JPS6240528Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6240528Y2 JPS6240528Y2 JP14483682U JP14483682U JPS6240528Y2 JP S6240528 Y2 JPS6240528 Y2 JP S6240528Y2 JP 14483682 U JP14483682 U JP 14483682U JP 14483682 U JP14483682 U JP 14483682U JP S6240528 Y2 JPS6240528 Y2 JP S6240528Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bead portion
- effective surface
- shadow mask
- electron beam
- distance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims description 28
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 6
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
〔考案の技術分野〕
本考案はシヤドウマスク形カラー受像管に内装
されるシヤドウマスクに関するものである。 〔考案の技術的背景〕 シヤドウマスクは通常第１図及び第２図に示す
ような構造を有している。 即ち、シヤドウマスク１は図示しないフラツト
マスクをプレス成形して形成され、多数の電子ビ
ーム通過孔部２が穿設さた有効面３と、周縁面４
との間にビード部５が設けられ、周縁面４からは
スカート部６が形成されている。 そしてこのビード部５はプレス成形する時、有
効面３の変形を防ぎ、また形状を保持する強度を
保つために有効面３の外側全周に設けている。 〔背景技術の問題点〕 しかるに、このようなシヤドウマスクではシヤ
ドウマスク外周の大きさ、カラー受像管の偏向角
などの制約からビード部５と有効面３の境界との
距離を充分に取れない部分があり、この部分にビ
ード部５をプレス成形により形成するとシヤドウ
マスク１の部分的伸びによりこのビード部５に近
い有効面３の電子ビーム通過孔部２の変形が発生
し易く、結果としてシヤドウマスク１を不良にす
る問題点がある。 〔考案の目的〕 本考案は前述した問題点に鑑みなされたもので
あり、有効面とビード部の距離によつてビード部
の大きさを変えることによりプレス成形時に有効
面の電子ビーム通過孔部の変形をほぼなくすか、
または少なくすることが可能なシヤドウマスクを
提供することを目的としている。 〔考案の概要〕 即ち、本考案は多数の電子ビーム通過孔部が穿
設された有効面と周縁面との間にビード部を形成
してなるシヤドウマスクにおいて、ビード部の大
きさが有効面とビード部の距離の大きい位置では
大きく、有効面とビード部の距離が短かくなるに
従つて次第に小さくなされていることを特徴とす
るシヤドウマスクである。 〔考案の実施例〕 次に本考案の実施例を第３図及び第４図により
説明する。 即ちシヤドウマスク１１は図示しないフラツト
マスクをプレス成形して形成され、多数の電子ビ
ーム通過孔部１２が穿設された有効面１３と、周
縁面１４との間にビード部１５が設けられ、周縁
面１４からはスカート部１６が設けられている。 このビード部１５はプレス成形する時、有効面
１３の変形を防ぎまた形状を保持する強度を保つ
ために有効面１３の外側全周に設けられている。 ここまでは従来のシヤドウマスク１とほぼ同様
であるが、本実施例では有効面１３との距離が長
いビード部１５１を大きくし、このビード部１５
１より有効面１３に近いビード部１５２はビード
部１５１より小さく、有効面１３の隅部のように
有効面１３との距離が更に短かいビード部１５３
はビード部１５２より更に小さくなされているこ
とを特徴としている。このビード部１５の大きさ
Ｂと、有効面１３からの距離Ａとの関係は、本考
案者らが14インチカラー受像管用のシヤドウマス
クで実験した結果表のような関係にすることによ
りビード部１５形成時における電子ビーム通過孔
部１２の変形を最小にすることができた。
されるシヤドウマスクに関するものである。 〔考案の技術的背景〕 シヤドウマスクは通常第１図及び第２図に示す
ような構造を有している。 即ち、シヤドウマスク１は図示しないフラツト
マスクをプレス成形して形成され、多数の電子ビ
ーム通過孔部２が穿設さた有効面３と、周縁面４
との間にビード部５が設けられ、周縁面４からは
スカート部６が形成されている。 そしてこのビード部５はプレス成形する時、有
効面３の変形を防ぎ、また形状を保持する強度を
保つために有効面３の外側全周に設けている。 〔背景技術の問題点〕 しかるに、このようなシヤドウマスクではシヤ
ドウマスク外周の大きさ、カラー受像管の偏向角
などの制約からビード部５と有効面３の境界との
距離を充分に取れない部分があり、この部分にビ
ード部５をプレス成形により形成するとシヤドウ
マスク１の部分的伸びによりこのビード部５に近
い有効面３の電子ビーム通過孔部２の変形が発生
し易く、結果としてシヤドウマスク１を不良にす
る問題点がある。 〔考案の目的〕 本考案は前述した問題点に鑑みなされたもので
あり、有効面とビード部の距離によつてビード部
の大きさを変えることによりプレス成形時に有効
面の電子ビーム通過孔部の変形をほぼなくすか、
または少なくすることが可能なシヤドウマスクを
提供することを目的としている。 〔考案の概要〕 即ち、本考案は多数の電子ビーム通過孔部が穿
設された有効面と周縁面との間にビード部を形成
してなるシヤドウマスクにおいて、ビード部の大
きさが有効面とビード部の距離の大きい位置では
大きく、有効面とビード部の距離が短かくなるに
従つて次第に小さくなされていることを特徴とす
るシヤドウマスクである。 〔考案の実施例〕 次に本考案の実施例を第３図及び第４図により
説明する。 即ちシヤドウマスク１１は図示しないフラツト
マスクをプレス成形して形成され、多数の電子ビ
ーム通過孔部１２が穿設された有効面１３と、周
縁面１４との間にビード部１５が設けられ、周縁
面１４からはスカート部１６が設けられている。 このビード部１５はプレス成形する時、有効面
１３の変形を防ぎまた形状を保持する強度を保つ
ために有効面１３の外側全周に設けられている。 ここまでは従来のシヤドウマスク１とほぼ同様
であるが、本実施例では有効面１３との距離が長
いビード部１５１を大きくし、このビード部１５
１より有効面１３に近いビード部１５２はビード
部１５１より小さく、有効面１３の隅部のように
有効面１３との距離が更に短かいビード部１５３
はビード部１５２より更に小さくなされているこ
とを特徴としている。このビード部１５の大きさ
Ｂと、有効面１３からの距離Ａとの関係は、本考
案者らが14インチカラー受像管用のシヤドウマス
クで実験した結果表のような関係にすることによ
りビード部１５形成時における電子ビーム通過孔
部１２の変形を最小にすることができた。
前述のように本考案によれば特にビード部と有
効面の距離が変化する角形の有効面、即ちフラツ
トフエースを有するシヤドウマスクにおいて、ビ
ード部のプレス成形時の有効面に対する影響を極
力おさえることが可能であり、その結果有効面の
電子ビーム通過孔部の変形を最小におさえること
が出来るため、精度の良いシヤドウマスクが得ら
れることになり、その工業的価値は極めて大であ
る。
効面の距離が変化する角形の有効面、即ちフラツ
トフエースを有するシヤドウマスクにおいて、ビ
ード部のプレス成形時の有効面に対する影響を極
力おさえることが可能であり、その結果有効面の
電子ビーム通過孔部の変形を最小におさえること
が出来るため、精度の良いシヤドウマスクが得ら
れることになり、その工業的価値は極めて大であ
る。
第１図及び第２図は従来のシヤドウマスクを示
す図であり、第１図は平面図、第２図は第１図の
要部説明用断面図、第３図及び第４図は本考案の
シヤドウマスクの一実施例を示す図であり、第３
図は平面図、第４図は第３図の要部説明用断面図
である。 ２，１２……電子ビーム通過孔部、３，１３…
…有効面、４，１４……周縁面、５，１５，１５
１，１５２，１５３……ビード部、６，１６……
スカート部。
す図であり、第１図は平面図、第２図は第１図の
要部説明用断面図、第３図及び第４図は本考案の
シヤドウマスクの一実施例を示す図であり、第３
図は平面図、第４図は第３図の要部説明用断面図
である。 ２，１２……電子ビーム通過孔部、３，１３…
…有効面、４，１４……周縁面、５，１５，１５
１，１５２，１５３……ビード部、６，１６……
スカート部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 多数の電子ビーム通過孔部が穿設された有効
面と周縁面との間にビード部を形成してなるシ
ヤドウマスクにおいて、前記ビード部の大きさ
が前記有効面と前記ビード部の距離が長い位置
では大きく、前記有効面と前記ビード部の距離
が短かくなるに従つて次第に小さくなされてい
ることを特徴とするシヤドウマスク。 (2) ビード部が有効面を取り囲むように設けられ
ていることを特徴とする実用新案登録請求の範
囲第１項記載のシヤドウマスク。 (3) 電子ビーム通過孔部がほぼ長４角形でブリツ
ジを介して長手方向に連設され、ビード部がこ
の長手方向に対してほぼ直交した方向にのみ設
けられていることを特徴とする実用新案登録請
求の範囲第１項記載のシヤドウマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14483682U JPS5949346U (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | シヤドウマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14483682U JPS5949346U (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | シヤドウマスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5949346U JPS5949346U (ja) | 1984-04-02 |
| JPS6240528Y2 true JPS6240528Y2 (ja) | 1987-10-16 |
Family
ID=30322873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14483682U Granted JPS5949346U (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | シヤドウマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5949346U (ja) |
-
1982
- 1982-09-27 JP JP14483682U patent/JPS5949346U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5949346U (ja) | 1984-04-02 |
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