JPS6238426A - Orientation processing device for liquid crystal display element base board - Google Patents
Orientation processing device for liquid crystal display element base boardInfo
- Publication number
- JPS6238426A JPS6238426A JP17817585A JP17817585A JPS6238426A JP S6238426 A JPS6238426 A JP S6238426A JP 17817585 A JP17817585 A JP 17817585A JP 17817585 A JP17817585 A JP 17817585A JP S6238426 A JPS6238426 A JP S6238426A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- substrate
- base board
- board
- liquid crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
「技術分野」
本発明は、液晶表示素子に用いられる基板の配向処理装
置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION TECHNICAL FIELD The present invention relates to an apparatus for aligning a substrate used in a liquid crystal display element.
「従来技術およびその問題点」
従来、例えばネガタイプにおけるＴＮ型液晶表示素子を
製造するに際し、可変表示部と固定表示部とを設ける場
合、可変表示部においては上下基板の配向方向が互いに
垂直であるＴＮ配向を施し、固定表示部においては上下
基板の配向方向が互いに平行である平行配向を施す必要
があった。このため、少なくとも一方の基板においては
、２方向にラビングしてマルチ配向としなければならな
い。"Prior art and its problems" Conventionally, when manufacturing a negative type TN type liquid crystal display element, for example, when a variable display section and a fixed display section are provided, the orientation directions of the upper and lower substrates in the variable display section are perpendicular to each other. It was necessary to apply a TN orientation, and to provide a parallel orientation in which the orientation directions of the upper and lower substrates are parallel to each other in the fixed display section. Therefore, at least one substrate must be rubbed in two directions to achieve multi-orientation.
この場合、１つの基板を２方向にラビングするには、ま
ず、全体を１方向にラビングし、次に、可変表示部また
は固定表示部をマスクして上記と直交する方向にラビン
グするようにしていた。In this case, to rub one board in two directions, first rub the entire board in one direction, then mask the variable display section or fixed display section and rub in a direction perpendicular to the above. Ta.
しかしながら、マスクをしてラビングする際、マスクと
の接触圧によって既に形成されているラビングが変化し
たり、ラビング用ロールの繊維やゴミが付着したりする
ため、表示部に欠損部が発生したり、コントラストが悪
くなったりして、表示品位が低下し、歩留りが低下して
いた。However, when rubbing with a mask on, the contact pressure with the mask may change the rubbing that has already been formed, and fibers and dust from the rubbing roll may adhere, resulting in defects on the display area. , contrast deteriorated, display quality deteriorated, and yield decreased.
「発明の目的」
本発明の目的は、既にラビングされている基板の上から
マスクを配置して再度部分的に別方向にラビジグする際
、表示部における欠損部の発生やコントラストの低下を
防止できるようにした液晶表示素子用基板の配向処理装
置を提供することにある。"Objective of the Invention" The object of the present invention is to prevent defects from occurring in the display area and deterioration in contrast when a mask is placed over a substrate that has already been rubbed and the rubbing is performed partially in a different direction. An object of the present invention is to provide an alignment processing apparatus for a substrate for a liquid crystal display element.
「発明の構成」
本発明による液晶表示素子用基板の配向処理装置は、液
晶表示素子用基板を収容して保持する凹部が形成された
基板保持台と、所定形状の開口部が形成され、前記基板
保持台上に配置されるマスクと、前記基板保持台と前記
マスクとの相対位置関係を決定する位置決め手段とを備
えている。"Structure of the Invention" An alignment processing apparatus for a substrate for a liquid crystal display element according to the present invention includes a substrate holding table in which a recessed part for accommodating and holding a substrate for a liquid crystal display element is formed, and an opening in a predetermined shape. The device includes a mask placed on a substrate holder, and positioning means for determining a relative positional relationship between the substrate holder and the mask.
この配向処理装置では、あらかじめ一方向にラビング処
理した基板を基板保持台の凹部に収容して設置し、その
上からマスクを載置して位置決め手段により基板保持台
とマスクとの相対位置関係を正確に位置決めし、ラビン
グ用ロールによりマスクの開口部を通して前記と異なる
方向にラビングすることにより、部分的に配向方向が変
えられたマルチ配向がなされる。そして、ラビングの際
にマスクには押圧力がかかるが、基板が基板保持台の四
部に収容されているため、この押圧力は基板には直接か
からないか、軽減されてかかることになり、かつ、基板
保持板とマスクとが位置決め手段により位置ずれを起す
こともないので、あらかじめ施されたラビングに悪影響
を与えることはない、また、基板にマスクが強く接触し
ないのでゴミ等の付着も少なくなる。In this alignment processing apparatus, a substrate that has been rubbed in one direction in advance is housed and installed in a recess of a substrate holder, a mask is placed on top of the substrate, and the relative positional relationship between the substrate holder and the mask is determined by positioning means. By accurately positioning and rubbing in a direction different from the above through the opening of the mask using a rubbing roll, multi-orientation in which the orientation direction is partially changed is achieved. A pressing force is applied to the mask during rubbing, but since the substrate is housed in the four parts of the substrate holder, this pressing force is not applied directly to the substrate or is reduced, and Since the substrate holding plate and the mask are not displaced by the positioning means, the rubbing that has been applied in advance is not adversely affected, and since the mask does not come into strong contact with the substrate, there is less adhesion of dust, etc.
本発明の好ましい態様によれば、基板保持台の凹部の深
さは、基板の厚さより０．３〜ｌｌｌ１１深くされてい
る。凹部の深さがこれより浅いとラビング時にマスクが
基板に押圧され、あらかじめ施されたラビングに悪影響
を与えやすい。凹部の深さがこれよりも深いとラビング
の圧力が小さすぎてラビングが不充分となる可能性があ
る。According to a preferred embodiment of the present invention, the depth of the recess of the substrate holder is 0.3 to lll11 deeper than the thickness of the substrate. If the depth of the recess is shallower than this, the mask is pressed against the substrate during rubbing, which tends to adversely affect the rubbing performed in advance. If the depth of the recess is deeper than this, the rubbing pressure may be too small and the rubbing may be insufficient.
本発明のさらに好ましい態様によれば、マスクの外周お
よび内周の表側角部は、テーパ状またはＲ状に面取りさ
れている。これにより、ラビング、用ロールがマスクの
角部に引掛って基板に繊維が付着したり、ラビング材が
消耗したりすることを防止できる。According to a further preferred embodiment of the present invention, the front corners of the outer and inner peripheries of the mask are chamfered in a tapered or rounded shape. This can prevent the rubbing roll from getting caught on the corners of the mask, thereby preventing fibers from adhering to the substrate, and from wasting the rubbing material.
「発明の実施例」
第１図には、本発明による液晶表示素子用基板の配向処
理装置の実施例が示されている。この配向処理装置は、
基板１を保持するための基板保持台２と、この基板保持
台２の上に配置されるマ、スク３とから主として構成さ
れている。基板保持台２には、基板１を収容する凹部４
と、マスク３を位置決めするための４つのガイドピン５
が形成されている。この場合、基板１の厚さをｔとし、
凹部４の深さをｔ′とすると、ｔ’−ｔ ＝０．３〜１
ｍ鳳となるようにすることが好ましい、一方、マスク３
には、所定形状および所定位置の開口部８と、基板保持
台２のガイドピン５に対応して形成されたガイド孔７が
形成されている。第２図を併せて参照すると、マスク３
の開ロ部６内周の表側角部８およびマスク３の外周の表
側角部９は、テーパ状に面取りされている。角部８．９
をテーパ状に形成するには、例えば化学エツチングして
開口部８を形成した後、化学研磨する方法が採用できる
。Embodiment of the Invention FIG. 1 shows an embodiment of an apparatus for aligning a substrate for a liquid crystal display element according to the present invention. This alignment processing device is
It mainly consists of a substrate holder 2 for holding a substrate 1, and a mask 3 placed on the substrate holder 2. The substrate holder 2 has a recess 4 for accommodating the substrate 1.
and four guide pins 5 for positioning the mask 3.
is formed. In this case, the thickness of the substrate 1 is t,
If the depth of the recess 4 is t', then t'-t = 0.3 to 1
It is preferable to make the mask 3
, an opening 8 having a predetermined shape and a predetermined position, and a guide hole 7 formed to correspond to the guide pin 5 of the substrate holding table 2 are formed. Referring also to FIG. 2, mask 3
The front corner 8 of the inner periphery of the opening 6 and the front corner 9 of the outer periphery of the mask 3 are chamfered in a tapered shape. Corner 8.9
In order to form the opening 8 into a tapered shape, for example, a method can be adopted in which the opening 8 is formed by chemical etching and then chemical polishing is performed.
この場合、マスク３の厚さｄは０．３〜１ｍｍとするこ
とが好ましい、マスク３の厚さがこれより薄いとラビン
グ時に変形する虞れがあり、これより厚いとエツチング
加工がしずらくなる。なお、マスク３としては、金属板
や樹脂板が使用できる。In this case, the thickness d of the mask 3 is preferably 0.3 to 1 mm. If the mask 3 is thinner than this, it may be deformed during rubbing, and if it is thicker than this, the etching process will be difficult. Become. Note that as the mask 3, a metal plate or a resin plate can be used.
次に、この配向処理装置の使用方法について第３図およ
び第４図を参照して説明する。第４図に示すように、基
板１には、あらかじめ全面に矢印ａ方向にラビング処理
がなされている０次に、第３図に示すように、基板１を
基板保持台２の凹部４内に収容設置する。そして、基板
保持台２の上にマスク３を配置し、基板保持台２のガイ
ドピン５をマスク３のガイド孔７に挿入して５両者の相
対位置関係を正確に位置決めする。こうして、基板保持
台２上に、基板１とマスク３を固定した後、基板保持台
２を移動させて、回転するラビング用ロールｌＯの下を
通過させる。ラビング用ロール１０は、マスク３の開口
部６を通して基板１を第４図中矢印す方向にラビングす
る。このため、基板１においてマスク３の開口部６に対
応する部分ｋが矢印ａに対して直交する矢印す方向に部
分的にラビングされたマルチ配向処理がなされる。この
場合、基板保持台２の凹部４の深さが基板ｌの厚さより
も深くされているので、ラビング時にラビング用ロール
１０がマスク３を押圧しても、マスク３は基板１に接触
しないか、あるいは押圧力が軽減される。したがって、
基板１にあらかじめ施された矢印ａ方向のラビングに悪
影響を与えることはない。また、マスク３の開ロ部６内
周の表側角部８およびマスク３の外周の表側角部９がテ
ーパ状に面取りされているので、ラビング用ロール１０
がマスク３の角部に引掛って繊維が抜けることを防止で
き、基板１への繊維の付着やラビング用ロール１０の消
耗を防止できる。なお、第４図において、矢印Ｃは図示
しない下基板のラビング方向であり、液晶表示素子を構
成したとき、マスク３の開口部６に対応する部分ｋにお
いては平行配向となり、その他の部分においてはＴＮ配
向となる。Next, how to use this alignment processing apparatus will be explained with reference to FIGS. 3 and 4. As shown in FIG. 4, the entire surface of the substrate 1 has been subjected to a rubbing treatment in the direction of arrow a. Next, as shown in FIG. Accommodate and install. Then, the mask 3 is placed on the substrate holder 2, and the guide pins 5 of the substrate holder 2 are inserted into the guide holes 7 of the mask 3 to accurately determine the relative positional relationship between the two. After the substrate 1 and the mask 3 are fixed on the substrate holder 2 in this manner, the substrate holder 2 is moved to pass under the rotating rubbing roll IO. The rubbing roll 10 rubs the substrate 1 through the opening 6 of the mask 3 in the direction indicated by the arrow in FIG. For this reason, a multi-orientation process is performed in which a portion k of the substrate 1 corresponding to the opening 6 of the mask 3 is partially rubbed in the direction of the arrow a orthogonal to the arrow a. In this case, since the depth of the recess 4 of the substrate holder 2 is made deeper than the thickness of the substrate l, even if the rubbing roll 10 presses the mask 3 during rubbing, the mask 3 does not come into contact with the substrate 1. , or the pressing force is reduced. therefore,
This does not adversely affect the rubbing performed on the substrate 1 in advance in the direction of arrow a. Moreover, since the front corner 8 of the inner periphery of the opening part 6 of the mask 3 and the front corner 9 of the outer periphery of the mask 3 are chamfered in a tapered shape, the rubbing roll 10
It is possible to prevent the fibers from getting caught in the corners of the mask 3 and coming off, and it is possible to prevent the fibers from adhering to the substrate 1 and from wearing out the rubbing roll 10. In FIG. 4, arrow C indicates the rubbing direction of the lower substrate (not shown), and when a liquid crystal display element is constructed, the alignment is parallel in the portion k corresponding to the opening 6 of the mask 3, and in other portions. It becomes TN orientation.
そして、平行配向の部分は固定表示部をなし、ＴＮ配向
の部分は可変表示部をなすことになる。The parallel oriented portion will form a fixed display section, and the TN oriented portion will form a variable display section.
「発明の効果」
以上説明したように、本発明によれば、１つの基板に２
方向のラビング処理を行なう際に、あらかじめ基板に形
成されたラビング部分に悪影響を与えることがなく、基
板へのゴミ等の付着やラビング用ロールの消耗を防止で
きる。"Effects of the Invention" As explained above, according to the present invention, two
When performing the directional rubbing process, there is no adverse effect on the rubbed portions previously formed on the substrate, and it is possible to prevent dust from adhering to the substrate and from wearing out the rubbing roll.
第１図は本発明による液晶表示素子用基板の配向処理装
置の実施例を示す分解斜視図、第２図は第１図における
Ａ−Ａ’線に沿った部分断面図、第３図は同配向処理装
置の使用態様を示す断面図、第４図は液晶表示素子用基
板の配向状態を示す平面図である。
図中、１は基板、２は基板保持台、３はマスク、４は四
部、５はガイドピン、６は開口部、７はカイト孔、８，
９は角部である。
第１因
第２図
第４図FIG. 1 is an exploded perspective view showing an embodiment of an alignment processing apparatus for a liquid crystal display element substrate according to the present invention, FIG. 2 is a partial sectional view taken along the line AA' in FIG. 1, and FIG. 3 is the same. FIG. 4 is a cross-sectional view showing how the alignment processing apparatus is used, and a plan view showing the alignment state of a substrate for a liquid crystal display element. In the figure, 1 is a substrate, 2 is a substrate holding stand, 3 is a mask, 4 is a four part, 5 is a guide pin, 6 is an opening, 7 is a kite hole, 8,
9 is a corner. First cause Figure 2 Figure 4
Claims (3)
成された基板保持台と、所定形状の開口部が形成され、
前記基板保持台上に配置されるマスクと、前記基板保持
台と前記マスクとの相対位置関係を決定する位置決め手
段とを備えていることを特徴とする液晶表示素子用基板
の配向処理装置。(1) A substrate holder having a recess formed therein for accommodating and holding a substrate for a liquid crystal display element, and an opening having a predetermined shape formed therein;
An apparatus for aligning a substrate for a liquid crystal display element, comprising: a mask placed on the substrate holder; and positioning means for determining a relative positional relationship between the substrate holder and the mask.
の凹部の深さは、前記基板の厚さより０．３〜１ｍｍ深
くされている液晶表示素子用基板の配向処理装置。(2) The apparatus for aligning a substrate for a liquid crystal display element according to claim 1, wherein the depth of the recess of the substrate holder is 0.3 to 1 mm deeper than the thickness of the substrate.
記マスクの外周および内周の表側角部は、テーパ状また
はＲ状に面取りされている液晶表示素子用基板の配向処
理装置。(3) The apparatus for aligning a substrate for a liquid crystal display element according to claim 1 or 2, wherein the front corner portions of the outer periphery and inner periphery of the mask are chamfered in a tapered shape or in an R shape.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17817585A JPS6238426A (en) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | Orientation processing device for liquid crystal display element base board |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17817585A JPS6238426A (en) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | Orientation processing device for liquid crystal display element base board |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6238426A true JPS6238426A (en) | 1987-02-19 |
Family
ID=16043916
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17817585A Pending JPS6238426A (en) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | Orientation processing device for liquid crystal display element base board |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6238426A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014219629A (en) * | 2013-05-10 | 2014-11-20 | 三菱電機株式会社 | Rubbing apparatus and manufacturing method of liquid crystal display device |
| CN113406820A (en) * | 2021-05-28 | 2021-09-17 | 深圳市华立诺显示技术有限公司 | Processing device for orientation layer of liquid crystal display screen |
-
1985
- 1985-08-13 JP JP17817585A patent/JPS6238426A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014219629A (en) * | 2013-05-10 | 2014-11-20 | 三菱電機株式会社 | Rubbing apparatus and manufacturing method of liquid crystal display device |
| CN113406820A (en) * | 2021-05-28 | 2021-09-17 | 深圳市华立诺显示技术有限公司 | Processing device for orientation layer of liquid crystal display screen |
| CN113406820B (en) * | 2021-05-28 | 2024-04-12 | 深圳市华立诺显示技术有限公司 | Liquid crystal display screen alignment layer processing device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW494451B (en) | Substrate processing method and substrate processing apparatus | |
| JP2021093547A (en) | Bonding device of substrate and method | |
| JP2000007146A (en) | Glass substrate holding tool | |
| JPS6238426A (en) | Orientation processing device for liquid crystal display element base board | |
| JPH10333150A (en) | Liquid crystal display device and its manufacture | |
| JP2003303741A (en) | Machine and method for handling electronic component | |
| JPH07326656A (en) | Substrate cassette | |
| JP2588060B2 (en) | Polishing chuck for semiconductor wafer | |
| JP3245550B2 (en) | Manufacturing method of liquid crystal display element | |
| JP2004028614A (en) | Sample fixing device for hardness tester | |
| JP2000088701A (en) | Substrate support | |
| JPH11274276A (en) | Substrate holder | |
| JP3218205B2 (en) | Manufacturing method of liquid crystal display element | |
| KR100252860B1 (en) | Jig for measuring dimension of pattern of tape for tape carrier package | |
| JPH1059454A (en) | Containing and retaining device for board | |
| JPH0623659A (en) | Method and device for polishing sheet material | |
| JP2000321544A (en) | Liquid crystal display element production apparatus | |
| JP4946707B2 (en) | Substrate cleaning device | |
| JPH0756143Y2 (en) | Plastic lens marking device | |
| JP4209505B2 (en) | Wafer photoresist liquid coating method, liquid coating apparatus and parts for the apparatus | |
| KR200147995Y1 (en) | Printing table of flat panel device | |
| JPH05326757A (en) | Ic socket | |
| JP2000223559A (en) | Flexible substrate holding method and manufacture of liquid crystal display | |
| JPH06177028A (en) | Support for circuit board for photoresist application and photoresist application using same | |
| JP4401584B2 (en) | Ferrule member, polishing device |