JPS6240883Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6240883Y2 JPS6240883Y2 JP1982058780U JP5878082U JPS6240883Y2 JP S6240883 Y2 JPS6240883 Y2 JP S6240883Y2 JP 1982058780 U JP1982058780 U JP 1982058780U JP 5878082 U JP5878082 U JP 5878082U JP S6240883 Y2 JPS6240883 Y2 JP S6240883Y2
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- JP
- Japan
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- liquefied gas
- nozzle
- temperature liquefied
- low
- valve body
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- Expired
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 2
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 42
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 4
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
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- Vacuum Packaging (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は低温液化ガス流出装置、特に液体窒素
等の安定した一定流出流を速やかに得ることので
きる低温液化ガス流出装置に関するものである。
等の安定した一定流出流を速やかに得ることので
きる低温液化ガス流出装置に関するものである。
すなわち、低温液化ガスはきわめて気化しやす
く(液体窒素の沸点は1気圧で−196℃)、気化が
生ずれば装置から流出する低温液化ガスに気化ガ
スが混入するため、流出液体量を一定に保持する
ことは困難である。特にノズル部分の温度が液化
ガスの温度に達するまでに時間がかかり、それま
では流出量が安定しない。
く(液体窒素の沸点は1気圧で−196℃)、気化が
生ずれば装置から流出する低温液化ガスに気化ガ
スが混入するため、流出液体量を一定に保持する
ことは困難である。特にノズル部分の温度が液化
ガスの温度に達するまでに時間がかかり、それま
では流出量が安定しない。
本考案は上記のような欠点を除き、流出量が速
やかに安定するような低温液化ガス流出装置を提
供するものである。
やかに安定するような低温液化ガス流出装置を提
供するものである。
本考案の低温液化ガス流出装置は、上部開口を
有する断熱容器と、前記開口を塞ぐ蓋体と、前記
断熱容器の底面に突出して設けた筒状のノズル保
持部と、前記ノズル保持部下端に取りつけた低温
液化ガス流出孔を有するノズルと、前記低温液化
ガス流出孔を開閉する弁体と、前記蓋体を貫通す
る低温液化ガスの液面制御センサの挿入管及び低
温液化ガス供給管と、前記蓋体に設けた常時大気
に連通する気化ガス排出管と、前記低温液化ガス
供給管に介挿した前記液面制御センサからの信号
で開閉する開閉弁とより成り、前記ノズルを前記
弁体が着座する弁座を上面に有する偏平板状部材
により形成し、前記弁体が前記ノズルに着座した
とき前記孔が前記弁体により閉じられるようにす
ると共に、前記ノズル保持部の前記断熱容器外へ
突出する長さを小さくしたことを特徴とする。
有する断熱容器と、前記開口を塞ぐ蓋体と、前記
断熱容器の底面に突出して設けた筒状のノズル保
持部と、前記ノズル保持部下端に取りつけた低温
液化ガス流出孔を有するノズルと、前記低温液化
ガス流出孔を開閉する弁体と、前記蓋体を貫通す
る低温液化ガスの液面制御センサの挿入管及び低
温液化ガス供給管と、前記蓋体に設けた常時大気
に連通する気化ガス排出管と、前記低温液化ガス
供給管に介挿した前記液面制御センサからの信号
で開閉する開閉弁とより成り、前記ノズルを前記
弁体が着座する弁座を上面に有する偏平板状部材
により形成し、前記弁体が前記ノズルに着座した
とき前記孔が前記弁体により閉じられるようにす
ると共に、前記ノズル保持部の前記断熱容器外へ
突出する長さを小さくしたことを特徴とする。
以下図面により本考案の実施例について説明す
る。
る。
第1図、第2図は本考案による低温液化ガス流
出装置の一実施例を示し、1は二重壁とした断熱
容器、1′はこの断熱容器1内に配置した圧力緩
衝用容器、1″はこの容器1′の下部に形成した開
口、2は前記断熱容器1の開口を塞ぐ蓋体、3は
前記圧力緩衝用容器1′に対する低温液化ガス供
給管、4はこの供給管3に介挿した電磁弁、5は
前記断熱容器1の底部に形成した低温液化ガス流
出ノズル、6はこの流出ノズル5に設けた液化ガ
ス流出孔、7はこの流出孔6を開閉する弁体、8
はこの弁体7に連結したピストンロツド、9はこ
のピストンロツド8を駆動するエアシリンダ、1
0,10′は前記蓋体2に設けた気化ガス排出
管、11は液面制御センサ、12は前記圧力緩衝
用容器1′内で前記液化ガス供給管3の先端に取
り付けたフイルタを示す。
出装置の一実施例を示し、1は二重壁とした断熱
容器、1′はこの断熱容器1内に配置した圧力緩
衝用容器、1″はこの容器1′の下部に形成した開
口、2は前記断熱容器1の開口を塞ぐ蓋体、3は
前記圧力緩衝用容器1′に対する低温液化ガス供
給管、4はこの供給管3に介挿した電磁弁、5は
前記断熱容器1の底部に形成した低温液化ガス流
出ノズル、6はこの流出ノズル5に設けた液化ガ
ス流出孔、7はこの流出孔6を開閉する弁体、8
はこの弁体7に連結したピストンロツド、9はこ
のピストンロツド8を駆動するエアシリンダ、1
0,10′は前記蓋体2に設けた気化ガス排出
管、11は液面制御センサ、12は前記圧力緩衝
用容器1′内で前記液化ガス供給管3の先端に取
り付けたフイルタを示す。
このような低温液化ガスの流出装置では、断熱
容器1内の低温液化ガス液面上の圧力を大気圧と
し、液面制御センサ11により一定高さに保たれ
る低温液化ガスの液面高さと、流出ノズル5に穿
孔された流出孔6の孔径と孔数とによつて低温液
化ガスの流出量を一定に保つようにしてある。ま
た図示の実施例では低温液化ガスを直接に断熱容
器1へ供給せず、液面制御センサ11の信号によ
つて電磁弁4を開いて低温液化ガス供給管3から
一旦圧力緩衝用容器1′へ供給し、さらにそこか
ら断熱容器1内に自然流下させることによつて、
低温液化ガス流入時の液圧とその時に生じる気化
ガス圧による断熱容器1内の圧力変化を防止する
ので、流出孔6からの低温液化ガス流出量を一定
に保つことが容易である。
容器1内の低温液化ガス液面上の圧力を大気圧と
し、液面制御センサ11により一定高さに保たれ
る低温液化ガスの液面高さと、流出ノズル5に穿
孔された流出孔6の孔径と孔数とによつて低温液
化ガスの流出量を一定に保つようにしてある。ま
た図示の実施例では低温液化ガスを直接に断熱容
器1へ供給せず、液面制御センサ11の信号によ
つて電磁弁4を開いて低温液化ガス供給管3から
一旦圧力緩衝用容器1′へ供給し、さらにそこか
ら断熱容器1内に自然流下させることによつて、
低温液化ガス流入時の液圧とその時に生じる気化
ガス圧による断熱容器1内の圧力変化を防止する
ので、流出孔6からの低温液化ガス流出量を一定
に保つことが容易である。
然しながら一般に従来の例えば特願昭56−
56321号明細書に示す低温液化ガス流出装置で
は、ノズル部は断熱容器1の底面から大きく突出
し、しかもその第3図,第4図の実施例ではノズ
ルが上部鍔体、下部鍔体、内管から構成され、内
管に薄肉管を使用しても熱容量が比較的大きく、
上部鍔体、内管周囲及び下部鍔体上面から低温液
化ガスで冷却されても、ノズル部全体が完全に冷
却されるまで(温度が平衡に達するまで)時間が
かゝり、それまでは気化が著しく起ることにな
る。その結果、使用開始時に低温液化ガスの流出
量が安定するまでに時間がかゝる欠点があつた。
56321号明細書に示す低温液化ガス流出装置で
は、ノズル部は断熱容器1の底面から大きく突出
し、しかもその第3図,第4図の実施例ではノズ
ルが上部鍔体、下部鍔体、内管から構成され、内
管に薄肉管を使用しても熱容量が比較的大きく、
上部鍔体、内管周囲及び下部鍔体上面から低温液
化ガスで冷却されても、ノズル部全体が完全に冷
却されるまで(温度が平衡に達するまで)時間が
かゝり、それまでは気化が著しく起ることにな
る。その結果、使用開始時に低温液化ガスの流出
量が安定するまでに時間がかゝる欠点があつた。
本考案はこのような欠点を除き、使用開始後な
るべく速かに低温液化ガスの流出量が安定し、従
つて低温液化ガスの気化損失が少ないようにする
ため第3図に示すように弁体7部分を取り囲むノ
ズル部内筒21及びノズル部外筒22の長さをで
きるだけ短くしてノズル部が断熱容器1の底面か
らなるべく突出しないようにし、さらに流出ノズ
ル5を小型偏平化してノズル自体も突出しないよ
うにしてノズル取付ナツト28によりノズル部外
筒22、ノズル部内筒21の下端にノズル取付台
27を介して取り付けるようにする。ノズル取付
ナツト28には、断熱性の良好な材料を使用する
のが好ましい。
るべく速かに低温液化ガスの流出量が安定し、従
つて低温液化ガスの気化損失が少ないようにする
ため第3図に示すように弁体7部分を取り囲むノ
ズル部内筒21及びノズル部外筒22の長さをで
きるだけ短くしてノズル部が断熱容器1の底面か
らなるべく突出しないようにし、さらに流出ノズ
ル5を小型偏平化してノズル自体も突出しないよ
うにしてノズル取付ナツト28によりノズル部外
筒22、ノズル部内筒21の下端にノズル取付台
27を介して取り付けるようにする。ノズル取付
ナツト28には、断熱性の良好な材料を使用する
のが好ましい。
図示実施例では弁体7を内部弁体7′と外部弁
体7″により形成し、流出ノズル5を前記内部弁
体7′が着座する内部弁座5′と外部弁体7″が着
座する外部弁座5″で形成することにより、流出
ノズル5の複数の流出孔を2段階に分けて(例え
ば半数ずつ)閉塞できるようにしてある。
体7″により形成し、流出ノズル5を前記内部弁
体7′が着座する内部弁座5′と外部弁体7″が着
座する外部弁座5″で形成することにより、流出
ノズル5の複数の流出孔を2段階に分けて(例え
ば半数ずつ)閉塞できるようにしてある。
これにより流出ノズル5を交換することなく流
出量を大きく変更することができる。
出量を大きく変更することができる。
なお、23は二重壁とした断熱容器1の内外壁
及びノズル部内外筒間に形成される真空層、24
は前記ノズル部内筒21の上部を塞ぐ流出口蓋
体、25はこの蓋体24に形成した開口、26は
この開口25を塞ぐ金網を示す。
及びノズル部内外筒間に形成される真空層、24
は前記ノズル部内筒21の上部を塞ぐ流出口蓋
体、25はこの蓋体24に形成した開口、26は
この開口25を塞ぐ金網を示す。
本考案装置は上記のような構成であるから流出
ノズル5の低温液化ガスと接触する面積が大き
く、外気に接触する面積が小さくなり、しかも流
出ノズル5が小型化して熱容量が小さくなつてい
るので、流出ノズル5の温度は速かに低温液化ガ
ス温度まで冷却されて平衡状態となり、流出ノズ
ル5の流出孔6からの低温液化ガス流出量が安定
する。また、冷却効果をさらに高めるため、流出
ノズル5の形状を断熱容器1内へ突出するように
してもよい。
ノズル5の低温液化ガスと接触する面積が大き
く、外気に接触する面積が小さくなり、しかも流
出ノズル5が小型化して熱容量が小さくなつてい
るので、流出ノズル5の温度は速かに低温液化ガ
ス温度まで冷却されて平衡状態となり、流出ノズ
ル5の流出孔6からの低温液化ガス流出量が安定
する。また、冷却効果をさらに高めるため、流出
ノズル5の形状を断熱容器1内へ突出するように
してもよい。
前記特願昭56−56321号明細書の第3図の実施
例の装置の場合は、低温液化ガスを断熱容器1に
供給開始してから流出量が安定するまでの時間
(ノズル温度が平衡に達するまでの時間)が約20
分もかゝつたのに対し、本考案の装置では1分以
内と著しく改善された。
例の装置の場合は、低温液化ガスを断熱容器1に
供給開始してから流出量が安定するまでの時間
(ノズル温度が平衡に達するまでの時間)が約20
分もかゝつたのに対し、本考案の装置では1分以
内と著しく改善された。
従つて、低温液化ガスの気化損失も大きく低減
することができる。
することができる。
第1図は本考案装置の縦断正面図、第2図はそ
の平面図、第3図はそのノズル部分の詳細図であ
る。 1……断熱容器、1′……圧力緩衝用容器、
1″……開口、2……蓋体、3……低温液化ガス
供給管、4……電磁弁、5……流出ノズル、5′
……内部弁座、5″……外部弁座、6……流出
孔、7……弁体、7′……内部弁体、7″……外部
弁体、8……ピストンロツド、9……エアシリン
ダ、10,10′……気化ガス排出管、11……
液面制御センサ、12……フイルタ、21……ノ
ズル部内筒、22……ノズル部外筒、23……真
空層、24……流出口蓋体、25……開口、26
……金網、27……ノズル取付台、28……ノズ
ル取付ナツト。
の平面図、第3図はそのノズル部分の詳細図であ
る。 1……断熱容器、1′……圧力緩衝用容器、
1″……開口、2……蓋体、3……低温液化ガス
供給管、4……電磁弁、5……流出ノズル、5′
……内部弁座、5″……外部弁座、6……流出
孔、7……弁体、7′……内部弁体、7″……外部
弁体、8……ピストンロツド、9……エアシリン
ダ、10,10′……気化ガス排出管、11……
液面制御センサ、12……フイルタ、21……ノ
ズル部内筒、22……ノズル部外筒、23……真
空層、24……流出口蓋体、25……開口、26
……金網、27……ノズル取付台、28……ノズ
ル取付ナツト。
Claims (1)
- 上部開口を有する断熱容器と、前記開口を塞ぐ
蓋体と、前記断熱容器の底面に突出して設けた筒
状のノズル保持部と、前記ノズル保持部下端に取
りつけた低温液化ガス流出孔を有するノズルと、
前記低温液化ガス流出孔を開閉する弁体と、前記
蓋体を貫通する低温液化ガスの液面制御センサの
挿入管及び低温液化ガス供給管と、前記蓋体に設
けた常時大気に連通する気化ガス排出管と、前記
低温液化ガス供給管に介挿した前記液面制御セン
サからの信号で開閉する開閉弁とより成り、前記
ノズルを前記弁体が着座する弁座を上面に有する
偏平板状部材により形成し、前記弁体が前記ノズ
ルに着座したとき前記孔が前記弁体により閉じら
れるようにすると共に、前記ノズル保持部の前記
断熱容器外へ突出する長さを小さくしたことを特
徴とする低温液化ガス流出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5878082U JPS58161299U (ja) | 1982-04-22 | 1982-04-22 | 低温液化ガス流出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5878082U JPS58161299U (ja) | 1982-04-22 | 1982-04-22 | 低温液化ガス流出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58161299U JPS58161299U (ja) | 1983-10-27 |
JPS6240883Y2 true JPS6240883Y2 (ja) | 1987-10-20 |
Family
ID=30069142
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5878082U Granted JPS58161299U (ja) | 1982-04-22 | 1982-04-22 | 低温液化ガス流出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58161299U (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000185710A (ja) * | 1998-10-14 | 2000-07-04 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 液化ガス除菌充填方法とその装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5888299A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-26 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 液化ガス滴下装置 |
-
1982
- 1982-04-22 JP JP5878082U patent/JPS58161299U/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5888299A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-26 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 液化ガス滴下装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58161299U (ja) | 1983-10-27 |
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