から同様にして参照光を得
ることができる。
被測定物体であるまたは被測定物体に取付けられもしく
は接触しているアクチュエータ(図示略)のロッド6の
先端に可動ミラー4が取付は固定されている。基板1の
光導波路14および24の端面と可動ミラー4との間に
それぞれロッド・レンズ(屈折率分布型レンズ)3が設
けられかつ適当な固定手段により固定されている。この
ロッド・レンズ3の焦点面は光導波路14.24の出射
端にそれぞれ位置している。すなわち、一方のロッド・
レンズについて第4図(B)に示されているように。
は接触しているアクチュエータ(図示略)のロッド6の
先端に可動ミラー4が取付は固定されている。基板1の
光導波路14および24の端面と可動ミラー4との間に
それぞれロッド・レンズ(屈折率分布型レンズ)3が設
けられかつ適当な固定手段により固定されている。この
ロッド・レンズ3の焦点面は光導波路14.24の出射
端にそれぞれ位置している。すなわち、一方のロッド・
レンズについて第4図(B)に示されているように。
光導波路14を伝播しその端部から出射した光はロッド
・レンズ3でコリメートされて可動ミラー4に当り、そ
の反射光はロッド・レンズ3によって光導波路14の出
射端付近に丁度集光され、光導波路14に入射しかつX
字詰合部に向って伝播していく。この光が信号光である
。一方の非対称X分岐型光導波路10の光導波路14の
みならず、他方の非対称X分岐型光導波路20の光導波
路24からも同じようにして信号光が得られる。
・レンズ3でコリメートされて可動ミラー4に当り、そ
の反射光はロッド・レンズ3によって光導波路14の出
射端付近に丁度集光され、光導波路14に入射しかつX
字詰合部に向って伝播していく。この光が信号光である
。一方の非対称X分岐型光導波路10の光導波路14の
みならず、他方の非対称X分岐型光導波路20の光導波
路24からも同じようにして信号光が得られる。
まず変位測定原理について説明する。一方の光導波路I
Oにのみ着目する。
Oにのみ着目する。
上述したように、光導波路13の参照光と光導波路14
の信号光との位相差に応じた強度の出力光が光導波路1
2に得られ、この出力光は光ファイバ32により受光素
子44Aに導かれる。参照光と信号光の位相差は、これ
ら2つの光の間の光路差、すなわち可動ミラー4の変位
量に依存している。出力光強度の変位f1(光路差)に
対する変化が第3図に実線で示されている。出力光強度
は光路差の変化に対してλ(光の波長)の周期で正弦的
に変化する。信号光はロッド・レンズ3と可動ミラー4
との間を往復するので光路差は可動ミラー4の変位量の
2倍に等しい。
の信号光との位相差に応じた強度の出力光が光導波路1
2に得られ、この出力光は光ファイバ32により受光素
子44Aに導かれる。参照光と信号光の位相差は、これ
ら2つの光の間の光路差、すなわち可動ミラー4の変位
量に依存している。出力光強度の変位f1(光路差)に
対する変化が第3図に実線で示されている。出力光強度
は光路差の変化に対してλ(光の波長)の周期で正弦的
に変化する。信号光はロッド・レンズ3と可動ミラー4
との間を往復するので光路差は可動ミラー4の変位量の
2倍に等しい。
出力光信号は受光素子44Aで電気信号に変換されたの
ち、高、低2つのスレシホールド◆レベル81、S2を
もつ回路45Aでレベル弁別され、2値化される(第3
図参照)。この2値信号の立上りおよび/または立下り
がカウンタ46Aによって計数される。したがって、可
動ミラー4の変位量はλ/2−またはλ/4単位で測定
される。たとえば光源41として波長λ−0,8μmの
レーザーダイオードを用いた場合には0.4μmまたは
0.2μm単位で変位測定が可能となる。
ち、高、低2つのスレシホールド◆レベル81、S2を
もつ回路45Aでレベル弁別され、2値化される(第3
図参照)。この2値信号の立上りおよび/または立下り
がカウンタ46Aによって計数される。したがって、可
動ミラー4の変位量はλ/2−またはλ/4単位で測定
される。たとえば光源41として波長λ−0,8μmの
レーザーダイオードを用いた場合には0.4μmまたは
0.2μm単位で変位測定が可能となる。
次に変位方向判別原理について説明する。
他方の光導波路20においても、光導波路10と基本的
には同じ動作が行なわれ、光ファイバ33によって導か
れた出力光に対して受光素子44B、スレシホールド回
路45Bおよびカウンタ4BBも上述のものと同じよう
に動作する。
には同じ動作が行なわれ、光ファイバ33によって導か
れた出力光に対して受光素子44B、スレシホールド回
路45Bおよびカウンタ4BBも上述のものと同じよう
に動作する。
非対称X分岐型光導波路20においては、その光導波路
23の両側の位置において基板1に位相シフト用の溝2
5が形成されており、光導波路23を伝播する参照光の
位相が所定量シフトされている。その結果、光導波路2
2から得られる出力光は第3図に破線で示すように、光
導波路12から得られる出力光に対して位相がずれてい
る。この実施例では出力光強度の178周期だけ位相シ
フトが与え゛られている。したがって、スレシホールド
回路45Bから得られる2値信号も破線で示されている
ように同回路45Aの出力2値信号と位相がずれている
。
23の両側の位置において基板1に位相シフト用の溝2
5が形成されており、光導波路23を伝播する参照光の
位相が所定量シフトされている。その結果、光導波路2
2から得られる出力光は第3図に破線で示すように、光
導波路12から得られる出力光に対して位相がずれてい
る。この実施例では出力光強度の178周期だけ位相シ
フトが与え゛られている。したがって、スレシホールド
回路45Bから得られる2値信号も破線で示されている
ように同回路45Aの出力2値信号と位相がずれている
。
このような2値信号は微分回路47A、 47Bでその
立上りおよび/または立下りが検出され、この微分され
た信号が方向判別回路48に入力する。
立上りおよび/または立下りが検出され、この微分され
た信号が方向判別回路48に入力する。
可動ミラー4が基板1から遠ざかる方向に動くときには
、スレシホールド回路45Aの出力信号の立上り(立下
り)が同回路45Bの出力信号の立上り(立′下り)よ
りも先に現われ、可動ミラー4が逆方向に動くときには
これらの2つの信号の変化の順序が逆になる。2つの微
分回路47A、47Bの出力の変化が現われる順序に基
づいて可動ミラー4の移動方向が判別回路48により判
別される。方向判別回路48はCPUによって構成する
ことも可能である。
、スレシホールド回路45Aの出力信号の立上り(立下
り)が同回路45Bの出力信号の立上り(立′下り)よ
りも先に現われ、可動ミラー4が逆方向に動くときには
これらの2つの信号の変化の順序が逆になる。2つの微
分回路47A、47Bの出力の変化が現われる順序に基
づいて可動ミラー4の移動方向が判別回路48により判
別される。方向判別回路48はCPUによって構成する
ことも可能である。
基板の光導波路を伝播する光に位相シフトを与える手段
としては、上述の溝の他に、光導波路に電圧や圧力を加
える手段、光導波路に装荷されたSiO□等の薄膜等が
ある。
としては、上述の溝の他に、光導波路に電圧や圧力を加
える手段、光導波路に装荷されたSiO□等の薄膜等が
ある。
光導波路13.23の出射端における光の反射率と透過
率は反射膜2の膜厚によって定まる。したがって2反射
膜2の厚さを制御することにより参照光と信号光の強度
の比を任意に定めることができ、これを1=1とするこ
ともできる。このことにより、出力光の光強度変化の消
光比を良好にすることができる。
率は反射膜2の膜厚によって定まる。したがって2反射
膜2の厚さを制御することにより参照光と信号光の強度
の比を任意に定めることができ、これを1=1とするこ
ともできる。このことにより、出力光の光強度変化の消
光比を良好にすることができる。
光導波路14.24の出射端と可動ミラー4との間には
ロッドφレンズ3が設けられ、光導波路14゜24かう
出射した光はこのレンズ3によって平行光に変換される
。可動ミラー4が動くことによりレンズ3とミラー4と
の間の距離が変動しても、ミラー4に向いかつ反射され
る光は平行光であるからほとんど拡散しない。また、ミ
ラー4の反射光はレンズ3により集光されて光導波路1
4.24にそれぞれに入射する。したがってミラー4の
位置にほとんど関係なく光導波路14.24に戻る反射
光強度をほぼ一定に保持することができる。可動ミラー
4の変位に対して信号光強度をほぼ一定に保持できるの
で正確な変位測定が可能となるとともに、変位量の測定
可能範囲が拡大される。
ロッドφレンズ3が設けられ、光導波路14゜24かう
出射した光はこのレンズ3によって平行光に変換される
。可動ミラー4が動くことによりレンズ3とミラー4と
の間の距離が変動しても、ミラー4に向いかつ反射され
る光は平行光であるからほとんど拡散しない。また、ミ
ラー4の反射光はレンズ3により集光されて光導波路1
4.24にそれぞれに入射する。したがってミラー4の
位置にほとんど関係なく光導波路14.24に戻る反射
光強度をほぼ一定に保持することができる。可動ミラー
4の変位に対して信号光強度をほぼ一定に保持できるの
で正確な変位測定が可能となるとともに、変位量の測定
可能範囲が拡大される。
第4図は、この発明によって光導波路14の出射端と可
動ミラー4との間にロッド・レンズ3を介在させた状態
と′(第4図(B))、介在させない状態(第4図(A
))とを示している。レンズなしの従来例(第4図(A
))では、光導波路14から出射した光が拡散し、可動
ミラー4の反射光のほとんどが光導波路14の端面以外
の場所に向っていってしまう。
動ミラー4との間にロッド・レンズ3を介在させた状態
と′(第4図(B))、介在させない状態(第4図(A
))とを示している。レンズなしの従来例(第4図(A
))では、光導波路14から出射した光が拡散し、可動
ミラー4の反射光のほとんどが光導波路14の端面以外
の場所に向っていってしまう。
第5図は、従来例であるレンズなしの場合とこの発明に
よるレンズありの場合とにおける光導波路14に戻る信
号光強度の変化を可動ミラーの変位量に対して示すもの
である。この実験結果によると、レンズなしの従来例に
おいては、光導波路14端面と可動ミラー4との間の距
離が50μm程度でも信号光強度は半減してしまうのに
対して(黒丸)、この発明のレンズありの場合には距離
が10mmに達しても信号光強度の減衰量はきわめて小
さい。
よるレンズありの場合とにおける光導波路14に戻る信
号光強度の変化を可動ミラーの変位量に対して示すもの
である。この実験結果によると、レンズなしの従来例に
おいては、光導波路14端面と可動ミラー4との間の距
離が50μm程度でも信号光強度は半減してしまうのに
対して(黒丸)、この発明のレンズありの場合には距離
が10mmに達しても信号光強度の減衰量はきわめて小
さい。
第6図は、可動ミラー4を周期的に振動させた実験にお
いて、出力光強度の変化とこの振動におけるミラー4の
移動量とをオシロスコープに映し出し、これを写真撮影
したものをトレースしたものである。Aは可動ミラー4
の移動量を。
いて、出力光強度の変化とこの振動におけるミラー4の
移動量とをオシロスコープに映し出し、これを写真撮影
したものをトレースしたものである。Aは可動ミラー4
の移動量を。
Bは出力光強度の変化をそれぞれ示している。
可動ミラー4の移動量に対して出力光強度(振中値)が
ほとんど変化していないことが分るであろう。
ほとんど変化していないことが分るであろう。
上記実施例では基板1に非対称X分岐型光導波路10.
20が形成されているが、他の光導波路によりマイケル
ソン型の干渉計を構成することもできる。たとえば、第
7図(A)に示すようなY字型の光導波路、同図(B)
に示すような方向性結合器を含む光導波路、同図(C)
に示すような単なる1本の光導波路でもよい。第7図(
C)の構成においては1反射膜2はかなり透過率の高い
ものとし、この反射膜2を透過した光が信号光となる。
20が形成されているが、他の光導波路によりマイケル
ソン型の干渉計を構成することもできる。たとえば、第
7図(A)に示すようなY字型の光導波路、同図(B)
に示すような方向性結合器を含む光導波路、同図(C)
に示すような単なる1本の光導波路でもよい。第7図(
C)の構成においては1反射膜2はかなり透過率の高い
ものとし、この反射膜2を透過した光が信号光となる。
またこれらの図においてロッド・レンズは省略されてい
る。
る。
レンズ手段もロッド・レンズ以外に通常の凸レンズ、マ
イクロ・レンズ等を使用することができる。
イクロ・レンズ等を使用することができる。
第1図は導波型光変位センサの一例を示す平面図、第2
図は光変位測定システム全体を示す構成図、第3図は出
力光強度とそれに基づいて作成された2値信号を示す波
形図、第4図は従来例とこの発明の構成の相違を示す図
、第5図はこの構成の相違が光強度に及ぼす影響を示す
グラフ、第6図はオシロスロープの波形をトレースした
図であって変位量と出力光強度変化を示しており、第7
図は基板上の光導波路の他の例を示す概略平面図である
。 1・・・基板、 2・・・反射膜。 3・・・ロッド・レンズ、 4・・・可動ミラー。 l0120・・・非対称X分岐光導波路。 11−14.21〜24・・・光導波路。 25・・・位相シフト用溝。 以 上 特許出願人 立石電機株式会社 代 理 人 牛 久 健 司 外1名
第3FIA 第4図 第6WJ −一一一一、?
図は光変位測定システム全体を示す構成図、第3図は出
力光強度とそれに基づいて作成された2値信号を示す波
形図、第4図は従来例とこの発明の構成の相違を示す図
、第5図はこの構成の相違が光強度に及ぼす影響を示す
グラフ、第6図はオシロスロープの波形をトレースした
図であって変位量と出力光強度変化を示しており、第7
図は基板上の光導波路の他の例を示す概略平面図である
。 1・・・基板、 2・・・反射膜。 3・・・ロッド・レンズ、 4・・・可動ミラー。 l0120・・・非対称X分岐光導波路。 11−14.21〜24・・・光導波路。 25・・・位相シフト用溝。 以 上 特許出願人 立石電機株式会社 代 理 人 牛 久 健 司 外1名
第3FIA 第4図 第6WJ −一一一一、?
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 光干渉のための少なくとも2つの光導波路が形成された
基板、 この基板の光導波路の出射端と被測定物体上の反射面と
の間にそれぞれ設けられ、上記出射端から出力される信
号光をコリメートするためのおよび上記反射面での反射
光を集光するための2つのレンズ手段、 上記少なくとも2つの光導波路の一方に設けられた導波
光の位相シフト手段、ならびに 参照光を得るために、基板の光導波路端面に形成された
反射手段、 を備えた導波型光変位センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14263885A JPS625105A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 導波型光変位センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14263885A JPS625105A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 導波型光変位センサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS625105A true JPS625105A (ja) | 1987-01-12 |
Family
ID=15320001
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14263885A Pending JPS625105A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 導波型光変位センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS625105A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6412204A (en) * | 1987-07-07 | 1989-01-17 | Topcon Corp | Optical ic interferometer |
KR20210041093A (ko) * | 2018-10-02 | 2021-04-14 | 블랙모어 센서스 앤드 애널리틱스, 엘엘씨 | 코히런트 lidar의 스캐닝을 최적화하기 위한 방법 및 시스템 |
WO2021116751A1 (en) * | 2019-12-11 | 2021-06-17 | Rockley Photonics Limited | Optical device for heterodyne interferometry |
-
1985
- 1985-07-01 JP JP14263885A patent/JPS625105A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6412204A (en) * | 1987-07-07 | 1989-01-17 | Topcon Corp | Optical ic interferometer |
KR20210041093A (ko) * | 2018-10-02 | 2021-04-14 | 블랙모어 센서스 앤드 애널리틱스, 엘엘씨 | 코히런트 lidar의 스캐닝을 최적화하기 위한 방법 및 시스템 |
KR20220025162A (ko) * | 2018-10-02 | 2022-03-03 | 블랙모어 센서스 앤드 애널리틱스, 엘엘씨 | 코히런트 lidar의 스캐닝을 최적화하기 위한 방법 및 시스템 |
US11953677B2 (en) | 2018-10-02 | 2024-04-09 | Aurora Operations Inc. | Method and system for optimizing scanning of coherent LIDAR |
WO2021116751A1 (en) * | 2019-12-11 | 2021-06-17 | Rockley Photonics Limited | Optical device for heterodyne interferometry |
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