JPS6245109A - 熱処理装置 - Google Patents

熱処理装置

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Publication number
JPS6245109A
JPS6245109A JP18414085A JP18414085A JPS6245109A JP S6245109 A JPS6245109 A JP S6245109A JP 18414085 A JP18414085 A JP 18414085A JP 18414085 A JP18414085 A JP 18414085A JP S6245109 A JPS6245109 A JP S6245109A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fork
furnace body
heat treatment
cartridge
furnace
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18414085A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuya Takagaki
哲也 高垣
Toshiyuki Uchino
内野 敏幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS6245109A publication Critical patent/JPS6245109A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Heat Treatments In General, Especially Conveying And Cooling (AREA)
  • Furnace Charging Or Discharging (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [技術分野] 本発明は半導体装置等の製造における不純物拡散処理等
に使用される熱処理装置に適用して有効な技術に関する
[背景技術] イオン注入によって半導体ウェハ(以下単にウェハとい
う)に導入された不純物の活性化等を行うために、ウェ
ハを所定の流体雰囲気内で加熱する熱処理装置が知られ
ている。
このような熱処理装置としては、例えば一端に出入口を
備えた電気炉構造のもので、ボート状の治具にウェハを
複数枚立設した状態で炉内に搬入し、処理後に再度前記
ボートを引き戻して冶具とともにウェハを外部に搬出す
るものが広く知られている。
しかし上記構造の熱処理装置では、電気炉の一方向のみ
から治具の出入を行う構造であるため、冶具内のウェハ
の収容位置によってウェハが受ける熱量が異なり、その
ために均一な処理が期待できない。また、上記の構造で
は搬入および搬出を同時に行うことができないため、処
理効率が良好でないことが本発明者によって明らかにさ
れた。
そのため、特開昭56−110228号公報、あるいは
特開昭58−220423号公報に記載されているよう
に、炉体に対してウェハを一方向から搬入して他方向に
搬出する移送構造を存する熱処理装置が考えられる。
ところが上記中、前者のものは炉内に延設された送りね
じのねじ溝にウェハを立設した状態で、該送りねじを回
転させることにより炉内のウェハを連続的に移動させる
構造のものであるが、ねじ部とウェハの摩擦によるウェ
ハの撰傷、あるいは発塵等を生じる場合のあることが本
発明者によって見い出された。
また、後者のものは窒素ガスなどの不活性流体の流体圧
により被処理物を搬送する構造のものであるが、搬送時
間を一定に維持管理できずに処理が不均一になるおそれ
があり、また流体とともに塵埃等の異物を炉内に巻き込
む可能性もあることが本発明者によって見い出された。
このため、コンベア機構等の移送手段によって等速度で
炉内を通過させることも考えられるが、係る手段では炉
内中央の均熱領域もしくは炉内端部の非均熱領域で、と
もにウェハは等速で連続移動されるため、均熱領域での
十分な加熱を行えないことがさらに本発明者によって明
らかにされた。
[発明の目的] 本発明の目的は、均一な処理を行うことのできる熱処理
装置を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
[発明の概要コ 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、炉体の一方向から他方向に被処理物を順次移
送させるとともに炉体内の均熱$■域で被処理物を所定
時間停止させる被処理物移送機構を備えた熱処理装置構
造とすることにより、被処理物の連続的処理を可能にす
るとともに均熱領域での加熱処理を効率的に行うことが
でき、均一な処理が可能となる。
[実施例] 第1図(al〜f11は本発明の一実施例である熱処理
装置の搬送動作を順次示す説明図、第2図は熱処理装置
の全体を示す概略図、第3図は炉体の内部を示す断面図
である。
本実施例の熱処理装置lは、半導体装置の製造に用いら
れるウェハ2(第3図参照)を所定温度で加熱処理する
ためのものであり、水平方向に延設された円筒形状の炉
体3と、前記炉体3の周囲に設けられたヒータ4とを有
しており、このヒータ・1により、炉体3の内部が常に
所定の温度条件で維持されるようになっている。また、
炉体3の内部には上方に流体供給管5が配管され、該流
体供給管6には第3図に示すように複数の流体供給口5
aが開設されており、炉体3内に窒素ガス等の流体6を
供給できるようになっている。さらに、炉体3の内側面
にはガイドレール7が軸方向と平行に延設されており、
このガイドレール7に懸架された状態で、被処理物であ
るウェハ2を複数枚収容したカートリ、ジ8が炉体3の
内部で保持される構造となっている。
上記で説明した炉体3は、たとえば石英等からなり、直
径が1501−程度のウェハの処理を行うものであれば
、炉体3の内径は200龍程度のもので十分である。
またカートリッジ8は石英もしくはフッ素樹脂等の耐熱
性が良好な材質のものからなり、複数枚のウェハ2を並
列に立設支持する溝(図示せず)が形成された複数本の
支持棒8aを、図示しない結合材で結合した構造を有し
ている。
炉体3の内部には下方に移動フォーク9が取付けられて
おり、前記カートリッジ8はこの移動フォーク9に載置
された状態で炉体3の内部を移動されるようになってい
る。該フォーク9は上下動が可能であり、所定の上段位
置、中段位置または下段位置での停止が可能となってい
る。また、前記上下動とともに、水平方向には等速度で
連続移動が可能な機構となっている。なお、前記フォー
ク9の中央部位には前記カートリッジ3個分程度の長さ
にわたって凹部9a(第2図)が形成されており、該凹
部9a上では前記フォーク9が上段位置にあるときのみ
該凹部9a上のカートリッジ8の移動が可能な構造とな
っている。
ここで、フォークの上下方向の位置とカートリッジの位
置関係からその機能を説明すると、下段位置にフォーク
9があるときはガイドレール7に懸架されたカートリッ
ジ8はフォーク9から離脱された状態となり、この位置
でフォーク9が水平方向に移動してもカートリッジ8は
移動しない構造となっている。また中段位置にフォーク
9があるときには前記凹部9a上にあるカートリッジを
除いてガイドレール7に懸架されたカートリッジの水平
方向への移動がフォーク9の移動によって可能になって
いる。さらに、上段位置にフォーク9が位置していると
きには、前記凹部9a上にあるカートリッジも含めて、
ガイドレール7に懸架された状態の全てのカートリッジ
が、フォーク9の移動によって移動可能となっている。
次に、本実施例の作用を第1図に基づいて説明する。
なお、第1図ではヒータ4によって形成される炉体3内
の均熱領域Rは便宜上、第一ゾーンR1および第二ゾー
ンR2とに分割しである。
まず、ヒータ4により炉体3の内部が所定の温度条件に
加熱されると、第3図に示すように、流体供給管5の流
体供給口5aより窒素ガスあるいはアルゴン等の流体6
が炉体3の内部に供給される。
このようにして、炉体3の内部が所定の雰囲気になった
状態で、第1図fatに示すように被処理物であるウェ
ハ2を複数枚立設した状態のカートリッジAがフォーク
9上に供給される。このときフォーク9は中段位置にあ
り、この中段位置の状態のまま該フォーク9は水平方向
に移動して、f2置されたカートリッジAはヒータ4に
よる均熱領域Rの直前位置まで移動される(第1図(b
))。次に、フォーク9は上段位置まで上昇してカート
リッジAを載置した状態でカートリッジAを均熱領域R
の第一ゾーンR1まで移動する(同図(C))。その後
、フォーク9は下段まで下降して、水平方向に復動して
さらに上昇し、中段位置となり初期の位置に戻る(同図
(d))。
この位置で今度は新たなカートリッジBがフォーク上に
供給されると(同図(el)、前記と同様にフォークの
動作によりカートリッジBはヒータによる均熱領域の直
前位置まで移動される(同図(fl)、このとき均熱領
域Rの第一ゾーンR1にあるカートリッジAは、フォー
ク9が中段位置で水平方向に移動してもその凹部9a上
のガイドレール7に懸架されており、フォーク9とは非
接触の状態であるため、その位置は移動しない。
次に、フォーク9が上段に上昇して、さらに水平方向に
移動し、カートリッジAおよびBを移υJする(同図(
す)、このようにして、均熱領域Rの直前位置に載置さ
れていたカートリッジBは第一ゾーンR1に移送され、
第一ゾーンR1のカートリッジAは第二ゾーンR2に移
送される0次に、フォークは下段に下降して前記と同じ
動作により再度初期位置に戻る(同図(h))。このと
き、フォークが中段位置に戻ると、均熱領域R内のカー
トリッジA、Bのうち、第二ゾーンR2のカートリッジ
Aはフォーク9と接触状態となり、一方第二ゾーンR2
のカートリッジBは凹部9a上にあるためフォーク9と
は非接触の状態となっている。
したがって、この初期位置で、さらに新たなカートリッ
ジCが供給されてフォークが水平方向に移動すると、カ
ートリッジAのみが炉体の外部に搬出されることになる
(同図0)〜(り)。
以上のようにしてカートリッジA−Cは炉体3内を順次
移動して、該カートリッジA−C内に収容されたウェハ
の熱処理が完了する。
本実施例によれば、上記の如く、各カートリッジが均熱
領域R内の各ゾーンR1,R2で一定時間にわたって移
動が停止された状態で熱処理される構造であるため、加
熱条件内で被処理物を等速度で連続移動させる構造の熱
処理装置に比較して、処理の均一化を効率良く実現する
ことができる。
[効果] (1)、炉体の一方向から他方向に被処理物を順次移送
させるとともに炉体内の均熱領域で被処理物を所定時間
停止させる被処理物移送機構を備えた熱処理装置構造と
することにより、被処理物の連続的処理を可能にすると
ともに均熱領域での加熱処理を効率的に行うことができ
、均一な処理を行うことができる。
(2)、前記filにより、被処理物として半導体ウェ
ハを使用した場合には、ウェハの歩留り番向上でき、信
頼性の高い半導体装置を効率良く提供することができる
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
たとえば、ヒータとしては実施例で説明したブロックヒ
ータに限られず、ハロゲンランプ等のランプヒータを用
いたものであってもよい。
また、被処理物を移送する手段についても実施例のフォ
ーク構造に限られない。
また、被処理物のみを水平(または垂直)にして移送し
てもよい。
[利用分野] 以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、いわゆるウェハの加熱処理に適
用した場合について説明したが、これに限定されるもの
ではなく、他の熱処理装置に適用しても有効な技術であ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図(al〜(1)は本発明の一実施例である熱処理
装置の搬送動作を順次説明する図、 第2図は実施例の熱処理装置の全体を示す概略図、 第3図は実施例の熱処理装置の炉体の内部を示す断面図
である。 l・・・熱処理装置、2・・・ウェハ、3・・炉体、4
・・・ヒータ、5・・・流体供給管、5a・・・流体供
給口、6・・・流体、7・・・ガイドレール、8・・・
カートリッジ、9・・・移動フォーク(フォーク)、R
・・・均熱領域、RI・・・第一ゾーン、R2・・・第
二ゾーン。 第  1  図 ダ □  (1) !+1 H−C4 第  1  図 ’       (f) I    I    1 第   1  M 第  2  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、水平方向に延設された炉体と、前記炉体の周囲に設
    けられた加熱機構とからなる熱処理装置であって、前記
    炉体の一方向から他方向に被処理物を順次移送させると
    ともに炉体内の均熱領域で被処理物を所定時間停止させ
    る被処理物移送機構を備えてなることを特徴とする熱処
    理装置。 2、被処理物が半導体ウェハであり、かつ前記半導体ウ
    ェハが複数枚の単位で治具に収容された状態で炉体内を
    移送されることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の熱処理装置。 3、被処理物の移送が炉体内を上下左右方向に移動自在
    に設けられたフォークによって行われることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の熱処理装置。
JP18414085A 1985-08-23 1985-08-23 熱処理装置 Pending JPS6245109A (ja)

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JP18414085A JPS6245109A (ja) 1985-08-23 1985-08-23 熱処理装置

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JP18414085A JPS6245109A (ja) 1985-08-23 1985-08-23 熱処理装置

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JPS6245109A true JPS6245109A (ja) 1987-02-27

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ID=16148068

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JP18414085A Pending JPS6245109A (ja) 1985-08-23 1985-08-23 熱処理装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007307805A (ja) * 2006-05-18 2007-11-29 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 半導体パッケージ製造装置、半導体パッケージ製造方法及び半導体パッケージ
JP2012009638A (ja) * 2010-06-25 2012-01-12 Koyo Thermo System Kk 連続拡散処理装置
DE102019205212A1 (de) 2018-04-18 2019-10-24 Suzuki Motor Corporation Automatikgetriebe

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007307805A (ja) * 2006-05-18 2007-11-29 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 半導体パッケージ製造装置、半導体パッケージ製造方法及び半導体パッケージ
JP2012009638A (ja) * 2010-06-25 2012-01-12 Koyo Thermo System Kk 連続拡散処理装置
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