JPS623774B2 - - Google Patents
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- JPS623774B2 JPS623774B2 JP57006110A JP611082A JPS623774B2 JP S623774 B2 JPS623774 B2 JP S623774B2 JP 57006110 A JP57006110 A JP 57006110A JP 611082 A JP611082 A JP 611082A JP S623774 B2 JPS623774 B2 JP S623774B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/28—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は脈理の少ない光フアイバ用母材の製造
方法に関する。
方法に関する。
従来から、光フアイバ用母材を製造する方法と
して、原料ガス、例えばSiCl4、GeCl4、POCl4、
BBr3、水素ガスおよび酸素ガス等を回転する出
発部材の軸方向に噴出させて火災加水分解により
ガラス微粒子を生成し、生成するガラス微粒子を
堆積させてから加熱し、堆積微粒子を透明ガラス
化して光フアイバ用母材を製造する気相軸付け法
（以下、「VAD法」と略称）が知られている。
して、原料ガス、例えばSiCl4、GeCl4、POCl4、
BBr3、水素ガスおよび酸素ガス等を回転する出
発部材の軸方向に噴出させて火災加水分解により
ガラス微粒子を生成し、生成するガラス微粒子を
堆積させてから加熱し、堆積微粒子を透明ガラス
化して光フアイバ用母材を製造する気相軸付け法
（以下、「VAD法」と略称）が知られている。
このVAD法による光フアイバ用母材の製造方
法はガラス微粒子が速く堆積させることができる
ので大型の光フアイバ用母材を作製できる。
法はガラス微粒子が速く堆積させることができる
ので大型の光フアイバ用母材を作製できる。
また、大量生産できるという長所ももつてい
る。
る。
しかし、屈折率制御用に添加しているGeO2の
堆積量が堆積面の温度に敏感であるため、GeO2
の濃度変化が光フアイバ用母材の長手方向に生じ
る欠点があつた。VAD法では、通常、出発部材
に対して斜め方向にバーナを配置してガラス微粒
子を堆積させる。それ故、バーナに近い側の出発
部材表面温度は高く、バーナから遠い側の出発部
材表面温度は低い。
堆積量が堆積面の温度に敏感であるため、GeO2
の濃度変化が光フアイバ用母材の長手方向に生じ
る欠点があつた。VAD法では、通常、出発部材
に対して斜め方向にバーナを配置してガラス微粒
子を堆積させる。それ故、バーナに近い側の出発
部材表面温度は高く、バーナから遠い側の出発部
材表面温度は低い。
しかも、GeO2は温度の高い所に堆積し易い傾
向があるため、バーナ側に近い側の出発部材表面
には多くのGeO2が堆積する。ところが、SiO2の
方はその堆積量は表面温度に依存しないから、バ
ーナからの遠近に関係なく、ほぼ一定にSiO2は
堆積する。
向があるため、バーナ側に近い側の出発部材表面
には多くのGeO2が堆積する。ところが、SiO2の
方はその堆積量は表面温度に依存しないから、バ
ーナからの遠近に関係なく、ほぼ一定にSiO2は
堆積する。
しかも、出発部材は回転しているため、出発部
材の軸方向にGeO2の濃度の異なるガラス微粒子
層がら旋状に堆積し、いわゆる屈折率のリツプル
が生じる。
材の軸方向にGeO2の濃度の異なるガラス微粒子
層がら旋状に堆積し、いわゆる屈折率のリツプル
が生じる。
この様子を、出発部材の軸方向における屈折率
制御剤（例えばGeO2）の含有量（20wt％）の変化
を示すと第１図の特性曲線が得られる。この特性
曲線は上述のVAD法で作製された透明な光フア
イバ用母材の中心部分（出発部材の軸方向）の長
手方向の屈折率制御剤の濃度変化の測定結果を示
すものである。使用測定器はＸ線マイクロアナラ
イザーである。この測定結果から、GeO2の含有
量は一定の値を中心として、その上下に小さな振
幅をもつて長手方向に周期的に変化していること
がわかる。
制御剤（例えばGeO2）の含有量（20wt％）の変化
を示すと第１図の特性曲線が得られる。この特性
曲線は上述のVAD法で作製された透明な光フア
イバ用母材の中心部分（出発部材の軸方向）の長
手方向の屈折率制御剤の濃度変化の測定結果を示
すものである。使用測定器はＸ線マイクロアナラ
イザーである。この測定結果から、GeO2の含有
量は一定の値を中心として、その上下に小さな振
幅をもつて長手方向に周期的に変化していること
がわかる。
このような光フアイバ用母材内の長手方向の屈
折率制御剤の含有量の周期的な揺らぎ（リツプル
という）は、この光フアイバ用母材から作製する
光学的導波管としての光フアイバの長手方向に屈
折率のリツプルをもたらし、一般に知られるいわ
ゆるガラスの脈理として観察され、光学的導波管
の性能を大きく損なう原因になつていた。
折率制御剤の含有量の周期的な揺らぎ（リツプル
という）は、この光フアイバ用母材から作製する
光学的導波管としての光フアイバの長手方向に屈
折率のリツプルをもたらし、一般に知られるいわ
ゆるガラスの脈理として観察され、光学的導波管
の性能を大きく損なう原因になつていた。
本発明は、このような従来の光フアイバ用母材
の製造方法の欠点を除去するためになされたもの
であつて、光フアイバ用母材の長手方向の屈折率
制御剤の含有量の濃度分布に周期的なリツプルを
有しない光フアイバ用母材の製造方法を提供しよ
うとするものである。
の製造方法の欠点を除去するためになされたもの
であつて、光フアイバ用母材の長手方向の屈折率
制御剤の含有量の濃度分布に周期的なリツプルを
有しない光フアイバ用母材の製造方法を提供しよ
うとするものである。
本発明の光フアイバ用母材の製造方法は、多重
管バーナから噴出する原料ガスを火炎加水分解さ
せてガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒
子を回転する出発部材の軸方向に沿つて堆積し、
さらに当該堆積物の加熱し、透明ガラス化する光
フアイバ用母材の製造方法において、生成した前
記ガラス微粒子の前記回転する出発部材の軸方向
の堆積厚さを、１回転当り１〜100μｍになるよ
うに堆積させることを特徴とするものである。
管バーナから噴出する原料ガスを火炎加水分解さ
せてガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒
子を回転する出発部材の軸方向に沿つて堆積し、
さらに当該堆積物の加熱し、透明ガラス化する光
フアイバ用母材の製造方法において、生成した前
記ガラス微粒子の前記回転する出発部材の軸方向
の堆積厚さを、１回転当り１〜100μｍになるよ
うに堆積させることを特徴とするものである。
次に、屈折率制御剤としてGeO2を用いた場合
の本発明に光フアイバ用母材の製造方法の実施例
について説明する。
の本発明に光フアイバ用母材の製造方法の実施例
について説明する。
多重管バーナより噴出される原料ガスを火炎加
水分解してガラス微粒子を生成し、該ガラス微粒
子を回転する出発部材の軸方向に堆積させた後、
加熱し透明ガラス化して光フアイバ用母材を得る
方法において、原料ガス中の添加剤がゲルマニウ
ム化合物及びリン化合物を含むものとする。この
原料ガスを火炎加水分解させてガラス微粒子を生
成させるが、このガラス微粒子中にはGeO2及び
P2O5が存在する。更に該ガラス微粒子を出発部
材に堆積させた後、加熱により透明ガラス化され
る。一方所定の屈折率分布を形成するように分布
されるGeO2は長手方向に含有量の濃度の揺ら
ぎ、つまりリツプルを発生しているが、しかし上
記工程中、GeO2の一部は拡散しGeO2含有量の濃
度のリツプルはの振幅は小さくなる。GeO2の拡
散が、膜厚すなわち出発部材の１回転当りのガラ
ス微粒子の堆積厚に依存する。
水分解してガラス微粒子を生成し、該ガラス微粒
子を回転する出発部材の軸方向に堆積させた後、
加熱し透明ガラス化して光フアイバ用母材を得る
方法において、原料ガス中の添加剤がゲルマニウ
ム化合物及びリン化合物を含むものとする。この
原料ガスを火炎加水分解させてガラス微粒子を生
成させるが、このガラス微粒子中にはGeO2及び
P2O5が存在する。更に該ガラス微粒子を出発部
材に堆積させた後、加熱により透明ガラス化され
る。一方所定の屈折率分布を形成するように分布
されるGeO2は長手方向に含有量の濃度の揺ら
ぎ、つまりリツプルを発生しているが、しかし上
記工程中、GeO2の一部は拡散しGeO2含有量の濃
度のリツプルはの振幅は小さくなる。GeO2の拡
散が、膜厚すなわち出発部材の１回転当りのガラ
ス微粒子の堆積厚に依存する。
出発部材への１回当りのガラス微粒子の堆積厚
を、所定範囲の値にすれば、GeO2の含有量の濃
度分布のリツプルの振幅を小さくできることが明
らかとなつた。
を、所定範囲の値にすれば、GeO2の含有量の濃
度分布のリツプルの振幅を小さくできることが明
らかとなつた。
第２図に出発部材の一回転当りのガラス微粒子
の堆積厚に対するGeO2のリツプルの振幅を測定
した結果を示す。同図に示すように堆積厚の減少
に伴つて、GeO2のリツプル振幅は低減する。こ
の場合堆積厚が１μｍ以下だとガラス微粒子の粒
径（0.5〜0.1μｍ）と同程度となつて製作が困難
となる。一方、堆積厚が100μｍを越えると、
GeO2のリツプルが急激に増大し、光フアイバ用
母材の長手方向の屈折率分布のリツプルの振幅が
大きくなり、これから作製される光フアイバの性
能を損なうようになる。
の堆積厚に対するGeO2のリツプルの振幅を測定
した結果を示す。同図に示すように堆積厚の減少
に伴つて、GeO2のリツプル振幅は低減する。こ
の場合堆積厚が１μｍ以下だとガラス微粒子の粒
径（0.5〜0.1μｍ）と同程度となつて製作が困難
となる。一方、堆積厚が100μｍを越えると、
GeO2のリツプルが急激に増大し、光フアイバ用
母材の長手方向の屈折率分布のリツプルの振幅が
大きくなり、これから作製される光フアイバの性
能を損なうようになる。
したがつて、１回当りのガラス微粒子の１回当
りの堆積厚は１〜100μｍが適当と考えられる。
りの堆積厚は１〜100μｍが適当と考えられる。
以上の説明から明らかなように、本発明の光フ
アイバ用母材の製造方法によれば出発部材に対す
る軸方向の１回転当りのガラス微粒子の堆積厚を
１〜100μｍに制御するだけの操作によつて、得
られる光フアイバ用母材の長手方向の屈折率分布
の揺らぎを抑えることができ、脈理の少ない光フ
アイバを得ることができる。
アイバ用母材の製造方法によれば出発部材に対す
る軸方向の１回転当りのガラス微粒子の堆積厚を
１〜100μｍに制御するだけの操作によつて、得
られる光フアイバ用母材の長手方向の屈折率分布
の揺らぎを抑えることができ、脈理の少ない光フ
アイバを得ることができる。
第１図は従来の製造方法により製造された光フ
アイバ用母材の屈折率のリツプルの状態を示す特
性図、第２図はGeO2のリツプル振幅と堆積厚と
の関係を表す特性図である。
アイバ用母材の屈折率のリツプルの状態を示す特
性図、第２図はGeO2のリツプル振幅と堆積厚と
の関係を表す特性図である。
Claims (1)
- １ 多重管バーナから噴出する原料ガスを火炎加
水分解させてガラス微粒子を生成し、生成したガ
ラス微粒子を回転する出発部材の軸方向に沿つて
堆積し、さらに当該堆積物を加熱し、透明ガラス
化する光フアイバ用母材の製造方法において、生
成した前記ガラス微粒子の前記回転する出発部材
の軸方向の堆積厚さを、１回転当り１〜100μｍ
になるように堆積させることを特徴とする光フア
イバ用母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP611082A JPS58125624A (ja) | 1982-01-20 | 1982-01-20 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP611082A JPS58125624A (ja) | 1982-01-20 | 1982-01-20 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58125624A JPS58125624A (ja) | 1983-07-26 |
| JPS623774B2 true JPS623774B2 (ja) | 1987-01-27 |
Family
ID=11629355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP611082A Granted JPS58125624A (ja) | 1982-01-20 | 1982-01-20 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58125624A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5233546A (en) * | 1975-09-08 | 1977-03-14 | Corning Glass Works | Optical fiber containing p2* 05 and ge02 |
| JPS52121341A (en) * | 1976-04-06 | 1977-10-12 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Production of optical fiber base materials and production apparatus fo r the same |
| JPS5348756A (en) * | 1976-10-12 | 1978-05-02 | Western Electric Co | Optical fiber wave guide |
-
1982
- 1982-01-20 JP JP611082A patent/JPS58125624A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5233546A (en) * | 1975-09-08 | 1977-03-14 | Corning Glass Works | Optical fiber containing p2* 05 and ge02 |
| JPS52121341A (en) * | 1976-04-06 | 1977-10-12 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Production of optical fiber base materials and production apparatus fo r the same |
| JPS5348756A (en) * | 1976-10-12 | 1978-05-02 | Western Electric Co | Optical fiber wave guide |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58125624A (ja) | 1983-07-26 |
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